JPH07168345A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルInfo
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- JPH07168345A JPH07168345A JP31191393A JP31191393A JPH07168345A JP H07168345 A JPH07168345 A JP H07168345A JP 31191393 A JP31191393 A JP 31191393A JP 31191393 A JP31191393 A JP 31191393A JP H07168345 A JPH07168345 A JP H07168345A
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- pellicle
- film
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- pellicle film
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明はペリクル膜が接着剤によってペリク
ル枠に強固に接着されているにも拘わらず、ペリクル膜
にシワや歪みが発生することのないリソグラフィー用ペ
リクルの提供を目的とするものである。 【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ポリ
マーからなるペリクル膜をポリマーからなる接着剤を用
いてペリクル枠に接着してなるリソグラフィー用ペリク
ルにおいて、この接着剤をそのガラス転移温度がペリク
ル膜のガラス転移温度よりも低いものとしてなることを
特徴とするものである。
ル枠に強固に接着されているにも拘わらず、ペリクル膜
にシワや歪みが発生することのないリソグラフィー用ペ
リクルの提供を目的とするものである。 【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ポリ
マーからなるペリクル膜をポリマーからなる接着剤を用
いてペリクル枠に接着してなるリソグラフィー用ペリク
ルにおいて、この接着剤をそのガラス転移温度がペリク
ル膜のガラス転移温度よりも低いものとしてなることを
特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はリソグラフィー用ペリク
ル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
る。
ル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。このため、これらの作業は通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の
表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方式が行なわれている。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。このため、これらの作業は通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の
表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方式が行なわれている。
【０００３】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜をアルミ
ニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリク
ル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接
着する（特開昭 58-219023号公報参照）か、アクリル樹
脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許第 4
・861・402号明細書、特公昭 63-27,707号公報参照）、さ
らにはペリクル枠の下部には露光原版が装着されるため
に、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹
脂などからなる粘着層、および粘着層の保護を目的とし
た離型層（セパレーター）で構成されている。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜をアルミ
ニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリク
ル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接
着する（特開昭 58-219023号公報参照）か、アクリル樹
脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許第 4
・861・402号明細書、特公昭 63-27,707号公報参照）、さ
らにはペリクル枠の下部には露光原版が装着されるため
に、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹
脂などからなる粘着層、および粘着層の保護を目的とし
た離型層（セパレーター）で構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この、ペリクル構成物
の中では、ペリクル膜およびペリクル枠に膜を固着させ
る接着剤がリソグラフィー時に直接露光光源に曝される
