JPH0713640A - ファジイpi温度制御方法 - Google Patents

ファジイpi温度制御方法

Info

Publication number
JPH0713640A
JPH0713640A JP15215893A JP15215893A JPH0713640A JP H0713640 A JPH0713640 A JP H0713640A JP 15215893 A JP15215893 A JP 15215893A JP 15215893 A JP15215893 A JP 15215893A JP H0713640 A JPH0713640 A JP H0713640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
deviation
coefficient
value
target temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15215893A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2765796B2 (ja
Inventor
Hisaaki Kono
寿明 河野
Satoshi Sato
聡 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP15215893A priority Critical patent/JP2765796B2/ja
Publication of JPH0713640A publication Critical patent/JPH0713640A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2765796B2 publication Critical patent/JP2765796B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Feedback Control In General (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】制御対象の温度のハンチング幅を減少させる。 【構成】温度偏差−変化速度平面10における温度偏差
および変化速度のそれぞれをX−Y平面に対応付ける係
数を偏差係数および速度係数とし、対象温度が目標温度
より低く且つ対象温度が上昇する領域を第1の領域12
とし、その他の領域11、13、14を第2の領域と称
するとき、第1の領域12における偏差係数−Ehおよ
び速度係数ΔEhのそれぞれの値を、第2の領域11、
13、14における偏差係数Ec、−Ecおよび速度係
数ΔEc、−ΔEcの各値より小さく設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、無駄時間+一次遅れ系
の制御対象の温度、または無駄時間+二次遅れ系の制御
対象の温度をファジイルールを用いて制御するファジイ
PI温度制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】無駄時間+一次遅れ系の制御対象である
押出成形機の金型温度をファジイルールを用いて制御す
るシステム(特開平4−227502号公報)が提案さ
れている。しかしこの場合、樹脂の発熱があることか
ら、金型を目標温度に維持するためには加熱および冷却
の双方を行う必要があり、その制御には下記に示す方法
が検討されている。
【0003】金型の温度を対象温度、目標温度と対象温
度との差異を温度偏差と呼ぶとすると、温度偏差を一方
の軸とし、対象温度の変化速度を他方の軸とする平面の
データテーブルに、温度偏差と変化速度とにより構成さ
れたファジイルールを数値データとして展開し、展開し
たデータテーブルの温度偏差−変化速度平面をX−Y平
面と対応付け、このX−Y平面の座標に対応するファジ
イ推論値を用いて金型温度を制御している。
【0004】そして図4に示すように、温度偏差−変化
速度平面をX−Y平面に対応付ける係数については、加
熱時における係数を冷却時における係数より小さく設定
し、加熱時の制御出力値の変動率を大きくすることによ
って、金型温度が目標温度より低くなったときには、そ
の温度を速やかに目標温度まで加熱する制御方法となっ
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記制御において対象
温度が下降し、目標温度より低くなるときには、対象温
度の履歴(曲線91により示す)は、図4の第4象限か
ら第3象限に移動することとなる。そのため上記制御方
法を用いた場合、同一変化速度(位置92に対応するY
軸の値として示される))であっても、第4象限と第3
象限とでは、温度偏差−変化速度平面をX−Y平面に対
応付ける係数が第3象限の側で小さくなっているため、
履歴91が第4象限から第3象限に移動したときには、
ファジイ推論値は不連続的にその値を増加させることと
なる。
【0006】このことは制御出力が急速に増加するとい
う結果を招くことから(図5の93により示す)、対象
温度は目標温度を越えた後にも大きくオーバシュートす
ることとなり(94により示す)、それを再度冷却する
というサイクルが繰り返されるため、制御対象における
温度のハンチング幅が大きくなるという問題を生じてい
た。
【0007】本発明は上記課題を解決するため創案され
たものであって、その目的は、制御対象の温度のハンチ
ング幅を減少させることのできるファジイPI温度制御
方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明のファジイPI温度制御方法は、無駄時間+一次
遅れ系の制御対象の温度、または無駄時間+二次遅れ系
の制御対象の温度を対象温度とし、制御対象の目標温度
と対象温度との差異を温度偏差とするとき、温度偏差を
一方の軸とし、対象温度の変化速度を他方の軸とする平
面のデータテーブルに、温度偏差と変化速度とにより構
成されたファジイルールを数値データとして展開すると
共に、この展開したデータテーブルの温度偏差−変化速
度平面を任意のスケールに変換したX−Y平面と対応付
け、このX−Y平面の座標に対応するファジイ推論値を
用いて制御対象の温度を制御する制御方法に適用するこ
ととし、対象温度が目標温度より低い領域であって且つ
対象温度が上昇する領域を第1の領域とし、その他の領
域を第2の領域とし、温度偏差および変化速度のそれぞ
れをX−Y平面の座標値に対応付ける係数の各々を偏差
係数および速度係数とするとき、第1の領域における偏
差係数および速度係数のそれぞれの値を、第2の領域に
おける偏差係数および速度係数のそれぞれの値より小さ
く設定する。
【0009】
【作用】対象温度が目標温度より高く且つ変化速度がマ
イナスの領域と、対象温度が目標温度より低く且つ変化
速度がマイナスの領域との双方の領域は第2の領域に属
することから、温度偏差−変化速度平面をX−Y平面に
対応付ける偏差係数の値および変化速度の値は、双方の
領域で共に等しい値となる。そのため対象温度が下降
し、目標温度を横切るときにも、ファジイ推論値は連続
的に変化する値となり、制御出力値は滑らかに変化す
る。
【0010】そして対象温度が上昇に転じる第1の領域
となったときには、偏差係数と速度係数との双方が小さ
な値に設定されていることから、出力が大きく変化し、
対象温度は、速やかに目標温度に向かって上昇する。
【0011】
【実施例】本発明の一実施例について図面を参照しつつ
以下に説明する。
【0012】図1は、本発明のファジイPI温度制御方
法の一実施例の温度偏差−変化速度平面を示す説明図で
ある。
【0013】本実施例は、無駄時間+二次遅れ系の制御
対象である押出成形機の金型の温度を、加熱または冷却
を行うことによって制御する制御方法となっている。
【0014】そのため温度偏差−変化速度平面10にお
ける横軸は、制御対象の温度である対象温度から、設定
された目標温度を減じることにより得られる温度偏差を
示しており、縦軸は、一定の時間間隔で温度偏差の変化
を検出することにより得られる対象温度の変化速度を示
している。
【0015】そして温度偏差がプラスの領域11、14
