JPH07133792A - ドライ真空ポンプ - Google Patents
ドライ真空ポンプInfo
- Publication number
- JPH07133792A JPH07133792A JP27929193A JP27929193A JPH07133792A JP H07133792 A JPH07133792 A JP H07133792A JP 27929193 A JP27929193 A JP 27929193A JP 27929193 A JP27929193 A JP 27929193A JP H07133792 A JPH07133792 A JP H07133792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- pump mechanism
- rotor
- stator
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】吸込口１と吐出口２を有するケーシング３内に
ロータ４とステータ５を収納したポンプ機構部６とポン
プ外からシールガスを供給する軸封部７とを有し、ポン
プ機構部６の最終段のロータ４とステータ５の隙間を性
能に影響を及ぼさないくらい大きくした。 【効果】ポンプの排気能力を損うことなく、ポンプ機構
部への反応生成物の付着堆積を防止できるので、より長
時間連続運転が可能となる。
ロータ４とステータ５を収納したポンプ機構部６とポン
プ外からシールガスを供給する軸封部７とを有し、ポン
プ機構部６の最終段のロータ４とステータ５の隙間を性
能に影響を及ぼさないくらい大きくした。 【効果】ポンプの排気能力を損うことなく、ポンプ機構
部への反応生成物の付着堆積を防止できるので、より長
時間連続運転が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、吐出口を大気圧とする
真空ポンプに係り、特に、低い温度で壁面に付着堆積し
やすい物質を含む気体を排気するのに好適なドライ真空
ポンプに関する。
真空ポンプに係り、特に、低い温度で壁面に付着堆積し
やすい物質を含む気体を排気するのに好適なドライ真空
ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来の真空ポンプを示す。
【０００３】吸気口１，排気口２を有するケーシング３
の内部に、軸受６によって回転自在に支承されたロータ
４及びケーシング３内に固定され静止しているステータ
５とが設けられている。
の内部に、軸受６によって回転自在に支承されたロータ
４及びケーシング３内に固定され静止しているステータ
５とが設けられている。
【０００４】吸気口１から吸い込まれた気体は、ロータ
４とステータ５から成るポンプ機構部による気縮作用に
より順次圧縮され、吐出口２から大気へ排気される。ポ
ンプ機構部７と軸受６との間に位置する軸封部に、ポン
プ外部からシールガスを供給するためのシール供給口９
を設け、このシールガスは、ポンプ機構部７と軸受６と
の両方へ分かれ分かれて流れるようなっているため、ポ
ンプ機構部７を通過する気体と軸受潤滑油が接すること
がない。ポンプ機構部に流入したシールガスは、ポンプ
の吸込口１から流入する気体と混り合って、吐出口２よ
り排気されるため、反応生成物を含むガスは、シールガ
スによって希釈されることになる。反応生成物の中に
は、圧力が上昇し、温度が低下すると固体化しやすくな
るものが多く、特に半導体製造装置の一種であるアルミ
エッチング装置から排気されるガスには、そのような物
質が含まれている。このような物質であっても、不活性
ガスで希釈されると、固体化する温度が低くなり、固体
化しにくくなる。
４とステータ５から成るポンプ機構部による気縮作用に
より順次圧縮され、吐出口２から大気へ排気される。ポ
ンプ機構部７と軸受６との間に位置する軸封部に、ポン
プ外部からシールガスを供給するためのシール供給口９
を設け、このシールガスは、ポンプ機構部７と軸受６と
の両方へ分かれ分かれて流れるようなっているため、ポ
ンプ機構部７を通過する気体と軸受潤滑油が接すること
がない。ポンプ機構部に流入したシールガスは、ポンプ
の吸込口１から流入する気体と混り合って、吐出口２よ
り排気されるため、反応生成物を含むガスは、シールガ
スによって希釈されることになる。反応生成物の中に
は、圧力が上昇し、温度が低下すると固体化しやすくな
るものが多く、特に半導体製造装置の一種であるアルミ
エッチング装置から排気されるガスには、そのような物
質が含まれている。このような物質であっても、不活性
ガスで希釈されると、固体化する温度が低くなり、固体
化しにくくなる。
【０００５】なお、この種従来技術としては、特願昭60
−292727号明細書に記載のものがある。
−292727号明細書に記載のものがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、軸封
部に供給するシールガスにより、ポンプ吸込口から流入
するガスを希釈することにより、最終段のポンプ機構部
及び吐出口部への反応生成物の付着堆積の時間を延ばす
ことができる。さらに、反応生成物が流入しても長時間
運転ができるようにするには、この部分における付着を
