JPH07123187B2 - 回路基板の製造方法 - Google Patents

回路基板の製造方法

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JPH07123187B2
JPH07123187B2 JP4256390A JP25639092A JPH07123187B2 JP H07123187 B2 JPH07123187 B2 JP H07123187B2 JP 4256390 A JP4256390 A JP 4256390A JP 25639092 A JP25639092 A JP 25639092A JP H07123187 B2 JPH07123187 B2 JP H07123187B2
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Japan
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insulating layer
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公一 古賀
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高発熱部品を実装するの
に適した高い放熱性を有する金属基材をベースとする回
路基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高発熱部品が実装される回路基板
には例えば、特開昭59−168696号公報に示され
ているような、銅、アルミニウム等の金属基材の上に絶
縁層を介して第一の銅箔パターン層を形成し、この金属
基材上の所望の部分に有機絶縁物を被覆し、スルーホー
ルを穿設した銅張絶縁物を位置合わせしてこの金属基材
上に積層し、この後銅張絶縁物のスルーホールを導通さ
せると共に銅張絶縁物の表面層にエッチングを施して第
二の銅箔パターン層を形成させて二層の金属基材をベー
スとする回路基板を完成するというものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法は金属基材の上に絶縁層を介して第一の銅箔パ
ターン層を形成した上に、ついでスルーホールを穿設し
た銅張絶縁物を位置合わせして積層し、スルーホールを
導通させると共に銅張絶縁物の表面層にエッチングを施
して第二の銅箔パターン層を形成させるという製造方法
であり、工程が複雑になるという問題がある。スルーホ
ールの穿設以外の各工程での処理は金属基材上での処理
となり、その重量および剛性により搬送、保持が困難と
なる。更には、第二の銅箔パターン層を形成するエッチ
ング等の薬液に対する金属基材の保護等の対策が必要と
なる。
【0004】本発明は上記問題点の解決をし、簡単な製
法で放熱性のよい回路基板の製造方法を提供することを
目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため以下のような手段を有するものである。
【0006】特許請求の範囲第1項に示すように、金属
基材上に第一の絶縁層を介して第一の導電層を形成し、
前記第一の導電層上に、高発熱部品をダイボンディング
するための前記金属基材および/または前記第一の導電
層を部分的に露出する窓明き部を設けた絶縁体フィルム
からなる第二の絶縁層とその上に形成された導電体より
なる回路パターンである第二の導電層とを同時に貼り付
ける回路基板の製造方法としたことを特徴とする。
【0007】
【作用】特許請求の範囲第1項に示すように、金属基材
上に第一の絶縁層を介して第一の導電層を形成し、前記
第一の導電層上に、高発熱部品をダイボンディングする
ための前記金属基材および/または前記第一の導電層を
部分的に露出する窓明き部を設けた絶縁体フィルムから
なる第二の絶縁層とその上に形成された導電体よりなる
回路パターンである第二の導電層とを同時に貼り付ける
回路基板の製造方法としたことにより、第二の導電層の
形成処理がエポキシ樹脂等の樹脂から成る絶縁薄層上で
の処理となりフィルム状の軽量ワークでの搬送、保持が
簡単な処理が可能となる。又、エッチング等での薬液に
対する金属基材の保護等の問題がなく加工が簡単とな
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明の第一の実施例につき図1及び
図2を参照し、詳細に説明する。図1において11は
銅、アルミニウムといった良熱伝導性金属基材である。
この金属基材11の上に第一の絶縁層12を形成する。
この第一の絶縁層12は例えばエポキシ樹脂あるいはエ
ポキシ樹脂を含浸したガラス繊維であり、ロールコータ
ー、フローコーター等での塗布法、スクリーン印刷法あ
るいはシート状プリプレグの貼り付け法等により形成す
る。
【0009】この第一の絶縁層12の上に銅等からなる
第一の導電層24、34を形成する。この第一の導電層
24、34の形成方法としては、パターン状に銅箔を打
ち抜いたものを貼り付ける方法、全面に銅箔を貼り付け
エッチングによりパターンを形成する方法、あるいはス
テンレス板等の上に図1のようなパターンの電気銅めっ
きを行い、第一の絶縁層12上に転写、貼り付ける方法
等がある。この第一の導電層24、34として上記の方
法により、厚みが0.03mm程度から3mm程度まで
任意のものを作ることができる。この中で銅の厚みの薄
いものは前記エッチングまたは電気めっきをして転写す
る方法により形成する。
【0010】この後、導電層のパターン間および基板端
部、つまり図1の銅箔のない部分19に樹脂を塗布し、
表面の段差を極力なくすようにする。樹脂材料は第一の
絶縁層12と同じエポキシ樹脂である。塗布にはディス
ペンサーまたはスクリーン印刷法を用いる。このように
して、ほぼ段差のない状態にしてその上に、第二の絶縁
層20及び第二の導電層13を形成する。
【0011】図3はその第二の絶縁層20及び第二の導
電層13の形成の実施例を示したものである。第二の絶
縁層20及び第二の導電層13を、前もって、絶縁体フ
ィルム(第二の絶縁層)20上に形成しそれを前記第一
の導電層24、34の上に貼り付ける。図1に示すよう
に絶縁体フィルム(第二の絶縁層)20には第二の導電
