JPH07157331A - 磁気ディスク用着色結晶化ガラス - Google Patents
磁気ディスク用着色結晶化ガラスInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面の欠陥を容易に識別することができる磁
気ディスク用結晶化ガラスを提供することを目的として
いる。 【構成】 CIEの表色系でマンセル明度が0〜7の範
囲の色視感を有するように、ガラス中の着色成分とし
て、V2O5、CuO、MnO2、Cr2O3、CoO、M
oO3、NiO、Fe2O3、TeO2、CeO2、Pr2O
3、Nd2O3、Er2O3からなる群より選択された少な
くとも1成分を、重量百分率で、0.5〜5%含有させ
る。
気ディスク用結晶化ガラスを提供することを目的として
いる。 【構成】 CIEの表色系でマンセル明度が0〜7の範
囲の色視感を有するように、ガラス中の着色成分とし
て、V2O5、CuO、MnO2、Cr2O3、CoO、M
oO3、NiO、Fe2O3、TeO2、CeO2、Pr2O
3、Nd2O3、Er2O3からなる群より選択された少な
くとも1成分を、重量百分率で、0.5〜5%含有させ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ等の記録
媒体として使用される磁気ディスク用の結晶化ガラスに
係り、特に、ガラスを着色することにより、製品検査を
容易に行うことができるようにした着色結晶化ガラスに
関する。
媒体として使用される磁気ディスク用の結晶化ガラスに
係り、特に、ガラスを着色することにより、製品検査を
容易に行うことができるようにした着色結晶化ガラスに
関する。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスクは、大型コンピュータ、パ
ーソナルコンピュータ等の外部記録媒体として近年需要
が増大しているため、その開発が急速に進んできてい
る。従来、磁気ディスク用の基板には、アルミニウム合
金が使用されているが、アルミニウム合金基板では、種
々の材料欠陥の影響により、研磨工程における基板表面
の突起または、スポット状の凹凸を生じ、平坦性、表面
粗度の点で十分でなく、今日の情報量のより一層の増大
にともなう高密度記録化に対応できない。
ーソナルコンピュータ等の外部記録媒体として近年需要
が増大しているため、その開発が急速に進んできてい
る。従来、磁気ディスク用の基板には、アルミニウム合
金が使用されているが、アルミニウム合金基板では、種
々の材料欠陥の影響により、研磨工程における基板表面
の突起または、スポット状の凹凸を生じ、平坦性、表面
粗度の点で十分でなく、今日の情報量のより一層の増大
にともなう高密度記録化に対応できない。
【0003】一方、結晶化ガラスは、構成結晶粒子を
0.02〜20μm程度の大きさに揃えて緻密なものを
得ることができるため、前記アルミニウム合金に比し
て、平坦性、表面粗度が優れ、高密度記録化に適してい
るので、近年、磁気ディスク用の基板を結晶化ガラスで
形成したものが提供されつつある。
0.02〜20μm程度の大きさに揃えて緻密なものを
得ることができるため、前記アルミニウム合金に比し
て、平坦性、表面粗度が優れ、高密度記録化に適してい
るので、近年、磁気ディスク用の基板を結晶化ガラスで
形成したものが提供されつつある。
【0004】ところで、結晶化ガラスで磁気ディスク用
の基板を形成する場合、ガラス基板上に、キズ、クラッ
ク、カケ、ピンホール等の欠陥があると、磁気ディスク
の性能に悪影響を与えるばかりか、欠陥の大きさ、量に
よっては、磁気ディスク基板としては使用不能となるた
め、ガラス基板の表面を全数目視によって検査してい
る。
の基板を形成する場合、ガラス基板上に、キズ、クラッ
ク、カケ、ピンホール等の欠陥があると、磁気ディスク
の性能に悪影響を与えるばかりか、欠陥の大きさ、量に
よっては、磁気ディスク基板としては使用不能となるた
め、ガラス基板の表面を全数目視によって検査してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
磁気ディスク用結晶化ガラスは、透明もしくは乳白色の
ものが主体であるため、前記目視による検査では欠陥を
発見し難く、検査者に大きな負担をかけているばかり
か、検査ミスが生じる場合もあった。また、前記のよう
に欠陥を発見し難いため、レーザ光等による自動検査を
導入するのも極めて困難であり、前記欠陥有無の検査が
品質管理上、大きな障害となっていた。
磁気ディスク用結晶化ガラスは、透明もしくは乳白色の
ものが主体であるため、前記目視による検査では欠陥を
発見し難く、検査者に大きな負担をかけているばかり
か、検査ミスが生じる場合もあった。また、前記のよう
に欠陥を発見し難いため、レーザ光等による自動検査を
導入するのも極めて困難であり、前記欠陥有無の検査が
品質管理上、大きな障害となっていた。
【0006】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、表面の欠陥を容易に識別することができる磁気ディ
スク用結晶化ガラスを提供することを目的としている。
で、表面の欠陥を容易に識別することができる磁気ディ
スク用結晶化ガラスを提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するために、すなわち可視光もしくはレーザ光によ
り前記欠陥を容易に識別できるようにするためには、当
該欠陥が光学的に正常な部分と異なるようにすればよい
ことに着目し、本発明に至った。つまり、ガラスが透明
もしくは乳白色等の明度の高い色視感であると、ガラス
基板に欠陥があった場合に、ガラス基板表面からの反射
光または散乱光に有意差が生じにくく、このため欠陥を
識別しにくい。そこで、ガラスの明度を所定の範囲に設
定して、ガラス基板上の欠陥と、正常(良好)な周辺部
とで、反射光または散乱光に明瞭な差を生じさせ、欠陥
を容易に識別するようにしたものである。
達成するために、すなわち可視光もしくはレーザ光によ
り前記欠陥を容易に識別できるようにするためには、当
該欠陥が光学的に正常な部分と異なるようにすればよい
ことに着目し、本発明に至った。つまり、ガラスが透明
もしくは乳白色等の明度の高い色視感であると、ガラス
基板に欠陥があった場合に、ガラス基板表面からの反射
光または散乱光に有意差が生じにくく、このため欠陥を
識別しにくい。そこで、ガラスの明度を所定の範囲に設
定して、ガラス基板上の欠陥と、正常(良好)な周辺部
とで、反射光または散乱光に明瞭な差を生じさせ、欠陥
を容易に識別するようにしたものである。
【0008】そこで、本発明の請求項1の磁気ディスク
用結晶化ガラスは、CIEの表色系でマンセル明度が0
〜7の範囲の色視感を有することを特徴としている。こ
こで、ガラスの良好な面からの反射光の強度をRA、欠
陥からの反射光の強度をRBとすると、RB>>RAにな
るほど、欠陥の判別が容易になる。すなわち、黒味の色
になるほど、RAが小さくなるので、欠陥の判別が容易
になる。マンセル明度では、明度を10段階で評価し、
明度が高くなるほどその値が10に近づき、明度が低く
なるほどその値が0に近づくので、前記のようにマンセ
ル明度を0〜7の範囲に設定した。この範囲に設定した
のは、マンセル明度が7を越えると、明度が高くなっ
て、欠陥の判別が困難になってくるからである。また、
欠陥の判別を行う場合、ガラスの色と検査光の色を余色
(補色)の関係にすることが望ましい。例えばガラスの
色が、Y(yellow)、M(mazenta)、C
(cyan)の場合、検査光の色はそれぞれ、B(bl
ue)、G(green)、R(red)にするのが望
ましい。
用結晶化ガラスは、CIEの表色系でマンセル明度が0
〜7の範囲の色視感を有することを特徴としている。こ
こで、ガラスの良好な面からの反射光の強度をRA、欠
陥からの反射光の強度をRBとすると、RB>>RAにな
るほど、欠陥の判別が容易になる。すなわち、黒味の色
になるほど、RAが小さくなるので、欠陥の判別が容易
になる。マンセル明度では、明度を10段階で評価し、
明度が高くなるほどその値が10に近づき、明度が低く
なるほどその値が0に近づくので、前記のようにマンセ
ル明度を0〜7の範囲に設定した。この範囲に設定した
のは、マンセル明度が7を越えると、明度が高くなっ
て、欠陥の判別が困難になってくるからである。また、
欠陥の判別を行う場合、ガラスの色と検査光の色を余色
(補色)の関係にすることが望ましい。例えばガラスの