の偏差係数Ecを、図2に示すX−Y平面21のX軸の
値1に対応させており、温度偏差がマイナス且つ変化速
度がマイナスとなる領域13の偏差係数−EcをX軸の
値−1に対応させている。そして領域11の速度係数Δ
EcをY軸の値1に対応させ、領域13、14の速度係
数−ΔEcをY軸の値−1に対応させている(領域1
1、13、14は、請求項1記載の第2の領域に対応し
ている)。
【0016】また対象温度が目標温度より低いため温度
偏差がマイナスであり、対象温度が上昇であるため速度
係数がプラスとなる領域(第1の領域)12では、速度
係数ΔEcより小さい値である偏差係数ΔEhをX−Y
平面21のY軸の値1に対応させており、偏差係数につ
いては、係数−Ecより小さい値である係数−EhをX
軸の値−1に対応させている。
【0017】つまり図2に示すX−Y平面21のX、Y
の各値が−1≦X≦1、−1≦Y≦1となるエリア22
は、図1に示す温度偏差−変化速度平面の領域11〜1
4に対応することとなる。
【0018】このことは、変化速度が図1の値Aである
としても、この変化速度が領域11における変化速度で
ある場合には、X−Y平面21では値A11に対応する
こととなり、領域12における変化速度である場合に
は、値A12に対応することとなる。このことは温度偏
差についても同様である。
【0019】つまり温度偏差あるいは変化速度は、その
値が同一である場合にも、それらが領域(第1の領域)
12に属する場合と、その他の領域(第2の領域)1
1、13、14に属する場合とでは、X−Y平面21に
おいて対応する値が異なる。
【0020】一方、X−Y平面21については、X軸、
Y軸の各値を21の等間隔の座標値に分割し、各座標値
の交点毎に、X軸を温度偏差、Y軸を変化速度として構
成されたファジイ推論値が予め算出されており、算出さ
れた値は、横方向、縦方向のそれぞれが21に分割され
たマトリクスであるルックアップテーブルに格納されて
いる。
【0021】以上のことから、押出成形機の金型(制御
対象)の温度制御においては、検出された対象温度と設
定された目標温度とから、先ず温度偏差が算出され、次
いで温度偏差の変化から変化速度が算出される。そして
算出された各値からX−Y平面21における座標値が算
出される。
【0022】この座標値は、ルックアップテーブルの升
目のうちの1つの升目を示す値となることから、座標値
に対応する升目内の値がファジイ推論値となる。
【0023】このようにして得られたファジイ推論値は
速度型の出力値として扱われ、この出力値に従い、金型
の温度制御を行う出力処理部において制御出力の値が演
算される。そして演算された制御出力は金型の加熱冷却
手段に与えられる。
【0024】図3は、対象温度の変化と制御出力の変化
とを示す説明図である。必要に応じて同図を参照しつ
つ、以下に、実機における動作を説明する。
【0025】本実施例は加熱と冷却との双方によって金
型の温度制御を行うことから、目標温度と対象温度との
比較を行うことにより、冷却制御を開始するかどうかが
判定される。
【0026】そして対象温度が目標温度より高くなった
ときには、冷却制御の開始となり、温度偏差−変化速度
平面10における偏差係数Ec、−Ec、Ehの各値を
算出すると共に、速度係数ΔEc、−ΔEc、ΔEhの
それぞれの値を算出することにより、温度偏差−変化速
度平面10とX−Y平面21との対応付けを行う。
【0027】いま金型の対象温度が、中心Oとして示さ
れる温度(目標温度に一致した温度)から上昇を開始し
たとすると、その履歴31は領域11を移動することか
ら、温度偏差と変化速度とに対応して得られるファジイ
推論値に従って冷却が行われる。そのため対象温度はや
がては下降に向かうことから、履歴31は領域11か領
域14に移動する(32により示す)。
【0028】履歴31が、領域11から領域14に移動
したときには、領域11および領域14のそれぞれをX
−Y平面21に対応付ける偏差係数Ec、速度係数ΔE
c、−ΔEcは、領域11と領域14とで同一係数とな
っているため、ファジイ推論値は連続的に変化した値と
して得られる。
【0029】そして領域14においても冷却が行われる
ことから、履歴31は領域13に向かうこととなり(3
3により示す)、加熱を行う制御となるのであるが、領
域13および領域14のそれぞれとX−Y平面21との
対応関係は、同一係数による対応となっていることか
ら、ファジイ推論値は連続的に変化する値として得られ
ることとなる。このことは、金型の温度の制御出力値が
大きく変動しないことを意味する。
【0030】そして加熱により対象温度が上昇となった
ときには、履歴31は領域13から領域12に移動する
(34により示す)。
【0031】このときには、領域12の偏差係数−Eh
および速度係数ΔEhのそれぞれが、偏差係数−Ecと
速度係数ΔEcとのそれぞれより小さく設定されてお
り、X−Y平面21において対応する座標値が異なるた
め、ファジイ推論値が不連続的に増大することとなり、
制御出力値が急激に増加する。そのため対象温度の上昇
が速められ、やがては目標温度を越える。
【0032】しかし、履歴31が領域12から領域11
に移るときの変化速度については、領域13における加
熱制御が領域14と連続した係数による制御となってお
り、出力変動率が抑えられた制御となっていること、お
よびファジイ推論値が速度型の制御となっていることか
ら、変化速度(Bにより示す)は、従来技術における変
化速度より遅い速度となっている。
【0033】そのため領域11における温度偏差(図
1、図3のCにより示す)は、小さな値に留まることと
なる。以下、履歴31は、領域14、13、12と移動
することになるのであるが、温度偏差(C)が小さな値
に留まっているため、領域13と領域12との境界にお
ける温度偏差(D)も小さな値に留まる。
【0034】つまり金型の温度(対象温度)のハンチン
グの幅(W)が小さな値に留まることとなり、温度制御
における精度が高まることとなる。
【0035】なお本発明は上記実施例に限定されず、制
御対象については、無駄時間+二次遅れ系である押出成
形機の金型とした場合について説明したが、その他の制
御対象として、無駄時間+一次遅れ系の制御対象、また
は押出成形機以外の無駄時間+二次遅れ系の制御対象に
同様に適用することが可能である。
【0036】
【発明の効果】本発明に係るファジイPI温度制御方法
は、温度偏差および対象温度の変化速度のそれぞれを軸
とする平面のデータテーブルにファジイルールを数値デ
ータとして展開し、展開したデータテーブルの温度偏差
−変化速度平面を任意のスケールに変換したX−Y平面
と対応付け、このX−Y平面の座標に対応するファジイ
推論値を用いた温度制御方法に適用している。そして温
度偏差および変化速度のそれぞれをX−Y平面に対応付
ける係数を偏差係数および速度係数とし、対象温度が目
標温度より低く且つ対象温度が上昇する領域を第1の領
域とし、その他の領域を第2の領域と称するとき、第1
の領域における偏差係数および速度係数のそれぞれの値
を、第2の領域における偏差係数および速度係数のそれ
ぞれの値より小さく設定している。そのため対象温度が
下降し、目標温度を横切るときにも、ファジイ推論値は
連続的に変化する値となり、制御出力値は滑らかに変化
する。また対象温度が上昇に転じる第1の領域となった
ときには、偏差係数と速度係数との双方が小さな値に設
定されていることから、出力が大きく変化し、対象温度
は、速やかに目標温度に向かって上昇するため、温度の
ハンチング幅を減少させることが可能となっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の温度偏差−変化速度平面を
示す説明図である。
【図2】本発明の一実施例のX−Y平面を示す説明図で
ある。
【図3】本発明の一実施例の対象温度および制御出力の
それぞれの変化を示す説明図である。
【図4】従来技術における温度偏差−変化速度平面を示
す説明図である。
【図5】従来技術における対象温度および制御出力のそ
れぞれの変化を示す説明図である。
【符号の説明】
10 温度偏差−変化速度平面 11、13、14 第2の領域 12 第1の領域 21 X−Y平面 Ec、−Ec、−Eh 偏差係数 ΔEc、−ΔEc、ΔEh 速度係数

