JPH0714814A - 超音波洗浄方法と装置 - Google Patents
超音波洗浄方法と装置Info
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- JPH0714814A JPH0714814A JP15717793A JP15717793A JPH0714814A JP H0714814 A JPH0714814 A JP H0714814A JP 15717793 A JP15717793 A JP 15717793A JP 15717793 A JP15717793 A JP 15717793A JP H0714814 A JPH0714814 A JP H0714814A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、洗浄むらが発生しないように均一
に洗浄することが可能な超音波洗浄技術を提供すること
を目的とする。 【構成】 本発明の超音波洗浄方法は、被洗浄物（５）
を洗浄液（１１）中に浸し、超音波振動子から洗浄液中
に放射された超音波を前記被洗浄物（５）に照射し、洗
浄を行う超音波洗浄方法において、超音波振動子を洗浄
液中で移動させながら（８）洗浄を行うことを特徴とす
る。
に洗浄することが可能な超音波洗浄技術を提供すること
を目的とする。 【構成】 本発明の超音波洗浄方法は、被洗浄物（５）
を洗浄液（１１）中に浸し、超音波振動子から洗浄液中
に放射された超音波を前記被洗浄物（５）に照射し、洗
浄を行う超音波洗浄方法において、超音波振動子を洗浄
液中で移動させながら（８）洗浄を行うことを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、超音波洗浄に関し、特
に半導体基板等高清浄度を要求する被洗浄物用の超音波
洗浄に関する。
に半導体基板等高清浄度を要求する被洗浄物用の超音波
洗浄に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体基板の超音波洗浄には、洗
浄液を満たした石英製洗浄槽に超音波振動子が固定され
た超音波洗浄装置を用いていた。このような構成の超音
波洗浄装置においては、洗浄液中に定在波が発生する。
このため、音圧変化の極小点（節）では、洗浄効果が低
下し洗浄むらが発生する。
浄液を満たした石英製洗浄槽に超音波振動子が固定され
た超音波洗浄装置を用いていた。このような構成の超音
波洗浄装置においては、洗浄液中に定在波が発生する。
このため、音圧変化の極小点（節）では、洗浄効果が低
下し洗浄むらが発生する。
【０００３】定在波の発生を低減する方法として、多周
波交互照射方式や多振動子異方向照射方式が提案されて
いる。多周波交互照射方式は、振動周波数の異なる複数
の振動子を備え、それぞれの振動子から交互に超音波を
照射する方式である。また、多振動子異方向照射方式
は、複数の振動子を備え、異なる方向から同時に超音波
を照射する方式である。このような方式では、被洗浄物
の一点が常に定在波の節になるということがないため、
洗浄むらの発生を低減することができる。
波交互照射方式や多振動子異方向照射方式が提案されて
いる。多周波交互照射方式は、振動周波数の異なる複数
の振動子を備え、それぞれの振動子から交互に超音波を
照射する方式である。また、多振動子異方向照射方式
は、複数の振動子を備え、異なる方向から同時に超音波
を照射する方式である。このような方式では、被洗浄物
の一点が常に定在波の節になるということがないため、
洗浄むらの発生を低減することができる。
【０００４】また、超音波の周波数を高くし、定在波の
波長を短くして洗浄むらを低減することも可能である。
波長を短くして洗浄むらを低減することも可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】多周波交互照射方式や
多振動子異方向照射方式により、洗浄むらの発生を低減
することができる。しかし、洗浄液の液温、液深、液組
成、被洗浄物の形状、位置等制御すべきパラメータが多
く、最適な洗浄条件を常に維持するのは困難である。