色が、Y(yellow)、M(mazenta)、C
(cyan)の場合、検査光の色はそれぞれ、B(bl
ue)、G(green)、R(red)にするのが望
ましい。
【0009】前記のように、ガラスの色視感を、マンセ
ル明度で0〜7の範囲に設定するには、各種イオン種を
結晶化ガラス成分とともに共存させ、発色させることに
より、すなわち、ガラス中に着色成分を添加して、当該
ガラスを着色すればよい。そこで、本発明の請求項2記
載の磁気ディスク用結晶化ガラスは、結晶化ガラス中
に、着色成分として、V、Cu、Mn、Cr、Co、M
o、Ni、Fe、Te、Ce、Pr、Nd、Erの金属
酸化物からなる群より選択された少なくとも1成分を、
重量百分率で、0.5〜5%含有させたものである。前
記金属酸化物としては、V2O5、CuO、MnO2、C
r2O3、CoO、MoO3、NiO、Fe2O3、Te
O2、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Er2O3等が挙げ
られる。
ル明度で0〜7の範囲に設定するには、各種イオン種を
結晶化ガラス成分とともに共存させ、発色させることに
より、すなわち、ガラス中に着色成分を添加して、当該
ガラスを着色すればよい。そこで、本発明の請求項2記
載の磁気ディスク用結晶化ガラスは、結晶化ガラス中
に、着色成分として、V、Cu、Mn、Cr、Co、M
o、Ni、Fe、Te、Ce、Pr、Nd、Erの金属
酸化物からなる群より選択された少なくとも1成分を、
重量百分率で、0.5〜5%含有させたものである。前
記金属酸化物としては、V2O5、CuO、MnO2、C
r2O3、CoO、MoO3、NiO、Fe2O3、Te
O2、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Er2O3等が挙げ
られる。
【0010】ここで、前記成分の含有率を、0.5〜5
%の範囲に設定したのは、0.5%未満では、所定の色
視感に着色できないからであり、一方、5%を越える
と、材料強度等の特性が劣化するからである。また、前
記着色成分は、単体ではその金属イオン特有の色を呈す
るが、これらを混在させるほど、黒色に近づくようにな
る。
%の範囲に設定したのは、0.5%未満では、所定の色
視感に着色できないからであり、一方、5%を越える
と、材料強度等の特性が劣化するからである。また、前
記着色成分は、単体ではその金属イオン特有の色を呈す
るが、これらを混在させるほど、黒色に近づくようにな
る。
【0011】さらに、本発明の請求項3記載の磁気ディ
スク用結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させる結晶
化ガラスの主要構成成分が、SiO2−Li2O、SiO
2−Al2O3−Li2O、SiO2−Al2O3−ZnOの
いずれかからなるものである。
スク用結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させる結晶
化ガラスの主要構成成分が、SiO2−Li2O、SiO
2−Al2O3−Li2O、SiO2−Al2O3−ZnOの
いずれかからなるものである。
【0012】本発明の請求項4記載の磁気ディスク用結
晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前提と
し、その他の構成成分が以下の通りであることを特徴と
している。重量百分率で、SiO2 60〜87%、L
i2O 5〜15%、Na2O 0〜1%、K2O 0〜
10%、MgO 0〜7.5%、CaO 0〜9.5%、
SrO 0〜15%、BaO 0〜13%、ただし、M
gO+CaO+SrO+BaO 0+5%以上、ZnO 0
〜13%、B2O3 0〜10%、Al2O3 0〜10
%、P2O5 0.5〜8%、TiO2 0〜5%、ZrO
2 0〜3%、SnO2 0〜3%、As2O3+Sb2O3
0〜2%、および上記金属酸化物の1種または2種以
上の金属元素の弗化物をFの合計量として、0〜5%
有している。
晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前提と
し、その他の構成成分が以下の通りであることを特徴と
している。重量百分率で、SiO2 60〜87%、L
i2O 5〜15%、Na2O 0〜1%、K2O 0〜
10%、MgO 0〜7.5%、CaO 0〜9.5%、
SrO 0〜15%、BaO 0〜13%、ただし、M
gO+CaO+SrO+BaO 0+5%以上、ZnO 0
〜13%、B2O3 0〜10%、Al2O3 0〜10
%、P2O5 0.5〜8%、TiO2 0〜5%、ZrO
2 0〜3%、SnO2 0〜3%、As2O3+Sb2O3
0〜2%、および上記金属酸化物の1種または2種以
上の金属元素の弗化物をFの合計量として、0〜5%
有している。
【0013】前記構成成分の組成範囲を上記のように限
定した理由は以下の通りである。すなわち、SiO2
成分は、原ガラスの熱処理により、主結晶として二珪酸
リチウム(Li2O・2SiO2)およびα−クオーツ
(SiO2)等の結晶を生成する極めて重要な成分であ
るが、その量が60%未満では、得られる結晶化ガラス
の析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすく、また、8
7%を超えると原ガラスの溶融が困難になるからであ
る。
定した理由は以下の通りである。すなわち、SiO2
成分は、原ガラスの熱処理により、主結晶として二珪酸
リチウム(Li2O・2SiO2)およびα−クオーツ
(SiO2)等の結晶を生成する極めて重要な成分であ
るが、その量が60%未満では、得られる結晶化ガラス
の析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすく、また、8
7%を超えると原ガラスの溶融が困難になるからであ
る。
【0014】Li2O成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶として二珪酸リチウム(Li2O・2Si
O2)結晶を生成する極めて十分な成分であるが、その
量が5%未満では、上記結晶の析出が困難となると同時
に、原ガラスの溶融が困難となり、また、15%を超え
ると、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織
が粗大化しやすいうえ、化学的耐久性および硬度が悪化
するからである。なお、Li2O量は、製品(磁気ディ
スク基板)の高硬度および高熱膨張特性を顕著にし、結
晶粒径を一層微小にするためには、5〜12%が好まし
い。
り、主結晶として二珪酸リチウム(Li2O・2Si
O2)結晶を生成する極めて十分な成分であるが、その
量が5%未満では、上記結晶の析出が困難となると同時
に、原ガラスの溶融が困難となり、また、15%を超え
ると、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織
が粗大化しやすいうえ、化学的耐久性および硬度が悪化
するからである。なお、Li2O量は、製品(磁気ディ
スク基板)の高硬度および高熱膨張特性を顕著にし、結
晶粒径を一層微小にするためには、5〜12%が好まし
い。
【0015】Na2OおよびK2O成分は、ガラスの溶融
性を向上させる重要な成分であり、それぞれ10%まで
含有させることができる。なお、上記効果を得るために
は、Na2OおよびK2Oの1種または2種の合計量を
0.5%以上含有させることが好ましい。MgO、Ca
O、SrOおよびBaOの各成分は、ガラスの溶融性の
改善、ガラス成形時の部分的乳白色化の防止、熱膨張曲
線に大きな屈曲をもたらすα−クリストバライト結晶の
過度の析出抑制、および下記に示すP2O5成分との共存
により、熱処理条件による熱膨張係数の変化を抑制する
ための重要な成分である。しかし、MgO、CaO、S
rOおよびBaO成分の1種または2種以上の合計量が
0.5%未満ではそれらの効果が十分でない。また、M
gOは7.5%を、CaOは9.5%を、SrOは15%
を、BaOは13%をそれぞれ超えると、所望の結晶析
出が困難になるとともに、結晶粒径が粗大化して緻密性
が低下する。同様の理由でRO成分の合計量は25%ま
でとするのが好ましい。
性を向上させる重要な成分であり、それぞれ10%まで
含有させることができる。なお、上記効果を得るために
は、Na2OおよびK2Oの1種または2種の合計量を
0.5%以上含有させることが好ましい。MgO、Ca
