JPH07145256A - 透明蒸着フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】無色透明性を有するととに防湿・防水、保香、
酸化防止等のガスバリア性に優れ、耐熱性、強度、可燒
性を有し、かつ製造、取扱いが容易な透明蒸着フィルム
を提供する。 【構成】基材フィルム上に、ＳｉＯ_X 膜が基材フィルム
界面からＳｉＣとＳｉＯ _Y （Ｙ≦２）から構成されるミ
キシング層と、ＳｉＯ_Z 層（１．７＜Ｚ≦２）から構成
することにより、基材界面にミキシング層が界面で緻密
でかつ均一な薄膜を形成するため、密着性の向上と可燒
性を示し、かつ基材フィルム内部及び外側から拡散浸透
してくる酸素、水蒸気等の低分子に対してバリアー層と
しての機能を示す。さらにその外層にＳｉＯ_Z 層を積層
するため、可視波長域での光吸収が無く、或いは少なく
なり、フィルムの色が無色透明となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、食品、医薬品、精密電
子製品等の包装分野に用いられる包装用フィルム積層体
に係り、とくに透明性、防湿、保香、酸化防止等のガス
バリア性、耐熱性、強度、可燒性を有する透明蒸着フィ
ルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、食品、医薬品、精密電子部品等の
包装に用いられる包装材料は、内容物の変質、とくに食
品においては蛋白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さ
らに味、鮮度を保持するために、また無菌状態での取扱
いが必要とされる医薬品においては有効成分の変質を抑
制し、効能を維持するために、さらに精密電子部品にお
いては金属部分の腐食、絶縁不良等の発生を防止するた
めに、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物
を変質させる気体による影響を防止する必要があり、こ
れら気体（ガス）を遮断するガスバリア性を備えること
が求められている。

【０００３】そのため、従来から塩化ビニリデン樹脂を
コートしたポリプロピレン（ＫＯＰ）やポリエチレンテ
レフタレート（ＫＰＥＴ）或いはエチレンビニルアルコ
ール共重合体（ＥＶＯＨ）など一般にガスバリア性が比
較的高いと言われる高分子樹脂組成物をガスバリア材と
して包装材料に用いた包装フィルムやＡｌなどの金属か
らなる金属箔、適当な高分子樹脂組成物（単独では、高
いガスバリア性を有していない樹脂であっても）にＡｌ
などの金属又は金属化合物を蒸着した金属蒸着フィルム
を包装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用されて
きた。

【０００４】ところが、上述の高分子樹脂組成物のみを
用いてなる包装フィルムは、Ａｌなどの金属又は金属化
合物を用いた箔や蒸着膜を形成した金属蒸着フィルムに
比べるとガスバリア性に劣るだけでなく、温度・湿度の
影響を受けやすく、その変化によってはさらにガスバリ
ア性が劣化することがある。さらに塩素を多量に含む高
分子樹脂組成物は焼却時に毒性のガスの発生と、焼却時
の高い発熱量による焼却炉の劣化を早めるなどの問題が
ある。

【０００５】一方、Ａｌなどの金属又は金属化合物を用
いた箔や蒸着膜を形成した金属蒸着フィルムは、温度・
湿度などの影響を受けることは少なく、ガスバリア性に
優れるが、包装体の内容物を透視して確認することがで
きない、使用後の廃棄の際はアルミニウム箔やアルミニ
ウム蒸着フィルムがラミネートされた積層材からなる包
装材料は、分別回収して再利用することは困難であり、
不燃物として処理しなければならないとする欠点を有し
ていた。

