JPH07139300A - 地下構造物の構築方法 - Google Patents
地下構造物の構築方法Info
- Publication number
- JPH07139300A JPH07139300A JP5320793A JP32079393A JPH07139300A JP H07139300 A JPH07139300 A JP H07139300A JP 5320793 A JP5320793 A JP 5320793A JP 32079393 A JP32079393 A JP 32079393A JP H07139300 A JPH07139300 A JP H07139300A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- retaining wall
- earth retaining
- underground structure
- constructing
- frame
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- Granted
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- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
- Lining And Supports For Tunnels (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シールド工法で掘削したトンネル内から土留
め壁を施工して地上既存物の下に地下構造物を構築する
方法の改良。 【構成】 立て坑1からシールドを発進させて地下構造
物の平面輪郭に沿ってトンネル21〜24を形成。該ト
ンネル内から下方垂直土留め壁31〜34と上方垂直止
水壁41〜44を施工。上方垂直止水壁41〜44の内
方の地下水位を下げ、トンネル22,24間に水平土留
め壁5を施工し、水平土留め壁5と下方垂直土留め壁3
1〜34を剛接合し、ラーメン構造の架構を形成。架構
内を掘削し地下構造物を構築。 【効果】 立て坑が1つでよい。構真柱や仮支柱が不
要。水平土留め壁の施工や架構の形成が容易かつ確実。
め壁を施工して地上既存物の下に地下構造物を構築する
方法の改良。 【構成】 立て坑1からシールドを発進させて地下構造
物の平面輪郭に沿ってトンネル21〜24を形成。該ト
ンネル内から下方垂直土留め壁31〜34と上方垂直止
水壁41〜44を施工。上方垂直止水壁41〜44の内
方の地下水位を下げ、トンネル22,24間に水平土留
め壁5を施工し、水平土留め壁5と下方垂直土留め壁3
1〜34を剛接合し、ラーメン構造の架構を形成。架構
内を掘削し地下構造物を構築。 【効果】 立て坑が1つでよい。構真柱や仮支柱が不
要。水平土留め壁の施工や架構の形成が容易かつ確実。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、道路、鉄道、河川、構
造物等の地上既存物の下方に地下構造物を構築する方法
に関するものである。
造物等の地上既存物の下方に地下構造物を構築する方法
に関するものである。
【0002】
【従来技術とその問題点】シールド工法で掘削した両側
のトンネルの下方にそれぞれトンネル内から下方土留め
壁を施工するとともに、両側のトンネル間にトンネル内
から水平土留め壁を施工して、下方土留め壁と水平土留
め壁で囲まれた内部を掘削し、この掘削部に地下構造物
を構築する工法は従来公知であるが、この工法の従来例
では、シールドの発進と到達のためにそれぞれ立て坑を
設けているため、その用地が確保できないときは地下構
造物の構築が不可能であり、また、トンネル間の距離が
長い場合には中間に地上から構眞柱を施工して水平山留
め壁を支持する必要があるし、この構眞柱を地上から施
工できないときは地下構造物を構築する前に内部に仮支
柱を設置する必要があり、その何れにしても作業が煩雑
で確実性を欠き、さらに、一般的に地下水のある状態で
施工しているため、施工が難しい、等の問題点があっ
た。
のトンネルの下方にそれぞれトンネル内から下方土留め
壁を施工するとともに、両側のトンネル間にトンネル内
から水平土留め壁を施工して、下方土留め壁と水平土留
め壁で囲まれた内部を掘削し、この掘削部に地下構造物
を構築する工法は従来公知であるが、この工法の従来例
では、シールドの発進と到達のためにそれぞれ立て坑を
設けているため、その用地が確保できないときは地下構
造物の構築が不可能であり、また、トンネル間の距離が
長い場合には中間に地上から構眞柱を施工して水平山留
め壁を支持する必要があるし、この構眞柱を地上から施
工できないときは地下構造物を構築する前に内部に仮支
柱を設置する必要があり、その何れにしても作業が煩雑
で確実性を欠き、さらに、一般的に地下水のある状態で
施工しているため、施工が難しい、等の問題点があっ
た。
【0003】
【発明の目的】本発明の目的は、前述のような問題点を
伴わない地下構造物の構築方法を提供することにある。
伴わない地下構造物の構築方法を提供することにある。
【0004】
【発明の構成】本発明の地下構造物の構築方法の構成上
の特徴は、地上既存物付近の空き地に設けた立て坑から
シールドを発進させて、地上既存物の地下に、構築すべ
き地下構造物の平面輪郭に沿ってトンネルを形成し、該
トンネルの内部から下方垂直土留め壁と上方垂直止水壁
を施工し、上方垂直止水壁の内方の地下水位を下げて地
下水位以上で、相対向するトンネル間に水平土留め壁を
施工するとともに、この水平土留め壁と下方垂直土留め
壁とを剛接合して、ラーメン構造の架構を構成した後、
その内部を掘削し、この掘削部に地下構造物を構築する
点にある。
の特徴は、地上既存物付近の空き地に設けた立て坑から
シールドを発進させて、地上既存物の地下に、構築すべ
き地下構造物の平面輪郭に沿ってトンネルを形成し、該
トンネルの内部から下方垂直土留め壁と上方垂直止水壁
を施工し、上方垂直止水壁の内方の地下水位を下げて地
下水位以上で、相対向するトンネル間に水平土留め壁を
施工するとともに、この水平土留め壁と下方垂直土留め
壁とを剛接合して、ラーメン構造の架構を構成した後、
その内部を掘削し、この掘削部に地下構造物を構築する
点にある。