O、SrOおよびBaOの各成分は、ガラスの溶融性の
改善、ガラス成形時の部分的乳白色化の防止、熱膨張曲
線に大きな屈曲をもたらすα−クリストバライト結晶の
過度の析出抑制、および下記に示すP2O5成分との共存
により、熱処理条件による熱膨張係数の変化を抑制する
ための重要な成分である。しかし、MgO、CaO、S
rOおよびBaO成分の1種または2種以上の合計量が
0.5%未満ではそれらの効果が十分でない。また、M
gOは7.5%を、CaOは9.5%を、SrOは15%
を、BaOは13%をそれぞれ超えると、所望の結晶析
出が困難になるとともに、結晶粒径が粗大化して緻密性
が低下する。同様の理由でRO成分の合計量は25%ま
でとするのが好ましい。
【0016】ZnO成分は、ガラスの溶融性の改善、熱
処理条件による熱膨張係数の変化の抑制に補助的効果が
あるので、13%まで含有させることができるが、望ま
しくは5%未満含有させるのがよい。B2O3成分は、ガ
ラスの溶融性を向上する有効な成分であり、その含有量
が10%以上では、所望の結晶を析出し難くなるが、望
ましくは5%未満含有させるのがよい。Al2O3成分
は、製品の化学的耐久性および硬度を向上させる有効な
成分であり、その含有量が10%を超えると溶融性が悪
化し、主結晶としてのα−クオーツ(SiO2)の結晶
析出量が低下するが、望ましくは1〜8%含有させるの
がよい。
処理条件による熱膨張係数の変化の抑制に補助的効果が
あるので、13%まで含有させることができるが、望ま
しくは5%未満含有させるのがよい。B2O3成分は、ガ
ラスの溶融性を向上する有効な成分であり、その含有量
が10%以上では、所望の結晶を析出し難くなるが、望
ましくは5%未満含有させるのがよい。Al2O3成分
は、製品の化学的耐久性および硬度を向上させる有効な
成分であり、その含有量が10%を超えると溶融性が悪
化し、主結晶としてのα−クオーツ(SiO2)の結晶
析出量が低下するが、望ましくは1〜8%含有させるの
がよい。
【0017】P2O5成分は、ガラスの結晶核形成剤とし
て不可欠であるが、その量が0.5%未満では、所望の
結晶を生成させることができず、また、8%を超える
と、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で粗大化
し易くなる。TiO2、ZrO2およびSnO2成分は、
核形成剤としてそれぞれ5%、3%および3%まで、補
助的に使用し得る。As2O3およびSb2O3成分は、ガ
ラス溶融の際の清澄剤として添加し得るが、これらの1
種または2種の合計量は2%以下で十分である。
て不可欠であるが、その量が0.5%未満では、所望の
結晶を生成させることができず、また、8%を超える
と、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で粗大化
し易くなる。TiO2、ZrO2およびSnO2成分は、
核形成剤としてそれぞれ5%、3%および3%まで、補
助的に使用し得る。As2O3およびSb2O3成分は、ガ
ラス溶融の際の清澄剤として添加し得るが、これらの1
種または2種の合計量は2%以下で十分である。
【0018】また、上記金属酸化物の1種または2種以
上の金属元素の弗化物を含有させると、結晶化の調整等
に有効であるが、その量がFの合計量として5%を超え
ると、ガラスが不安定になり、所望の結晶が得られな
い。
上の金属元素の弗化物を含有させると、結晶化の調整等
に有効であるが、その量がFの合計量として5%を超え
ると、ガラスが不安定になり、所望の結晶が得られな
い。
【0019】上述した着色結晶化ガラスは、SiO2−
Li2O系のガラスであるが、次に示す結晶化ガラス
は、SiO2−Li2O−RO(ただし、ROはMgO、
ZnOまたはPbOである)系のガラスであり、MgO
成分を必須成分として含有させた原ガラスを熱処理する
ことにより得られる結晶化ガラスは、結晶相α−クオー
ツ(SiO2)の成長結晶粒子(二次粒子)が球状粒子
構造をとり、かつ結晶粒子サイズを制御することにより
研磨して成る表面特性の優れた磁気ディスク用結晶化ガ
ラスとして使用することができる。
Li2O系のガラスであるが、次に示す結晶化ガラス
は、SiO2−Li2O−RO(ただし、ROはMgO、
ZnOまたはPbOである)系のガラスであり、MgO
成分を必須成分として含有させた原ガラスを熱処理する
ことにより得られる結晶化ガラスは、結晶相α−クオー
ツ(SiO2)の成長結晶粒子(二次粒子)が球状粒子
構造をとり、かつ結晶粒子サイズを制御することにより
研磨して成る表面特性の優れた磁気ディスク用結晶化ガ
ラスとして使用することができる。
【0020】そこで、本発明の請求項5記載の磁気ディ
スク用着色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させる
ことを前提とし、SiO2−Li2O−RO系のガラスの
他の構成成分が以下の通りであることを特徴としてい
る。重量百分率で、SiO2 65〜83%、Li2O
8〜13%、K2O 0〜7%、MgO 0.5〜5.5
%、ZnO 0〜5%、PbO 0〜5%、ただし、M
gO+ZnO+PbO 0.5〜5.5%、P2O5 1〜4
%、Al2O3 0〜7%、As2O3+Sb2O3 0〜2
% からなるガラスを熱処理することにより得られ、主
結晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)お
よびα−クオーツ(SiO2)を有する。
スク用着色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させる
ことを前提とし、SiO2−Li2O−RO系のガラスの
他の構成成分が以下の通りであることを特徴としてい
る。重量百分率で、SiO2 65〜83%、Li2O
8〜13%、K2O 0〜7%、MgO 0.5〜5.5
%、ZnO 0〜5%、PbO 0〜5%、ただし、M
gO+ZnO+PbO 0.5〜5.5%、P2O5 1〜4
%、Al2O3 0〜7%、As2O3+Sb2O3 0〜2
% からなるガラスを熱処理することにより得られ、主
結晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)お
よびα−クオーツ(SiO2)を有する。
【0021】上記請求項5の磁気ディスク用結晶化ガラ
スの組成は、原ガラスと同様、酸化物基準で表示し得る
が、原ガラスの組成範囲を上記のように限定した理由は
以下の通りである。すなわち、SiO2 成分は、原ガ
ラスの熱処理により、主結晶として二珪酸リチウム(L
i2O・2SiO2)およびα−クオーツ(SiO2)等
の結晶を生成する極めて重要な成分であるが、その量が
65%未満では、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不
安定で組織が粗大化しやすく、また、83%を超えると
原ガラスの溶融が困難になるからである。
スの組成は、原ガラスと同様、酸化物基準で表示し得る
が、原ガラスの組成範囲を上記のように限定した理由は
以下の通りである。すなわち、SiO2 成分は、原ガ
ラスの熱処理により、主結晶として二珪酸リチウム(L
i2O・2SiO2)およびα−クオーツ(SiO2)等
の結晶を生成する極めて重要な成分であるが、その量が
65%未満では、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不
安定で組織が粗大化しやすく、また、83%を超えると
原ガラスの溶融が困難になるからである。
【0022】Li2O成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶として二珪酸リチウム(Li2O・2Si
O2)結晶を生成する極めて重要な成分であるが、その
量が8%未満では、上記結晶の析出が困難となると同時
に、原ガラスの溶融が困難となり、また、13%を超え
ると、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織
が粗大化しやすいうえ、化学的耐久性および硬度が悪化
するからである。なお、Li2O量は、製品(磁気ディ
スク基板)の高硬度および高熱膨張特性を顕著にし、結
晶粒径を一層微小にするためには、8〜12%が好まし
い。K2O成分は、ガラスの溶融性を向上させる重要な
成分であり、7%まで含有させることができるが、望ま
しくは、1〜6%含有させるのがよい。
り、主結晶として二珪酸リチウム(Li2O・2Si
O2)結晶を生成する極めて重要な成分であるが、その