【０００６】そこで、これらの欠点を克服した包装用材
料として、例えば米国特許第３４４２６８６、特公昭６
３−２８０１７号公報等に記載されているような酸化マ
グネシウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ等
の金属酸化物を高分子フィルム上に、真空蒸着法やスパ
ッタリング法等の形成手段により蒸着膜を形成したフィ
ルムが開発されている。このフィルムは透明性及び酸
素、水蒸気等のガス遮断性を有していることが知られ、
金属蒸着フィルムでは得ることのできない透明性、ガス
バリア性の両者を有する包装用材料として好適とされて
いる。とくに酸化珪素を真空蒸着したものは、実用化さ
れている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、図２に示す
酸化度Ｘに対するＳｉＯ_X 系蒸着フィルム（０＜Ｘ≦
２）の酸素透過度（ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ）と光線透過率
％（λ＝３５０ｎｍ）を表すグラフから、酸化度が低く
なると酸素透過度は低下しガスバリア性は向上するが、
光線透過率は低下し透明性は悪くなる。すなわち酸素透
過度及び透明性は酸化度Ｘに依存しており、上述の一酸
化珪素（ＳｉＯ）などの酸化度の低い珪素酸化物薄膜
は、その薄膜自体に可視波長領域に吸収があるため、薄
黄色を呈し、これを蒸着した蒸着フィルムを包装材とし
て用いる場合に見栄えが悪くなり、また包装材として印
刷加工時の印刷の色再現性が悪いなど問題を生じてい
る。また、この蒸着フィルムは、珪素酸化物薄膜が可撓
性に欠けており、揉みや折り曲げ等物理的な衝撃に弱
く、また基材との密着性が悪いため、取り扱いに注意を
要し、とくに印刷、ラミネート、スリッター、製袋など
包装材料の後加工の際に、クラックを発生しガスバリア
性が著しく低下する問題があり、フィルムの取扱いに注
意を要し、汎用性を低下させる問題を有している。薄膜
材料自体も高価であり、ガスバリア性の低下を抑えるた
めに蒸着薄膜層を厚くするとコストが上昇するなどコス
トパフォーマンスが少ないという問題を有していた。

【０００８】そこで、本発明は、無色透明性を有すると
とに防湿・防水、保香、酸化防止等のガスバリア性に優
れ、耐熱性、強度、可燒性を有し、かつ製造、取扱いが
容易な透明蒸着フィルムを提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基材フィルム上に、ＳｉＯ_X 膜（０＜Ｘ≦２）が形成さ
れてなる透明蒸着フィルムにおいて、ＳｉＯ_X 膜が基材
フィルム界面からＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）から構成
されるミキシング層と、ＳｉＯ_Z 層（１．７＜Ｚ≦２）
とが順次積層されてなることを特徴とする透明蒸着フィ
ルムである。

【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１記載の
発明に基づき、ミキシング層の層厚が２〜２０ｎｍであ
ることを特徴とする透明蒸着フィルムである。

【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項１記載の
発明に基づき、ミキシング層は、ＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）の
少なくとも一部がＳｉ−Ｃ結合を有することを特徴とす
る透明蒸着フィルムである。

【００１２】請求項４に記載の発明は、請求項１記載の
発明に基づき、ミキシング層を構成するＳｉＣの含有率
が基材フィルム界面から連続的に変化してなることを特
徴とする透明蒸着フィルムである。

【００１３】

【作用】本発明によれば、基材フィルム上に、ＳｉＯ_X
膜（０＜Ｘ≦２）が形成されてなる透明蒸着フィルム
を、ＳｉＯ_X 膜が基材フィルム界面からＳｉＣとＳｉＯ
_Y（Ｙ≦２）から構成されるミキシング層と、ＳｉＯ_Z
層（１．７＜Ｚ≦２）から構成することにより、基材界
面にＳｉＣとＹの値が２以下のＳｉＯ_Y とからなるミキ
シング層は界面で緻密でかつ均一な薄膜を形成するた
め、密着性の向上と可燒性を示し、かつ基材フィルム内
部及び外側から拡散浸透してくる酸素、水蒸気等の低分
子に対してバリアー層としての機能を示す。さらにその
外層にＺの値が１．７〜２のＳｉＯ_Z 層を積層するた
め、可視波長域での光吸収が無く、或いは少なくなり、
フィルムの色が無色透明となる。

