JPH0713355A - 積層型電子写真感光体及びその製造方法 - Google Patents

積層型電子写真感光体及びその製造方法

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JPH0713355A
JPH0713355A JP17381693A JP17381693A JPH0713355A JP H0713355 A JPH0713355 A JP H0713355A JP 17381693 A JP17381693 A JP 17381693A JP 17381693 A JP17381693 A JP 17381693A JP H0713355 A JPH0713355 A JP H0713355A
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pigment
electron
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vapor deposition
charge
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JP17381693A
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Tetsuo Suzuki
哲郎 鈴木
Masao Yoshikawa
雅夫 吉川
Masahiro Yanagisawa
匡浩 柳澤
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高感度で、広い分光感度域を有する積層型電
子写真感光体、及びその製造方法を提供する。 【構成】 導電性支持体または下引き層を有する導電性
支持体上に、電荷発生層として、真空蒸着法によって作
製した電子受容性顔料と電子受容性顔料の混合層(両顔
料の光吸収域が異なるものが好ましい)を設け、更にそ
の上に電荷輸送層を設けたことを特徴とする積層型電子
写真感光体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に関
し、詳しくは、電子写真プロセスを用いた複写機、プリ
ンター等に用いられる積層型電子写真感光体及びその製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真プロセスは静電力による潜像の
可視化を原理として用いたものであるため、そのプロセ
スに用いられる電子写真用感光体には良好な帯電性と光
照射による迅速な表面電位の減衰とが要求される。かか
るプロセス上で電子写真感光体に必要な特性は、固体物
性値である暗抵抗の高さと良好な量子効率、高い電荷移
動度に依存している。これらの物性値を満足するものと
して、従来より、無機物質のものではセレン及びその合
金を用いたもの、あるいは色素増感した酸化亜鉛を結着
樹脂中に分散した感光体などが、また有機系のものでは
2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン(以下「T
NF」という)とポリ−N−ビニルカルバゾール(以下
「PVK」という)との電荷移動錯体を用いたものなど
が代表的なものとして知られている。
【0003】しかし、これらの感光体は多くの長所を持
っていると同時に、様々な欠点を持っている。例えば、
現在広く用いられているセレン感光体は製造する条件が
難しく、製造コストが高かったり、可とう性が無いため
にベルト状に加工することが難しく、また熱や機械的な
衝撃に鋭敏なため取扱に注意を要する。酸化亜鉛感光体
は安価な酸化亜鉛を用いて支持体への塗布で製造するこ
とができるためコストは低いが、一般に感度が低かった
り、表面の平滑性、硬度、引っ張り強度、耐摩擦性など
の機械的な欠点があり、通常反復して使用する普通紙複
写機用の感光体としては耐久性などに問題が多い。ま
た、TNFとPVKとの電荷移動錯体を用いた感光体は
感度が低く、高速複写機用の感光体としては不適当であ
る。
【0004】近年、これらの感光体の欠点を排除するた
めに広範な研究が進められ、特に有機系の様々な感光体
が提案されている。中でも、有機系の顔料の薄膜を導電
性支持体上に形成し(電荷発生層)、この上に電荷輸送
物質を主体とする層(電荷輸送層)を形成した積層型感
光体が、従来の有機物系に比べ一般の感度が高く帯電性
が安定していることなどの点から普通紙複写機用の感光
体として注目されており、一部実用に供されているもの
がある。
【0005】この種の感光体の帯電性、感度、静電的特
性は電荷発生層に大きく依存している。かかる電荷発生
層に用いられる電荷発生物質としては、ペリレン系顔料
を用いたもの(USP3871882参照)、フタロシ
アニン系顔料を用いたもの(特公昭49−4338号、
特開昭58−182639号、特開昭60−19151
号参照)、アゾ顔料を用いたもの(特公昭55−423
80号、特開昭55−84943号参照)、スクアリウ
ム系顔料、多環キノン系顔料等がある。これらの電荷発
生物質のうちペリレン系顔料を用いた感光体は、高速の
複写機用としては感度が低く、また顔料の吸収が600
nmより短波長側に限られているため赤色光には感度が
なくカラー複写機用感光体として不適当である。一方フ
タロシアニン系顔料を用いたものは500nm付近の光