量が8%未満では、上記結晶の析出が困難となると同時
に、原ガラスの溶融が困難となり、また、13%を超え
ると、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織
が粗大化しやすいうえ、化学的耐久性および硬度が悪化
するからである。なお、Li2O量は、製品(磁気ディ
スク基板)の高硬度および高熱膨張特性を顕著にし、結
晶粒径を一層微小にするためには、8〜12%が好まし
い。K2O成分は、ガラスの溶融性を向上させる重要な
成分であり、7%まで含有させることができるが、望ま
しくは、1〜6%含有させるのがよい。
【0023】MgO成分は、主結晶としてのα−クオー
ツ(SiO2)の結晶粒子を二次粒子構造全体へランダ
ムに析出させることができる重要な成分であるが、その
量が0.5%未満では上記効果が得られず、また、5.5
%を超えると、所望の結晶が析出し難くなる。また、Z
nOおよびPbO成分もMgOと同等の効果があるので
添加し得るが、その量が各々5%を超えると所望の結晶
が析出し難くなる。ただし、上記MgO、ZnOおよび
PbO成分の合計量は、同様の理由で0.5〜5.5%と
すべきである。
ツ(SiO2)の結晶粒子を二次粒子構造全体へランダ
ムに析出させることができる重要な成分であるが、その
量が0.5%未満では上記効果が得られず、また、5.5
%を超えると、所望の結晶が析出し難くなる。また、Z
nOおよびPbO成分もMgOと同等の効果があるので
添加し得るが、その量が各々5%を超えると所望の結晶
が析出し難くなる。ただし、上記MgO、ZnOおよび
PbO成分の合計量は、同様の理由で0.5〜5.5%と
すべきである。
【0024】P2O5成分は、ガラスの結晶核形成剤とし
て不可欠であるが、その量が1%未満では、所望の結晶
を生成させることができず、また、4%を超えると、得
られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で粗大化し易く
なる。Al2O3成分は、結晶化ガラスの化学的耐久性を
向上させる有効な成分であるが、その含有量が7%を超
えると溶融性が悪化し、主結晶としてのα−クオーツ
(SiO2)の結晶析出量が低下するが、望ましくは、
1〜8%含有させるのがよい。As2O3およびSb2O3
成分は、ガラス溶融の際の清澄剤として添加し得るが、
これらの1種または2種の合計量は2%以下で十分であ
る。
て不可欠であるが、その量が1%未満では、所望の結晶
を生成させることができず、また、4%を超えると、得
られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で粗大化し易く
なる。Al2O3成分は、結晶化ガラスの化学的耐久性を
向上させる有効な成分であるが、その含有量が7%を超
えると溶融性が悪化し、主結晶としてのα−クオーツ
(SiO2)の結晶析出量が低下するが、望ましくは、
1〜8%含有させるのがよい。As2O3およびSb2O3
成分は、ガラス溶融の際の清澄剤として添加し得るが、
これらの1種または2種の合計量は2%以下で十分であ
る。
【0025】上記構成の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スを製造する場合、前記着色成分を含む組成を有するガ
ラスを溶融し、熱間成形および/または冷間成形を行っ
た後、900℃以下の温度で結晶化熱処理を行う。これ
により、主結晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2
SiO2)およびα−クオーツ(SiO2)を有するとと
もに、CIEの表色系でマンセル明度が0〜7の範囲の
色視感を有する結晶化ガラスが製造される。この結晶化
ガラスを、磁気ディスク用の基板として使用する場合、
通常一般に広く知られている方法でラッピングの後、ポ
ッリシングを行い、その表面粗度(Ra)を15〜50
Åの範囲に設定する。
スを製造する場合、前記着色成分を含む組成を有するガ
ラスを溶融し、熱間成形および/または冷間成形を行っ
た後、900℃以下の温度で結晶化熱処理を行う。これ
により、主結晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2
SiO2)およびα−クオーツ(SiO2)を有するとと
もに、CIEの表色系でマンセル明度が0〜7の範囲の
色視感を有する結晶化ガラスが製造される。この結晶化
ガラスを、磁気ディスク用の基板として使用する場合、
通常一般に広く知られている方法でラッピングの後、ポ
ッリシングを行い、その表面粗度(Ra)を15〜50
Åの範囲に設定する。
【0026】本発明の請求項6記載の磁気ディスク用着
色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前
提とし、SiO2−Al2O3−ZnO系のガラスの他の
構成成分が以下の通りであることを特徴としている。重
量百分率で、SiO2 30〜65%、Al2O3 5〜
25%、ZnO 8〜40%、MgO 2〜20%、P
bO 0〜15%、CaO+SrO+BaO0〜15%、
TiO2 2〜15%、B2O3 0〜10%、La2O3+
Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2O5+WO3 0〜10
%、ZrO2+P2O5+SnO2 0〜7%、ただし、Zr
O2 0〜4%、P2O5 0〜5%、SnO2 0〜2
%、As2O3+Sb2O3 0〜2%、および上記金属酸
化物の1種または2種以上の金属元素の弗化物をFの合
計量として、0〜5% からなるガラスを熱処理するこ
とにより得られ、主結晶相としてガーナイト(ZnO・
Al2O3)を有する。
色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前
提とし、SiO2−Al2O3−ZnO系のガラスの他の
構成成分が以下の通りであることを特徴としている。重
量百分率で、SiO2 30〜65%、Al2O3 5〜
25%、ZnO 8〜40%、MgO 2〜20%、P
bO 0〜15%、CaO+SrO+BaO0〜15%、
TiO2 2〜15%、B2O3 0〜10%、La2O3+
Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2O5+WO3 0〜10
%、ZrO2+P2O5+SnO2 0〜7%、ただし、Zr
O2 0〜4%、P2O5 0〜5%、SnO2 0〜2
%、As2O3+Sb2O3 0〜2%、および上記金属酸
化物の1種または2種以上の金属元素の弗化物をFの合
計量として、0〜5% からなるガラスを熱処理するこ
とにより得られ、主結晶相としてガーナイト(ZnO・
Al2O3)を有する。
【0027】請求項6の磁気ディスク用結晶化ガラスの
組成範囲を上記のように限定した理由は以下の通りであ
る。すなわち、SiO2 成分は、原ガラスの熱処理に
より、α−クオーツ(SiO2)の結晶を生成する成分
であるが、その量が30%未満では、得られる結晶化ガ
ラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすく、ま
た、65%を超えると原ガラスの溶融が困難になるから
である。
組成範囲を上記のように限定した理由は以下の通りであ
る。すなわち、SiO2 成分は、原ガラスの熱処理に
より、α−クオーツ(SiO2)の結晶を生成する成分
であるが、その量が30%未満では、得られる結晶化ガ
ラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすく、ま
た、65%を超えると原ガラスの溶融が困難になるから
である。
【0028】Al2O3成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶としてガーナイト(ZnO・Al2O3)結晶
を生成する極めて重要な成分であるが、その量が5%未
満では、上記結晶の析出が困難となり、また、25%を
超えると、溶融性が悪化するとともに、得られる結晶化
ガラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすいから
である。ZnO成分は、原ガラスの熱処理により、主結
晶としてガーナイト(ZnO・Al2O3)結晶を生成す
る極めて重要な成分であるが、その量が8%未満では、
上記結晶の析出が困難となり、また、40%を超える
