JPH07120931A - ペリクル - Google Patents

ペリクル

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JPH07120931A
JPH07120931A JP26341293A JP26341293A JPH07120931A JP H07120931 A JPH07120931 A JP H07120931A JP 26341293 A JP26341293 A JP 26341293A JP 26341293 A JP26341293 A JP 26341293A JP H07120931 A JPH07120931 A JP H07120931A
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芳宏 久保田
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聡 川上
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裕一 浜田
Susumu Shirasaki
享 白崎
Akihiko Nagata
愛彦 永田
Shu Kashida
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography

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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 本発明はレチクルから容易に取り外すこと
ができるペリクルの提供を目的とするものである。 【構成】 本発明のペリクルは、ペリクルを露光原版
（レチクル）に固定する粘着層を、加熱および／または
光照射により粘着力が減少する粘着剤よりなるもとして
なることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はペリクル、特にはＬＳ
Ｉ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製
造する際のゴミよけとして使用される、実質的に 500nm
以下の光を用いる露光方式におけるペリクルに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。
【０００３】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、これには露光
原版の表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過さ
せるペリクルを貼着する方式が行なわれている。この場
合、ゴミは露光原版の表面上には直接付着せず、ペリク
ル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原
版のパターン上に合わせておけば、ペリクル状のゴミは
転写に無関係となる。このペリクル膜は通常、光を良く
通過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、変性ポ
リビニルアルコール、フッ素系ポリマーなどからなる透
明なペリクル膜をアルミニウム合金、ステンレス、ポリ
エチレンなどからなるペリクル枠の上部にペリクル膜の
良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開昭58-219,023
号公報参照）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの接
着剤で接着し（米国特許第 4,861,402号明細書、特公昭
63-27,707 号公報参照）、さらにはペリクル枠の下部に
は露光原版が装着されるために、ポリブテン樹脂、ポリ
酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂やポリウレタンなどのゴ
ム発泡体にアクリル系、シリコーン系、ゴム系などの粘
着剤を塗装したものなどからなる粘着層、および粘着層
の保護を目的とした離型層（セパレーター）が構成され
ている（特開平 2-64540号参照）。
【０００４】そして、このペリクルは通常は金属また樹
脂製のペリクル枠の一端面にペリクル膜を接着剤で張設
し、ペリクル枠の他の端面に粘着層を形成し、その粘着
層を離型性を有するシート状材料（セパレーターと称す
る）で保護した構造体になっており、このペリクルを使
用するときには離型性を有するシート状材料（セパレー
ター）を剥離して除去したのち、露出した粘着層をフォ
トマスク（レチクルとも称する）の所定位置に圧着して
ペリクルをフォトマスクに固定することが行なわれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにレ
チクルに固定されたペリクルはレチクルを露光機に装着
する際や露光機から脱着する際に、ハンドリングでしば
しばペリクル膜の破損が発生し易く、したがって新しい
ペリクルと交換する必要がある。しかして、この交換に
は通常、ペリクルをレチクルに固定しているベタつく粘
着状態の粘着層を機械的に取り除くか、これを溶剤で膨
潤させて取り外すのが一般的とされているが、機械的方
法では粘着剤を完全に除去することが難しいし、この場
合にはレチクルを損傷し易いという不利があり、溶剤で
膨潤除去する方法には溶剤の臭気と毒性に問題があっ
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、欠点、問題点を解決したペリクルに関するものであ
り、これはペリクルを露光原版（レチクル）に固定する
粘着層を、加熱および／または光照射により粘着力が減
少するよう粘着剤よりなるものとしてなることを特徴と
するものである。
【０００７】すなわち、本発明者らは溶剤の臭気や毒性
が無く、ペリクルを容易に、しかもレチクルを傷つけず
に取り外す方法について種々検討した結果、これについ
てはペリクルをレチクルに固定する粘着層を加熱および
／または光照射により粘着力が減少するようなものと
し、このような粘着剤を使用してペリクルを構成させ、
これを加熱するか、これに光照射したところ、この接着
層が粘着力の減少したものとなったので、レチクルに固
定されていた粘着層を容易に除去することができること
を見出し、このような物性をもつ粘着剤の種類、使用方
法などについて研究を進めて本発明を完成させた。以下
にこれをさらに詳述する。
【０００８】
【作用】本発明はペリクル、特には取り外しが容易なペ
リクルに関するものであり、これはペリクルをレチクル
に固定する粘着層を加熱および／または光照射により粘
着力が減少するような粘着剤とからなるものとしてなる
ことを特徴とするものであるが、これによればレチクル