多振動子異方向照射方式により、洗浄むらの発生を低減
することができる。しかし、洗浄液の液温、液深、液組
成、被洗浄物の形状、位置等制御すべきパラメータが多
く、最適な洗浄条件を常に維持するのは困難である。
【０００６】また、より周波数の高い超音波を利用する
方法では、節と節との間隔を短くすることが可能であ
る。しかし、振動周波数をメガヘルツ（ＭＨｚ）のオー
ダまで高くしても定在波の節と節との間隔はミリ（ｍ
ｍ）のオーダである。従って、サブミクロンオーダのパ
ターンが形成された半導体基板の洗浄には十分ではな
い。
方法では、節と節との間隔を短くすることが可能であ
る。しかし、振動周波数をメガヘルツ（ＭＨｚ）のオー
ダまで高くしても定在波の節と節との間隔はミリ（ｍ
ｍ）のオーダである。従って、サブミクロンオーダのパ
ターンが形成された半導体基板の洗浄には十分ではな
い。
【０００７】本発明の目的は、洗浄むらが発生しないよ
うに均一に洗浄することが可能な超音波洗浄技術を提供
することである。
うに均一に洗浄することが可能な超音波洗浄技術を提供
することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄方法
は、被洗浄物を洗浄液中に浸し、超音波振動子から洗浄
液中に放射された超音波を前記被洗浄物に照射し、洗浄
を行う超音波洗浄方法において、超音波振動子を洗浄液
中で移動させながら洗浄を行うことを特徴とする。
は、被洗浄物を洗浄液中に浸し、超音波振動子から洗浄
液中に放射された超音波を前記被洗浄物に照射し、洗浄
を行う超音波洗浄方法において、超音波振動子を洗浄液
中で移動させながら洗浄を行うことを特徴とする。
【０００９】本発明の超音波洗浄装置は、洗浄槽に洗浄
液を満たし、洗浄液中に被洗浄物を浸漬し、洗浄液中に
配置された振動子から放射された超音波を前記被洗浄物
に照射して洗浄を行う超音波洗浄装置において、前記振
動子と接続され、前記振動子を洗浄液中で移動させるた
めの駆動手段を有する。
液を満たし、洗浄液中に被洗浄物を浸漬し、洗浄液中に
配置された振動子から放射された超音波を前記被洗浄物
に照射して洗浄を行う超音波洗浄装置において、前記振
動子と接続され、前記振動子を洗浄液中で移動させるた
めの駆動手段を有する。
【００１０】また、本発明の他の超音波洗浄装置は、前
記振動子と駆動手段を複数組有し、それぞれの振動子
は、超音波の放射方向が異なるように配置されている。
記振動子と駆動手段を複数組有し、それぞれの振動子
は、超音波の放射方向が異なるように配置されている。
【００１１】
【作用】洗浄液中で、超音波振動子を移動させることに
より、洗浄液中に生じた定在波の腹及び節の位置を変化
させることができる。そのため、被洗浄物表面の特定箇
所が常に定在波の節になるということがなくなり、洗浄
むらをなくすことが可能となる。
より、洗浄液中に生じた定在波の腹及び節の位置を変化
させることができる。そのため、被洗浄物表面の特定箇
所が常に定在波の節になるということがなくなり、洗浄
むらをなくすことが可能となる。
【００１２】さらに、超音波振動子を複数個設け、異な
る方向から超音波を照射することにより、洗浄効果の均
一性を向上させることができる。
る方向から超音波を照射することにより、洗浄効果の均
一性を向上させることができる。
【００１３】
【実施例】以下、半導体基板を搭載したキャリアを洗浄
液に浸して超音波洗浄する場合を例に、本発明の実施例
について説明する。図１は、本発明の実施例による洗浄
装置を示す。
液に浸して超音波洗浄する場合を例に、本発明の実施例
について説明する。図１は、本発明の実施例による洗浄
装置を示す。
【００１４】図１（Ａ）は、洗浄装置を側面から見た断
面図、図１（Ｂ）は、長さ方向から見た断面図を示す。
石英製の洗浄槽１の底部に洗浄層に触れないように石英
製の板状振動子２が配置されている。図には、１個の板
状の振動子を示しているが、細長い板状の振動子を複数
個配置してもよい。振動子２の一端は、発振子６に固定
されている。発振子６自体は、洗浄液１１に触れないよ
うに石英管７内に設置されている。
面図、図１（Ｂ）は、長さ方向から見た断面図を示す。
