JPH07113735B2 - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
- Publication number
- JPH07113735B2 JPH07113735B2 JP61212064A JP21206486A JPH07113735B2 JP H07113735 B2 JPH07113735 B2 JP H07113735B2 JP 61212064 A JP61212064 A JP 61212064A JP 21206486 A JP21206486 A JP 21206486A JP H07113735 B2 JPH07113735 B2 JP H07113735B2
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- JP
- Japan
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- light source
- forming means
- lens
- secondary light
- optical integrator
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザーのようなコリメートされた光源を使
って対象物を均一に照明するための照明用光学装置に関
し、特にIC等の半導体素子を製造するための露光装置に
適した照明光学装置に関する。
って対象物を均一に照明するための照明用光学装置に関
し、特にIC等の半導体素子を製造するための露光装置に
適した照明光学装置に関する。
従来、IC等の半導体素子を製造するための露光装置に適
した照明光学装置としては、例えば特開昭56-81813号公
報に開示されているように、楕円鏡と１個の多数光源像
形成手段としてのオプティカルインテグレータを用いた
ものや、また、照明の均一性をより高めるために特開昭
58-147708号公報に開示される如く、直列配置された２
個のオプティカルインテグレータを用いたものが知られ
ている。しかし、これらの照明光学装置においては光源
として、超高圧水銀灯を用いており、短波長域での発光
特性が不十分で光量も小さなものしか得ることが出来な
いという欠点があった。このため、超高圧水銀灯に代わ
る短波長用の高出力光源としてレーザーを用いることが
提案されてきている。
した照明光学装置としては、例えば特開昭56-81813号公
報に開示されているように、楕円鏡と１個の多数光源像
形成手段としてのオプティカルインテグレータを用いた
ものや、また、照明の均一性をより高めるために特開昭
58-147708号公報に開示される如く、直列配置された２
個のオプティカルインテグレータを用いたものが知られ
ている。しかし、これらの照明光学装置においては光源
として、超高圧水銀灯を用いており、短波長域での発光
特性が不十分で光量も小さなものしか得ることが出来な
いという欠点があった。このため、超高圧水銀灯に代わ
る短波長用の高出力光源としてレーザーを用いることが
提案されてきている。
しかしながら、上記のような照明光学装置の光源とし
て、ある種のレーザー（例えば、エキシマ・レーザー,Y
AGレーザーなど）を用いる場合、レーザーのパワーが非
常に強いため、レンズそのものを破壊したり、レンズ内
部の反射により、ウエハ上に、ゴースト光が現れる恐れ
があった。
て、ある種のレーザー（例えば、エキシマ・レーザー,Y
AGレーザーなど）を用いる場合、レーザーのパワーが非
常に強いため、レンズそのものを破壊したり、レンズ内
部の反射により、ウエハ上に、ゴースト光が現れる恐れ
があった。
そこで本発明の目的は、これらの問題点の解消し、レー
ザーのようなある波長での光強度が非常に強い光源を使
用しても、レンズ等の光学素子を破壊する恐れがなく、
また照射物体上で効率がよくしかも均一な光強度分布を