【００１４】

【実施例】本発明の一実施例を詳細に説明する。図１は
本発明の透明蒸着フィルムの構成を説明する概略図であ
る。

【００１５】図１において、１は本発明の透明蒸着フィ
ルムであり、基材２、ＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）から
構成されるミキシング層３、ＳｉＯ_Z 層（１．７＜Ｚ≦
２）４が順次積層されている。

【００１６】基材２は、シート状またはフィルム状のも
のであって、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン等）、ポリエステル（ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエ
チレン−２，６−ナフタレート等）、ポリアミド（ネイ
ロン−６、ナイロン−６６等）、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイミド、エチ
レン−ビニルアルコール共重合体など、或いはモノマー
の共重合体または異なるモノマーと組み合わせた共重合
体など通常包装材料として用いられるものが使用でき、
用途に応じて上記材料から適宜選択される。また、基材
２は強度、寸法安定性、耐熱性の点から縦横方向に延伸
したものが好ましい。さらに、基材２の厚さは用途に応
じて決定されるが、強度の点から３〜４００μｍの範囲
で、とくに６〜２００μｍのものが望ましい。

【００１７】この基材２に用いられる高分子樹脂材料
に、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、
着色剤など公知の添加剤、安定剤を加えることができ、
必要に応じて適宜添加される。

【００１８】さらに基材２の表面を前処理としてコロナ
処理・プラズマ処理（＝放電処理）、火炎処理、薬品処
理、アンカーコート処理等の表面改質を行い、被膜の密
着性を向上させることも可能である。

【００１９】次に基材２上にＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦
２）から構成されるミキシング層３を形成する方法は、
基材２の表面を予め少なくとも炭素及び酸素を含む放電
用ガスからなるプラズマ放電により処理を行ない、基材
２の表面にＣ−Ｏ基、Ｃ＝Ｏ基などの官能基を導入した
後、この上にＳｉ、ＳｉＯ或いはＳｉＯとＳｉＯ₂ の混
合物からなる蒸着材料を真空蒸着法、各種イオンプレー
ティング法、スパッタリング法等の公知手法により成膜
する。このように表面にＣ−Ｏ基、Ｃ＝Ｏ基などの官能
基を導入しＳｉＯ_X 膜を成膜することで、活性の高いＣ
−Ｏ基、Ｃ＝Ｏ基と、蒸着粒子であるＳｉ、ＳｉＯとが
結合し、ＳｉＣとＳｉＯ_Y から構成されるミキシング層
３が形成される。

【００２０】このミキシング層３の厚さは、２〜２０ｎ
ｍであり、好ましくは２〜１２ｎｍである。図３に示す
のミキシング層厚に対する酸素透過度（ｃｃ／ｍ² ／ｄ
ａｙ）と光線透過率％（λ＝３５０ｎｍ）を表すグラフ
から、一定の層厚を有するミキシング層により酸素透過
度が低く抑えられ、かつ高い光線透過率を有することが
言える。ところが、２ｎｍより薄い場合は、酸素透過度
が増加しガスバリア性、密着性向上という機能性を発揮
することができず、２０ｎｍより厚い場合は光線透過率
が低下し蒸着膜に着色を生じる。このミキシング層３は
極めて薄い膜厚状に存在していればよく、基材２（例え
ば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）の組織の表
面において、その一部にＳｉ−Ｃ結合状態を示すこと
で、基材２とミキシング層３とが渾然一体となり、より
強い密着性を有するものである。

【００２１】ミキシング層３を構成するＳｉＯ_Y のＹの
値は、蒸着膜をアルゴンイオンビームでエッチングし光
電子分光分析法により測定したときの平均Ｏ／Ｓｉ比は
０＜Ｙ≦２の範囲にあり、とくに好ましくは１．７≦Ｙ
≦２の範囲である。

【００２２】本発明でプラズマ処理に用いられる放電用
ガスは、少なくとも炭素及び酸素を有する化合物を含む
もので、例えば純酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、窒
素、ＣｍＨｎ（ｍ，ｎ≦１０）で代表される炭化水素、
モノシラン、ジシラン、メチルシラン、メチルジシラ
ン、ヘキサメチルジシロキサン等のアルキルシラン、ア
ルキルジシラン等を単独又は混合して用いることができ
る。さらにアルゴン、ヘリウム、キセノン、空気に不活
性ガスであるアルゴン、キセノンを５〜９５体積％に混
合したものなどが利用できる。