に対して感度が低く、また様々な結晶型をもちそれが温
度、湿度などの環境変動、帯電、露光などの使用サイク
ルにより変化するため帯電性及び感度が使用中に大きく
変化してしまう等の欠点がある。またアゾ顔料を用いた
ものは電荷発生層製造時に安定な分散性を有する塗布液
を作製するのが難しく、加えて顔料の光安定性が悪く且
つ顔料の高純度化が困難どあるなどの欠点を持ってい
る。又他の電荷発生物質を用いた感光体も未だ十分な感
度、分光感度域が得られていないのが実情である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高感度で且
つ広い分光感度域を有する積層型電子写真感光体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、導電性
支持体または下引層を有する導電性支持体上に、電荷発
生層として真空蒸着法によって作製した電子供与性顔料
と電子受容性顔料の混合層を設け、更にその上に電荷輸
送層を設けたことを特徴とする積層型電子写真感光体が
提供され、特に、前記電荷発生層を構成する電子供与性
顔料と電子受容性顔料が、異なる光吸収域を有すること
を特徴とする前記積層型電子写真感光体が提供される。
また、導電性支持体または下引層を有する導電性支持体
上に、真空蒸着法によって電子供与性顔料と電子受容性
顔料の混合層から成る電荷発生層を設け、更にその上に
電荷輸送層を設けた積層型電子写真感光体の製造方法に
おいて、前記真空蒸着法が、前記2種の顔料のそれぞれ
個別の蒸発源を用いた蒸着法、或いは前記2種の顔料の
混合状態または混晶状態の蒸着源を用いた蒸着法の何れ
かの方法であることを特徴とする積層型電子写真感光体
の製造方法が提供される。
【0008】即ち、本発明者等は鋭意検討した結果、積
層型電子写真感光体の電荷発生層として電子受容性顔料
と電子供与性顔料の真空蒸着により作成した混合層を設
けることにより目的が達成されることが見いだし、本発
明を完成するに至った。
【0009】以下、本発明を更に詳細に説明する。電子
写真感光体には、コロナ放電等により感光体表面に均一
に設けられた電荷を部分的な光照射により静電潜像化す
る機能が要求される。この感光体が積層型感光体の場
合、入射した光が電荷発生層で吸収され正孔及び電子の
キャリアを発生し、感光体表面の帯電が負の場合正孔が
電荷輸送層に注入され、電界により表面まで移動し、表
面の負電荷を中和し、一方、電荷発生層で生成した電子
は導電性支持体に誘起された正電荷を中和する。これに
より静電潜像が感光体表面に形成される。この動作にお
いて感光体に要求される特性として、暗所における帯電
性、迅速な光減衰、光照射後の残留電位が微量なことな
どがあるが、これらは電荷発生層の光吸収、量子効率、
キャリア移動度等の物性によるところが大きいことは周
知のことである。
【0010】本発明においては、かかる積層型感光体の
電荷発生層として電子受容性顔料と電子供与性顔料の真
空蒸着により作成した混合層を用いることにより、高感
度で且つ分光感度域が広い感光体がを得られたものであ
る。本発明の電荷発生層が特に有効である理由は未だ明
確になっていないが以下の要因があると考えられる。 電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合状態を電荷発
生層として用いた効果 a)電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合により光励
起状態からのキャリア発生がエキサイプレックスを介し
て起こりそのため量子効率が向上した。 b)電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合により電荷
発生層内の正孔、電子両キャリアの移動度が向上した。 c)電子供与性顔料と電子受容性顔料の異なる光吸収域
を有する顔料の混合で電荷発生層の分光感度が広がっ
た。 d)電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合により量子
効率が高い新しい結晶状態が形成された。 電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合電荷発生層の
製造法として真空蒸着を用いる効果 a)電子供与性顔料と電子受容性顔料を分子レベルで均
一に分散させるこてができ両顔料の接触面積が向上し
た。 b)電荷発生層を薄膜化することができ、電荷発生層内
のキャリア移動に有利に働く。
【0011】本発明の積層型電子写真感光体は、例えば
図1に示す構造を有するものである。図1の感光体は、
導電性支持体11上に真空蒸着により形成された電子供
与性顔料と電子受容性顔料の混合電荷発生層12と、電
荷輸送物質を主体とする電荷輸送層13とからなる積層
型感光層14を設けたものである。また導電性支持体1
1と電荷発生層12との中間に電位保持のための下引き
層を設けてもよい。
【0012】次に本発明の電荷発生層の形成方法につい
て説明する。真空蒸着法はピンホールのない均一な成膜
法として周知の技術で、且つ膜厚のコントロールも容易
である。混合電荷発生層の形成方法としては、両顔料混
合状態からの真空蒸着、それぞれ単独蒸発源からの真空
共蒸着、混合状態からの真空蒸着の3法が特に有効であ