に固定されているペリクルを交換する必要があるとき
に、ペリクルをレチクルに固定している粘着層を加熱す
るか、これに光照射するとこの粘着力が減少するので、
レチクルからのペリクルを容易に剥離することができる
という有利性が与えられる。
【０００９】本発明のペリクルは不用または交換時には
容易にレチクルから剥離することができ、したがって簡
単にレチクルから取り外しができるようにしたものであ
るが、これはペリクルをレチクルに固定するために使用
する粘着層を加熱および／または光照射により粘着力が
減少するような粘着剤からなるものとしてなることによ
り行なうことができる。この加熱および／または光照射
により粘着力が減少するということは、この粘着剤を加
熱するか、またはこれに光照射すると、この粘着剤が例
えば架橋したり、または分解し、さらには発泡などを起
し、これによってこの粘着剤がべたつかないものとな
り、粘着状態を解消するので、これによって粘着力が大
きく減少するようになることをいうのであるが、これに
よれば従来法による機械的方法や溶剤による膨潤、溶解
法にくらべてペリクルの剥離が容易となるので、レチク
ルの損傷や毒性などの欠点もなく、簡単にペリクルを剥
離することができ、レチクル面に粘着剤の残存もなくす
ことができるので新しいペリクルの装着も容易になると
いう有利性が与えられる。
【００１０】本発明のペリクルをレチクルに装着する粘
着剤としては、従来から使用されているポリブテン樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹
脂などの化学構造を、これを加熱するかまたはこれに光
照射をしたときに架橋するか、分解反応が起るように改
質したもの、またはこれに発泡剤を添加して加熱および
／または光照射したときに発泡体を形成するようにした
ものなどが例示される。なお、これらの粘着剤はこれを
そのままペリクルのフレームに塗布してもよいが、必要
に応じてこれらをウレタン発泡体などのゴム発泡体に含
浸または塗布して用いてもよく、これに充填剤、顔料な
どを添加することは任意とされる。
【００１１】この粘着剤の粘着力を低下させる加熱温度
としては、40℃未満ではレチクルにつけたままで長期に
保管しているときに粘着層が経時変化を起し易く、した
がってしばしばペリクルが脱落するおそれがあり、 300
℃以上とするとクリーンルーム内に高熱源を持ち込むこ
とになり、温調してあるクリーンルームの熱負荷が高め
られ経済的でなくなるので、これは40〜 300℃、特には
70〜 150℃の範囲とすることがよい。
【００１２】また、この光照射でこれらの反応を起させ
る光としては各種の波長の光が使用されるが、通常は高
圧、低圧の水銀灯やメタルハライド灯などで生ずる紫外
線光源が安価に入手し得るし、これは架橋反応や分解反
応を効率的に発生させるということから好ましいものと
される。なお、光源としては電子線やＸ線なども利用可
能であるが、これらは装置が大がかりとなって高価とな
るのであまり実用的ではない。
【００１３】
【実施例】つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例１ 非晶性フッ素系重合体・サイトップ［旭硝子（株）製商
品名］から作られた膜厚 8,150Åのペリクル膜を、フレ
ームの大きさが 120×98mm、幅２mm、厚さ 5.8mmの表面
をアルマイト処理したジュラルミン製のペリクル枠にサ
イトップ溶液で接着し、その反対の面に図１、図２に示
した特性をもつ熱剥離粘着剤層・リバアルファNo.3195
［日東電工（株）製商品名］を取りつけたのち、このペ
リクルをＬＳＩ用レチクルに貼りつけた。
【００１４】ついで、このペリクル付レチクルを 100℃
で３秒間加熱したところ、この粘着層はベタつきが無く
なり、粘着力がほぼ０となったので、このペリクルはレ
チクルから容易に取り外すことができたが、この場合加
熱せずにペリクルを取り外ずそうとしたところ、フレー
ムの変形なしでは無理であることが判った。
【００１５】実施例２ 粘着層を図３に示した特性を持つ紫外線硬化型テープ・
ＵＣ−1827［古河電工（株）製商品名］としたほかは実
施例１と同様に処理してペリクルを液晶用レチクルに貼
り付けた。ついで、この粘着層に紫外線が 500mJ/cm2に
なるようにメタルハライド灯から照射したところ、この
粘着層の初期粘着力が1/30近くになったので、ペリクル
はレチクルから容易に取り外すことが可能となったが、
この場合光照射をしないときには溶媒を使用して粘着層
を膨潤しなければペリクルを取り外すことができなかっ
た。
【００１６】
【発明の効果】本発明はペリクル、特には取り外しが容
易なペリクルに関するものであり、これは前記したよう
にペリクルをレチクルに固定する粘着層を加熱および／
または光照射により粘着力が減少する粘着剤よりなるも
のとしてなることを特徴とするものであるが、これによ
ればペリクルをこの種の粘着層でレチクルに接着し、こ
の粘着層を加熱するか、これに光照射をすると粘着層の
粘着力が低下するのでペリクルをレチクルから容易に剥
離することができ、ペリクルの交換を容易に行なうこと
ができるという有利性が与えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１で使用された熱剥離粘着剤層
のシート表面温度と接着力との関係グラフを示したもの
である。
【図２】本発明の実施例１で使用された熱剥離粘着剤層
の加熱時間と接着力との関係グラフを示したものであ
る。
【図３】本発明の実施例２で使用された紫外線硬化型テ
ープの紫外線積算光量と粘着力との関係グラフを示した
ものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白崎 享 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 永田 愛彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 樫田 周 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ペリクルを露光原版（レチクル）に固定す
    る粘着層を、加熱および／また光照射により粘着力が減
    少する粘着剤よりなるもとしてなることを特徴とするペ
    リクル。
  2. 【請求項２】粘着剤が加熱温度70〜 150℃で粘着層が架
    橋、分解、発泡のいずれか一つ以上の反応により粘着力
    が減少するものである請求項に記載したペリクル。
  3. 【請求項３】粘着剤が紫外線の光照射で粘着層が架橋、
    分解、発泡のいずれか一つ以上の反応により粘着力が減
    少するものである請求項１に記載したペリクル。
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