【００２３】またプラズマの発生方法は、上述の放電用
ガスを密閉系の容器に導入し、公知の内部電極型、外部
電極型、コイル型等の容量結合、誘導結合などの各種方
式により直流電力、交流電力、高周波（２４５０ＭＨ
ｚ）、マイクロ波（１３．５６Ｈｚ）により電力を印加
しプラズマを発生させることができ、好ましくは放電安
定性、処理の効果から高周波放電である。

【００２４】このプラズマは種類、発生条件により最適
条件は異なってくるが、例えば５０〜１０００Ｗの高周
波電力を１×１０^-4〜数Ｔｏｒｒの圧力を有する密閉系
の容器に導入しプラズマ空間に基材の被蒸着面を０．０
１〜３秒程度曝すことで容易に処理することができる。

【００２５】以上のように基材２の表面処理した後、つ
いでＳｉ、ＳｉＯ或いはＳｉＯ、ＳｉＯ₂ の混合物を蒸
着材料としてＳｉＯ₂ を成膜することで、ＳｉＣとＳｉ
Ｏ_Y（Ｙ≦２）からなる２〜２０ｎｍのミキシング層３
とＳｉＯ_Z 層４（１．８≦Ｚ≦２）を順次積層してなる
蒸着膜を得ることができる。

【００２６】外層に位置するＳｉＯ_Z 層４（１．７＜Ｚ
≦２）は、ガスバリア性に大きく寄与してはいないが、
ミキシング層を保護する目的で、層厚で１〜５０ｎｍ程
度設けられる。この場合層厚が５０ｎｍより厚くなると
蒸着膜にクラックが発生しやすくなる。またＺの値が
１．７より小さくなると、蒸着膜が低級酸化物になり酸
素欠損による光吸収が生じるため、蒸着膜が薄黄色に着
色するため好ましくない。ただし、ＳｉＯ_Z 層４（１．
７＜Ｚ≦２）においても、１．７に近い値の場合におい
ては、いくらか色を呈することもある。

【００２７】さらに本発明の透明蒸着フィルムは上記と
同様にプラズマＣＶＤ法によっても成膜することもで
き、同様の効果を示す。

【００２８】本発明の透明蒸着フィルムを具体的な実施
例を挙げて説明する。

【００２９】〔実施例１〕厚さ１２μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムとす
る）を基材２とし、その表面に酸素分圧が３．７×１０
^-4Ｔｏｒｒ，４００Ｗの高周波電力を供給して得た酸素
プラズマに３秒関曝して基材２表面をプラズマ処理し
た。さらにこのプラズマ処理後の基材２表面にＳｉＯを
蒸着材料にＳｉＯ_X 層を５２ｎｍとなるように成膜し
た。

【００３０】得られた透明蒸着フィルムの蒸着膜を膜厚
方向の組成から光電子分光分析法により、Ｓｉ-2p 、Ｃ
-1s 、Ｏ-1s を測定したところ、蒸着膜表面から４６ｎ
ｍまでの平均Ｏ／Ｓｉ比が１．９であり、さらにアルゴ
ンイオンビームエッチングを行ない、基材２であるＰＥ
Ｔフィルムの界面付近を分析したところ、ＳｉＣとＳｉ
Ｏ_Y （Ｙ≦２）により構成されるミキシング層が６ｎｍ
形成されていることが判明した。このミキシング層は、
ＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）の少なくとも一部がＳｉ−Ｃ結合を
有するものである。

【００３１】この透明蒸着フィルムの酸素透過度の測定
を酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製 Ｍｏ
ｃｏｎＯｘｔｒａｎ）を用いて２７℃−７５％ＲＨの雰
囲気下で行ない、また透明蒸着フィルムの１９０〜８０
０ｎｍの波長領域における光線透過率についても測定
し、蒸着膜の着色度の指標として波長３５０ｎｍの透過
率を用いて測定した。その結果及び評価を表１に示す。