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 無駄時間+一次遅れ系の制御対象の温
    度、または無駄時間+二次遅れ系の制御対象の温度を対
    象温度とし、前記制御対象の目標温度と対象温度との差
    異を温度偏差とするとき、温度偏差を一方の軸とし、対
    象温度の変化速度を他方の軸とする平面のデータテーブ
    ルに、温度偏差と前記変化速度とにより構成されたファ
    ジイルールを数値データとして展開すると共に、この展
    開したデータテーブルの温度偏差−変化速度平面を任意
    のスケールに変換したX−Y平面と対応付け、このX−
    Y平面の座標に対応するファジイ推論値を用いて前記制
    御対象の温度を制御する制御方法において、 対象温度が前記目標温度より低い領域であって且つ対象
    温度が上昇する領域を第1の領域とし、その他の領域を
    第2の領域とし、温度偏差および変化速度のそれぞれを
    前記X−Y平面に対応付ける係数の各々を偏差係数およ
    び速度係数とするとき、 第1の領域における偏差係数および速度係数のそれぞれ
    の値を、第2の領域における偏差係数および速度係数の
    それぞれの値より小さく設定したことを特徴とするファ
    ジイPI温度制御方法。
JP15215893A 1993-06-23 1993-06-23 ファジイpi温度制御方法 Expired - Fee Related JP2765796B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15215893A JP2765796B2 (ja) 1993-06-23 1993-06-23 ファジイpi温度制御方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15215893A JP2765796B2 (ja) 1993-06-23 1993-06-23 ファジイpi温度制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0713640A true JPH0713640A (ja) 1995-01-17
JP2765796B2 JP2765796B2 (ja) 1998-06-18