石英製の洗浄槽１の底部に洗浄層に触れないように石英
製の板状振動子２が配置されている。図には、１個の板
状の振動子を示しているが、細長い板状の振動子を複数
個配置してもよい。振動子２の一端は、発振子６に固定
されている。発振子６自体は、洗浄液１１に触れないよ
うに石英管７内に設置されている。
【００１５】石英管７は洗浄槽１の底面及び側面に沿っ
て洗浄液１１の液面上に引き出され駆動機構８に接続さ
れている。発振子６に高周波電圧を供給するための出力
ケーブル１０は、石英管７内を通して洗浄液１１の外部
に取り出され、発振器９に接続されている。
て洗浄液１１の液面上に引き出され駆動機構８に接続さ
れている。発振子６に高周波電圧を供給するための出力
ケーブル１０は、石英管７内を通して洗浄液１１の外部
に取り出され、発振器９に接続されている。
【００１６】駆動機構８は、電動モータとカム、ボール
ネジ若しくはワイヤの組み合わせ等で構成されており、
石英管７、発振子６及び振動子２を一体にして所望の距
離上下に往復運動させることができる。駆動機構８は、
これらの構成以外に油圧または空気圧のような流体の圧
力を利用したもの等でもよい。駆動の振幅、周期を可変
に設定できるようにしてもよい。
ネジ若しくはワイヤの組み合わせ等で構成されており、
石英管７、発振子６及び振動子２を一体にして所望の距
離上下に往復運動させることができる。駆動機構８は、
これらの構成以外に油圧または空気圧のような流体の圧
力を利用したもの等でもよい。駆動の振幅、周期を可変
に設定できるようにしてもよい。
【００１７】さらに、超音波の周波数変更または洗浄液
変更による超音波の波長の変化に対応できるように、往
復運動の振幅を変化させることができる。また、往復運
動の周期についても、洗浄時間等との整合をとるために
変更することができる。振動子の移動形態は、往復運動
に限らない、例えば、円運動等であってもよい。
変更による超音波の波長の変化に対応できるように、往
復運動の振幅を変化させることができる。また、往復運
動の周期についても、洗浄時間等との整合をとるために
変更することができる。振動子の移動形態は、往復運動
に限らない、例えば、円運動等であってもよい。
【００１８】振動子２の上方には、載置される半導体ウ
エハの法線方向に石英製または樹脂製の２本の梁が水平
に洗浄槽１に固定されている。梁の間隔は、超音波の伝
搬の妨げにならないように、キャリア４を載置するため
に必要な間隔であって可能な限り広くするのが好まし
い。
エハの法線方向に石英製または樹脂製の２本の梁が水平
に洗浄槽１に固定されている。梁の間隔は、超音波の伝
搬の妨げにならないように、キャリア４を載置するため
に必要な間隔であって可能な限り広くするのが好まし
い。
【００１９】このように構成された洗浄装置に、所定の
洗浄液１１を満たす。半導体ウエハ５を、所定の間隔で
キャリア４に装填し、梁３上に載置する。発振器９から
所定の周波数の交流電圧を供給することにより、発振子
６が所定の振動数で振動する。発振子６の振動は、振動
子２に伝わり、振動子２から洗浄液１１中に超音波が放
射される。同時に、駆動機構８によって、振動子２を上
下に往復運動させる。往復運動の振幅は、洗浄液１１中
に生じた定在波の半波長未満、または、半波長以上であ
って半波長の整数倍とならない距離とするのが好まし
い。
洗浄液１１を満たす。半導体ウエハ５を、所定の間隔で
キャリア４に装填し、梁３上に載置する。発振器９から
所定の周波数の交流電圧を供給することにより、発振子
６が所定の振動数で振動する。発振子６の振動は、振動
子２に伝わり、振動子２から洗浄液１１中に超音波が放
射される。同時に、駆動機構８によって、振動子２を上
下に往復運動させる。往復運動の振幅は、洗浄液１１中
に生じた定在波の半波長未満、または、半波長以上であ
って半波長の整数倍とならない距離とするのが好まし
い。
【００２０】このように、振動子２を上下に往復運動さ
せることにより、定在波の節の位置も移動する。従っ
て、半導体ウエハ５の表面の特定の位置が常に定在波の
節になるということがない。そのため、洗浄効果にむら
がなく、半導体ウエハ５の表面を均一に洗浄することが
できる。