る。材料の混合状態からの真空蒸着法は、蒸着における
制御箇所が少なく操作が簡便で、安価に製造が可能であ
るという利点を有している。しかし、蒸発温度の差が大
きい場合には電荷発生層中の成分比のコントロールが困
難である(例えば、多環キノン顔料のアンスアンスロン
とフタロシアニン顔料)。また、加熱蒸発時に反応が起
こる場合(キナクリドン顔料とアルミニウムクロロタロ
シアニン)にも適していない。それに対し、顔料それぞ
れの単独蒸発源からの真空共蒸着法は、前記の欠点を克
服できる。但し、蒸着における制御箇所が多く、操作が
複雑であり、コスト的には前法を上回ってしまう。一
方、混晶状態からの真空蒸着法は、2種の分子が会合状
態のまま一緒に蒸着される可能性があり、より分子状に
分散された膜形成が可能がある。混晶の作製方法として
は、例えば2種の顔料を強酸または強塩基溶媒に溶解、
混合し水に滴下する、混合状態の材料から昇華精製する
方法などがある。
【0013】本発明は電荷発生層として真空蒸着法によ
り形成された電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合層
を用いるものであるが、これらの材料として如何なる化
学構造のものが有効であるかは明確になっていない。し
かし、鋭意検討の結果この電子供与性顔料としては、特
に好ましいものとして、フタロシアニン顔料、キナクリ
ドン顔料が使用できる。かかるフタロシアニン顔料とし
ては、例えば、無金属フタロシアニン、銅フタロシアニ
ン、亜鉛フタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、白
金フタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、塩素
化銅フタロシアニン、塩素化亜鉛フタロシアニン、鉄フ
タロシアニン、アルミニウムクロロフタロシアニン、ア
ルミニアムフルオロフタロシアニン、アルミニウムブロ
ムフタロシアニン、インジウムクロルフタロシアニン、
インジウムブロムフタロシアニン、ガリウムクロロフタ
ロシアニン、塩素化アルミニウムクロロフタロシアニ
ン、バナジウムフタロシアニン、オキソチタニルフタロ
シアニン等が挙げられる。
【0014】また、キナクリドン顔料としては、無置換
キナクリドン、2,9−ジクロルキナクリドン、3,1
0−ジクロルキナクリドン、4,11−ジクロルキナク
リドン、3,4,10,11−テトラクロルキナクリド
ン、2,4,9,11−テトラクロルキナクリドン、
1,2,8,9−テトラクロルキナクリドン、1,2,
4,8,9,11−ヘキサクロルキナクリドン、2,
4,9,11−テトラブロムキナクリドン、2,3,
9,10−テトラブロムキナクリドン、2,3,9,1
0−テトラブロムキナクリドン、1,4,8,11−テ
トラブロムキナクリドン、2,4,9,11−テトラフ
ルオロキナクリドン、1,4,8,11−テトラフルオ
ロキナクリドン、2,4,9,11−テトラヨードキナ
クリドン、2,9−ジメチルキナクリドン、3,10−
ジメチルキナクリドン、4,11−ジメチルキナクリド
ン、3,4,10,11−テトラメチルキナクリドン、
2,4,9,11−テトラメチルキナクリドン、1,
2,8,9−テトラメチルキナクリドン、1,4,8,
11−テトラメチルキナクリドン、2,9−ジメトキシ
キナクリドン、3,10−ジメトキシキナクリドン、
4,11−ジメトキシキナクリドン、2,4,9,11
−テトラメトキシキナクリドン、1,4,8,11−テ
トラメトキシキナクリドン等が挙げられる。これらの電
子供与性顔料は公知の方法で合成される。
【0015】本発明に用いられる前記電子受容性顔料と
して特に好ましいものとして、ペリレンテトラカルボン
酸ジイミド顔料、ペリレンテトラカルボン酸ジイミダゾ
ール顔料、多環キノン顔料、アントラキノンアクリドン
顔料、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミダゾール顔料
が使用できる。
【0016】前記ペリレンテトラカルボン酸ジイミド顔
料としては、以下の表1に示す例示化合物が挙げられ
る。
【表1−(1)】
【表1−(2)】
【0017】前記ペリレンテトラカルホン酸ジイミダゾ
ール顔料としては、以下の表2に示す例示化合物が挙げ
られる。
【表2】
【0018】前記アントラキノンアクリドン顔料として
は、以下の表3に示す例示化合物が挙げられる。
【表3−(1)】
【表3−(2)】
【表3−(3)】
【表3−(4)】
【表3−(5)】
【表3−(6)】
【表3−(7)】
【表3−(8)】
【0019】前記多環キノン顔料としては、以下の表4
に示す例示化合物が挙げられる。
【表4−(1)】
【表4−(2)】
【表4−(3)】
【表4−(4)】
【表4−(5)】
【表4−(6)】
【表4−(7)】
【表4−(8)】
【0020】前記ナフタレンテトラカルボン酸ジイミダ
ゾール顔料としては、以下の表5に示す例示化合物が挙
げられる。
【表5−(1)】
【表5−(2)】
【0021】これらの電子受容性顔料は公知の方法によ
って合成される。
【0022】また、本発明の積層型電子写真感光体にお
いて、電荷発生層を構成する電子供与性顔料と電子受容
性顔料が、異なる吸収域を有する場合特にその効果が高
い。その組合せとしては例えばペリレンテトラカルボン
酸ジメチルイミド(430〜600nm)等のペリレン