得ることのできる照明光学装置を提供することにある。
ザーのようなある波長での光強度が非常に強い光源を使
用しても、レンズ等の光学素子を破壊する恐れがなく、
また照射物体上で効率がよくしかも均一な光強度分布を
得ることのできる照明光学装置を提供することにある。
本発明は、レーザー等の平行光束を供給する光源手段10
からの光束をレティクルＲやマスク，ウエハＷ等の被照
明物体上にて、レーザー光束の断面内の強度分布むらに
もかかわらず均一照明を行うために、光源手段10から供
給される光束から複数の光源像を形成するための２次光
源形成手段１と、この２次光源形成手段１からの射出光
束中に配置された３次光源形成手段４、及び３次光源形
成手段４からの射出光束中に配置されたコンデンサーレ
ンズ６とを有する照明光学装置を基本としている。そし
て、前記２次光源形成手段は、その入射光側面に該２次
光源形成手段の厚さD1より長い焦点距離f1を有する複数
のレンズ面1aを有し、前記２次光源形成手段による前記
複数の光源像10aが前記２次光源形成手段の射出側空間
中に形成される構成としたものである。
からの光束をレティクルＲやマスク，ウエハＷ等の被照
明物体上にて、レーザー光束の断面内の強度分布むらに
もかかわらず均一照明を行うために、光源手段10から供
給される光束から複数の光源像を形成するための２次光
源形成手段１と、この２次光源形成手段１からの射出光
束中に配置された３次光源形成手段４、及び３次光源形
成手段４からの射出光束中に配置されたコンデンサーレ
ンズ６とを有する照明光学装置を基本としている。そし
て、前記２次光源形成手段は、その入射光側面に該２次
光源形成手段の厚さD1より長い焦点距離f1を有する複数
のレンズ面1aを有し、前記２次光源形成手段による前記
複数の光源像10aが前記２次光源形成手段の射出側空間
中に形成される構成としたものである。
このような構成によれば、レーザー等の光源手段10から
供給される光束が最初に集光される位置が、２次光源形
成手段としての第１オプティカルインテグレータ１の素
子の外部の空間上であるため、光源手段からの光強度が
極めて強い場合にも、集光点での熱によって素子が破壊
される恐れがない。しかも、２次光源形成手段と直列に
配置された３次光源形成手段との組み合わせによって、
３次光源形成手段の射出面上には多数の点光源が形成さ
れ、実質的に均一で大きな面光源が形成されるため、被
照射面上にて効率良く均一な照明を行うことができる。
供給される光束が最初に集光される位置が、２次光源形
成手段としての第１オプティカルインテグレータ１の素
子の外部の空間上であるため、光源手段からの光強度が
極めて強い場合にも、集光点での熱によって素子が破壊
される恐れがない。しかも、２次光源形成手段と直列に
配置された３次光源形成手段との組み合わせによって、
３次光源形成手段の射出面上には多数の点光源が形成さ
れ、実質的に均一で大きな面光源が形成されるため、被
照射面上にて効率良く均一な照明を行うことができる。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図は本発明による照明光学装置を、投影型露光装置
の照明装置として用いた場合の一実施例の概略構成を示
す展開光路図である。光源手段としてのレーザー光源10
から供給される光束は実質的にコリメートされており、
２次光源形成手段としての第１オプティカルインテグレ
ータ１によって複数の光源像10aがその射出側空間の面
Ａ上に形成される。この複数光源像10aからの光束は、
正レンズ２を通ってインプットレンズ３により平行光束
に変更されて３次光源形成手段としての第２オプティカ
ルインテグレータ４に入射する。
の照明装置として用いた場合の一実施例の概略構成を示
す展開光路図である。光源手段としてのレーザー光源10
から供給される光束は実質的にコリメートされており、
２次光源形成手段としての第１オプティカルインテグレ