【0005】本発明の地下構造物の構築方法が従来工法
と異なる主要点は、構築すべき地下構造物の平面輪郭に
沿ってトンネルを形成することにより、トネル形成用の
立て坑は1箇所に設ければよいようにしたこと、水平土
留め壁と下方垂直土留め壁とを剛接合してラーメン構造
の架構を構成することにより、幅広の地下構造物を構築
する場合でも水平土留め壁を支持する構眞柱や仮支柱を
設置しないで済むようにしたこと、上方垂直止水壁を設
け、その内方の地下水位を下げて、地下水位以上で水平
土留め壁の施工及び水平土留め壁と下方垂直土留め壁と
の剛接合を行うことにより、これらの作業が容易かつ確
実に行われるようにしたこと、の諸点にある。
と異なる主要点は、構築すべき地下構造物の平面輪郭に
沿ってトンネルを形成することにより、トネル形成用の
立て坑は1箇所に設ければよいようにしたこと、水平土
留め壁と下方垂直土留め壁とを剛接合してラーメン構造
の架構を構成することにより、幅広の地下構造物を構築
する場合でも水平土留め壁を支持する構眞柱や仮支柱を
設置しないで済むようにしたこと、上方垂直止水壁を設
け、その内方の地下水位を下げて、地下水位以上で水平
土留め壁の施工及び水平土留め壁と下方垂直土留め壁と
の剛接合を行うことにより、これらの作業が容易かつ確
実に行われるようにしたこと、の諸点にある。
【0006】
【実施例の説明】図面は本発明により幅員Wの道路下に
地下構築物を構築する場合の説明図であり、本発明で
は、先ず、道路の一側方の空き地に設けた立て坑1から
シールドを発進させ、シールド工法で道路下に構築すべ
き地下構造物の平面輪郭に沿って一連のトンネル21,
22,23,24を形成するが、このトンネル21,2
2,23,24の断面形状は円形よりも方形が好まし
い。
地下構築物を構築する場合の説明図であり、本発明で
は、先ず、道路の一側方の空き地に設けた立て坑1から
シールドを発進させ、シールド工法で道路下に構築すべ
き地下構造物の平面輪郭に沿って一連のトンネル21,
22,23,24を形成するが、このトンネル21,2
2,23,24の断面形状は円形よりも方形が好まし
い。
【0007】末端のトンネル24を形成した後、シール
ドは先端のトンネル21に地中接続させるので、立て坑
1は1箇所でよい。
ドは先端のトンネル21に地中接続させるので、立て坑
1は1箇所でよい。
【0008】次いで、トンネル21,22,23,24
の内部から、それらの下方と上方にそれぞれ下方垂直土
留め壁31,32,33,34と上方垂直止水壁41,
42,43,44を適宜の工法で施工するが、下方垂直
土留め壁31,32,33,34は剛牲が大であるよう
にするのが望ましい。
の内部から、それらの下方と上方にそれぞれ下方垂直土
留め壁31,32,33,34と上方垂直止水壁41,
42,43,44を適宜の工法で施工するが、下方垂直
土留め壁31,32,33,34は剛牲が大であるよう
にするのが望ましい。
【0009】それから、上方垂直止水壁41,4,
43,44の内方の地下水位をH1からH2まで下げ、
地下水位H2以上で、道路の長さ方向の相対向するトン
ネル22,24間に水平土留め壁5を推進工法、水平ボ
ーリング工法等で施工する。
43,44の内方の地下水位をH1からH2まで下げ、
地下水位H2以上で、道路の長さ方向の相対向するトン
ネル22,24間に水平土留め壁5を推進工法、水平ボ
ーリング工法等で施工する。
【0010】水平土留め壁5には内部に配筋及びコンク
リート打設を行うとともに必要に応じてPC鋼材も配設
し、その両端を下方垂直土留め壁32,34の上端に剛
接合、ラーメン構造の架構6を構成した後、その内部を
適宜支保工を施しながら掘削する。
リート打設を行うとともに必要に応じてPC鋼材も配設
し、その両端を下方垂直土留め壁32,34の上端に剛
接合、ラーメン構造の架構6を構成した後、その内部を
適宜支保工を施しながら掘削する。
【0011】所定深度の掘削底面7まで掘削したら、掘
削部に地下構造物を構築するが、その際、架構6を地下
構造物の躯体の一部に利用するのが好ましい。
削部に地下構造物を構築するが、その際、架構6を地下
構造物の躯体の一部に利用するのが好ましい。
【0012】
【発明の効果】本発明は、以上のようなものであるか
ら、トンネルを構築すべき地下構造物の平面輪郭に沿っ
て形成することにより、トンネル形成用の立て坑が1箇
所で済み、水平土留め壁と下方垂直土留め壁とでラーメ
ン構造の架構を構成することにより、幅広の地下構造物
でも構眞柱や仮支柱を設置することなく構築が可能であ
り、上方垂直止水壁の内方の地下水位を下げることによ
り、水平土留め壁の施工及び水平土留め壁と下方垂直土
留め壁との剛接合工事を容易かつ確実に行うことができ
る、等の利点がある。
ら、トンネルを構築すべき地下構造物の平面輪郭に沿っ
て形成することにより、トンネル形成用の立て坑が1箇
所で済み、水平土留め壁と下方垂直土留め壁とでラーメ
ン構造の架構を構成することにより、幅広の地下構造物
でも構眞柱や仮支柱を設置することなく構築が可能であ
り、上方垂直止水壁の内方の地下水位を下げることによ
り、水平土留め壁の施工及び水平土留め壁と下方垂直土
留め壁との剛接合工事を容易かつ確実に行うことができ
る、等の利点がある。
【図1】本発明の一実施例を説明するための平面図であ
る。
る。
【図2】図1のX−X線断面図である。
【図3】図1のY−Y線拡大断面図である。
1:立て坑、21,22,23,24:トンネル、
31,32,33,34:下方垂直土留め壁、41,4
2,43,44:上方垂直止水壁、5:水平土留め壁、
6:架構、7:掘削底面。
31,32,33,34:下方垂直土留め壁、41,4
2,43,44:上方垂直止水壁、5:水平土留め壁、
6:架構、7:掘削底面。
Claims (1)
- 【請求項1】 地上既存物付近の空き地に設けた立て坑
からシールドを発進させて、地上既存物の地下に、構築
すべき地下構造物の平面輪郭に沿ってトンネルを形成
し、該トンネルの内部から下方垂直土留め壁と上方垂直
止水壁を施工し、上方垂直止水壁の内方の地下水位を下
げて地下水位以上で、相対向するトンネル間に水平土留
め壁を施工するとともに、この水平土留め壁と下方垂直
土留め壁とを剛接合して、ラーメン構造の架構を構成し
た後、その内部を掘削し、この掘削部に地下構造物を構