ために、耐久性が特に重要であり、この接着剤について
は数ミクロンの超薄膜を枠に常時張った状態で接着させ
ておくことが必要とされることから、ペリクルの性能に
大きな影響を与えるものである。しかし、従来使用され
ているアクリル系接着剤やエポキシ系接着剤では接着強
度が不充分であったり、接着面積が一定せず、シワも発
生するために信頼性に欠けるものであり、さらにこれら
の接着剤は露光光源による光劣化が激しく、ある程度使
用すると接着剤が固化、分解してこれがゴミ発生源とな
ったり、ペリクル膜の張力変化で膜が剥離したり、亀裂
を起すという欠点がある。また、ペリクル膜の材質とし
てフッ素化ポリマーを用いた場合、フッ素化ポリマーは
離型性にすぐれているためにアクリル系接着剤やエポキ
シ系接着剤では実用的な接着力を得ることが不可能であ
る。
の中では、ペリクル膜およびペリクル枠に膜を固着させ
る接着剤がリソグラフィー時に直接露光光源に曝される
ために、耐久性が特に重要であり、この接着剤について
は数ミクロンの超薄膜を枠に常時張った状態で接着させ
ておくことが必要とされることから、ペリクルの性能に
大きな影響を与えるものである。しかし、従来使用され
ているアクリル系接着剤やエポキシ系接着剤では接着強
度が不充分であったり、接着面積が一定せず、シワも発
生するために信頼性に欠けるものであり、さらにこれら
の接着剤は露光光源による光劣化が激しく、ある程度使
用すると接着剤が固化、分解してこれがゴミ発生源とな
ったり、ペリクル膜の張力変化で膜が剥離したり、亀裂
を起すという欠点がある。また、ペリクル膜の材質とし
てフッ素化ポリマーを用いた場合、フッ素化ポリマーは
離型性にすぐれているためにアクリル系接着剤やエポキ
シ系接着剤では実用的な接着力を得ることが不可能であ
る。
【０００５】そのため、本発明者らはさきにフッ素化ポ
リマーからなるペリクル膜の接着をこれと同一または類
似の構造を有するフッ素系有機物からなる接着剤を用い
て、ガラス転移温度付近またはそれ以上に加熱するとペ
リクル膜と接着剤が強固に接着することを見出した（特
願平4-245827号、特願平 5-75671号明細書参照）が、こ
の方法でペリクル膜とフレーム枠とを接触するときに、
十分な接着強度を得るためにこれをポリマーのガラス転
移温度に加熱すると、膜自体にシワや歪みなどが発生し
やすく、この発生を防止するために加熱温度をガラス転
移温度とすると接着強度が不十分なものになるという不
利の生ずることが判った。
リマーからなるペリクル膜の接着をこれと同一または類
似の構造を有するフッ素系有機物からなる接着剤を用い
て、ガラス転移温度付近またはそれ以上に加熱するとペ
リクル膜と接着剤が強固に接着することを見出した（特
願平4-245827号、特願平 5-75671号明細書参照）が、こ
の方法でペリクル膜とフレーム枠とを接触するときに、
十分な接着強度を得るためにこれをポリマーのガラス転
移温度に加熱すると、膜自体にシワや歪みなどが発生し
やすく、この発生を防止するために加熱温度をガラス転
移温度とすると接着強度が不十分なものになるという不
利の生ずることが判った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決したリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
り、これはポリマーからなるペリクル膜をポリマーから
なる接着剤を用いてペリクル枠に接着してなるリソグラ
フィー用ペリクルにおいて、この接着剤をそのガラス転
移温度がペリクル膜のガラス転移温度より低いものとし
てなることを特徴とするものである。
を解決したリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
り、これはポリマーからなるペリクル膜をポリマーから
なる接着剤を用いてペリクル枠に接着してなるリソグラ
フィー用ペリクルにおいて、この接着剤をそのガラス転
移温度がペリクル膜のガラス転移温度より低いものとし
てなることを特徴とするものである。
【０００７】すなわち、本発明者らは前記したような不
利を伴なわないリソグラフィー用ペリクルを開発すべく
種々検討した結果、ペリクル膜接着用の接着剤としてペ
リクル類と同一か、もしくは類似のポリマーでそのガラ
ス転移温度がペリクル膜材料のガラス転移温度よりも低
いものを使用すれば、この接着剤をそのガラス転移温度
以上に加熱してもこれがペリクル膜のガラス転移温度以
上にはならないので、ペリクル膜にシワや歪みが発生せ
ずにこれを強固に接着させることができるということを
見出し、このペリクル膜と接着剤のガラス転移温度差、
このペリクル膜と接着剤の種類などについての研究を進
めて本発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述す
る。
利を伴なわないリソグラフィー用ペリクルを開発すべく
種々検討した結果、ペリクル膜接着用の接着剤としてペ
リクル類と同一か、もしくは類似のポリマーでそのガラ
ス転移温度がペリクル膜材料のガラス転移温度よりも低
いものを使用すれば、この接着剤をそのガラス転移温度
以上に加熱してもこれがペリクル膜のガラス転移温度以
上にはならないので、ペリクル膜にシワや歪みが発生せ
ずにこれを強固に接着させることができるということを
見出し、このペリクル膜と接着剤のガラス転移温度差、
このペリクル膜と接着剤の種類などについての研究を進
めて本発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述す
る。
【０００８】
【作用】本発明はリソグラフィー用ペリクルに関するも
のであり、これはポリマーからなるペリクル膜をポリマ
ーからなる接着剤を用いてペリクル枠に接着してなるリ
ソグラフィー用ペリクルにおいて、この接着剤をそのガ
ラス転移温度がペリクル膜のガラス転移温度よりも低い
ものとしてなることを特徴とするものであるが、これに
よればこの接着剤に十分な接着強度を与えるためにその
ガラス転移温度以上に加熱しても、これはペリクル膜の
ガラス転移温度以下となるので、ペリクル膜にシワや歪
みが発生することなしで、これをペリクル枠に強固に接
着させることができるという有利性が与えられる。
のであり、これはポリマーからなるペリクル膜をポリマ
ーからなる接着剤を用いてペリクル枠に接着してなるリ
ソグラフィー用ペリクルにおいて、この接着剤をそのガ
ラス転移温度がペリクル膜のガラス転移温度よりも低い
ものとしてなることを特徴とするものであるが、これに
よればこの接着剤に十分な接着強度を与えるためにその
ガラス転移温度以上に加熱しても、これはペリクル膜の
ガラス転移温度以下となるので、ペリクル膜にシワや歪
みが発生することなしで、これをペリクル枠に強固に接
着させることができるという有利性が与えられる。
【０００９】本発明のリソグラフィー用ペリクルはポリ
マーからなるペリクル膜をポリマーからなる接着剤を用
いてペリクル枠に接着したものである。このポリマーか
らなるペリクル膜を構成する膜材料としてはニトロセル
ロース、酢酸セルロース、ポリトリメチルビニルシラン
（特開平2-230245号公報参照）、プルラン化合物（特開
平3-210561号公報参照）、テトラフルオロエチレンとフ
ッ化ビニリデンとの共重合体、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレンおよびフッ化ビニリデン
との三元共重合体、テトラフルオロエチレンと環状パー
フルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの共重
合体などの非晶性フッ素系重合体（特開平4-104155号公
報参照）、シリコーン変性ポリビニルアルコール（特開
昭4-241351号公報参照）などが例示されるが、これには
短波長から長波領域で広く使用することができ、耐光性
も優れていることから非晶質フッ素重合体からなるもの
とすることが好ましい。
マーからなるペリクル膜をポリマーからなる接着剤を用
いてペリクル枠に接着したものである。このポリマーか
らなるペリクル膜を構成する膜材料としてはニトロセル
ロース、酢酸セルロース、ポリトリメチルビニルシラン
（特開平2-230245号公報参照）、プルラン化合物（特開
平3-210561号公報参照）、テトラフルオロエチレンとフ
ッ化ビニリデンとの共重合体、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレンおよびフッ化ビニリデン
との三元共重合体、テトラフルオロエチレンと環状パー
フルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの共重
合体などの非晶性フッ素系重合体（特開平4-104155号公
報参照）、シリコーン変性ポリビニルアルコール（特開
昭4-241351号公報参照）などが例示されるが、これには
短波長から長波領域で広く使用することができ、耐光性
も優れていることから非晶質フッ素重合体からなるもの
とすることが好ましい。
【００１０】なお、これらの膜材料からペリクル膜を得
るためには、公知の方法にしたがってこれらの膜材料を
溶剤を用いて３〜10％の濃度に溶解したのち、この溶液
をスピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キャス
ター法でシリコン基板やガラス基板の上に成膜すること
によって得ることができるが、この膜の厚さは機械的強
度と透過率とのかね合いから 0.1〜10μｍ、好ましくは
0.5〜５μｍとすればよい。また、このペリクル膜につ
いては実用的な面から光の透過率が95％以上、より好ま
しくは98％以上のものとすることがよいが、この透過率
は膜の厚みと透過光の波長に依存するので目安としては
厚さが５μｍ以上のものについては波長が 210〜 500nm
の光の透過率が90％以上のものとすることが必要とされ
る。なお、このペリクル膜はその膜面にMgF2やCaF2のよ
うな反射防止膜を設けて透過率を向上させたり、ペリク
ル内面に粘着剤を塗布してペリクル内部に付着している
ゴミを捕捉固定できるようにしてもよい。
るためには、公知の方法にしたがってこれらの膜材料を
溶剤を用いて３〜10％の濃度に溶解したのち、この溶液
をスピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キャス
ター法でシリコン基板やガラス基板の上に成膜すること
によって得ることができるが、この膜の厚さは機械的強
度と透過率とのかね合いから 0.1〜10μｍ、好ましくは
0.5〜５μｍとすればよい。また、このペリクル膜につ
いては実用的な面から光の透過率が95％以上、より好ま
しくは98％以上のものとすることがよいが、この透過率
は膜の厚みと透過光の波長に依存するので目安としては
厚さが５μｍ以上のものについては波長が 210〜 500nm
の光の透過率が90％以上のものとすることが必要とされ
る。なお、このペリクル膜はその膜面にMgF2やCaF2のよ
うな反射防止膜を設けて透過率を向上させたり、ペリク
ル内面に粘着剤を塗布してペリクル内部に付着している
ゴミを捕捉固定できるようにしてもよい。
【００１１】また、ここに使用されるポリマーからなる
接着剤としては、公知のアクリル系、ポリブテン系、ポ
リウレタン系、セルロース系、シリコーン系、フッ素
