JPH0714151A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0714151A JPH0714151A JP14997193A JP14997193A JPH0714151A JP H0714151 A JPH0714151 A JP H0714151A JP 14997193 A JP14997193 A JP 14997193A JP 14997193 A JP14997193 A JP 14997193A JP H0714151 A JPH0714151 A JP H0714151A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、表面の平滑性の良い磁気記録媒体
と生産性の良い磁気記録媒体の製造方法を提供するもの
である。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、表面の中心線平均
粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴としてい
る。この磁気記録媒体の表面の中心線平均粗さが５ｎｍ
以下に制御するために、このフラックスパス層を構成す
る磁性微粒子の粒径が１２０ｎｍ以下であることが望ま
しい。また、二層からなる磁気記録媒体において、配向
処理を施す場合、同時塗布を実現させるために、フラッ
クスパス層の磁性微粒子の保持力が３００Ｏｅ以下であ
ることを特徴とする。
と生産性の良い磁気記録媒体の製造方法を提供するもの
である。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、表面の中心線平均
粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴としてい
る。この磁気記録媒体の表面の中心線平均粗さが５ｎｍ
以下に制御するために、このフラックスパス層を構成す
る磁性微粒子の粒径が１２０ｎｍ以下であることが望ま
しい。また、二層からなる磁気記録媒体において、配向
処理を施す場合、同時塗布を実現させるために、フラッ
クスパス層の磁性微粒子の保持力が３００Ｏｅ以下であ
ることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものである。
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来では、一般に磁性層膜面に対して平
行な方向に磁化を形成して記録する、いわゆる面内記録
方式が用いられていた。しかし、このような記録方式で
は、減磁作用により記録密度を高めることができなかっ
た。そこで、近年では、高密度記録可能なＢａフェライ
トなどの磁性微粒子を用いた垂直記録媒体が開発され、
実用化されようとしている。
行な方向に磁化を形成して記録する、いわゆる面内記録
方式が用いられていた。しかし、このような記録方式で
は、減磁作用により記録密度を高めることができなかっ
た。そこで、近年では、高密度記録可能なＢａフェライ
トなどの磁性微粒子を用いた垂直記録媒体が開発され、
実用化されようとしている。
【０００３】ところが、基体上に単層の垂直記録層が塗
布された磁気記録媒体は、通常用いられるリングヘッド
による書き込みでは効率が悪く、肝心の記録密度の向上
は、面内配向媒体に比べあまり向上しなかった。
布された磁気記録媒体は、通常用いられるリングヘッド
による書き込みでは効率が悪く、肝心の記録密度の向上
は、面内配向媒体に比べあまり向上しなかった。
【０００４】それに対して、特開昭６１−３４７２８号
公報に記載される如く、基体上に第一磁性層として針状
比２〜３、長さ０．２μｍのγ−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を用い
て等方的な磁気異方性を有する層を形成し、乾燥後、こ
の上に別途垂直磁気異方性を有する第二磁性層を設ける
技術が開示されている。このような構成により、残留磁
化状態が、第一磁性層の面内磁化と第二磁性層の垂直磁
化とによって安定な磁化構造となり、第一磁性層はフラ
ックスパスの役割をする。