防止することが重要である。
部に供給するシールガスにより、ポンプ吸込口から流入
するガスを希釈することにより、最終段のポンプ機構部
及び吐出口部への反応生成物の付着堆積の時間を延ばす
ことができる。さらに、反応生成物が流入しても長時間
運転ができるようにするには、この部分における付着を
防止することが重要である。
【０００７】本発明の目的は、最終段のポンプ機構部及
び吐出口部分における反応生成物の付着堆積を防止し、
より長時間の連続運転を可能とすることにある。
び吐出口部分における反応生成物の付着堆積を防止し、
より長時間の連続運転を可能とすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、最終段のポンプ機構のロータとステータ
の間の隙間を大きくし、ポンプ機構側に流れ込むシール
ガスを少なくするようにする。
に、本発明は、最終段のポンプ機構のロータとステータ
の間の隙間を大きくし、ポンプ機構側に流れ込むシール
ガスを少なくするようにする。
【０００９】
【作用】吸込口からポンプ内へ流入するガス中に、昇華
性の反応生成物が含まれる場合は、ポンプ内を通過する
に従い、ポンプの圧縮作用で圧力が上昇し、最終段が一
番高い圧力となり、昇華性の反応生成物が一番付着しや
すくなる。また、最終段の後面はロータとステータの隙
間が小さく、ロータが高速で回転しているため、ポンプ
作用により負圧状態となり、反応生成物が最終段後面に
入り込み易くなる。本発明では、最終段のロータとステ
ータの隙間を大きくし、ポンプ作用を軽減することによ
って、最終段に入ってこようとする反応生成物の侵入を
防ぐ。かつ、軸封部に外部から供給されるシールガスの
量を減らすことによって、最終段での発熱を助長させ
る。その結果、吐出口の温度が高くなり、この部分への
反応生成物の付着堆積が防止され、ポンプをより長時間
連続運転することが可能となる。
性の反応生成物が含まれる場合は、ポンプ内を通過する
に従い、ポンプの圧縮作用で圧力が上昇し、最終段が一
番高い圧力となり、昇華性の反応生成物が一番付着しや
すくなる。また、最終段の後面はロータとステータの隙
間が小さく、ロータが高速で回転しているため、ポンプ
作用により負圧状態となり、反応生成物が最終段後面に
入り込み易くなる。本発明では、最終段のロータとステ
ータの隙間を大きくし、ポンプ作用を軽減することによ
って、最終段に入ってこようとする反応生成物の侵入を
防ぐ。かつ、軸封部に外部から供給されるシールガスの
量を減らすことによって、最終段での発熱を助長させ
る。その結果、吐出口の温度が高くなり、この部分への
反応生成物の付着堆積が防止され、ポンプをより長時間
連続運転することが可能となる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１により説明す
る。
る。
【００１１】図１において、吸込口１と吐出口２とを有
するケーシング３内には、軸受７によって支承されてモ
ータ８により駆動されるロータ４と、ロータ４を囲むよ
うにして取り付けられたステータ５とからなるポンプ機
構部６がある。吸込口１から流入した気体は、ポンプ機
構部で、順次、圧縮され、吐出口２を通って大気へ排気
される。ポンプ機構部６と軸受７との間には軸封部９が
あり、この軸封部９には外部からシールガス供給口１０
を通って、シールガスが供給される。シールガスは吸込
口から流入する気体と反応することのないように、乾燥
窒素などの不活性ガスを用いる。シールガス供給口１０
から流入したシールガスは二方向に分かれて流れ、一部
はポンプ機構部６の最終段に流入し、吸込口１から流入
した気体と一緒に吐出口２から排気される。残りは軸受
７を通ってモータ室１２に入り、モータ室排気口１１か
ら排気される。この二方向に分かれて流れるシールガス
によって、潤滑油がポンプ機構部６に流入するのを防ぐ
とともに、吸込口１から流入した気体がモータ室１２に
流入するのを防止している。
するケーシング３内には、軸受７によって支承されてモ
ータ８により駆動されるロータ４と、ロータ４を囲むよ
うにして取り付けられたステータ５とからなるポンプ機
構部６がある。吸込口１から流入した気体は、ポンプ機
構部で、順次、圧縮され、吐出口２を通って大気へ排気
される。ポンプ機構部６と軸受７との間には軸封部９が
あり、この軸封部９には外部からシールガス供給口１０
を通って、シールガスが供給される。シールガスは吸込
口から流入する気体と反応することのないように、乾燥
窒素などの不活性ガスを用いる。シールガス供給口１０
から流入したシールガスは二方向に分かれて流れ、一部
はポンプ機構部６の最終段に流入し、吸込口１から流入
した気体と一緒に吐出口２から排気される。残りは軸受
７を通ってモータ室１２に入り、モータ室排気口１１か
ら排気される。この二方向に分かれて流れるシールガス
によって、潤滑油がポンプ機構部６に流入するのを防ぐ
とともに、吸込口１から流入した気体がモータ室１２に
流入するのを防止している。
【００１２】ロータ４とステータ５は一定の隙間を保っ
て、ロータ４が高速回転し、吸込口１より吸込まれた気
体を圧縮している。この圧縮作用でポンプ機構部６は温
度が上昇するが、ポンプ機構部６の最終段の後面はシー
ルガス供給口１０より供給されたシールガスの一部がポ