テトラカルボン酸ジイミド顔料と無金属フタロシアニン
(570〜720nm)、オキソチタニルフタロシアニ
ン(630〜850nm)等のフタロシアニン顔料また
は2,7−ジメチルキナクリドン(500〜620n
m)等のキナクリドン顔料、ペリレンテトラカルボン酸
ビスフェニルイミダゾール(460〜760nm)等の
ペリレンテトラカルボン酸ジイミダゾール顔料と無金属
フタロシアニン(570〜720nm)、オキソチタニ
ルフタロシアニン(630〜850nm)等のフタロシ
アニン顔料または2,7−ジメチルキナクリドン(50
0〜620nm)等のキナクリドン顔料、ブロムアンス
アンスロン(440〜560nm)、フラバンスロン
(350〜530nm)等の多環キノン顔料と無金属フ
タロシアニン(570〜720nm)、オキソチタニル
フタロシアニン(630〜850nm)等のフタロシア
ニン顔料または2,7−ジメチルキナクリドン(500
〜620nm)等のキナクリドン顔料、無置換アントラ
キノンアクリドン(470〜670nm)等のアントラ
キノンアクリドン顔料と無金属フタロシアニン(570
〜720nm)、オキソチタニルフタロシアニン(63
0〜850nm)等のフタロシアニン顔料または2,7
−ジメチルキナクリドン(500〜620nm)等のキ
ナクリドン顔料、ナフタレンテトラカルボン酸tran
s−ビスフェニルイミダゾール(380〜580nm)
等のナフタレンテトラカルボン酸ジイミダゾール顔料と
無金属フタロシアニン(570〜720nm)、オキソ
チタニルフタロシアニン(630〜850nm)等のフ
タロシアニン顔料または2,7ジメチルキナクリドン
(500〜620nm)等のキナクリドン顔料が挙げら
れる。
【0023】次に、本発明の積層型電子写真感光体の各
層について説明する。図1において、電荷発生層12を
構成する電子供与性顔料と電子受容性顔料の組成比は、
電子供与性顔料:電子受容性顔料=1:9〜9:1、好
ましくは3:7〜7:3であり、1:9〜9:1の範囲
以外であるとその効果が少ない。積層型感光層14を構
成する電荷発生層12の厚みは好ましくは、0.01〜
3μm、さらに好ましくは0.05〜1μmである。こ
の厚みが0.01μm以下であると光吸収、電荷の発生
が十分でなく、又3μm以上であると暗減衰が大きい、
帯電性が低いなどの問題が生じ実用に耐ない。
【0024】図1において、電荷輸送層13は電荷輸送
物質と結着剤を主体とし、さらに可塑剤、酸化防止剤、
紫外線劣化防止剤などを含有することができる。電荷輸
送層中電荷輸送物質の割合は、10〜95重量%、好ま
しくは30〜90重量%である。電荷輸送物質の占める
割合が10重量%未満であると、電荷の搬送はほとんど
行われず、また95重量%以上であると感光体皮膜の機
械的強度がきわめて悪く実用に供しえない。ただし電荷
輸送物質が高分子化合物の場合、100重量%での使用
も可能である。電荷輸送層13の厚さは好ましくは3〜
50μm、さらに好ましくは5〜30μmである。この
厚さが3μm以下であると帯電量が不十分であり、50
μm以上であると残留電位が高く実用的ではない。
【0025】本発明の積層型感光体は、電荷発生層とし
て真空蒸着法により形成された電子供与性顔料と電子受
容性顔料の混合層を用いることを特徴としたものであ
り、導電性支持体、電荷輸送物質、電荷輸送層に用いら
れる結着剤などの他の構成要素としては従来知られてい
たもののいずれもが使用できるが、それらについて以下
に具体的に説明する。
【0026】本発明において使用される導電性支持体と
しては、アルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛等の金属
板、金属ドラムまたは金属箔、アルミニウム、銅、金、
酸化錫、酸化インジュウム等の導電性材料を蒸着或は塗
布したプラスチックフィルム、導電処理した紙等が使用
される。
【0027】結着剤としては、例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリアミド、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコ
ン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹
脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位
のうち2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水
マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂のほか、ポリ−
N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。
【0028】可塑剤としては、ハロゲン化パラフィン、
ポリ塩化ビフェニル、ジメチルナフタレン、ジブチルフ
タレートなどが挙げられる。
【0029】そのほか、酸化部止剤としては、ヒンダン
トフェノール、ヒンダントアミンなどのフェノールまた
はアミン類があげられ、紫外線劣化防止剤としては、ベ
ンゾフェノンなどのケトン類、トリアゾールなどの複素
環類が挙げられる。また感光体の表面性を向上させるた
めにシリコンオイル等を加えてもよい。