【００３２】結果から明らかなようにこの蒸着フィルム
は酸素透過度が１．５ｃｃ／ｍ／ｄａｙ／ａｔｍと非常
にガスバリア性が高く、かつ着色の無い透明性の高い無
色透明の蒸着フィルムである。

【００３３】〔比較例１〕実施例１と同じ条件のＰＥＴ
フィルムを基材として用いて、酸素プラズマ処理を行わ
ない以外は同様にＳｉＯを蒸着材料として成膜し、同様
に測定を行った。その結果及び評価を表１に示す。実施
例１と同様にＳｉとＯの比を分析したところ平均Ｏ／Ｓ
ｉ比は１．７であり、ＰＥＴフィルムの界面付近を分析
したところ、ＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）により構成さ
れるミキシング層の存在は認められず、蒸着フィルムの
色は薄黄色に着色を有していた。

【００３４】〔比較例２〕実施例１と同じ条件のＰＥＴ
フィルムを基材として用いて、ＳｉＯの蒸着時に酸素ガ
スをチャンバー内に導入し、高周波電力を印加し酸素プ
ラズマを形成しながら成膜し、同様に測定を行った。そ
の結果及び評価を表１に示す。実施例１と同様にＳｉと
Ｏの比を分析したところ、外層から５１ｎｍまでの平均
Ｏ／Ｓｉ比は１．９であり、ＰＥＴフィルムの界面付近
を分析したところ、ＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）により
構成されるミキシング層が０．９ｎｍの厚さで形成され
ており、蒸着膜は無色透明であったが、酸素透過度は３
０．５ｃｃ／ｍ／ｄａｙ／ａｔｍと大きな値を示した。

【００３５】〔比較例３〕実施例１と同じ条件のＰＥＴ
フィルムを基材として用いて、酸素ガスを導入しながら
ＳｉＯの蒸着させる、いわゆる反応性蒸着法により、５
１ｎｍの膜厚になるようにＳｉＯ_X 膜を形成し、同様に
測定を行った。その結果及び評価を表１に示す。実施例
１と同様にＳｉとＯの比を分析したところ平均Ｏ／Ｓｉ
比は１．９であり、ＰＥＴフィルムの界面付近を分析し
たところ、ＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）により構成され
るミキシング層の存在は認められず、蒸着フィルムの色
は薄黄色に着色を有していた。

【００３６】〔比較例４〕実施例１と同じ条件のＰＥＴ
フィルムを基材として用いて、同様にミキシング層を形
成した後、ＳｉとＳｉＯ₂ の混合物を蒸着材料に用いて
成膜し、同様に測定を行った。その結果及び評価を表１
に示す。実施例１と同様にＳｉとＯの比を分析したとこ
ろ、外層から４５ｎｍまでの平均Ｏ／Ｓｉ比は１．７で
あり、ＰＥＴフィルムの界面付近を分析したところ、Ｓ
ｉＣとＳｉＯ_Y により構成されるミキシング層が６ｎｍ
の厚さで形成されていたが、蒸着膜は薄黄色を帯びてい
た。酸素透過度は１．６ｃｃ／ｍ／ｄａｙ／ａｔｍとガ
スバリア性は大きいが、光線透過率は６６％であった。

【００３７】〔実施例２〕プラズマ処理に用いられる放
電用ガスを二酸化炭素と酸素との５０／５０Ｖｏｌ％と
し、処理時間を１秒とした以外は実施例１と同様に蒸着
膜を形成し、同様に測定を行った。その結果及び評価を
表１に示す。実施例１と同様にＳｉとＯの比を分析した
ところ、外層から５１ｎｍまでの平均Ｏ／Ｓｉ比は１．
９であり、ＰＥＴフィルムの界面付近を分析したとこ
ろ、ＳｉＣとＳｉＯ_Y により構成されるミキシング層が
２ｎｍの厚さで形成されていたおり、蒸着膜は酸素透過
度が２．０ｃｃ／ｍ／ｄａｙ／ａｔｍと非常にガスバリ
ア性が高く、かつ着色の無い透明性の高い無色透明の蒸
着フィルムである。