層13と窓明き部54、64、74、84が形成されて
いる。この第二の導電層13の回路パターンは全面に貼
り付けられた銅箔をエッチングすることにより形成する
ことができる。この場合、金属基材がないことによって
エッチング処理の薬液に対する特別の保護の必要が生じ
ない。
【0012】このような回路基板に半導体チップをダイ
ボンディングする場合はボンディングのランド部に金め
っき等の電気めっきを行う。前記窓明き部54、64、
74、84および第二の導電層13上のボンディングの
ランド部に金めっきを行う。つまり、部分的にめっきを
したい所を残してめっきレジストを印刷し、窓明きされ
た部分に電気めっきを行う。この電気めっきが金めっき
の場合、正確にはニッケルめっきをした後、重ねて金め
っきを行う。この後、めっきレジストを除去し、回路基
板を形成することができる。
【0013】次に、このようにして製造した回路基板へ
の高発熱部品(半導体チップ)の実装につき説明する。
第一の導電層の金めっきをしたランド部に半導体チップ
のダイボンディングを行う。この後、ダイボンディング
された半導体チップを起点として、第一の導電層又は第
二の導電層の金めっきをしたランド部を終点とするよう
なワイヤボンディングを行う。又、第一の導電層と第二
の導電層との間の接続は各々の金めっきをしたランド部
間でワイヤボンディングを行うことにより実施される。
【0014】図2は第一の導電層24、34形成の別の
実施例を示したものである。図2に示すように、第一の
導電層24、34の厚みの大きいものは銅板を打ち抜い
たものを第一の絶縁層12に貼り付ける方法により形成
する。図2において118は最終的には外部端子となる
部分である。この後、第一の実施例と同様に、この第一
の導電層24、34上に第二の導電層13を絶縁体フィ
ルム(第二の絶縁層)20上に形成したもの貼り付け
る。
【0015】次に、別の実施例について説明する。図4
において11は銅、アルミニウムといった良熱伝導性金
属基材である。この金属基材11の上に第一の絶縁層1
2を形成する。形成方法はスクリーン印刷法であり、材
料はエポキシ樹脂である。この第一の絶縁層12の印刷
の際に、部分的に絶縁層のない窓明き部44を形成す
る。
【0016】この第一の絶縁層12の上に銅等からなる
第一の導電層34を形成する。形成方法は図2の第一の
導電層24、34の形成と同じ方法である。この後、導
電層のパターン間および基板端部、つまり図4の銅箔の
ない部分19に樹脂を塗布し、表面の段差を極力なくす
ようにする。樹脂材料は第一の絶縁層12と同じく、エ
ポキシ樹脂である。塗布にはディスペンサーまたはスク
リーン印刷法を用いる。このようにして、ほぼ段差のな
い状態にする。
【0017】この場合の第二の絶縁層(フィルム)およ
び第二の導電層は前述のような方法により形成し、第一
の導電層24、34の上に貼りつける。この第二の絶縁
層(フィルム)に設けた窓明き部で、金属基材11また
は第一の導電層34を部分的に露出させるように窓明き
部54、64、74、84が形成される。従って、図4
の基板の上に第二の絶縁層、第二の導電層を形成したも
のでは、金属基材11または第一の導電層34が露出す
る構造となる。
【0018】その後、半導体チップ等がダイボンディン
グされるボンディングのランド部に金めっき等の電気め
っきを行う。従って、このボンディングのランド部は部
分的に第一の絶縁層のない窓明き部44、第二の絶縁層
の窓明き部54、64、74、84および第二の導電層
13上のボンディングのランド部となり、金属基材11
および第一の導電層上に半導体チップのダイボンディン
グを行うことができる。必要に応じては第二の導電層1
3上にも半導体チップのダイボンディングを行うことが
できる。
【0019】
【発明の効果】これまでに述べたような構成とすること
により以下に述べる効果が得られる。
【0020】特許請求の範囲第1項に示すように、金属
基材上に第一の絶縁層を介して第一の導電層を形成し、
前記第一の導電層上に、高発熱部品をダイボンディング
するための前記金属基材および/または前記第一の導電
層を部分的に露出する窓明き部を設けた絶縁体フィルム
からなる第二の絶縁層とその上に形成された導電体より
なる回路パターンである第二の導電層とを同時に貼り付
ける回路基板の製造方法としたことにより、第二の導電
層の形成処理がエポキシ樹脂等の樹脂から成る絶縁薄層
上での処理となり、ワークの搬送、保持が簡単なフィル
ム状の軽量ワークでの処理が可能となる。又、エッチン
グ等での薬液に対する金属基材の保護等の問題がなく加
工が簡単となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例の回路基板の製法で、第
一の導電層を形成した段階を示す斜視図である。
【図2】本発明の別の実施例で、第一の導電層を形成す
る別の方法を示す斜視図である。
【図3】本発明の第一の実施例の回路基板の製法で、第
一の導電層を形成した回路基板の上に第二の絶縁層およ
び第二の導電層を貼り合わせる前のを状態を示す斜視図
である。
【図4】本発明の別の実施例の回路基板の製法で、第一
の導電層を形成した段階を示す斜視図である。
【符号の説明】
11 金属基材 12 第一の絶縁層 13 第二の導電層 20 第二の絶縁層(絶縁体フィルム) 24 第一の導電層 34 第一の導電層 44 第一の絶縁層の窓明き部 54 第二の絶縁層の窓明き部 64 第二の絶縁層の窓明き部 74 第二の絶縁層の窓明き部 84 第二の絶縁層の窓明き部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属基材上に第一の絶縁層を介して第一の
    導電層を形成し、前記第一の導電層上に、高発熱部品を
    ダイボンディングするための前記金属基材および/また
    は前記第一の導電層を部分的に露出する窓明き部を設け
    た絶縁体フィルムからなる第二の絶縁層とその上に形成
    された導電体よりなる回路パターンである第二の導電層
    とを同時に貼り付けることを特徴とする回路基板の製造
    方法。
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