【0030】電荷輸送物質には正孔輸送物質と電子輸送
物質がある。正孔輸送物質としては、9−エチルカルバ
ゾール−3−アルデヒド1−メチル−1−フェニルヒド
ラゾン、9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド1,
1−ジフェニルヒドラゾン、4−ジエチルアミノスチレ
ン−β−アルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾ
ン、4−メトキシナフタレン−1−アルデヒド1−ベン
ジル−1−フェニルヒドラゾン、4−メトキシベンズア
ルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、2,4
−ジメトキシベンズアルデヒド1−ベンジル−1−フェ
ラルヒドラゾン、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド
1,1−ジフェニルヒドラゾン、4−メトキシベンズア
ルデヒド1−べンジル−1−(4−メトキシフェニル)
ヒドラゾン、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド1
−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジベンジル
アミノベンズアルデヒド1,1−ジフェニルヒドラゾン
等のヒドラゾン化合物。 1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパ
ン、トリス(4−ジエチルアミノフェニル)メタン、
2,2′−ジメチル−4,4′−ビス(ジエチルアミ
ノ)−トリフェニルメタン等のトリフェニルメタン化合
物、またはジフェニルメタン化合物、9−(4−ジエチ
ルアミノスチリル)アントラセン、9−ブロム−10−
(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン、9−
(4−ジメチルアミノスチリル)フルオレン、3−(9
−フルオレニリデン)−9−エチルカルバゾール、1,
2−ビス(2,4−ジエチルアミノスチリル)ベンゼ
ン、1,2−ビス(2,4−ジメトキシスチリル)ベン
ゼン、3−スチリル−9−エチルカルバゾール、3−
(4−メトキシスチリル)−9−エチルカルバゾール、
4−ジフェニルアミノスチルベン、4−ジベンジルアミ
ノスチルベン、4−ジトリルアミノスチルベン、1−
(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレン、1−
(4−ジエチルアミノスチリル)+フタレン、4′−ジ
フェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、4′−メチ
ルフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン等のスチル
ベン化合物、またはアリールビニル化合物、1−フェニ
ル−3−(4−ジエチルアミノスチリル)−5−(4−
ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニル−
3−(4−ジメチルアミノスチリル)−5−(4−ジメ
チルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン化合
物、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス〔4−
(4−ジエチルアミノスチリル)フェニル〕−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(9−エチルカルバゾリル
−3−)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール、2−ビニル−4−(2−ク
ロロフェニル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)
オキサゾール、2−(4−ジエチルアミノフェニル)−
4−フェニルオキサゾール等の複素環化合物、トリフェ
ニルアミン、トリ−p−トリルアミン、4,4′−ジメ
トキシトリフェニルアミン、N,N′−ビス(3−メチ
ルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン、1,
1−ビス(4−ジ−p−トリフェニルアミノフェニル)
シクロヘキサン、N,N,N′,N′−テトラ(p−ト
リル)ベンジジン、N,N,N′,N′−テトラ(p−
トリル)−o−フェニレンジアミン、N,N′−ビス
(4−メトキシフェニル)−1−アミノピレン等のトリ
フェニルアミン化合物、またはトリアリールアミン化合
物などの低分子化合物がある。また、ポリ−N−ビニル
カルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ピレ
ンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムア
ルデヒド樹脂、ポリフェニルメチルシラン等のポリシラ
ンなどの高分子化合物も使用できる。
【0031】電子輸送層としては、例えば、クロルアニ
ル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレ
ノン、ジフェノキノン、2,4,5,7−テトラニトロ
キサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、
2,6,8,−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−
b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジ
ベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、無水コハク
酸、無水マレイン酸、フタル酸、テトラクロル無水フタ
ル酸、テトラブロム無水フタル酸、4−ニトロ無水フタ
ル酸、3−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、
ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安
息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル
酸、3,5−ジニトメサリチル酸、o−ジニトロベンゼ
ン、m−ジニトロベンゼン、1,3,5−トリニトロベ
ンゼン、p−ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライ
ド、ジクロロジシアノ−p−ベンゾキノン、アントラキ
ノン、クロロアントラキノン、ジクロロアントラキノ
ン、ジニトロアントラキノン、9−フルオレニリデン
〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、フルオレニリ
デンアニリン誘導体等、電子親和力が大きい化合物が挙
げられる。これらの電荷輸送物質は、単独または2種以
上混合して用いられる。
【0032】また、図1の感光体において導電性支持体
と電荷発生層の中間に必要に応じて設けられる下引層の
材料としては、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エ
チルセルロース、ニトロセルロース、酸化アルミニウム
などが適当で、膜厚は1μm以下が好ましい。
【0033】次に、本発明の積層型電子写真感光体の製
造方法について説明する。導電性支持体上に電荷発生層
を前記の真空蒸着法によって形成した後、電荷輸送層と
して電荷輸送物質と結着剤を有機溶剤に溶解した溶液を
塗布乾燥することによって形成される。塗布方法は通常
の手段、例えばドクターブレード、ディッピング、ワイ
ヤーバー、スプレーなどで行う。
【0034】本発明の感光体を用いて複写を行うには、
感光層面に帯電、露光を施した後、現像を行い、必要に
応じて紙などに転写を行うことにより達成される。
【0035】
【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、これにより本発明が限定されるものではない。
【0036】実施例1 導電性支持体としてアルミ層を蒸着により設けたポリエ
チレンフィルム上に、下引き層としてポリアミド(東レ
製CM−8000)のメタノール溶液を塗布により0.
4μmの厚みで設け、この上に電荷発生層としてペリレ
ンテトラカルボン酸ジメチルイミド(PL−ME 例示
化合物No.A−2)と無金属フタロシアニン(H2
c)の混合層を真空蒸着にて形成した。真空蒸着は、P
L−ME80mg、H2Pc80mgそれぞれ別のモリ
ブテンボートに入れ、抵抗加熱法により2つの蒸発源か
ら同時に行い、0.2μmの電荷発生層を形成した。蒸
着時の真空度は約5×10-6torr、蒸着速度は合計4〜
10A/S、両顔料の蒸発速度がほぼ等しくなるように
コントロールした。このようにして得られた電荷発生層
上に、電荷輸送物質として下記構造式(1)の化合物2
重量部、結着剤としてポリカーボネートZ(PcZ)3
重量部、シリコンオイル0.0005重量部をテトラヒ
ドロフラン20重量部に溶解したものをブレード塗布
し、約20μmの電荷輸送層を形成し感光体No.1を
作製した。
【化1】
【0037】実施例2 実施例1の電荷発生層形成において、PL−ME80m
g、H2Pc80mgをあらかじめ乳鉢でよく混合しこ
れをモリブデンボートに入れ抵抗加熱にて真空蒸着した
以外は実施例1と同様に行い感光体No.2を作製し
た。
【0038】実施例3 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷輸送層とし
て下記構造式(2)の化合物を用いた以外は実施例1と
同様に行い感光体No.3を作製した。
【化2】
【0039】実施例4 実施例1の電荷発生層の電子供与性顔料としてオキソチ
タニルフタロシアニン(TiOPc)を用いた以外は実
施例1と同様に行い感光体No.4を作製した。
【0040】実施例5 実施例1の電荷発生層の電子供与性顔料として2,7−
ジメチルキナクリドン(QA−ME)を用いた以外は実
施例1と同様に行い感光体No.5を作製した。
【0041】実施例6 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層の電
子受容性顔料としてペリレンテトラカルボン酸ビスフェ
ニルイミダゾール(PL−IM 例示化合物No.B−
1)を用い、電荷輸送物質として前記構造式(2)の化
合物を用いた以外は実施例1と同様に行い感光体No.