せることにより、定在波の節の位置も移動する。従っ
て、半導体ウエハ５の表面の特定の位置が常に定在波の
節になるということがない。そのため、洗浄効果にむら
がなく、半導体ウエハ５の表面を均一に洗浄することが
できる。
【００２１】以下に、本実施例による超音波洗浄装置を
使用して、直径１５０ｍｍのシリコンウエハを洗浄した
場合の洗浄効果について説明する。洗浄槽１は、幅２５
ｃｍ、奥行き３０ｃｍ、深さ３０ｃｍのものを使用し
た。洗浄液として、アンモニア、過酸化水素水、純水の
容量比が１：１：５のアンモニア過酸化水素溶液を使用
した。
使用して、直径１５０ｍｍのシリコンウエハを洗浄した
場合の洗浄効果について説明する。洗浄槽１は、幅２５
ｃｍ、奥行き３０ｃｍ、深さ３０ｃｍのものを使用し
た。洗浄液として、アンモニア、過酸化水素水、純水の
容量比が１：１：５のアンモニア過酸化水素溶液を使用
した。
【００２２】０．３μｍ径のアルミナ粒子３０００〜６
０００個／ｃｍ2 を付着させたシリコンウエハ２５枚を
キャリアに装填し、室温で５分間洗浄を行った。超音波
照射条件は、出力８Ｗ／ｃｍ2 、周波数０．８ＭＨｚで
ある。このときの波長は約１．４ｍｍすなわち定在波の
節と節との間の距離は約０．７ｍｍである。振動子の往
復運動の条件は、振幅０．３５ｍｍ、周期５回／分であ
る。
０００個／ｃｍ2 を付着させたシリコンウエハ２５枚を
キャリアに装填し、室温で５分間洗浄を行った。超音波
照射条件は、出力８Ｗ／ｃｍ2 、周波数０．８ＭＨｚで
ある。このときの波長は約１．４ｍｍすなわち定在波の
節と節との間の距離は約０．７ｍｍである。振動子の往
復運動の条件は、振幅０．３５ｍｍ、周期５回／分であ
る。
【００２３】このような条件で洗浄した結果、安定し
て、９９％以上のアルミナ粒子除去率を得ることができ
た。振動子の往復運動を行わないで洗浄した場合には、
アルミナ粒子除去率は９５％〜９７％であった。このよ
うに、振動子の往復運動を行うことにより、明らかに洗
浄効果の向上がみられた。なお、振動子の往復運動の振
幅を半波長よりも長い１．８ｍｍとした場合にも同様の
洗浄効果を得ることができた。
て、９９％以上のアルミナ粒子除去率を得ることができ
た。振動子の往復運動を行わないで洗浄した場合には、
アルミナ粒子除去率は９５％〜９７％であった。このよ
うに、振動子の往復運動を行うことにより、明らかに洗
浄効果の向上がみられた。なお、振動子の往復運動の振
幅を半波長よりも長い１．８ｍｍとした場合にも同様の
洗浄効果を得ることができた。
【００２４】次に、複数の振動子を設け、異なる角度か
ら超音波を照射する他の実施例について説明する。図２
は、他の実施例による超音波洗浄装置を長さ方向から見
た断面図を示す。石英製の洗浄槽１の底部に、半導体ウ
エハを載置したときのウエハの法線方向に対して平行
に、純水供給用の円筒状の純水供給パイプ１２が配置さ
れている。純水供給パイプ１２の上部側面には、載置さ
れる半導体ウエハの間隔と等間隔に純水供給口１３が設
けられている。
ら超音波を照射する他の実施例について説明する。図２
は、他の実施例による超音波洗浄装置を長さ方向から見
た断面図を示す。石英製の洗浄槽１の底部に、半導体ウ
エハを載置したときのウエハの法線方向に対して平行
に、純水供給用の円筒状の純水供給パイプ１２が配置さ
れている。純水供給パイプ１２の上部側面には、載置さ
れる半導体ウエハの間隔と等間隔に純水供給口１３が設
けられている。
【００２５】純水供給パイプ１２の上方には、載置され
る半導体ウエハの法線方向に石英製または樹脂製の２本
の梁が洗浄槽１に水平に固定されている。梁の間隔は、
純水の流れの妨げにならないように、キャリア４を載置
するために必要な間隔であって可能な限り広くするのが
好ましい。
る半導体ウエハの法線方向に石英製または樹脂製の２本
の梁が洗浄槽１に水平に固定されている。梁の間隔は、
純水の流れの妨げにならないように、キャリア４を載置
するために必要な間隔であって可能な限り広くするのが
好ましい。
【００２６】石英製の板状の超音波振動子２ａ、２ｂ
が、載置されるキャリア４の両側下方に配置されてい
る。超音波振動子２ａ、２ｂは、超音波の照射方向が洗