【００３８】〔実施例３〕実施例１のプラズマ処理に用
いられる放電用ガスをメタンと酸素との５０／５０Ｖｏ
ｌ％とし、処理時間を０．０１秒とし、ついで比較例２
と同様にＳｉＯの蒸着時に酸素ガスをチャンバー内に導
入し、高周波電力を印加し酸素プラズマを形成しながら
成膜し、同様に測定を行った。その結果及び評価を表１
に示す。実施例１と同様にＳｉとＯの比を分析したとこ
ろ、外層から３２ｎｍまでの平均Ｏ／Ｓｉ比は１．９で
あり、ＰＥＴフィルムの界面付近を分析したところ、Ｓ
ｉＣとＳｉＯ_Y により構成されるミキシング層が２０ｎ
ｍの厚さで形成されていたが、蒸着膜は酸素透過度が
１．３ｃｃ／ｍ／ｄａｙ／ａｔｍと非常にガスバリア性
が高く、かつ着色の無い透明性の高い無色透明の蒸着フ
ィルムである。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【発明の効果】以上述べたように本発明の透明蒸着フィ
ルムは、基材フィルム上に、ＳｉＯ_X膜（０＜Ｘ≦２）
が形成されてなる透明蒸着フィルムを、ＳｉＯ_X 膜が基
材フィルム界面からＳｉＣとＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）から構
成されるミキシング層と、ＳｉＯ_Z 層（１．７＜Ｚ≦
２）から構成することにより、防湿、防香、酸化防止等
のガスバリア性に優れ、また耐熱性、強度、可燒性が高
く、さらに無色透明性を有するものである。すなわち従
来の薄黄色を示す酸化珪素系の蒸着フィルムに比べ、無
色透明性とガスバリア性の両方を実現することができ、
この無色透明性の実現により蒸着フィルムが薄黄色を示
さないので、多色印刷により表面装飾、印刷加工する際
の色再現性が高く、より美しい印刷を施すことが可能な
装飾性に優れた包装用フィルムとして用いることが可能
な透明蒸着フィルムを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透明蒸着フィルムの構成を説明する概
略図である。

【図２】酸化度Ｘに対するＳｉＯ_X 系蒸着フィルム（０
＜Ｘ≦２）の酸素透過度（ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ）と光線
透過率％（λ＝３５０ｎｍ）を表すグラフである。

【図３】ミキシング層厚に対する酸素透過度（ｃｃ／ｍ
² ／ｄａｙ）と光線透過率％（λ＝３５０ｎｍ）を表す
グラフである。

【符号の説明】

１ 透明蒸着フィルム ２ 基材 ３ ミキシング層 ４ ＳｉＯ_Z 層（１．７＜Ｚ≦２）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材フィルム上に、ＳｉＯ_X 膜（０＜Ｘ≦
   ２）が形成されてなる透明蒸着フィルムにおいて、前記
   ＳｉＯ_X 膜が基材フィルム界面からＳｉＣとＳｉＯ
   _Y （Ｙ≦２）により構成するミキシング層と、ＳｉＯ_Z
   層（１．７＜Ｚ≦２）とが順次積層されてなることを特
   徴とする透明蒸着フィルム。
2. 【請求項２】前記ミキシング層の層厚が２〜２０ｎｍで
   あることを特徴とする請求項１記載の透明蒸着フィル
   ム。
3. 【請求項３】前記ミキシング層は、ＳｉＯ_Y （Ｙ≦２）
   の少なくとも一部がＳｉ−Ｃ結合を有することを特徴と
   する請求項１記載の透明蒸着フィルム。
4. 【請求項４】前記ミキシング層を構成するＳｉＣの含有
   率が基材フィルム界面から連続的に変化してなることを
   特徴とする請求項１記載の透明蒸着フィルム。