6を作製した。
【0042】実施例7 実施例1の電荷発生層の電子供与性顔料としてアントラ
キノンアクリドン顔料(AAQ 例示化合物No.C−
21)を用いた以外は実施例1と同様に行い感光体N
o.7を作製した。
【0043】実施例8 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層の電
子受容性顔料としてブロムアンスアンスロン(BrAA
N 例示化合物No.D−5)を用い、電荷輸送物質と
して前記構造式(2)の化合物を用いた以外は実施例1
と同様に行い感光体No.8を作製した。
【0044】実施例9 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層の電
子受容性顔料としてフラバンスロン(FA 例示化合物
No.D−33)を用い、電荷輸送物質として前記構造
式(2)の化合物を用いた以外は実施例1と同様に行い
感光体No.9を作製した。
【0045】実施例10 実施例1の電荷発生層の電子受容性顔料としてナフタレ
ンテトラカルボン酸trans−ジフェニルイミダゾー
ル(NL−plM 例示化合物No.E−1)を用いた
以外は実施例1と同様に行い感光体No.10を作製し
た。
【0046】比較例1 実施例1の電荷発生層を電子供与性顔料である無金属フ
タロシアニン(H2Pc)単独材料で真空蒸着にて形成
した以外は実施例1と同様に行い感光体No.比1を作
製した。
【0047】比較例2 実施例1の電荷発生層を電子受容性顔料であるペリレン
テトラカルボン酸ジメチルイミド(PL−ME 例示物
No.A−2)単独材料で真空蒸着にて形成した以外は
実施例1と同様に行い感光体No.比2を作製した。
【0048】比較例3 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層を電
子供与性顔料である無金属フタロシアニン(H2Pc)
単独材料で真空蒸着にて形成し、電荷輸送物質として前
記構造式(2)の化合物を用いた以外は実施例1と同様
に行い感光体No.比3を作製した。
【0049】比較例4 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層の電
子受容性顔料であるペリレンテトラカルボン酸ジメチル
イミド(PL−ME 例示化合物No.A−2)単独材
料で真空蒸着にて形成し、電荷輸送物質として前記構造
式(2)の化合物を用いた以外は実施例1と同様に行い
感光体No.比4を作製した。
【0050】比較例5 実施例1の電荷発生層を電子供与性顔料であるオキソチ
タニルフタロシアニン(TiOPc)単独材料で真空蒸
着にて形成した以外は実施例1と同様に行い感光体N
o.比5を作製した。
【0051】比較例6 実施例1の電荷発生層を電子供与性顔料である2,7−
ジメチルキナクリドン(QA−MF)単独材料で真空蒸
着にて形成した以外は実施例1と同様に行い感光体N
o.比6を作製した。
【0052】比較例7 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層の電
子受容性顔料であるペリレンテトラカルボン酸ジメチル
イミド(PL−IM 例示化合物No.B−1)単独材
料で真空蒸着にて形成し、電荷輸送物質として前記構造
式(2)の化合物を用いた以外は実施例1と同様に行い
感光体No.比7を作製した。
【0053】比較例8 実施例1の電荷発生層を電子受容性顔料であるアントラ
キノンアクリドン顔料(AAQ 例示化合物No.C−
21)単独材料で真空蒸着にて形成した以外は実施例1
と同様に行い感光体No.比8を作製した。
【0054】比較例9 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層を電
子受容性顔料であるブロムアンスアンスロン(BrAA
N 例示化合物No.D−5)単独材料で真空蒸着にて
形成し、電荷輸送物質として前記構造式(2)の化合物
を用いた以外は実施例1と同様に行い感光体No.比9
を作製した。
【0055】比較例10 実施例1の導電性支持体としてITO層をスパッタによ
り設けたポリエチレンフィルムを用い、電荷発生層を電
子受容性顔料であるフラバンスロン(FA 例示化合物
No.D−33)単独材料で真空蒸着にて形成し、電荷
輸送物質として前記構造式(2)の化合物を用いた以外