浄液面に対して垂直もしくは平行にならないように傾斜
させて配置されている。これにより、液面からの反射波
の進行方向が入射波の方向と異なることになり、定在波
の発生を抑制することができる。
が、載置されるキャリア４の両側下方に配置されてい
る。超音波振動子２ａ、２ｂは、超音波の照射方向が洗
浄液面に対して垂直もしくは平行にならないように傾斜
させて配置されている。これにより、液面からの反射波
の進行方向が入射波の方向と異なることになり、定在波
の発生を抑制することができる。
【００２７】また、照射される超音波の中心軸線が半導
体ウエハのほぼ中心を通るように角度を調整することが
好ましい。これにより、放射された超音波を効率よく半
導体ウエハ表面に照射することができ、洗浄効率を向上
させることができる。
体ウエハのほぼ中心を通るように角度を調整することが
好ましい。これにより、放射された超音波を効率よく半
導体ウエハ表面に照射することができ、洗浄効率を向上
させることができる。
【００２８】振動子２ａ、２ｂの一端は、図１の実施例
と同様に、それぞれ発振子に固定されている。さらに、
この発振子はそれぞれ石英管内に設置され、石英管は、
それぞれ洗浄槽１の底面及び側面に沿って洗浄液１１の
液面上に引き出され、駆動機構に接続されている。
と同様に、それぞれ発振子に固定されている。さらに、
この発振子はそれぞれ石英管内に設置され、石英管は、
それぞれ洗浄槽１の底面及び側面に沿って洗浄液１１の
液面上に引き出され、駆動機構に接続されている。
【００２９】駆動機構は、図１に示す実施例と同様に振
動子２ａ、２ｂを所望の振幅で超音波の照射方向と平行
な方向に往復運動させることができる。往復運動の方向
は、必ずしも超音波の照射方向と平行な方向でなくても
よい。例えば、上下方向に往復運動させてもよい。
動子２ａ、２ｂを所望の振幅で超音波の照射方向と平行
な方向に往復運動させることができる。往復運動の方向
は、必ずしも超音波の照射方向と平行な方向でなくても
よい。例えば、上下方向に往復運動させてもよい。
【００３０】このように構成された洗浄装置に、所望の
洗浄液１１を満たす。半導体ウエハ５を、所定の間隔で
キャリア４に装填し、梁３上に載置する。発振子の振動
は、振動子２ａ、２ｂに伝わり、振動子２ａ、２ｂから
洗浄液１１中に超音波が放射される。放射された超音波
は半導体ウエハ５の表面に異なる方向から照射される。
同時に、駆動機構によって、振動子２ａ、２ｂを超音波
の照射方向と平行な方向に往復運動させる。往復運動の
振幅は、洗浄液１１中に生じた定在波の半波長未満、ま
たは、半波長以上であって半波長の整数倍とならない距
離とするのが好ましい。
洗浄液１１を満たす。半導体ウエハ５を、所定の間隔で
キャリア４に装填し、梁３上に載置する。発振子の振動
は、振動子２ａ、２ｂに伝わり、振動子２ａ、２ｂから
洗浄液１１中に超音波が放射される。放射された超音波
は半導体ウエハ５の表面に異なる方向から照射される。
同時に、駆動機構によって、振動子２ａ、２ｂを超音波
の照射方向と平行な方向に往復運動させる。往復運動の
振幅は、洗浄液１１中に生じた定在波の半波長未満、ま
たは、半波長以上であって半波長の整数倍とならない距
離とするのが好ましい。
【００３１】このように、振動子２ａ、２ｂを往復運動
させることにより、半導体ウエハ５の表面の特定の位置
が常に定在波の節になるということがない。そのため、
洗浄効果にむらがなく、半導体ウエハ５の表面を均一に
洗浄することができる。さらに、半導体ウエハ５に異な
る方向から超音波を照射することにより、洗浄効果の均
一性を向上させることができる。
させることにより、半導体ウエハ５の表面の特定の位置
が常に定在波の節になるということがない。そのため、
洗浄効果にむらがなく、半導体ウエハ５の表面を均一に
洗浄することができる。さらに、半導体ウエハ５に異な
る方向から超音波を照射することにより、洗浄効果の均
一性を向上させることができる。
【００３２】以下に、本実施例による超音波洗浄装置を
使用して、直径１５０ｍｍのシリコンウエハを洗浄した
場合の洗浄効果について説明する。洗浄槽１は、図１の
実施例で使用したものと同等のものである。洗浄液とし
て、純水を使用し、常時洗浄槽底部の純水供給口１３か
ら純水を供給する。溢れた純水は洗浄して洗い流された
ゴミと共に洗浄槽１の上部から廃棄される。
使用して、直径１５０ｍｍのシリコンウエハを洗浄した
場合の洗浄効果について説明する。洗浄槽１は、図１の
実施例で使用したものと同等のものである。洗浄液とし
て、純水を使用し、常時洗浄槽底部の純水供給口１３か
ら純水を供給する。溢れた純水は洗浄して洗い流された
ゴミと共に洗浄槽１の上部から廃棄される。
【００３３】０．３μｍ径のアルミナ粒子２０００〜４
０００個／ｃｍ2 を付着させたシリコンウエハをキャリ
アに装填し、室温で１０分間洗浄を行った。超音波照射
条件は、出力１．８Ｗ／ｃｍ2 、周波数２８ｋＨｚであ
る。このときの波長は約１０８ｍｍすなわち定在波の節
と節との間の距離は約５４ｍｍである。振動子の往復運
動の条件は、振幅１０ｍｍ、周期１０回／分である。
０００個／ｃｍ2 を付着させたシリコンウエハをキャリ
アに装填し、室温で１０分間洗浄を行った。超音波照射
条件は、出力１．８Ｗ／ｃｍ2 、周波数２８ｋＨｚであ
る。このときの波長は約１０８ｍｍすなわち定在波の節
と節との間の距離は約５４ｍｍである。振動子の往復運
動の条件は、振幅１０ｍｍ、周期１０回／分である。
【００３４】このような条件で洗浄した結果、安定し
て、９０％以上のアルミナ粒子除去率を得ることができ
た。振動子の往復運動を行わないで洗浄した場合には、
アルミナ粒子除去率は５０％程度であった。このよう
に、振動子の往復運動を行うことにより、明らかに洗浄
効果の向上がみられた。
て、９０％以上のアルミナ粒子除去率を得ることができ
た。振動子の往復運動を行わないで洗浄した場合には、
アルミナ粒子除去率は５０％程度であった。このよう
に、振動子の往復運動を行うことにより、明らかに洗浄
効果の向上がみられた。
【００３５】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の超音波洗
浄方法によると、被洗浄物表面を洗浄むらなく、均一に
洗浄することができる。
浄方法によると、被洗浄物表面を洗浄むらなく、均一に
洗浄することができる。
【図１】本発明の実施例による洗浄装置の横方向及び長
さ方向から見た断面図である。
さ方向から見た断面図である。
【図２】本発明の他の実施例による洗浄装置の断面図で
ある。
ある。
１ 洗浄槽 ２ 振動子 ３ 梁 ４ キャリア ５ 半導体ウエハ ６ 発振子 ７ 石英管 ８ 駆動機構 ９ 発振器 １０ 出力ケーブル １１ 洗浄液 １２ 純水供給パイプ １３ 純水供給口
Claims (7)
- 【請求項１】 被洗浄物を洗浄液中に浸し、超音波振動
子から洗浄液中に放射された超音波を前記被洗浄物に照
射し、洗浄を行う超音波洗浄方法において、 超音波振動子を洗浄液中で移動させながら洗浄を行うこ
とを特徴とする超音波洗浄方法。 - 【請求項２】 前記超音波振動子を複数個設け、異なる
複数の方向から超音波を照射することを特徴とする請求
項１記載の超音波洗浄方法。 - 【請求項３】 前記超音波振動子を超音波の照射方向の
中心軸線に対して平行な方向に、かつその両端で洗浄液
中に生じた定在波の腹と腹及び節と節が重ならないよう
な振幅で往復運動させることを特徴とする請求項１また
は２記載の超音波洗浄方法。 - 【請求項４】 洗浄槽に洗浄液を満たし、洗浄液中に被
洗浄物を浸漬し、洗浄液中に配置された振動子から放射
された超音波を前記被洗浄物に照射して洗浄を行う超音
波洗浄装置において、 前記振動子と接続され、前記振動子を洗浄液中で移動さ
せるための駆動手段を有する超音波洗浄装置。 - 【請求項５】 前記振動子と駆動手段を複数組有し、そ
れぞれの振動子は、超音波の放射方向が異なるように配
置されている請求項４記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項６】 前記駆動手段は、往復運動の振幅を変化
させるための振幅可変手段を有する請求項４または５記
載の超音波洗浄装置。 - 【請求項７】 前記駆動手段は、往復運動の周期を変化
させるための周期可変手段を有する請求項４〜６のいず
れかに記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15717793A JPH0714814A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 超音波洗浄方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15717793A JPH0714814A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 超音波洗浄方法と装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714814A true JPH0714814A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15643875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15717793A Withdrawn JPH0714814A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 超音波洗浄方法と装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714814A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0887041A3 (en) * | 1997-06-26 | 1999-05-26 | EVANS, David H. | Ultrasonic cleaning system |
| US6085764A (en) * | 1997-07-22 | 2000-07-11 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus and method |
| JP2016210018A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 洗浄装置及び液滴吐出装置 |
| CN107068595A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-08-18 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片超声波清洗装置 |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP15717793A patent/JPH0714814A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0887041A3 (en) * | 1997-06-26 | 1999-05-26 | EVANS, David H. | Ultrasonic cleaning system |
| US6085764A (en) * | 1997-07-22 | 2000-07-11 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus and method |
| US6178974B1 (en) | 1997-07-22 | 2001-01-30 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus and method |
| JP2016210018A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 洗浄装置及び液滴吐出装置 |
| CN107068595A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-08-18 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 硅片超声波清洗装置 |
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