公報に記載される如く、基体上に第一磁性層として針状
比２〜３、長さ０．２μｍのγ−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を用い
て等方的な磁気異方性を有する層を形成し、乾燥後、こ
の上に別途垂直磁気異方性を有する第二磁性層を設ける
技術が開示されている。このような構成により、残留磁
化状態が、第一磁性層の面内磁化と第二磁性層の垂直磁
化とによって安定な磁化構造となり、第一磁性層はフラ
ックスパスの役割をする。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の磁気記録媒体では、第一磁性層の磁性材料として針状
比２〜３長さ０．２μｍと大きいγ−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子が
用いられているため、フラックスパス層にあたる第一磁
性層がフラックスパスの効果を奏することのできる厚さ
にまで第二磁性層を薄く塗布すると、平滑性が低下し、
優れた電磁変換特性を確保することができない。
の磁気記録媒体では、第一磁性層の磁性材料として針状
比２〜３長さ０．２μｍと大きいγ−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子が
用いられているため、フラックスパス層にあたる第一磁
性層がフラックスパスの効果を奏することのできる厚さ
にまで第二磁性層を薄く塗布すると、平滑性が低下し、
優れた電磁変換特性を確保することができない。
【０００６】また、磁性層を塗布・乾燥した後のカレン
ダ処理では、磁性層は厚いほど平滑性が良く、逆に薄い
ほど表面が粗くなる傾向にある。これは、圧力による磁
性層の変形量は磁性層の膜厚に比例するためで、異なる
厚さのものに同じ圧力でカレンダ処理を施した場合、膜
厚が厚いほうが平滑性が良くなる。そのため、従来例の
ように二度塗りする製造方法の場合、第一磁性層はカレ
ンダ掛りが悪い傾向にある。更にこの上に、フラックス
パスの効果を得ることのできる薄さに第二磁性層を塗布
すると、磁性層はフラックスパス層の表面粗さに影響さ
れて表面が粗くなり、平滑性が低下する。
ダ処理では、磁性層は厚いほど平滑性が良く、逆に薄い
ほど表面が粗くなる傾向にある。これは、圧力による磁
性層の変形量は磁性層の膜厚に比例するためで、異なる
厚さのものに同じ圧力でカレンダ処理を施した場合、膜
厚が厚いほうが平滑性が良くなる。そのため、従来例の
ように二度塗りする製造方法の場合、第一磁性層はカレ
ンダ掛りが悪い傾向にある。更にこの上に、フラックス
パスの効果を得ることのできる薄さに第二磁性層を塗布
すると、磁性層はフラックスパス層の表面粗さに影響さ
れて表面が粗くなり、平滑性が低下する。
【０００７】また、従来例の製造方法では、第一磁性層
塗布後に乾燥工程が必要であった。なぜなら、配向処理
を行なう場合、第一磁性層が乾燥しないまま第二磁性層
を塗布する同時塗布を行なうと、配向処理により第一の
磁性層の磁性微粒子は配向するので、第一磁性層は等方
的な磁気異方性を得られないからである。そのため、磁
気記録媒体の第一磁性層が等方的な磁気異方性を有する
には、第一磁性層塗布後に乾燥工程が必要であり、極め
て生産性が悪かった。
塗布後に乾燥工程が必要であった。なぜなら、配向処理
を行なう場合、第一磁性層が乾燥しないまま第二磁性層
を塗布する同時塗布を行なうと、配向処理により第一の
磁性層の磁性微粒子は配向するので、第一磁性層は等方
的な磁気異方性を得られないからである。そのため、磁
気記録媒体の第一磁性層が等方的な磁気異方性を有する
には、第一磁性層塗布後に乾燥工程が必要であり、極め
て生産性が悪かった。
【０００８】即ち、従来例には、長手記録方式に対する
優位性を高めることを目的としたものが述べられてお
り、表面の平滑性の制御についての手段及び生産性の良
い磁気記録媒体の製造方法に関しては述べられていな
い。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、表面の
平滑性の良い磁気記録媒体と生産性の良い磁気記録媒体
の製造方法を提供するものである。