は実施例1と同様に行い感光体No.比10を作製し
た。
【0056】比較例11 実施例1の電荷発生層を電子受容性顔料であるナフタレ
ンテトラカルボン酸trans−ジフェニルイミダゾー
ル(NL−pLM 例示物No.E−1)単独材料で真
空蒸着にて形成した以外は実施例1と同様に行い感光体
No.比11を作製した。
【0057】以上のようにして得られた感光体につい
て、川口電鉄機社製静電複写紙試験装置(SP−42
8)で+または−6kVのコロナ放電で帯電し帯電電位
Vs(帯電開始後20秒後の表面電位値)と光照射後表
面電位が1/2に減衰するのに必要な露光量(E1/
2)を測定した。表6に示される結果が得られた。
【表6】
【0058】また、No.1、No.比1、No.比2
の感光体について、表面電位を−800Vから−400
Vに低下させるのに必要な光エネルギーを各波長で測定
した、分光感度を図2に示す。No.1の感光体が比較
例の感光体に比べ分光感度が広がり、感度が向上してい
ることがわかる。また、実施例8(感光体No.8)の
感光体を線速260mm/sのドラムに張り付けて正帯
電、白色光露光、光クエンチを繰り返し、帯電電位(V
d)、露光後電位(Vl)を測定したところ表7に示さ
れる結果が得られ、十分な繰り返し性が得られることを
確認した。
【表7】
【0059】
【発明の効果】本発明の積層型電子写真用感光体は、電
荷発生層として、電子受容性顔料と電子供与性顔料の真
空蒸着により作成した混合層を設けたことにより、高感
度で且つ広い分光感度域を有するなど優れた特性を有す
る。前記電荷発生層を構成する電子供与性顔料と電子受
容性顔料の光吸収領域が異なる場合にその効果は特に高
く、また電子供与性顔料として、フタロシアニン顔料、
キナクリドン顔料、電子受容性顔料として、ペリレンテ
トラカルボン酸ジイミド顔料、ペリレンテトラカルボン
酸ジイミダゾール顔料、アントラキノンアクリドン顔
料、多環キノン顔料、ナフタレンテトラカルボン酸ジイ
ミダゾール顔料を使用した場合、特に良好な特性が得ら
れる。また、前記電荷発生層は、顔料それぞれ別個の蒸
発源を用いた共蒸着、両顔料の混合状態または混晶状態
からの蒸着の何れかの真空蒸着法により有効に形成する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層型電子写真感光体の模式図。
【図2】実施例1、比較例1及び比較例2の各電子写真
感光体の分光感度を示すグラフ。
【符号の説明】
11 導電性支持体 12 電荷発生層 13 電荷輸送層 14 積層型感光層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性支持体または下引層を有する導電
    性支持体上に、電荷発生層として真空蒸着法によって作
    製した電子供与性顔料と電子受容性顔料の混合層を設
    け、更にその上に電荷輸送層を設けたことを特徴とする
    積層型電子写真感光体。
  2. 【請求項2】 前記電荷発生層を構成する電子供与性顔
    料と電子受容性顔料が、異なる光吸収域を有することを
    特徴とする請求項1記載の積層型電子写真感光体。
  3. 【請求項3】 導電性支持体または下引層を有する導電
    性支持体上に、真空蒸着法によって電子供与性顔料と電
    子受容性顔料の混合層から成る電荷発生層を設け、更に
    その上に電荷輸送層を設けた積層型電子写真感光体の製
    造方法において、前記真空蒸着法が、前記2種の顔料の
    それぞれ個別の蒸発源を用いた蒸着法、或いは前記2種
    の顔料の混合状態または混晶状態の蒸着源を用いた蒸着
    法の何れかの方法であることを特徴とする積層型電子写
    真感光体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0915883A (ja) * 1995-06-27 1997-01-17 Nec Corp 電子写真感光体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0915883A (ja) * 1995-06-27 1997-01-17 Nec Corp 電子写真感光体

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