ータ１によって複数の光源像10aがその射出側空間の面
Ａ上に形成される。この複数光源像10aからの光束は、
正レンズ２を通ってインプットレンズ３により平行光束
に変更されて３次光源形成手段としての第２オプティカ
ルインテグレータ４に入射する。
ここで、第１オプティカルインテグレータ１は、第2A図
の斜視図に示す如く、四角柱の棒状素子11が複数束ねて
構成されたものであり、各棒状素子11の入射面11aは凸
レンズ面に形成されている。そして、各棒状素子11の入
射面11a上の凸球面によって、棒上素子11の射出面から
離れた位置に光束の集光点を形成し、この点が２次光源
となる。ここでは、レーザー光源を用いているために光
源像には実質的に大きさが無いと考えられ、第１オプテ
ィカルインテグレータ１の射出側には所謂視野レンズの
如きレンズ作用を必要とはしない。従って、棒状素子11
の射出面11bはここでは平面に形成されている。このよ
うな第１オプティカルインテグレータ１の構成によっ
て、その射出側空間の面Ａ上に棒状素子11の数と等しい
数の２次光源が形成される。そして、正レンズ２は第１
オプティカルインテグレータ１による複数２次光源の強
い集光位置を避けるために、２次光源の形成される面Ａ
から離れて配置されている。
の斜視図に示す如く、四角柱の棒状素子11が複数束ねて
構成されたものであり、各棒状素子11の入射面11aは凸
レンズ面に形成されている。そして、各棒状素子11の入
射面11a上の凸球面によって、棒上素子11の射出面から
離れた位置に光束の集光点を形成し、この点が２次光源
となる。ここでは、レーザー光源を用いているために光
源像には実質的に大きさが無いと考えられ、第１オプテ
ィカルインテグレータ１の射出側には所謂視野レンズの
如きレンズ作用を必要とはしない。従って、棒状素子11
の射出面11bはここでは平面に形成されている。このよ
うな第１オプティカルインテグレータ１の構成によっ
て、その射出側空間の面Ａ上に棒状素子11の数と等しい
数の２次光源が形成される。そして、正レンズ２は第１
オプティカルインテグレータ１による複数２次光源の強
い集光位置を避けるために、２次光源の形成される面Ａ
から離れて配置されている。
第２イプティカルインテグレータ４も、第3A図の斜視図
に示す如く、四角柱状の複数の棒状素子41が束ねられて
構成されたものであるが、その入射面41aと射出面41bと
は共に凸レンズ面に形成されている。そして、第3B図の
断面図に示す如く、両レンズ面の焦点は棒状素子の互い
の対向する面上に位置している。即ち、入射面41aへ光
軸に平行に入射する光束が射出面41bに集光され、入射
面41aに集光状態で入射してくる光束は射出面41bを射出
後、平行光束となるように構成されている。そして、正
レンズ２、インプットレンズ３及び第２オプティカルイ
ンテグレータの入射面41aとに関して、２次光源が形成
されるＡ面と第２オプティカルインテグレータの射出面
としてのＢ面とが共役に構成されている。従って、第２
オプティカルインテグレータ４の射出面Ｂ上には、第１
オプティカルインテグレータ１を構成する棒状素子11の
数と、第２オプティカルインテグレータ４を構成する棒
状素子41の数との積に相当する数の３次光源が形成さ
れ、ここに実質的に均一な面光源が形成される。
に示す如く、四角柱状の複数の棒状素子41が束ねられて
構成されたものであるが、その入射面41aと射出面41bと
は共に凸レンズ面に形成されている。そして、第3B図の
断面図に示す如く、両レンズ面の焦点は棒状素子の互い
の対向する面上に位置している。即ち、入射面41aへ光
軸に平行に入射する光束が射出面41bに集光され、入射
面41aに集光状態で入射してくる光束は射出面41bを射出
後、平行光束となるように構成されている。そして、正
レンズ２、インプットレンズ３及び第２オプティカルイ
ンテグレータの入射面41aとに関して、２次光源が形成