優位性を高めることを目的としたものが述べられてお
り、表面の平滑性の制御についての手段及び生産性の良
い磁気記録媒体の製造方法に関しては述べられていな
い。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、表面の
平滑性の良い磁気記録媒体と生産性の良い磁気記録媒体
の製造方法を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、支持体上に、第一の磁性微粒子を主体としたフラッ
クスパス層と、前記フラックスパス層上に第二の磁性微
粒子を主体とし膜面に対し垂直磁化成分を有する磁性塗
布層とを備えた磁気記録媒体において、前記磁性塗布層
の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であるこ
とを特徴とする。
は、支持体上に、第一の磁性微粒子を主体としたフラッ
クスパス層と、前記フラックスパス層上に第二の磁性微
粒子を主体とし膜面に対し垂直磁化成分を有する磁性塗
布層とを備えた磁気記録媒体において、前記磁性塗布層
の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であるこ
とを特徴とする。
【００１０】更に、前記フラックスパス層を構成する磁
性微粒子の粒径が１２０ｎｍ以下であることを特徴とす
る。更に、前記フラックスパス層を構成する磁性微粒子
の保磁力が３００Ｏｅ以下であることを特徴とする。
性微粒子の粒径が１２０ｎｍ以下であることを特徴とす
る。更に、前記フラックスパス層を構成する磁性微粒子
の保磁力が３００Ｏｅ以下であることを特徴とする。
【００１１】更に、前記フラックスパス層を構成する磁
性微粒子が複数の磁化容易軸を有することを特徴とす
る。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体
上に、フラックスパス層として、保磁力が３００Ｏｅ以
下である第一の磁性微粒子を主体とした第一の磁性塗料
を塗布し第一塗布層を形成する工程と、前記フラックス
パス層が乾燥する前に、前記フラックスパス層上に、磁
性塗布層として、膜面に対して垂直方向に磁化容易な第
二の磁性微粒子を主体とした第二の磁性塗料を塗布し第
二塗布層を形成する工程と、前記第一塗布層及び第二塗
布層を乾燥し、フラックスパス層及び前記磁性塗布層を
形成する工程とを具備することを特徴とする。
性微粒子が複数の磁化容易軸を有することを特徴とす
る。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体
上に、フラックスパス層として、保磁力が３００Ｏｅ以
下である第一の磁性微粒子を主体とした第一の磁性塗料
を塗布し第一塗布層を形成する工程と、前記フラックス
パス層が乾燥する前に、前記フラックスパス層上に、磁
性塗布層として、膜面に対して垂直方向に磁化容易な第
二の磁性微粒子を主体とした第二の磁性塗料を塗布し第
二塗布層を形成する工程と、前記第一塗布層及び第二塗
布層を乾燥し、フラックスパス層及び前記磁性塗布層を
形成する工程とを具備することを特徴とする。
【００１２】
【作用】本発明の磁気記録媒体は、上述した如く、支持
体上に、第一の磁性微粒子を主体としたフラックスパス
層と、このフラックスパス層上に第二の磁性微粒子を主
体とし膜面に対し垂直磁化成分を有する磁性塗布層とを
備えており、磁性塗布層の表面の中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とする。
体上に、第一の磁性微粒子を主体としたフラックスパス
層と、このフラックスパス層上に第二の磁性微粒子を主
体とし膜面に対し垂直磁化成分を有する磁性塗布層とを
備えており、磁性塗布層の表面の中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１３】磁気記録媒体の再生出力は、記録媒体とヘ
ッドの距離即ちスペーシング量に対し指数関数的に低下
する。そのため、本発明の磁気記録媒体は、フラックス
パス層にフラックスパス層を備え、かつ垂直磁化成分を
持つ層の磁性層のＲａが５ｎｍ以下とスペーシングが小