Family

ID=15534295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15215893A Expired - Fee Related JP2765796B2 (ja) 1993-06-23 1993-06-23 ファジイpi温度制御方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2765796B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5606116A (en) * 1994-10-29 1997-02-25 Kabushiki Kaisha Nippon Gene Chromatogenous testing system for urinalysis

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5606116A (en) * 1994-10-29 1997-02-25 Kabushiki Kaisha Nippon Gene Chromatogenous testing system for urinalysis

Also Published As

Publication number Publication date
JP2765796B2 (ja) 1998-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5107193A (en) Feedforward control apparatus for a servomotor
KR100206693B1 (ko) 2축 연신 필름의 두께 제어 방법
US5149472A (en) Fuzzy inference thermocontrol method for an injection molding machine
JPS635401A (ja) プログラム温度調節器の比例制御方法
EP0089156B1 (en) Method and apparatus for controlling acceleration and/or deceleration
US7150619B2 (en) Controller of injection molding machine
CN118650832B (zh) 一种基于温度的注塑模具生产控制方法及系统
CN107790873A (zh) 激光控制装置
US4742444A (en) Method of optimizing drive controls in machine tools having computer control
CN113186665A (zh) 一种缝纫伺服电机的平滑速度规划控制方法
US6298279B1 (en) CAD/CAM apparatus and machining apparatus for processing position/force information
Tsai et al. Fuzzy supervisory predictive PID control of a plastics extruder barrel
JPH0713640A (ja) ファジイpi温度制御方法
JP4085418B2 (ja) 曲線補間加減速制御方法
CN102082545A (zh) 马达速度控制器及其控制方法
EP0566747B1 (en) Method of controlling servomotors
CN119457129A (zh) 一种基于能量反馈的激光增材制造控制方法、装置和设备
JPH0752365B2 (ja) 数値制御装置
Viharos et al. Selection of input and output variables of ANN based modelling of cutting processes
JP2597920B2 (ja) 射出成形機の温度制御方法
JPS6126174A (ja) 自動変速制御方式
JP2819102B2 (ja) プログラム温度調節計の温度制御方式
JP2765797B2 (ja) ファジイ温度制御システム
JP2915220B2 (ja) プロセス制御装置
CN118650877A (zh) 熔融沉积成型工艺参数实时调控系统及方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees