JPH07168004A

JPH07168004A - 反射防止膜の形成方法

Info

Publication number: JPH07168004A
Application number: JP5293501A
Authority: JP
Inventors: Satoru Miyashita; 悟宮下
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1993-11-24
Filing date: 1993-11-24
Publication date: 1995-07-04

Abstract

(57)【要約】【目的】透明性基材の表面に量産効果の高い方法で信
頼性の高い反射防止膜を形成することにより、視認性の
高く透過率の高い光学デバイスを安価で提供する。【構成】少なくとも以下の工程を一つ以上用いること
で達成される。（１）透明性基材の表面に表面活性化処理を行なう工
程。（２）透明性基材の表面にシリコン化合物を反応させて
カップリング化合物層を形成する工程。（３）少なくとも重合性含フッ素有機化合物のモノマ
ー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解した含フッ素
有機溶液を、透明性基材の表面に０．０５μｍから１μ
ｍの間の規定の膜厚になるように塗布し、加熱、紫外線
照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ含フッ素高
分子薄膜を形成する工程。（４）透明性基材の表面に含フッ素高分子薄膜を形成し
た後、電子線照射により重合の促進及び含フッ素高分子
の架橋を行ない、薄膜を硬化させる工程。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は透明電極基板、保護板、
偏光板、防眩フィルム等の透明性基材の反射防止に関
し、液晶表示装置やペン入力装置等の光学デバイスの視
認性向上に利用できる。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置やペン入力装置等に用いら
れる透明電極基板、保護板、偏光板、防眩フィルム等の
透明性基材は、その片面で５％程度の反射が発生し、視
認性の低下や透過率の低下を引き起こしている。減反射
コーティングとしては、フッ化マグネシウム等の低屈折
率材料を蒸着する方法や、屈折率の異なる多層膜を蒸着
で形成することが知られ、眼鏡レンズなどで実用化され
ている。しかし、蒸着法はスループットが良くない高価
な真空装置を必要とするため特に大きな面積を必要とす
る用途のためには、非常に高価なものとなってしまうと
いう問題があった。

【０００３】そこで低屈折材料である透明性フッ素樹脂
を溶媒に溶かして塗布し、反射防止膜を形成する方法が
提示されている（特開平３−１７０９０１、特開平４−
６３２８３、特開平４−８１７５６など）。大面積の基
材に対し連続的な反射防止膜の形成が可能なため、大幅
なコストダウンが期待された。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、実際に透明性
基材に透明性フッ素樹脂を塗布してみると、基材との密
着力の弱いこと、表面硬度の低いことから、剥離や傷が
発生し易く信頼性の点で課題があった。素材としての強
度が発現する１μｍ以上の膜厚では、光学特性に影響を
与え、反射率の増加、干渉色による色付き、膜厚の不均
一性に起因する色むらのため視認性の低下が発生した。

【０００５】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところは透明性基材の表面に量
産効果が高く、しかも実用に耐えるだけの信頼性を備え
た反射防止膜の形成方法を提供することにより、視認性
の高く透過率の高い光学デバイスを安価で達成するとこ
ろにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的は、少なくとも
以下の工程を一つ以上用いることで達成される。

【０００７】（１）透明性基材の表面に表面活性化処理
を行なう工程。

【０００８】（２）透明性基材の表面にシリコン化合物
を反応させてカップリング化合物層を形成する工程。

【０００９】（３）少なくとも重合性含フッ素有機化合
物のモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解し
た含フッ素有機溶液を、透明性基材の表面に０．０５μ
ｍから１μｍの間の規定の膜厚になるように塗布し、加
熱、紫外線照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ
含フッ素高分子薄膜を形成する工程。

【００１０】（４）透明性基材の表面に含フッ素高分子
薄膜を形成した後、電子線照射により重合の促進及び含
フッ素高分子の架橋を行ない、薄膜を硬化させる工程。

【００１１】

【作用】透明性基材と含フッ素高分子薄膜との密着性を
向上させるためには、基材の表面エネルギーを高くする
ことが有効である。コロナ放電、酸素プラズマまたはオ
ゾン曝露、紫外線照射、酸またはアルカリ洗浄、研磨剤
による粗面化等の表面活性化処理により、表面に付着し
た汚れを除去し、極性の高い反応基を高密度で透明性基
材表面に付与することができる。基材の種類や表面活性
化処理方法、保存環境にも依存するが、表面エネルギー
は時間の経過と共に減少していく。通常の塗膜材料であ
れば、成膜時に基材の活性化処理がなされていれば密着
強度は初期の特性を維持するが、分子間相互作用の極端
に弱い含フッ素高分子薄膜の場合、時間の経過と共に密
着強度が減少していくことがある。

【００１２】そのような場合透明性基材の表面にシリコ
ン化合物を反応させて、カップリング化合物層を形成す
ることが有効である。アミノシラン等の基材との反応性
が高く、極性基を有した化合物を反応させると、基材の
表面エネルギーを高く保つことができる。前もって透明
性基材を表面活性化処理しておくと、シリコン化合物の
結合密度が更に高くなり、より好ましい。

【００１３】また、あらかじめ重合させた含フッ素高分
子を溶媒に溶かして塗布するより、重合性含フッ素有機
化合物のモノマーやオリゴマーを塗布し、透明性基材の
表面で加熱、紫外線照射、電子線照射等の方法で重合さ
せた方が密着強度は強くなる。含フッ素有機溶剤に溶解
する含フッ素シリコン化合物を添加して塗布液とする
と、基材との密着力は化学結合を介すため、密着力は更
に強くなり、経時劣化がなくなる。前もって透明性基材
を表面活性化処理したり、カップリング化合物層を形成
しておくと結合密度が更に高くなり、より好ましい。

【００１４】次に含フッ素高分子薄膜の表面硬度を高め
る方法であるが、溶媒に可溶の透明性含フッ素高分子
で、鉛筆硬度Ｈ以上の材料は未だ報告されていない。そ
のため重合性含フッ素有機化合物のモノマーやオリゴマ
ーを溶媒に溶かして塗布し、透明性基材の表面で加熱、
紫外線照射、電子線照射等の方法で重合させ、不溶の透
明性含フッ素高分子薄膜を形成する。普通に反射防止効
果を得るために用いられる膜厚は、（光の波長）÷４÷
（膜の屈折率）の奇数倍で求められ、可能性としては
０．０５μｍから１μｍの間となる。しかし、膜厚が厚
くなるほど反射率の波長依存性が高くなり、視認性を考
慮すると０．１μｍ程度の膜厚で表面硬度を達成する必
要がある。この膜厚では、重合が十分に進まず素材とし
ての強度が発現しない。

【００１５】そこで、透明性基材の表面に含フッ素高分
子薄膜を形成した後、電子線照射により重合の促進及び
含フッ素高分子の架橋を行ない、薄膜を硬化させること
が有効である。溶媒可溶性の含フッ素高分子であって
も、架橋により硬化は推進される。電子線の透過能力は
材料の厚みに伴って急激に減少するため、本発明のよう
に対象物が薄膜の場合、加速電圧がさほど高くなくとも
効果が大きく量産に適している。反応開始剤や反応性官
能基は不用であるが、高分子の種類により、電子線照射
で架橋するものと崩壊するものがあるため、置換基のα
位がプロトンとなることなど材料の選定が必要となる。

【００１６】

【実施例】

（実施例１〜７）表面をハードコート処理した、透明な
アクリル製の基板を用意した。まず、低圧水銀ランプの
光を照射して、表面活性化処理を行なった。水との接触
角は、７０度から２０度に低下し、効果を確認した。更
に、次にシリコン化合物であるアミノシラン（ＳＨ６０
２０、トーレシリコーン社製）の０．５重量％水溶液に
２分間浸漬し、水洗した後６０℃で乾燥しカップリング
化合物層を形成した。重合性のモノマーであるパーフル
オロアルキルアクリラートと反応開始剤を、トリフルオ
ロメチルベンゼンに溶解し、前処理を施した透明なアク
リル製の基板両面に、ディップ法を用いて塗布した。高
圧水銀ランプの光を照射してモノマーを重合し膜厚０．
１μｍ、屈折率１．３９の含フッ素高分子薄膜を形成し
た。全線透過率は９０％から９６％になり、減反射効果
を確認できた。更に窒素雰囲気中、アクリル製の基板表
面に電子線を３０キロボルトの加速電圧で照射し、反射
防止膜を硬化させた。赤外吸収スペクトル分析で、残存
二重結合は極微量であり、重合が進んでいることが確認
できた。また鉛筆硬度で２Ｈ有り、フッ素系の溶媒にも
溶解せず、三次元架橋が進んでいることが示唆された。

【００１７】このようにして反射防止膜を形成した、透
明なアクリル製基板の模式的な断面の拡大図を図１に示
す。図１において、１はアクリル製基板、２がカップリ
ング化合物層、３が含フッ素高分子薄膜である。このア
クリル製基板を切断し、ポケット液晶テレビの前面保護
板として用いたところ、表面反射の少ない明るく見やす
いディスプレイを実現できた。

【００１８】反射防止膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても
傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アルカ
リ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかった。
信頼性を確認するため５０℃、９０％ＲＨで１０００時
間の高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は発生
せず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５℃、
６０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められなかっ
た。２００００ラングレイの日光暴露試験においても、
異常は認められなかった。液晶テレビの前面保護板を試
みに指で触れてみたが、指紋は付きにくく、付いた指紋
も容易に拭き取ることができた。また、汚れが激しい場
合でも、中性洗剤や市販の眼鏡クリナー等でクリーニン
グすることにより、初期の特性に回復させることができ
た。屋外使用も含めた、ポータブルユースに適した液晶
表示装置を提供できた。

【００１９】実施例として、以上述べてきた工程を一部
割愛した場合の信頼性特性の概要を表１に示す。工程を
１つでも用いることで、信頼性の向上が計られた。表１
において○は実用可能レベル、△は条件付実用レベル、
×は実用不能レベルをそれぞれ示す。

【００２０】

【表１】

【００２１】（実施例８〜１３）片面にＩＴＯ透明電極
をスパッタしたガラス基板を用意した。このガラス基板
をオゾンガスに曝し、表面活性化処理を行なった。ＩＴ
Ｏ面の水との接触角は、６０度から１０度に低下し、効
果を確認した。次にシリコン化合物であるγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランの１重量％エタノール
溶液に２分間浸漬し、８０℃で乾燥しカップリング化合
物層を形成した。重合性のオリゴマーであるフルオロア
ルキルシロキサンの一部の分子末端をエポキシ基で置換
し、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンに溶解し、前
処理を施した透明電極付ガラス基板両面に、ディップ法
を用いて塗布した。１５０℃で２時間加熱し、オリゴマ
ーを重合し膜厚０．３μｍ、屈折率１．３８の含フッ素
高分子薄膜を形成した。全線透過率は８５％から９６％
になり、減反射効果を確認できた。更に窒素雰囲気中、
ガラス基板表面に電子線を３０キロボルトの加速電圧で
照射し、反射防止膜を硬化させた。赤外吸収スペクトル
分析で、残存エポキシ基は極微量であり、重合が進んで
いることが確認できた。また鉛筆硬度で３Ｈ有り、フッ
素系の溶媒にも溶解せず、三次元架橋が進んでいること
が示唆された。

【００２２】このようにして反射防止膜を形成した透明
電極付ガラス基板を切断し、静電容量方式のタッチパネ
ルに用いたところ、透明度が高く、外光の反射が少なく
認識しやすいタッチパネルが達成できた。含フッ素高分
子層が形成されていても、静電容量方式のタッチパネル
として、全く問題なく位置検出することができた。また
２Ｈの鉛筆では、表面に傷をつけることができなかっ
た。液晶表示装置とタッチパネルを組み合せたところ、
表示表面における輝度は、従来の５０カンデラから５５
カンデラ以上に向上した。面内の輝度分布もほとんど観
察されず、明るく見栄えの良い情報入出力装置を達成で
きた。

【００２３】反射防止膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても
傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アルカ
リ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかった。
信頼性を確認するため５０℃、９０％ＲＨで１０００時
間の高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は発生
せず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５℃、
６０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められなかっ
た。２００００ラングレイの日光暴露試験においても、
異常は認められなかった。タッチパネル表面を試みに指
で触れてみたが、指紋は付きにくく、付いた指紋も容易
に拭き取ることができた。また、汚れが激しい場合で
も、中性洗剤や市販の眼鏡クリナー等でクリーニングす
ることにより、初期の特性に回復させることができた。

【００２４】実施例として、以上述べてきた工程を一部
割愛した場合の信頼性特性の概要を表２に示す。工程を
１つでも用いることで、信頼性の向上が計られた。

【００２５】

【表２】

【００２６】（実施例１４〜１６）アクリル樹脂中にシ
リカ粒子が分散したHaze１５％のアンチグレア層を持つ
偏光板を用意した。まず、２０キロボルトの電圧をかけ
てコロナ放電させている電極間に偏光板を通過させ、表
面活性化処理を行なった。水との接触角は、８０度から
１５度に低下し、効果を確認した。含フッ素有機溶剤で
あるフロリナートＦＣ−４０（住友スリーエム社製）に
可溶性含フッ素高分子である「テフロンＡＦ１６００」
（デュポン社製）を濃度１．５重量％、含フッ素シリコ
ン化合物であるビス−（２−（パーフルオロヘプチル）
エチル）−ブチル−アミノシランを０．０５重量％溶か
した溶液を、前処理を施した偏光板表面に、ロールコー
ト法を用いて塗布した。６０℃で２時間加熱し、膜厚
０．７μｍ、屈折率１．３１の含フッ素高分子薄膜を形
成した。表面の平均反射率は４．５％から１．３％にな
り、減反射効果を確認できた。また曇度はHaze１５％の
ままで、アンチグレア効果は維持されていた。更に窒素
雰囲気中、偏光板表面に電子線を２０キロボルトの加速
電圧で照射し、反射防止膜を硬化させた。鉛筆硬度でＨ
有り、フッ素系の溶媒にも溶解せず、三次元架橋が進ん
でいることが示唆された。

【００２７】このようにして反射防止膜を形成した偏光
板を切断し、パーソナルコンピューター端末の液晶ディ
スプレイに用いたところ、外光の映り込みのない、明る
く見やすいディスプレイを実現できた。

【００２８】反射防止膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを２００ｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させて
も傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アル
カリ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかっ
た。信頼性を確認するため５０℃、９０％ＲＨで１００
０時間の高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は
発生せず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５
℃、６０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められな
かった。２００００ラングレイの日光暴露試験において
も、異常は認められなかった。表示面の偏光板を試みに
指で触れてみたが、指紋は付きにくく、付いた指紋も容
易に拭き取ることができた。また、汚れが激しい場合で
も、中性洗剤や市販の眼鏡クリナー等でクリーニングす
ることにより、初期の特性に回復させることができた。

【００２９】実施例として、以上述べてきた工程を一部
割愛した場合の信頼性特性の概要を表３に示す。工程を
１つでも用いることで、信頼性の向上が計られた。

【００３０】

【表３】

【００３１】（実施例１７〜１９）アクリル樹脂中にシ
リカ粒子が分散したHaze５％のアンチグレア層を持つ防
眩フィルムを用意した。まず、アルミナの研磨用粉末を
表面に吹き付け、５重量％の水酸化カリウム水溶液で洗
浄し、表面活性化処理を行なった。水との接触角は、８
０度から２５度に低下し、効果を確認した。更に、次に
シリコン化合物であるアミノシラン（サイラエースＳ３
３０、チッソ社製）の１重量％エタノール溶液に２分間
浸漬し、水洗した後６０℃で乾燥しカップリング化合物
層を形成した。重合性のモノマーであるフルオロアルキ
ルアクリラートを、トリフルオロメチルベンゼンに溶解
し、前処理を施した防眩フィルム表面に、ロールコート
法を用いて塗布した。窒素雰囲気中、偏光板表面に電子
線を３０キロボルトの加速電圧で照射し、膜厚０．１μ
ｍ、屈折率１．３８の含フッ素高分子薄膜を形成した。
表面の平均反射率は４．５％から１．５％になり、減反
射効果を確認できた。また曇度はHaze５％のままで、ア
ンチグレア効果は維持されていた。反射防止膜は鉛筆硬
度で２Ｈ有り、フッ素系の溶媒にも溶解せず、三次元架
橋が進んでいることが示唆された。

【００３２】このようにして反射防止膜を形成した防眩
フィルムを切断し、ポケット液晶テレビの表面に接着剤
を介して貼り付けたところ、外光の映り込みのない、明
るく見やすいディスプレイを実現できた。

【００３３】反射防止膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても
傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アルカ
リ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかった。
信頼性を確認するため５０℃、９０％ＲＨで１０００時
間の高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は発生
せず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５℃、
６０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められなかっ
た。２００００ラングレイの日光暴露試験においても、
異常は認められなかった。表示面の偏光板を試みに指で
触れてみたが、指紋は付きにくく、付いた指紋も容易に
拭き取ることができた。また、汚れが激しい場合でも、
中性洗剤や市販の眼鏡クリナー等でクリーニングするこ
とにより、初期の特性に回復させることができた。屋外
使用も含めた、ポータブルユースに適した液晶表示装置
を提供できた。

【００３４】実施例として、以上述べてきた工程を一部
割愛した場合の信頼性特性の概要を表４に示す。工程を
１つでも用いることで、信頼性の向上が計られた。

【００３５】

【表４】

【００３６】以上実施例を挙げて述べてきたが、重合性
含フッ素有機化合物やシリコン化合物などは既知物質が
各種存在し、本発明の反射防止膜の形成方法において
は、使用材料はなんら限定されるものではない。

【００３７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば透明
性基材の表面に量産効果が高く、しかも実用に耐えるだ
けの信頼性を備えた反射防止膜の形成方法を提供するこ
とにより、視認性の高く透過率の高い光学デバイスを安
価で達成することができた。

【００３８】本発明の方法で反射防止を施した透明電極
基板、保護板、偏光板、防眩フィルム等の透明性基材を
用いた液晶表示装置やペン入力装置は、部品構成上は全
く従来と変わらないため、本発明の導入により即座に大
きな視認性の向上を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１におけるアクリル製基板の
模式的な断面の拡大図である。

【符号の説明】

１‥‥‥‥‥アクリル製基板２‥‥‥‥‥カップリング化合物層３‥‥‥‥‥含フッ素高分子薄膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明性基材の表面に表面活性化処理を行
なった後、含フッ素高分子薄膜を形成することを特徴と
する反射防止膜の形成方法。
【請求項２】透明性基材の表面の表面活性化処理がコ
ロナ放電、酸素プラズマまたはオゾン曝露、紫外線照
射、酸またはアルカリ洗浄、研磨剤による粗面化いずれ
かまたは複数の処理であることを特徴とする請求項１記
載の反射防止膜の形成方法。
【請求項３】透明性基材の表面にシリコン化合物を反
応させてカップリング化合物層を形成した後、含フッ素
高分子薄膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形
成方法。
【請求項４】少なくとも重合性含フッ素有機化合物の
モノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解した含
フッ素有機溶液を、透明性基材の表面に０．０５μｍか
ら１μｍの間の規定の膜厚になるように塗布し、加熱、
紫外線照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ含フ
ッ素高分子薄膜を形成することを特徴とする反射防止膜
の形成方法。
【請求項５】重合性含フッ素有機化合物のモノマー、
オリゴマー、あるいはポリマーを含フッ素有機溶剤に溶
解し、更に反応開始剤または含フッ素シリコン化合物を
添加して塗布液とすることを特徴とする請求項４記載の
反射防止膜の形成方法。
【請求項６】透明性基材の表面に含フッ素高分子薄膜
を形成した後、電子線照射により重合の促進及び含フッ
素高分子の架橋を行ない、薄膜を硬化させることを特徴
とする反射防止膜の形成方法。
【請求項７】透明性基材の表面に表面活性化処理を行
ない、更に該透明性基材の表面にシリコン化合物を反応
させ、カップリング化合物層を形成した後、含フッ素高
分子薄膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成
方法。
【請求項８】透明性基材の表面に表面活性化処理を行
ない、少なくとも重合性含フッ素有機化合物のモノマ
ー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解した含フッ素
有機溶液を、該透明性基材の表面に０．０５μｍから１
μｍの間の規定の膜厚になるように塗布し、加熱、紫外
線照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ含フッ素
高分子薄膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形
成方法。
【請求項９】透明性基材の表面に表面活性化処理を行
なった後、該透明性基材の表面に含フッ素高分子薄膜を
形成し、更に電子線照射により重合の促進及び含フッ素
高分子の架橋を行ない、薄膜を硬化させることを特徴と
する反射防止膜の形成方法。
【請求項１０】透明性基材の表面にシリコン化合物を
反応させてカップリング化合物層を形成し、少なくとも
重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、あ
るいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、該透明
性基材の表面に０．０５μｍから１μｍの間の規定の膜
厚になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射
いずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成す
ることを特徴とする反射防止膜の形成方法。
【請求項１１】透明性基材の表面にシリコン化合物を
反応させてカップリング化合物層を形成した後、該透明
性基材の表面に含フッ素高分子薄膜を形成し、更に電子
線照射により重合の促進及び含フッ素高分子の架橋を行
ない、薄膜を硬化させることを特徴とする反射防止膜の
形成方法。
【請求項１２】少なくとも重合性含フッ素有機化合物
のモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解した
含フッ素有機溶液を、透明性基材の表面に０．０５μｍ
から１μｍの間の規定の膜厚になるように塗布し、加
熱、紫外線照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ
含フッ素高分子薄膜を形成し、更に電子線照射により重
合の促進及び含フッ素高分子の架橋を行ない、薄膜を硬
化させることを特徴とする反射防止膜の形成方法。
【請求項１３】透明性基材の表面に表面活性化処理を
行ない、更に該透明性基材の表面にシリコン化合物を反
応させてカップリング化合物層を形成した後、少なくと
も重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、
あるいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、該透
明性基材の表面に０．０５μｍから１μｍの間の規定の
膜厚になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照
射いずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成
することを特徴とする反射防止膜の形成方法。
【請求項１４】透明性基材の表面に表面活性化処理を
行ない、更に該透明性基材の表面にシリコン化合物を反
応させてカップリング化合物層を形成した後、該透明性
基材の表面に含フッ素高分子薄膜を形成し、更に電子線
照射により重合の促進及び含フッ素高分子の架橋を行な
い、薄膜を硬化させることを特徴とする反射防止膜の形
成方法。
【請求項１５】透明性基材の表面にシリコン化合物を
反応させてカップリング化合物層を形成し、少なくとも
重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、あ
るいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、該透明
性基材の表面に０．０５μｍから１μｍの間の規定の膜
厚になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射
いずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成
し、更に電子線照射により重合の促進及び含フッ素高分
子の架橋を行ない、薄膜を硬化させることを特徴とする
反射防止膜の形成方法。
【請求項１６】透明性基材の表面にシリコン化合物を
反応させてカップリング化合物層を形成し、少なくとも
重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、あ
るいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、透明性
基材の表面に０．０５μｍから１μｍの間の規定の膜厚
になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射い
ずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成し、
更に電子線照射により重合の促進及び含フッ素高分子の
架橋を行ない、薄膜を硬化させることを特徴とする反射
防止膜の形成方法。
【請求項１７】透明性基材の表面に表面活性化処理を
行ない、更に該透明性基材の表面にシリコン化合物を反
応させてカップリング化合物層を形成した後、少なくと
も重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、
あるいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、透明
性基材の表面に０．０５μｍから１μｍの間の規定の膜
厚になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射
いずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成
し、更に電子線照射により重合の促進及び含フッ素高分
子の架橋を行ない、薄膜を硬化させることを特徴とする
反射防止膜の形成方法。