さいため、優れた電磁変換特性を確保することができ、
再生出力が向上した記録媒体となる。
ッドの距離即ちスペーシング量に対し指数関数的に低下
する。そのため、本発明の磁気記録媒体は、フラックス
パス層にフラックスパス層を備え、かつ垂直磁化成分を
持つ層の磁性層のＲａが５ｎｍ以下とスペーシングが小
さいため、優れた電磁変換特性を確保することができ、
再生出力が向上した記録媒体となる。
【００１４】このようなＲａを得るためには種々考えら
れるが、例えばフラックスパス層を構成する磁性微粒子
は、平均粒径が１２０ｎｍ以下が良く、更には、粒径範
囲は、４０〜１００ｎｍが好ましい。粒径が大きいと、
平滑性が低下し、磁気記録媒体のフラックスパス層側の
静磁気エネルギーの蓄積が不均一となり、フラックスパ
ス層界面が乱れる。そのため、本発明では、磁性微粒子
の平均粒径を１２０ｎｍ以下としているので所望のＲａ
を持つ磁気記録媒体が得られる。
れるが、例えばフラックスパス層を構成する磁性微粒子
は、平均粒径が１２０ｎｍ以下が良く、更には、粒径範
囲は、４０〜１００ｎｍが好ましい。粒径が大きいと、
平滑性が低下し、磁気記録媒体のフラックスパス層側の
静磁気エネルギーの蓄積が不均一となり、フラックスパ
ス層界面が乱れる。そのため、本発明では、磁性微粒子
の平均粒径を１２０ｎｍ以下としているので所望のＲａ
を持つ磁気記録媒体が得られる。
【００１５】更に、フラックスパス層を構成する磁性微
粒子の保磁力が３００Ｏｅ以下であると良い。配向処理
を行なう場合、保磁力を３００Ｏｅ以下にすることによ
って、塗布工程後に行なわれる配向処理に対して、磁性
微粒子が無配向性であることを保証するという作用を有
して、同時塗布が可能となる。即ち、同時塗布し配向処
理を行なっても、フラックスパス層の磁性微粒子は配向
しないので、磁性微粒子の磁化軸は多方向に向いてお
り、得られる磁気記録媒体のフラックスパス層は等方的
磁気特性を有する。また、保磁力が３００Ｏｅより大き
くなると、無配向性は、磁性塗料の粘性にも影響され
る。尚、本発明における同時塗布とは、フラックスパス
層が乾燥する前に磁性塗布層を塗布することをいう。
粒子の保磁力が３００Ｏｅ以下であると良い。配向処理
を行なう場合、保磁力を３００Ｏｅ以下にすることによ
って、塗布工程後に行なわれる配向処理に対して、磁性
微粒子が無配向性であることを保証するという作用を有
して、同時塗布が可能となる。即ち、同時塗布し配向処
理を行なっても、フラックスパス層の磁性微粒子は配向
しないので、磁性微粒子の磁化軸は多方向に向いてお
り、得られる磁気記録媒体のフラックスパス層は等方的
磁気特性を有する。また、保磁力が３００Ｏｅより大き
くなると、無配向性は、磁性塗料の粘性にも影響され
る。尚、本発明における同時塗布とは、フラックスパス
層が乾燥する前に磁性塗布層を塗布することをいう。
【００１６】更に、フラックスパス層を構成する磁性微
粒子が、複数の磁化容易軸を持つと良い。フラックスパ
ス層を構成する磁性微粒子が複数の磁化容易軸を持つこ
とによって、磁気記録媒体のフラックスパス層はより多
くの微小かつ任意の方向の磁界に対しても磁化が追随で
きるという作用を有するので、フラックスパス層のフラ
ックスパス効果が向上し、より一層出力特性の向上した
磁気記録媒体が得られる。
粒子が、複数の磁化容易軸を持つと良い。フラックスパ
ス層を構成する磁性微粒子が複数の磁化容易軸を持つこ
とによって、磁気記録媒体のフラックスパス層はより多
くの微小かつ任意の方向の磁界に対しても磁化が追随で
きるという作用を有するので、フラックスパス層のフラ
ックスパス効果が向上し、より一層出力特性の向上した
磁気記録媒体が得られる。
【００１７】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、配向処理を行なう場合、フラックスパス層に保磁力
が３００Ｏｅ以下である磁性微粒子からなる磁性塗料を
用いるので、塗布工程後に行なわれる配向処理に対して
フラックスパス層の磁性微粒子が無配向性であるという
作用を有し、磁性塗布層とフラックスパス層を同時塗布
することができる。
は、配向処理を行なう場合、フラックスパス層に保磁力
が３００Ｏｅ以下である磁性微粒子からなる磁性塗料を
用いるので、塗布工程後に行なわれる配向処理に対して
フラックスパス層の磁性微粒子が無配向性であるという
作用を有し、磁性塗布層とフラックスパス層を同時塗布
することができる。
【００１８】また、塗布後に行なわれるカレンダ処理
は、膜厚が厚いほど平滑性が良い傾向がある。従って、
従来のフラックスパス層を塗布・乾燥した後磁性塗布層
を塗布する二度塗りと比較すると、従来では層形成毎に
カレンダ処理を行なうので、本発明の同時塗布では、磁
性塗布層の表面の平滑性が向上しかつ工程数も減るので
生産性が向上する。
は、膜厚が厚いほど平滑性が良い傾向がある。従って、
従来のフラックスパス層を塗布・乾燥した後磁性塗布層
を塗布する二度塗りと比較すると、従来では層形成毎に
カレンダ処理を行なうので、本発明の同時塗布では、磁
性塗布層の表面の平滑性が向上しかつ工程数も減るので
生産性が向上する。
【００１９】この製造方法では、垂直配向処理すること
が磁性塗布層の電気特性上有効であるが、面内配向処理
する場合でも短波長出力は向上する傾向にある。これ
は、磁性塗布層の面内配向が完全ではないため、及び垂
直配向しやすい磁性微粒子では面内配向といえども垂直
残留成分が多いためと考えられる。また、同様に配向処
理なしでも短波長出力は向上する傾向にあり、面内配
向、垂直配向、配向処理なしのいずれも有効である。
が磁性塗布層の電気特性上有効であるが、面内配向処理
する場合でも短波長出力は向上する傾向にある。これ
は、磁性塗布層の面内配向が完全ではないため、及び垂
直配向しやすい磁性微粒子では面内配向といえども垂直
残留成分が多いためと考えられる。また、同様に配向処
理なしでも短波長出力は向上する傾向にあり、面内配
向、垂直配向、配向処理なしのいずれも有効である。
【００２０】本発明における磁性塗布層磁性微粒子に
は、垂直配向しやすい磁性微粒子例えばＢａフェライト
に代表されるＭ型、Ｗ型あるいは複合型等の六方晶フェ
ライトを用いることができる。フラックスパス層磁性微
粒子には、立方晶系磁性粉例えばマグネタイト、各種の
スピネルを用いることができる。また、バインダー、そ
の他添加材は公知のものが利用できる。
は、垂直配向しやすい磁性微粒子例えばＢａフェライト
に代表されるＭ型、Ｗ型あるいは複合型等の六方晶フェ
ライトを用いることができる。フラックスパス層磁性微
粒子には、立方晶系磁性粉例えばマグネタイト、各種の
スピネルを用いることができる。また、バインダー、そ
の他添加材は公知のものが利用できる。
【００２１】また、フラックスパス層の効果を得るため
には、磁性塗布層の膜厚を１μｍ以下にすることが望ま
しい。尚、中心線平均粗さ（Ｒａ）（規格ＪＩＳ Ｂ０
６０１に基づく）の測定には、Ｒａｎｋ Ｔａｙｒｏｒ
Ｈｏｂｓｏｎ社のターリーステップを用いた。
には、磁性塗布層の膜厚を１μｍ以下にすることが望ま
しい。尚、中心線平均粗さ（Ｒａ）（規格ＪＩＳ Ｂ０
６０１に基づく）の測定には、Ｒａｎｋ Ｔａｙｒｏｒ
Ｈｏｂｓｏｎ社のターリーステップを用いた。
【００２２】
【実施例】以下本発明の磁気記録媒体およびその製造方
法を説明する。 （実施例１）磁性微粒子としては、磁性塗布層にはＢａ
フェライト（保持力（Ｈｃ）１４００ Ｏｅ，平均粒径
（ｄ）４０ｎｍ，飽和磁化（σ）６０ｅｍｕ／ｇ，Ｄ／
ｔ３）、フラックスパス層にはＮｉ−Ｚｎフェライト
（Ｈｃ ５０ Ｏｅ，粉径（ｄ） ５０ｎｍ，σ ８０
ｅｍｕ／ｇ）を用いた。尚、Ｂａフェライトはガラス結
晶化法、Ｎｉ−Ｚｎフェライトはフラックス法により作
製した。
法を説明する。 （実施例１）磁性微粒子としては、磁性塗布層にはＢａ
フェライト（保持力（Ｈｃ）１４００ Ｏｅ，平均粒径
（ｄ）４０ｎｍ，飽和磁化（σ）６０ｅｍｕ／ｇ，Ｄ／
ｔ３）、フラックスパス層にはＮｉ−Ｚｎフェライト
（Ｈｃ ５０ Ｏｅ，粉径（ｄ） ５０ｎｍ，σ ８０
ｅｍｕ／ｇ）を用いた。尚、Ｂａフェライトはガラス結
晶化法、Ｎｉ−Ｚｎフェライトはフラックス法により作
製した。
【００２３】これらの磁性微粒子を含む磁性塗料を調整
するにあたり、下記組成の磁性塗料材料を各々混合し、
よく分散させた。 ［磁性塗布層磁性塗料組成］ Ｂａフェライト １００重量部 塩化ビニル ３重量部 ウレタン ４重量部 潤滑材 ２重量部 研磨材 ４重量部 ［フラックスパス層磁性塗料組成］ Ｎｉ−Ｚｎフェライト １００重量部 塩化ビニル ２重量部 ウレタン ４重量部 潤滑材 ２重量部 組成物を十分に分散させた後、各々に硬化剤としてポリ
イソシアナート系硬化剤（商品名：コロネートＬ、日本
ポリウレタン社製）を、塗料中の樹脂バインダ１００重
量部に対して５重量部の割合で添加した。これらを、１
０μｍのＰＥＴフィルム上にノズルコ−タで同時に重層
し、その後、垂直配向を行ない乾燥した。得られた膜を
カレンダ処理し、得られた原反を所定の幅に裁断して、
本発明の磁気記録媒体実施例１である８ｍｍＶＴＲ用磁
気テープを作製した。
するにあたり、下記組成の磁性塗料材料を各々混合し、
よく分散させた。 ［磁性塗布層磁性塗料組成］ Ｂａフェライト １００重量部 塩化ビニル ３重量部 ウレタン ４重量部 潤滑材 ２重量部 研磨材 ４重量部 ［フラックスパス層磁性塗料組成］ Ｎｉ−Ｚｎフェライト １００重量部 塩化ビニル ２重量部 ウレタン ４重量部 潤滑材 ２重量部 組成物を十分に分散させた後、各々に硬化剤としてポリ
イソシアナート系硬化剤（商品名：コロネートＬ、日本
ポリウレタン社製）を、塗料中の樹脂バインダ１００重
量部に対して５重量部の割合で添加した。これらを、１
０μｍのＰＥＴフィルム上にノズルコ−タで同時に重層
し、その後、垂直配向を行ない乾燥した。得られた膜を
カレンダ処理し、得られた原反を所定の幅に裁断して、
本発明の磁気記録媒体実施例１である８ｍｍＶＴＲ用磁
気テープを作製した。
【００２４】（実施例２）実施例１において、塗布時の
上フラックスパス層の塗料の吐出量を変えることによっ
て膜厚を変えて塗布し、実施例１と同様の方法で磁気記
録媒体を得た。この磁気記録媒体の磁性塗布層は１．１
μｍ、フラックスパス層は１．４μｍであった。この
時、上下層の膜厚が変化しても、上下層の静電気特性は
変わらなかった。
上フラックスパス層の塗料の吐出量を変えることによっ
て膜厚を変えて塗布し、実施例１と同様の方法で磁気記
録媒体を得た。この磁気記録媒体の磁性塗布層は１．１
μｍ、フラックスパス層は１．４μｍであった。この
時、上下層の膜厚が変化しても、上下層の静電気特性は
変わらなかった。
【００２５】（実施例３）実施例１において、フラック
スパス層磁性粉のＮｉ−Ｚｎフェライトを微粒子作製の
際の熱処理の条件を変更することによって粒径を１２０
ｎｍとして、実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を得
た。このときのフラックスパス層磁性微粒子の保持力
は、１９０Ｏｅであった。
スパス層磁性粉のＮｉ−Ｚｎフェライトを微粒子作製の
際の熱処理の条件を変更することによって粒径を１２０
ｎｍとして、実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を得
た。このときのフラックスパス層磁性微粒子の保持力
は、１９０Ｏｅであった。
【００２６】（実施例４）実施例３において、フラック
スパス層磁性塗料材料の組成を塩化ビニル８重量部、ウ
レタン８重量部とし、実施例１と同様の方法で磁気記録
媒体を得た。
スパス層磁性塗料材料の組成を塩化ビニル８重量部、ウ
レタン８重量部とし、実施例１と同様の方法で磁気記録
媒体を得た。
【００２７】（実施例５）実施例１において、フラック
スパス層磁性塗料材料のＮｉ−ＺｎフェライトにＣｏを
添加してフラックスパス層磁性微粒子の保持力を２４０
Ｏｅにし、実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を得
た。
スパス層磁性塗料材料のＮｉ−ＺｎフェライトにＣｏを
添加してフラックスパス層磁性微粒子の保持力を２４０
Ｏｅにし、実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を得
た。
【００２８】（実施例６）実施例１において、垂直記録
の代わりに面内配向を行なって磁気記録媒体を得た。
の代わりに面内配向を行なって磁気記録媒体を得た。
【００２９】（実施例７）実施例１において、フラック
スパス層磁性塗料材料のＮｉ−Ｚｎフェライトの代わり
に一軸異方性を有するＣｏ置換型Ｂａフェライト Ｈｃ
２００Ｏｅ、粉径４０ｎｍを用いて、実施例１と同様の
方法で磁気記録媒体を得た。フラックスパス層は一軸異
方性を有するが、粉保磁力が小さいためにフラックスパ
ス層単層の配向率は５２％とほぼ無配向であった。
スパス層磁性塗料材料のＮｉ−Ｚｎフェライトの代わり
に一軸異方性を有するＣｏ置換型Ｂａフェライト Ｈｃ
２００Ｏｅ、粉径４０ｎｍを用いて、実施例１と同様の
方法で磁気記録媒体を得た。フラックスパス層は一軸異
方性を有するが、粉保磁力が小さいためにフラックスパ
ス層単層の配向率は５２％とほぼ無配向であった。
【００３０】（実施例８）実施例１において、塗布時の
上フラックスパス層の塗料の吐出量を変えることによっ
て膜厚を変えて塗布し、実施例１と同様の方法で磁気記
録媒体を得た。この磁気記録媒体の膜厚は、磁性塗布層
は０．２μｍ、フラックスパス層は２．３μｍであっ
た。この時、上下層の膜厚が変化しても、上下層の静電
気特性は変わらなかった。
上フラックスパス層の塗料の吐出量を変えることによっ
て膜厚を変えて塗布し、実施例１と同様の方法で磁気記
録媒体を得た。この磁気記録媒体の膜厚は、磁性塗布層
は０．２μｍ、フラックスパス層は２．３μｍであっ
た。この時、上下層の膜厚が変化しても、上下層の静電
気特性は変わらなかった。
【００３１】（比較例１）針状比２〜３、長さ０．２μ
ｍのγ−Ｆｅ2 Ｏ3 微粒子を用いて実施例１に倣って塗
料化したものを、ＰＥＴフィルム上に塗布、乾燥した
後、カレンダ処理を行ない、キュアを施してフラックス
パス層を形成する。この時の膜厚みは２μｍであった。
次に、径０．１μｍ前後の六角板状微結晶Ｂａフェライ
トを用いて実施例１に倣って塗料化したものを、塗布厚
み０．５μｍになるように塗布し、垂直配向磁界の中で
乾燥を行なった後カレンダ処理を行なって、磁気記録媒
体を得た。
ｍのγ−Ｆｅ2 Ｏ3 微粒子を用いて実施例１に倣って塗
料化したものを、ＰＥＴフィルム上に塗布、乾燥した
後、カレンダ処理を行ない、キュアを施してフラックス
パス層を形成する。この時の膜厚みは２μｍであった。
次に、径０．１μｍ前後の六角板状微結晶Ｂａフェライ
トを用いて実施例１に倣って塗料化したものを、塗布厚
み０．５μｍになるように塗布し、垂直配向磁界の中で
乾燥を行なった後カレンダ処理を行なって、磁気記録媒
体を得た。
【００３２】（比較例２）実施例１の磁性塗布層磁性塗
料材料を塗布し、垂直配向して、単層の磁気記録媒体を
得た。
料材料を塗布し、垂直配向して、単層の磁気記録媒体を
得た。
【００３３】（比較例３）実施例１の磁性塗布層磁性塗
料材料を塗布し、面内配向して、単層の磁気記録媒体を
得た。
料材料を塗布し、面内配向して、単層の磁気記録媒体を
得た。
【００３４】以上、実施例１〜実施例８及び比較例１〜
比較例３で得られた磁気記録媒体をそれぞれ８ｍｍ幅に
裁断し、磁気記録媒体の特性と再生出力を測定した。こ
の測定結果を表１に示す。表１では、磁性塗布層を上
層、フラックスパス層を下層という。また、表１におけ
る磁性塗布層、フラックスパス層各々の飽和磁化量は、
各々の層の磁性塗料材料を単層に塗布した場合の飽和磁
化量を測定したものである。尚、再生出力は、８ｍｍ改
造デッキにギャップ０．２μｍのセンダスト薄膜ヘッド
を搭載し、常温で測定した。
比較例３で得られた磁気記録媒体をそれぞれ８ｍｍ幅に
裁断し、磁気記録媒体の特性と再生出力を測定した。こ
の測定結果を表１に示す。表１では、磁性塗布層を上
層、フラックスパス層を下層という。また、表１におけ
る磁性塗布層、フラックスパス層各々の飽和磁化量は、
各々の層の磁性塗料材料を単層に塗布した場合の飽和磁
化量を測定したものである。尚、再生出力は、８ｍｍ改
造デッキにギャップ０．２μｍのセンダスト薄膜ヘッド
を搭載し、常温で測定した。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体によれば、表面の
平滑性がよいので、出力特性の向上した磁気記録媒体が
えられる。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法によ