と、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織が
粗大化し易いからである。
り、主結晶としてガーナイト(ZnO・Al2O3)結晶
を生成する極めて重要な成分であるが、その量が5%未
満では、上記結晶の析出が困難となり、また、25%を
超えると、溶融性が悪化するとともに、得られる結晶化
ガラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化しやすいから
である。ZnO成分は、原ガラスの熱処理により、主結
晶としてガーナイト(ZnO・Al2O3)結晶を生成す
る極めて重要な成分であるが、その量が8%未満では、
上記結晶の析出が困難となり、また、40%を超える
と、得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定で組織が
粗大化し易いからである。
【0029】MgO成分は、その量が2%未満では原ガ
ラスが不安定になるとともに溶融性が悪化し、さらに製
品の硬度が低下する。また、20%を超えると製品中の
結晶粒が粗大になるとともに原ガラスの失透傾向が増大
する。PbO成分は、原ガラスの溶融性を改善する成分
であるが、その量が15%を超えると所望の結晶が析出
し難くなる。
ラスが不安定になるとともに溶融性が悪化し、さらに製
品の硬度が低下する。また、20%を超えると製品中の
結晶粒が粗大になるとともに原ガラスの失透傾向が増大
する。PbO成分は、原ガラスの溶融性を改善する成分
であるが、その量が15%を超えると所望の結晶が析出
し難くなる。
【0030】CaO、SrOおよびBaOの各成分は、
ガラスの溶融性の改善、ガラス成形時の部分的乳白色化
の防止、熱膨張曲線に大きな屈曲をもたらすα−クリス
トバライト結晶の過度の析出抑制、および下記に示すP
2O5成分との共存により、熱処理条件による熱膨張係数
の変化を抑制するための重要な成分である。しかし、C
aO、SrOおよびBaO成分の1種または2種以上の
合計量が15%を超えると、所望の結晶析出が困難にな
るとともに、結晶粒径が粗大化して緻密性が低下するの
で、これら成分の含有量は15%までとすべきである。
ガラスの溶融性の改善、ガラス成形時の部分的乳白色化
の防止、熱膨張曲線に大きな屈曲をもたらすα−クリス
トバライト結晶の過度の析出抑制、および下記に示すP
2O5成分との共存により、熱処理条件による熱膨張係数
の変化を抑制するための重要な成分である。しかし、C
aO、SrOおよびBaO成分の1種または2種以上の
合計量が15%を超えると、所望の結晶析出が困難にな
るとともに、結晶粒径が粗大化して緻密性が低下するの
で、これら成分の含有量は15%までとすべきである。
【0031】TiO2成分は、核形成剤として不可欠で
あるが、その合計量が2%未満では所望の結晶を生成さ
せることができず、また、15%を超えると、原ガラス
が不安定になってしまう。B2O3成分は、ガラスの溶融
性を向上する有効な成分であるが、その含有量が10%
を超えると、所望の結晶を析出し難くなるが、望ましく
は、6%未満含有させるのがよい。La2O3、Y2O3、
Gd2O3、Ta2O5、Nb2O5およびWO3 成分は、
製品の硬度と化学的耐久性を改善するのに有効であるの
で、これらの成分の1種または2種以上を合計量で10
%まで含有させることができる。
あるが、その合計量が2%未満では所望の結晶を生成さ
せることができず、また、15%を超えると、原ガラス
が不安定になってしまう。B2O3成分は、ガラスの溶融
性を向上する有効な成分であるが、その含有量が10%
を超えると、所望の結晶を析出し難くなるが、望ましく
は、6%未満含有させるのがよい。La2O3、Y2O3、
Gd2O3、Ta2O5、Nb2O5およびWO3 成分は、
製品の硬度と化学的耐久性を改善するのに有効であるの
で、これらの成分の1種または2種以上を合計量で10
%まで含有させることができる。
【0032】ZrO2、P2O5およびSnO2 成分は、
核形成剤としてそれぞれ4%、5%および2%まで、補
助的に使用し得る。しかし、ZrO2、P2O5およびS
nO2成分の1種または2種以上の合計量が7%を超え
ると、所望の結晶析出が困難になるとともに、結晶粒径
が粗大化して緻密性が低下するので、これら成分の含有
量は15%までとすべきである。As2O3およびSb2
O3成分は、ガラス溶融の際の清澄剤として添加し得る
が、これらの1種または2種の合計量は2%以下で十分
である。また、上記金属酸化物の1種または2種以上の
金属元素の弗化物を含有させると、結晶化の調整等に有
効であるが、その量がFの合計量として5%を超える
と、ガラスが不安定になり、所望の結晶が得られない。
核形成剤としてそれぞれ4%、5%および2%まで、補
助的に使用し得る。しかし、ZrO2、P2O5およびS
nO2成分の1種または2種以上の合計量が7%を超え
ると、所望の結晶析出が困難になるとともに、結晶粒径
が粗大化して緻密性が低下するので、これら成分の含有
量は15%までとすべきである。As2O3およびSb2
O3成分は、ガラス溶融の際の清澄剤として添加し得る
が、これらの1種または2種の合計量は2%以下で十分
である。また、上記金属酸化物の1種または2種以上の
金属元素の弗化物を含有させると、結晶化の調整等に有
効であるが、その量がFの合計量として5%を超える
と、ガラスが不安定になり、所望の結晶が得られない。
【0033】本発明の請求項7記載の磁気ディスク用着
色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前
提とし、SiO2−Al2O3−Li2O系のガラスの他の
構成成分が以下の通りであることを特徴としている。重
量百分率で、SiO2 50〜61%、P2O5 0〜7
%、Al2O3 20〜27%、ただし、重量比で Al
2O3/(SiO2+P2O5)=0.38〜0.50、Li2O
3〜6%、MgO 0.6〜5%、BaO 0.5〜5
%、ZnO0.3〜5%、ただし、MgO+BaO+Zn
O 3〜10%、TiO2 1〜5%、ZrO2 1〜5
%、As2O3+Sb2O3 0〜2% からなるガラスを
熱処理することにより得られ、主結晶としてβ−石英固
溶体を有し、 熱膨張係数(α×10-7/℃)が−10
〜+10の範囲にあり、結晶化ガラス材料の内部および
製造ロット材料間において熱処理条件による熱膨張係数
の変化量が極めて小さく、かつ改善された均質性と透明
性を有するところにある。ここで、上記β−石英は、β
−石英およびこれに極似の構造を有するβ−ユークリプ
タイト(Li2O・Al2O3・2SiO2(ただし、Li
2OはMgOおよびZnOと置換可能))の総称であ
る。
色結晶化ガラスは、前記着色成分を含有させることを前
提とし、SiO2−Al2O3−Li2O系のガラスの他の
構成成分が以下の通りであることを特徴としている。重
量百分率で、SiO2 50〜61%、P2O5 0〜7
%、Al2O3 20〜27%、ただし、重量比で Al
2O3/(SiO2+P2O5)=0.38〜0.50、Li2O
3〜6%、MgO 0.6〜5%、BaO 0.5〜5
%、ZnO0.3〜5%、ただし、MgO+BaO+Zn
O 3〜10%、TiO2 1〜5%、ZrO2 1〜5
%、As2O3+Sb2O3 0〜2% からなるガラスを
熱処理することにより得られ、主結晶としてβ−石英固
溶体を有し、 熱膨張係数(α×10-7/℃)が−10
〜+10の範囲にあり、結晶化ガラス材料の内部および
製造ロット材料間において熱処理条件による熱膨張係数
の変化量が極めて小さく、かつ改善された均質性と透明
性を有するところにある。ここで、上記β−石英は、β
−石英およびこれに極似の構造を有するβ−ユークリプ
タイト(Li2O・Al2O3・2SiO2(ただし、Li
2OはMgOおよびZnOと置換可能))の総称であ
る。
【0034】請求項7の磁気ディスク用結晶化ガラスの
組成範囲を上記のように限定した理由は以下の通りであ
る。すなわち、SiO2成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶として、β−石英固溶体の結晶を生成する成
分であるが、その量が50%未満では、得られる結晶化
ガラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化し透明性が悪
化し、また、61%を超えると原ガラスの溶融清澄が困
難となり、製品の光学的均質性が悪化する。
組成範囲を上記のように限定した理由は以下の通りであ