されるＡ面と第２オプティカルインテグレータの射出面
としてのＢ面とが共役に構成されている。従って、第２
オプティカルインテグレータ４の射出面Ｂ上には、第１
オプティカルインテグレータ１を構成する棒状素子11の
数と、第２オプティカルインテグレータ４を構成する棒
状素子41の数との積に相当する数の３次光源が形成さ
れ、ここに実質的に均一な面光源が形成される。
尚、第１オプティカルインテグレータ１の射出側に配置
される正レンズ２の焦点距離は、この正レンズ２と第２
オプティカルインテグレータ４の入射面との距離にほぼ
等しく配置されている。また、インプットレンズ３の光
源側焦点は前記２次光源が形成されるＡ面上にほぼ一致
しており、２次光源からの光束を平行光束に変換してい
る。
される正レンズ２の焦点距離は、この正レンズ２と第２
オプティカルインテグレータ４の入射面との距離にほぼ
等しく配置されている。また、インプットレンズ３の光
源側焦点は前記２次光源が形成されるＡ面上にほぼ一致
しており、２次光源からの光束を平行光束に変換してい
る。
第２オプティカルインテグレータ４の射出面Ｂ上の３次
光源からの光束は、アウトプットレンズ５を通って、コ
ンデンサーレンズ６によって収斂され、被照射物体とし
てのレティクルＲ上を照明する。そして、投影対物レン
ズ７により、レティクルＲ上の所定のパターンがウエハ
Ｗ上に転写される。ここで、コンデンサーレンズ６によ
って投影対物レンズ７の入射瞳7a上に、第２オプティカ
ルインテグレータ４の射出面に成形される３次光源の像
が再結像され、所謂ケーラー照明が達成される。尚、ア
ウトプットレンズ５は第２オプティカルインテグレータ
の射出面側の凸面と同様に、視野レンズとして機能して
いるため、必ずしも必要ではなく除去することも可能で
ある。
光源からの光束は、アウトプットレンズ５を通って、コ
ンデンサーレンズ６によって収斂され、被照射物体とし
てのレティクルＲ上を照明する。そして、投影対物レン
ズ７により、レティクルＲ上の所定のパターンがウエハ
Ｗ上に転写される。ここで、コンデンサーレンズ６によ
って投影対物レンズ７の入射瞳7a上に、第２オプティカ
ルインテグレータ４の射出面に成形される３次光源の像
が再結像され、所謂ケーラー照明が達成される。尚、ア
ウトプットレンズ５は第２オプティカルインテグレータ
の射出面側の凸面と同様に、視野レンズとして機能して
いるため、必ずしも必要ではなく除去することも可能で
ある。
また、本実施例においては、第１オプティカルインテグ
レータ１の射出側空間の面Ａ上に、口径が可変の第１開
口絞りS1が設けられており、第２オプティカルインテグ
レータ４の射出面Ｂ上にも口径が可変の第２開口絞りS2
が設けられている。この第１開口絞りS1の口径変化によ
って、σ値を一定に保ったまま被照射物体に達する光量
を制御することができ、また第２開口絞りS2の口径変化
によって、σ値を制御することができる。σ値とは、投
影対物レンズのN.A.（開口数）に対する照明光学系のN.
A.の比の値として定義され、この値によって投影対物レ
ンズの解像力とコントラストとのバランスを調整するこ
とができる。このような２つの開口絞りS1,S2の組み合
わせによって、光量の制御とσ値の制御とを独立に行う
ことが可能となり、光源から供給される光量の変化や、
レティクルＲ上の投影パターンの微細度、ウエハ上に塗
布されるレジストの特性等に応じて、それぞれ最適な照
明状態を実現することが可能となる。
レータ１の射出側空間の面Ａ上に、口径が可変の第１開
口絞りS1が設けられており、第２オプティカルインテグ
レータ４の射出面Ｂ上にも口径が可変の第２開口絞りS2
が設けられている。この第１開口絞りS1の口径変化によ
って、σ値を一定に保ったまま被照射物体に達する光量
を制御することができ、また第２開口絞りS2の口径変化
によって、σ値を制御することができる。σ値とは、投
影対物レンズのN.A.（開口数）に対する照明光学系のN.