れば、磁性塗布層とフラックスパス層を同時に塗布でき
るので、平滑性の良い磁気記録媒体を容易に製造するこ
とができる。
平滑性がよいので、出力特性の向上した磁気記録媒体が
えられる。また、本発明の磁気記録媒体の製造方法によ
れば、磁性塗布層とフラックスパス層を同時に塗布でき
るので、平滑性の良い磁気記録媒体を容易に製造するこ
とができる。
Claims (5)
- 【請求項１】支持体上に、第一の磁性微粒子を主体とし
たフラックスパス層と、前記フラックスパス層上に第二
の磁性微粒子を主体とし膜面に対し垂直磁化成分を有す
る磁性塗布層とを備えた磁気記録媒体において、前記磁
性塗布層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下
であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記フラックスパス層を構成する磁性微粒
子の粒径が１２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求
項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】前記フラックスパス層を構成する磁性微粒
子の保磁力が３００Ｏｅ以下であることを特徴とする請
求項１及び請求項２記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】前記フラックスパス層を構成する磁性微粒
子が複数の磁化容易軸を有することを特徴とする請求項
１、請求項２及び請求項３記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】支持体上に、フラックスパス層として、保
磁力が３００Ｏｅ以下である第一の磁性微粒子を主体と
した第一の磁性塗料を塗布し第一塗布層を形成する工程
と、前記フラックスパス層が乾燥する前に、前記フラッ
クスパス層上に、磁性塗布層として、膜面に対して垂直
方向に磁化容易な第二の磁性微粒子を主体とした第二の
磁性塗料を塗布し第二塗布層を形成する工程と、前記第
一塗布層及び第二塗布層を乾燥し、フラックスパス層及
び前記磁性塗布層を形成する工程とを具備する磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14997193A JPH0714151A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14997193A JPH0714151A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714151A true JPH0714151A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15486631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14997193A Pending JPH0714151A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714151A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5037979A (en) * | 1988-07-21 | 1991-08-06 | Ciba-Geigy Corporation | Cationic compounds |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP14997193A patent/JPH0714151A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5037979A (en) * | 1988-07-21 | 1991-08-06 | Ciba-Geigy Corporation | Cationic compounds |
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