ンプ機構部６の最終段後面を通って流れるために冷却さ
れる。また、吐出口２の付近ではケーシング３に熱が逃
げるため、気体の温度は低下する。このため、真空ポン
プの吸込側が、例えば、半導体デバイスのアルミドライ
エッチング装置に連結されている場合には、エッチング
後の反応生成物としてＡｌＣｌ3 が生成する。
て、ロータ４が高速回転し、吸込口１より吸込まれた気
体を圧縮している。この圧縮作用でポンプ機構部６は温
度が上昇するが、ポンプ機構部６の最終段の後面はシー
ルガス供給口１０より供給されたシールガスの一部がポ
ンプ機構部６の最終段後面を通って流れるために冷却さ
れる。また、吐出口２の付近ではケーシング３に熱が逃
げるため、気体の温度は低下する。このため、真空ポン
プの吸込側が、例えば、半導体デバイスのアルミドライ
エッチング装置に連結されている場合には、エッチング
後の反応生成物としてＡｌＣｌ3 が生成する。
【００１３】ロータ４とステータ５は微小隙間なため、
ポンプ作用により、図３に示すような圧力分布となる。
図３からわかるようにロータ４の根元の方が圧力が低い
ため、反応生成物が侵入しやすいので、図４のようにポ
ンプ機構部６の最終段後面のロータ４とステータ５の隙
間を性能に影響を及ぼさない範囲まで広げ、ポンプ作用
を軽減することによって、反応生成物が侵入してくるの
を防止する。また、ポンプ作用が軽減されることによっ
て、ポンプ最終段に入ってくるシールガス量が減り、最
終段ポンプの内部温度が上昇し、反応生成物がステータ
５壁面に付着しなくなる。ロータ４とステータ５の隙間
を大きくすると円板摩擦損失が増え、その結果、発熱量
が増え、ポンプ内部温度が高くなり、反応生成物の壁面
への付着堆積を防止する。
ポンプ作用により、図３に示すような圧力分布となる。
図３からわかるようにロータ４の根元の方が圧力が低い
ため、反応生成物が侵入しやすいので、図４のようにポ
ンプ機構部６の最終段後面のロータ４とステータ５の隙
間を性能に影響を及ぼさない範囲まで広げ、ポンプ作用
を軽減することによって、反応生成物が侵入してくるの
を防止する。また、ポンプ作用が軽減されることによっ
て、ポンプ最終段に入ってくるシールガス量が減り、最
終段ポンプの内部温度が上昇し、反応生成物がステータ
５壁面に付着しなくなる。ロータ４とステータ５の隙間
を大きくすると円板摩擦損失が増え、その結果、発熱量
が増え、ポンプ内部温度が高くなり、反応生成物の壁面
への付着堆積を防止する。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、ポンプの排気性能を損
うことなく、ポンプ機構部への反応生成物の付着堆積を
防止できるので、より長時間の連続運転が可能になる。
うことなく、ポンプ機構部への反応生成物の付着堆積を
防止できるので、より長時間の連続運転が可能になる。
【図１】本発明の一実施例の断面図。
【図２】従来技術の断面図。
【図３】従来技術の最終段の断面図。
【図４】本発明の一実施例の最終段の断面図。
１…吸込口、２…吐出口、３…ケーシング、４…ロー
タ、５…ステータ。
タ、５…ステータ。
Claims (1)
- 【請求項１】吸込口と吐出口を有するケーシング内にロ
ータおよびステータを収納したポンプ機構と、前記ポン
プ機構の下方に設けられたポンプ外からシールガスを供
給する軸封部とを有し、前記吸込口から吸込まれた気体
が前記吐出口より大気へ排気される真空ポンプにおい
て、前記ポンプ機構の最終段の前記ロータと前記ステー
タの隙間を前段の隙間より大きくしたことを特徴とする
ドライ真空ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27929193A JPH07133792A (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | ドライ真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27929193A JPH07133792A (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | ドライ真空ポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07133792A true JPH07133792A (ja) | 1995-05-23 |
Family
ID=17609128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27929193A Pending JPH07133792A (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | ドライ真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07133792A (ja) |
-
1993
- 1993-11-09 JP JP27929193A patent/JPH07133792A/ja active Pending
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