A.の比の値として定義され、この値によって投影対物レ
ンズの解像力とコントラストとのバランスを調整するこ
とができる。このような２つの開口絞りS1,S2の組み合
わせによって、光量の制御とσ値の制御とを独立に行う
ことが可能となり、光源から供給される光量の変化や、
レティクルＲ上の投影パターンの微細度、ウエハ上に塗
布されるレジストの特性等に応じて、それぞれ最適な照
明状態を実現することが可能となる。
尚、上記の実施例では２次光源形成手段としての第１オ
プティカルインテグレータ１を、光源側の面に凸球面を
向けた平凸レンズ群としたが、これに限るものではなく
射出面に若干のレンズ作用を持たせることも可能であ
る。
プティカルインテグレータ１を、光源側の面に凸球面を
向けた平凸レンズ群としたが、これに限るものではなく
射出面に若干のレンズ作用を持たせることも可能であ
る。
以上の如く、本発明によれば、最も強い光強度となる２
次光源形成手段による多数光源像を、該多数光源像形成
手段の外部の空間として素子内部での集光を避けたた
め、レーザーのような光強度が非常に強い光源を使用し
ても、レンズ等の光学素子を破壊する恐れがない。ま
た、照射物体上で均一な光強度分布を効率よく得ること
のできる照明光学装置が実現される。
次光源形成手段による多数光源像を、該多数光源像形成
手段の外部の空間として素子内部での集光を避けたた
め、レーザーのような光強度が非常に強い光源を使用し
ても、レンズ等の光学素子を破壊する恐れがない。ま
た、照射物体上で均一な光強度分布を効率よく得ること
のできる照明光学装置が実現される。
また、本発明ではレーザー等のコリメートされた光束を
用いるため、２次光源形成手段としての第１オプティカ
ルインテグレータ１の射出面には、視野レンズとしての
機能を持たせる必要がなく平面でもよいので製造も容易
になる。
用いるため、２次光源形成手段としての第１オプティカ
ルインテグレータ１の射出面には、視野レンズとしての
機能を持たせる必要がなく平面でもよいので製造も容易
になる。
尚、上記実施例は投影型露光装置の照明光学装置であっ
たが、本発明はこれに限られるものではなく、種々の露
光装置の照明光学装置としても有効である。また、図示
した構成は、分かり易くするために展開光路図としたも
のであり、実際の装置においては、所望の位置に反射部
材を設けて光路を折り曲げ、装置全体を小型に構成する
ことが望ましいことはいうまでもない。
たが、本発明はこれに限られるものではなく、種々の露
光装置の照明光学装置としても有効である。また、図示
した構成は、分かり易くするために展開光路図としたも
のであり、実際の装置においては、所望の位置に反射部
材を設けて光路を折り曲げ、装置全体を小型に構成する
ことが望ましいことはいうまでもない。
第１図は本発明による一実施例の概略構成を示す展開光
路図、第2A図は２次光源形成手段としての第１オプティ
カルインテグレータを構成する棒状素子の形状を示す斜
視図、第2B図はその断面図、第3A図は３次光源形成手段
としての第２オプティカルインテグレータを構成する棒
状素子の形状を示す斜視図、第3B図はその断面図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 10……光源手段（レーザー） １……２次光源形成手段 ４……３次光源形成手段 ６……コンデンサーレンズ R,W……被照射物体 ７……投影対物レンズ
路図、第2A図は２次光源形成手段としての第１オプティ
カルインテグレータを構成する棒状素子の形状を示す斜
視図、第2B図はその断面図、第3A図は３次光源形成手段
としての第２オプティカルインテグレータを構成する棒
状素子の形状を示す斜視図、第3B図はその断面図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 10……光源手段（レーザー） １……２次光源形成手段 ４……３次光源形成手段 ６……コンデンサーレンズ R,W……被照射物体 ７……投影対物レンズ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−100724（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−230629（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−147708（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】コリメートされたレーザー光束を供給する
光源手段と、該光源手段から供給されるレーザー光束か
ら複数の２次光源を形成するための２次光源形成手段
と、前記２次光源形成手段からの射出光束中に配置され
た３次光源形成手段と、前記３次光源形成手段からの射
出光束中に配置されたコンデンサーレンズとを有し、前
記２次光源形成手段は、その入射面に複数のレンズ面を
有し該複数のレンズ面によって該２次光源形成手段の射
出面側の該射出面から離れた位置に複数の２次光源を形
成し、該２次光源形成手段の射出面は平面であることを
特徴とする照明光学装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61212064A JPH07113735B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 照明光学装置 |
| US07/237,847 US4939630A (en) | 1986-09-09 | 1988-08-26 | Illumination optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61212064A JPH07113735B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 照明光学装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5155045A Division JPH0746682B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6366553A JPS6366553A (ja) | 1988-03-25 |
| JPH07113735B2 true JPH07113735B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=16616268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61212064A Expired - Fee Related JPH07113735B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07113735B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0771594B2 (ja) * | 1985-08-29 | 1995-08-02 | ブラザー工業株式会社 | ミシン |
| US5335044A (en) * | 1992-02-26 | 1994-08-02 | Nikon Corporation | Projection type exposure apparatus and method of exposure |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP61212064A patent/JPH07113735B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6366553A (ja) | 1988-03-25 |
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