る。すなわち、SiO2成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶として、β−石英固溶体の結晶を生成する成
分であるが、その量が50%未満では、得られる結晶化
ガラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化し透明性が悪
化し、また、61%を超えると原ガラスの溶融清澄が困
難となり、製品の光学的均質性が悪化する。
【0035】P2O5成分は、SiO2成分の一部と置換
することにより、得られる結晶化ガラスの熱膨張曲線の
屈曲性を小さくし、かつ原ガラスの溶融性を向上させる
効果を有するが、その量が7%を超えると材料の結晶粒
径が粗大となり、著しく透明性が悪化する。Al2O3成
分は、その量が20%未満では原ガラスの溶融が困難と
なり、均質で乳白色のない製品を得難くなる。また、2
7%を超えるとやはり原ガラスの溶融性が困難となり、
均質な製品を得難くなる。ただし、SiO2とP2O5成
分の合計量に対するAl2O3成分の重量比は、後述のM
gO、BaOおよびZnOの三成分の共存とともに、得
られる結晶化ガラスの熱処理条件によるα値の変動を抑
制するため、0.38〜0.50の範囲にする必要があ
る。なお、この重量比が0.38未満では原ガラスの溶
融性も悪化し、また0.50を超えると原ガラスの安定
性も悪化して、製品の均質性を損ね易くなる。
することにより、得られる結晶化ガラスの熱膨張曲線の
屈曲性を小さくし、かつ原ガラスの溶融性を向上させる
効果を有するが、その量が7%を超えると材料の結晶粒
径が粗大となり、著しく透明性が悪化する。Al2O3成
分は、その量が20%未満では原ガラスの溶融が困難と
なり、均質で乳白色のない製品を得難くなる。また、2
7%を超えるとやはり原ガラスの溶融性が困難となり、
均質な製品を得難くなる。ただし、SiO2とP2O5成
分の合計量に対するAl2O3成分の重量比は、後述のM
gO、BaOおよびZnOの三成分の共存とともに、得
られる結晶化ガラスの熱処理条件によるα値の変動を抑
制するため、0.38〜0.50の範囲にする必要があ
る。なお、この重量比が0.38未満では原ガラスの溶
融性も悪化し、また0.50を超えると原ガラスの安定
性も悪化して、製品の均質性を損ね易くなる。
【0036】Li2O成分は、SiO2およびAl2O3成
分とともにβ−石英の構成要素となる重要成分である
が、その量が3%未満の場合には、原ガラスの溶融性の
悪化にともない製品の均質性が劣化し、また所要量の微
細な結晶を析出し難くなる。また6%を超えると結晶粒
径が粗大となり製品の透明性が著しく悪化する。
分とともにβ−石英の構成要素となる重要成分である
が、その量が3%未満の場合には、原ガラスの溶融性の
悪化にともない製品の均質性が劣化し、また所要量の微
細な結晶を析出し難くなる。また6%を超えると結晶粒
径が粗大となり製品の透明性が著しく悪化する。
【0037】上記請求項7に係る結晶化ガラスにおい
て、上記Al2O3/(SiO2+P2O5)重量比とあいま
ってMgO、BaO、ZnOの三成分は、これらを共存
させることにより、製品の低膨張特性を維持し、熱処理
条件による熱膨張係数の変動を抑制し、また透明性を低
下させることなく、原ガラスの溶融性改善にともなう製
品の均質性を著しく向上させることを見い出した重要な
成分である。しかし、MgO成分は、その量が0.6%
未満では上記効果が得られず、また5%を超えると製品
中に所要の結晶相を析出し難くなり、また透明性が劣化
し易くなる。BaO成分は、その量が0.5%未満では
上記効果が得られず、また5%を超えると原ガラスの溶
融性および耐失透性がともに悪化し、製品の均質性が損
なわれ易くなる。ZnO成分は、その量が0.3%未満
では上記効果が得られず、また5%を超えると原ガラス
の耐失透性がともに悪化し、製品の均質性が損なわれ易
くなり、また製品の結晶相が変化するほか透明性も劣化
する。これら三成分の合計量が3%未満では上記効果が
得られず、また10%を超えると製品中の結晶相が変化
し熱膨張係数が過大になり易くなる。
て、上記Al2O3/(SiO2+P2O5)重量比とあいま
ってMgO、BaO、ZnOの三成分は、これらを共存
させることにより、製品の低膨張特性を維持し、熱処理
条件による熱膨張係数の変動を抑制し、また透明性を低
下させることなく、原ガラスの溶融性改善にともなう製
品の均質性を著しく向上させることを見い出した重要な
成分である。しかし、MgO成分は、その量が0.6%
未満では上記効果が得られず、また5%を超えると製品
中に所要の結晶相を析出し難くなり、また透明性が劣化
し易くなる。BaO成分は、その量が0.5%未満では
上記効果が得られず、また5%を超えると原ガラスの溶
融性および耐失透性がともに悪化し、製品の均質性が損
なわれ易くなる。ZnO成分は、その量が0.3%未満
では上記効果が得られず、また5%を超えると原ガラス
の耐失透性がともに悪化し、製品の均質性が損なわれ易
くなり、また製品の結晶相が変化するほか透明性も劣化
する。これら三成分の合計量が3%未満では上記効果が
得られず、また10%を超えると製品中の結晶相が変化
し熱膨張係数が過大になり易くなる。
【0038】TiO2およびZrO2成分は、いずれも核
形成剤として不可欠であるが、これらの量がそれぞれ1
%未満では所望の結晶を生成させることができず、また
それぞれ5%を超えると製品の透明性が劣化し、原ガラ
スの耐失透性が悪化し、製品の均質性が損なわれる。A
s2O3およびSb2O3成分は、ガラス溶融の際の清澄剤
として添加し得るが、これらの1種または2種の合計量
は2%以下で十分である。
形成剤として不可欠であるが、これらの量がそれぞれ1
%未満では所望の結晶を生成させることができず、また
それぞれ5%を超えると製品の透明性が劣化し、原ガラ
スの耐失透性が悪化し、製品の均質性が損なわれる。A
s2O3およびSb2O3成分は、ガラス溶融の際の清澄剤
として添加し得るが、これらの1種または2種の合計量
は2%以下で十分である。
【0039】
【実施例】次に、本発明の磁気ディスク用着色結晶化ガ
ラスの好適な実施例を示す。表1ないし表3は本発明に
係る磁気ディスク用着色結晶化ガラスの各実施例(N
o.1〜No.11)の成分の組成を、表4は従来のSi
O2−Li2O系結晶化ガラスの比較組成例を、それぞれ
これらの結晶化ガラスの外観の色、反射率、マンセル明
度、欠陥判別の容易性、主結晶相の種類とともに示した
ものである。なお、各実施例および比較例の結晶化条件
は下記の通りである。 (1)核形成条件(温度×時間) 実施例 No.1、2、7、8、9、10、11:540
℃×5hr 実施例 No.3、4:700℃×2hr 実施例 No.5、6:700℃×10hr 比較例:540℃×5hr (2)結晶化条件(温度×時間) 実施例 No.1、2、7、8、9、10、11:740
℃×2hr 実施例 No.3、4:850℃×4hr 実施例 No.5、6:850℃×10hr 比較例:740℃×2hr
ラスの好適な実施例を示す。表1ないし表3は本発明に
係る磁気ディスク用着色結晶化ガラスの各実施例(N
o.1〜No.11)の成分の組成を、表4は従来のSi
O2−Li2O系結晶化ガラスの比較組成例を、それぞれ
これらの結晶化ガラスの外観の色、反射率、マンセル明
度、欠陥判別の容易性、主結晶相の種類とともに示した
ものである。なお、各実施例および比較例の結晶化条件
は下記の通りである。 (1)核形成条件(温度×時間) 実施例 No.1、2、7、8、9、10、11:540
℃×5hr 実施例 No.3、4:700℃×2hr 実施例 No.5、6:700℃×10hr 比較例:540℃×5hr (2)結晶化条件(温度×時間) 実施例 No.1、2、7、8、9、10、11:740
℃×2hr 実施例 No.3、4:850℃×4hr 実施例 No.5、6:850℃×10hr 比較例:740℃×2hr
【0040】本実施例のNo.1〜No.11の結晶化ガ
ラスは、全て、V2O5、CuO、MnO2、Cr2O3、
CoO、MoO3、NiO、Fe2O3、TeO2、CeO
2、Pr2O3、Nd2O3、Er2O3等の金属酸化物から
なる群より選択された少なくとも1成分を、重量百分率
で、0.5〜5%含有するとともに、この含有によって
マンセル明度が1〜7の範囲に設定されており、さら
に、結晶化ガラスの主要構成成分が、SiO2−Li
2O、SiO2−Al2O3−Li2O、SiO2−Al2O3
−ZnOのいずれかからなっている。つまり、本実施例