築することを特徴とする地下構造物の構築方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05320793A JP3125171B2 (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | 地下構造物の構築方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05320793A JP3125171B2 (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | 地下構造物の構築方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07139300A true JPH07139300A (ja) | 1995-05-30 |
| JP3125171B2 JP3125171B2 (ja) | 2001-01-15 |
Family
ID=18125310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05320793A Expired - Fee Related JP3125171B2 (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | 地下構造物の構築方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3125171B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100926285B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2009-11-12 | 정광옥 | 관체를 이용한 수직구 시공방법 |
| KR100927350B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2009-11-19 | 정광옥 | 관체를 이용한 지하시설물의 시공방법 |
| KR100963880B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-06-16 | 정광옥 | 강재 케이싱 토류벽을 이용한 지하광장 굴착공법 |
| WO2010104235A1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | Chung Kwang-Ok | 강재 케이싱 토류벽을 이용한 지하광장 및 해저광장 굴착공법 |
| WO2010104232A1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | Chung Kwang-Ok | 관체를 이용한 수직구 시공방법, 지하시설물의 시공방법 및 이를 이용한 터널 시공방법 |
| CN114396076A (zh) * | 2022-01-21 | 2022-04-26 | 安徽铁建工程有限公司 | 一种铁路线下方位于框架桥底部的地下管廊施工方法 |
| CN114542128A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-05-27 | 中铁十四局集团隧道工程有限公司 | 一种用于密贴下穿既有建构筑物的下沉式车站及施工方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6308033B1 (en) | 1999-06-02 | 2001-10-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method and apparatus using charged particles |
-
1993
- 1993-11-16 JP JP05320793A patent/JP3125171B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100926285B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2009-11-12 | 정광옥 | 관체를 이용한 수직구 시공방법 |
| KR100927350B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2009-11-19 | 정광옥 | 관체를 이용한 지하시설물의 시공방법 |
| KR100963880B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-06-16 | 정광옥 | 강재 케이싱 토류벽을 이용한 지하광장 굴착공법 |
| WO2010104235A1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | Chung Kwang-Ok | 강재 케이싱 토류벽을 이용한 지하광장 및 해저광장 굴착공법 |
| WO2010104232A1 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | Chung Kwang-Ok | 관체를 이용한 수직구 시공방법, 지하시설물의 시공방법 및 이를 이용한 터널 시공방법 |
| CN114396076A (zh) * | 2022-01-21 | 2022-04-26 | 安徽铁建工程有限公司 | 一种铁路线下方位于框架桥底部的地下管廊施工方法 |
| CN114542128A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-05-27 | 中铁十四局集团隧道工程有限公司 | 一种用于密贴下穿既有建构筑物的下沉式车站及施工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3125171B2 (ja) | 2001-01-15 |
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Legal Events
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