のNo.1〜No.11の結晶化ガラスは、全て上記請求
項1〜3の構成要件を全て満たしている。
ラスは、全て、V2O5、CuO、MnO2、Cr2O3、
CoO、MoO3、NiO、Fe2O3、TeO2、CeO
2、Pr2O3、Nd2O3、Er2O3等の金属酸化物から
なる群より選択された少なくとも1成分を、重量百分率
で、0.5〜5%含有するとともに、この含有によって
マンセル明度が1〜7の範囲に設定されており、さら
に、結晶化ガラスの主要構成成分が、SiO2−Li
2O、SiO2−Al2O3−Li2O、SiO2−Al2O3
−ZnOのいずれかからなっている。つまり、本実施例
のNo.1〜No.11の結晶化ガラスは、全て上記請求
項1〜3の構成要件を全て満たしている。
【0041】また、請求項4の構成要件を満たす実施例
は、No.2、No.8、No.9およびNo.11、請求
項5の構成要件を満たす実施例は、No.1、No.7お
よびNo10、請求項6の構成要件を満たす実施例は、
No.3およびNo.4、請求項7の構成要件を満たす実
施例は、No.5およびNo.6にそれぞれ示すものであ
る。なお、表1ないし表4において、主結晶相を示す欄
に記載のLi2Si2O5は、二珪酸リチウム(Li2O・
2SiO2)を、ZnAl2O4は、ガーナイト(ZnO
・Al2O3)を、β−Qssは、β−石英固溶体をそれ
ぞれ示す。また、欠陥判別の欄に記載の◎は、判別が非
常に容易であること、○は判別が容易であること、×は
判別が困難であることを示す。
は、No.2、No.8、No.9およびNo.11、請求
項5の構成要件を満たす実施例は、No.1、No.7お
よびNo10、請求項6の構成要件を満たす実施例は、
No.3およびNo.4、請求項7の構成要件を満たす実
施例は、No.5およびNo.6にそれぞれ示すものであ
る。なお、表1ないし表4において、主結晶相を示す欄
に記載のLi2Si2O5は、二珪酸リチウム(Li2O・
2SiO2)を、ZnAl2O4は、ガーナイト(ZnO
・Al2O3)を、β−Qssは、β−石英固溶体をそれ
ぞれ示す。また、欠陥判別の欄に記載の◎は、判別が非
常に容易であること、○は判別が容易であること、×は
判別が困難であることを示す。
【0042】表1ないし表4から明らかなように、本実
施例のNo.1〜No.11の結晶化ガラスは、前記着色
成分が含有されて、それぞれ所定の色を呈し、マンセル
明度が1〜7の範囲内に設定され、欠陥判別が容易であ
ることが判る。また、比較例の結晶化ガラスは、前記着
色成分が含有されていないので、白色または透明であ
り、マンセル明度が9または表示できないので、欠陥判
別が困難であることが判る。
施例のNo.1〜No.11の結晶化ガラスは、前記着色
成分が含有されて、それぞれ所定の色を呈し、マンセル
明度が1〜7の範囲内に設定され、欠陥判別が容易であ
ることが判る。また、比較例の結晶化ガラスは、前記着
色成分が含有されていないので、白色または透明であ
り、マンセル明度が9または表示できないので、欠陥判
別が困難であることが判る。
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【0043】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項1
の磁気ディスク用着色結晶化ガラスは、CIEの表色系
でマンセル明度が0〜7の範囲の色視感を有するもので
あるので、ガラス基板上の欠陥と、正常(良好)な周辺
部とで、反射光または散乱光に明瞭な差が生じるので、
欠陥を容易に識別することができる。したがって、目視
による検査が非常に容易になって、検査者への負担軽減
や検査ミス等を防止できるのは勿論のこと、レーザ光等
による識別も容易であるので、欠陥有無の検査の自動化
を容易に図ることができる。
の磁気ディスク用着色結晶化ガラスは、CIEの表色系
でマンセル明度が0〜7の範囲の色視感を有するもので
あるので、ガラス基板上の欠陥と、正常(良好)な周辺
部とで、反射光または散乱光に明瞭な差が生じるので、
欠陥を容易に識別することができる。したがって、目視
による検査が非常に容易になって、検査者への負担軽減
や検査ミス等を防止できるのは勿論のこと、レーザ光等
による識別も容易であるので、欠陥有無の検査の自動化
を容易に図ることができる。
【0044】請求項2の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、ガラス中の着色成分として、V、Cu、Mn、C
r、Co、Mo、Ni、Fe、Te、Ce、Pr、N
d、Erの金属酸化物からなる群より選択された少なく
とも1成分を、重量百分率で、0.5〜5%含有させた
ものであるので、結晶化ガラスの色視感をマンセル明度
で0〜7の範囲に確実に設定することができる。
スは、ガラス中の着色成分として、V、Cu、Mn、C
r、Co、Mo、Ni、Fe、Te、Ce、Pr、N
d、Erの金属酸化物からなる群より選択された少なく
とも1成分を、重量百分率で、0.5〜5%含有させた
ものであるので、結晶化ガラスの色視感をマンセル明度
で0〜7の範囲に確実に設定することができる。
【0045】請求項3の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、前記着成分を含有させる結晶化ガラスの主要構成
成分が、SiO2−Li2O、SiO2−Al2O3−Li2
O、SiO2−Al2O3−ZnOのいずれかからなるも
のであるので、これらの主要構成成分を有する結晶化ガ
ラスをマンセル明度で0〜7の範囲の色視感に着色する
ことができる。
スは、前記着成分を含有させる結晶化ガラスの主要構成
成分が、SiO2−Li2O、SiO2−Al2O3−Li2
O、SiO2−Al2O3−ZnOのいずれかからなるも
のであるので、これらの主要構成成分を有する結晶化ガ
ラスをマンセル明度で0〜7の範囲の色視感に着色する
ことができる。
【0046】請求項4の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、適切な硬度と緻密、均質な組織を有し、所望の熱膨
張係数を設定でき、しかも熱処理温度による熱膨張係数
の変化を小さくすることができる。
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、適切な硬度と緻密、均質な組織を有し、所望の熱膨
張係数を設定でき、しかも熱処理温度による熱膨張係数
の変化を小さくすることができる。
【0047】請求項5の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Li2O−RO(ただし、ROはMgO、
ZnOおよびPbOである)系のガラスを熱処理して得
られるものであるから、α−クオーツ(SiO2)の成
長結晶粒子(二次粒子)が球状粒子構造を有し、熱処理
による結晶粒子サイズの制御ができ、研磨して成る表面
粗度が所望範囲の値を有するので、磁気ディスク用基板
として好適に使用することができる。
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Li2O−RO(ただし、ROはMgO、
ZnOおよびPbOである)系のガラスを熱処理して得
られるものであるから、α−クオーツ(SiO2)の成
長結晶粒子(二次粒子)が球状粒子構造を有し、熱処理
による結晶粒子サイズの制御ができ、研磨して成る表面
粗度が所望範囲の値を有するので、磁気ディスク用基板
として好適に使用することができる。
【0048】請求項6の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Al2O3−ZnO系のガラスを熱処理し
て得られるものであるから、耐磨耗性および高い機械的
強度を有するので、磁気ディスク用基板として好適に使
用することができる。。
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Al2O3−ZnO系のガラスを熱処理し
て得られるものであるから、耐磨耗性および高い機械的
強度を有するので、磁気ディスク用基板として好適に使
用することができる。。
【0049】請求項7の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Al2O3−Li2O系のガラスを熱処理し
て得られるものであるから、低膨張特性を有するので磁
気ディスク用基板として好適に使用することができる。
スは、マンセル明度を0〜7の範囲の色視感に設定し
て、欠陥を容易に識別することができるのは勿論のこ
と、SiO2−Al2O3−Li2O系のガラスを熱処理し
て得られるものであるから、低膨張特性を有するので磁
気ディスク用基板として好適に使用することができる。
Claims (7)
- 【請求項1】 CIEの表色系でマンセル明度が0〜7
の範囲の色視感を有することを特徴とする磁気ディスク
用着色結晶化ガラス。 - 【請求項2】 ガラス中の着色成分として、V、Cu、
Mn、Cr、Co、Mo、Ni、Fe、Te、Ce、P
r、Nd、Erの金属酸化物からなる群より選択された
少なくとも1成分を、重量百分率で、0.5〜5%含有
することを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用着
色結晶化ガラス。 - 【請求項3】 結晶化ガラスの主要構成成分が、SiO
2−Li2O、SiO2−Al2O3−Li2O、SiO2−
Al2O3−ZnOのいずれかからなることを特徴とする
請求項2記載の磁気ディスク用着色結晶化ガラス。 - 【請求項4】 重量百分率で、SiO2 60〜87
%、Li2O 5〜15%、Na2O 0〜1%、K2O
0〜10%、MgO 0〜7.5%、CaO0〜9.5
%、SrO 0〜15%、BaO 0〜13%、ただ
し、MgO+CaO+SrO+BaO 0.5%以上、Zn
O 0〜13%、B2O3 0〜10%、Al2O3 0〜
10%、P2O5 0.5〜8%、TiO20〜5%、Zr
O2 0〜3%、SnO2 0〜3%、As2O3+Sb2O
3 0〜2%、および上記金属酸化物の1種または2種
以上の金属元素の弗化物をFの合計量として、0〜5%
からなることを特徴とする請求項2記載の磁気ディス
ク用着色結晶化ガラス。 - 【請求項5】 重量百分率で、SiO2 65〜83
%、Li2O 8〜13%、K2O 0〜7%、MgO
0.5〜5.5%、ZnO 0〜5%、PbO0〜5%、
ただし、MgO+ZnO+PbO 0.5〜5.5%、P2
O5 1〜4%、Al2O3 0〜7%、As2O3+Sb2
O3 0〜2% からなるガラスを熱処理することによ
り得られたガラスの主結晶相が二珪酸リチウム(Li2
O・2SiO2)およびα−クオーツ(SiO2)である
ことを特徴とする請求項2記載の磁気ディスク用着色結
晶化ガラス。 - 【請求項6】 重量百分率で、SiO2 30〜65
%、Al2O3 5〜25%、ZnO 8〜40%、Mg
O 2〜20%、PbO 0〜15%、CaO+SrO+
BaO 0〜15%、TiO2 2〜15%、B2O3
0〜10%、La2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb
2O5+WO3 0〜10%、ZrO2+P2O5+SnO2 0
〜7%、ただし、ZrO2 0〜4%、P2O5 0〜5
%、SnO2 0〜2%、As2O3+Sb2O3 0〜2
%、および上記金属酸化物の1種または2種以上の金属
元素の弗化物をFの合計量として、0〜5% からなる
ガラスを熱処理することにより得られた結晶化ガラスの
主結晶相がガーナイト(ZnO・Al2O3)であること
を特徴とする請求項2記載の磁気ディスク用着色結晶化
ガラス。 - 【請求項7】 重量百分率で、SiO2 50〜61
%、P2O5 0〜7%、Al2O3 20〜27%、ただ
し、重量比で Al2O3/(SiO2+P2O5)=0.38
〜0.50、Li2O 3〜6%、MgO 0.6〜5
%、BaO 0.5〜5%、ZnO 0.3〜5%、ただ
し、MgO+BaO+ZnO 3〜10%、TiO2 1
〜5%、ZrO2 1〜5%、As2O3+Sb2O3 0〜
2% からなるガラスを熱処理することにより得られた
結晶化ガラスの主結晶がβ−石英固溶体であることを特
徴とする請求項2記載の磁気ディスク用着色結晶化ガラ
ス。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5309306A JP2959363B2 (ja) | 1993-12-09 | 1993-12-09 | 磁気ディスク用着色結晶化ガラス |
| US08/296,369 US5580363A (en) | 1993-12-09 | 1994-08-25 | Method for detecting a defect in a glass-ceramic for magnetic disks |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5309306A JP2959363B2 (ja) | 1993-12-09 | 1993-12-09 | 磁気ディスク用着色結晶化ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157331A true JPH07157331A (ja) | 1995-06-20 |
| JP2959363B2 JP2959363B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=17991425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5309306A Expired - Fee Related JP2959363B2 (ja) | 1993-12-09 | 1993-12-09 | 磁気ディスク用着色結晶化ガラス |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5580363A (ja) |
| JP (1) | JP2959363B2 (ja) |
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| JP4337176B2 (ja) | 1999-07-06 | 2009-09-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| JP4265036B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP4265035B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP4284763B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-06-24 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| JP2001026446A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4207316B2 (ja) | 1999-07-14 | 2009-01-14 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026445A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026451A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026452A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026456A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026458A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026440A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026454A (ja) | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273623B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287934A (ja) | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
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| US5580363A (en) | 1996-12-03 |
| JP2959363B2 (ja) | 1999-10-06 |
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