系、ゴム系などの接着剤が例示されるが、このペリクル
膜が上記の非晶質フッ素系重合体から作られたものとさ
れるときには、相溶性の点で優れたこのペリクル膜材料
と同一の、または類似の非晶質フッ素系重合体を用いる
ことが望ましい。非晶質フッ素系重合体を接着剤として
用いるときは、これをフッ素系溶剤に溶解して作成した
フッ素系の接着剤とすることが好ましい。
接着剤としては、公知のアクリル系、ポリブテン系、ポ
リウレタン系、セルロース系、シリコーン系、フッ素
系、ゴム系などの接着剤が例示されるが、このペリクル
膜が上記の非晶質フッ素系重合体から作られたものとさ
れるときには、相溶性の点で優れたこのペリクル膜材料
と同一の、または類似の非晶質フッ素系重合体を用いる
ことが望ましい。非晶質フッ素系重合体を接着剤として
用いるときは、これをフッ素系溶剤に溶解して作成した
フッ素系の接着剤とすることが好ましい。
【００１２】本発明のリソグラフィー用ペリクルは前記
したポリマーからなるペリクル膜を上記したポリマーか
らなる接着剤を用いて、ペリクル枠にシワのないように
接着させ、さらにペリクル枠の下部に粘着剤、セパレー
ターを取りつけることによって構成されるが、このペリ
クル膜を接着するときにはこれを十分な接着強度で接着
させることが必要とされることから、これはここに使用
される接着剤のガラス転移温度以上にまで加熱する必要
がある。
したポリマーからなるペリクル膜を上記したポリマーか
らなる接着剤を用いて、ペリクル枠にシワのないように
接着させ、さらにペリクル枠の下部に粘着剤、セパレー
ターを取りつけることによって構成されるが、このペリ
クル膜を接着するときにはこれを十分な接着強度で接着
させることが必要とされることから、これはここに使用
される接着剤のガラス転移温度以上にまで加熱する必要
がある。
【００１３】しかし、この接着剤のガラス転移温度とペ
リクル膜のガラス転移温度を比較したときに、接着剤の
ガラス転移温度のほうがペリクル膜のガラス転移温度よ
り高いものであると、ペリクル膜の接着が接着剤のガラ
ス転移温度以上で行なわれ、結果においてこの温度がペ
リクル膜のガラス転移温度以上となり、ペリクル膜にシ
ワや歪みが発生し、ペリクル膜の使用に難点が生ずるこ
とになるので、本発明ではこの接着剤はそのガラス転移
温度がペリクル膜のガラス転移温度よりも低いものとさ
れる。
リクル膜のガラス転移温度を比較したときに、接着剤の
ガラス転移温度のほうがペリクル膜のガラス転移温度よ
り高いものであると、ペリクル膜の接着が接着剤のガラ
ス転移温度以上で行なわれ、結果においてこの温度がペ
リクル膜のガラス転移温度以上となり、ペリクル膜にシ
ワや歪みが発生し、ペリクル膜の使用に難点が生ずるこ
とになるので、本発明ではこの接着剤はそのガラス転移
温度がペリクル膜のガラス転移温度よりも低いものとさ
れる。
【００１４】すなわち、本発明はペリクル膜をペリクル
枠に接着させるための接着剤をそのガラス転移温度がペ
リクル膜のガラス転移温度よりも低いものとするもので
あるが、この転移温度の比較は実用上、接着剤のガラス
転移温度がペリクル膜のガラス転移温度より少なくとも
５℃以上、好ましくは20℃以上低いものとすることがよ
く、これによれば接着温度をその接着強度を大きくする
ために接着剤のガラス転移温度以上としても、ペリクル
膜の温度がそのガラス転移温度以上となることがないの
で、ペリクル膜はシワや歪みのないものとして強く接着
させることができるという有利性が与えられる。
枠に接着させるための接着剤をそのガラス転移温度がペ
リクル膜のガラス転移温度よりも低いものとするもので
あるが、この転移温度の比較は実用上、接着剤のガラス
転移温度がペリクル膜のガラス転移温度より少なくとも
５℃以上、好ましくは20℃以上低いものとすることがよ
く、これによれば接着温度をその接着強度を大きくする
ために接着剤のガラス転移温度以上としても、ペリクル
膜の温度がそのガラス転移温度以上となることがないの
で、ペリクル膜はシワや歪みのないものとして強く接着
させることができるという有利性が与えられる。
【００１５】
【実施例】つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例１ テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃［旭硝子（株）製商
品名］をその溶剤CTsolv 180［旭硝子（株）製商品名］
に溶解し、濃度５％の溶液を調製した。ついで、この溶
液を用いて直径 200mm、厚さ３mmの表面研摩した石英基
板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84μｍの透明
膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリクル膜を形
成した。
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃［旭硝子（株）製商
品名］をその溶剤CTsolv 180［旭硝子（株）製商品名］
に溶解し、濃度５％の溶液を調製した。ついで、この溶
液を用いて直径 200mm、厚さ３mmの表面研摩した石英基
板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84μｍの透明
膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリクル膜を形
成した。
【００１６】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、ガラス転移温度69℃
［旭硝子（株）製商品名］を溶剤CTsolv 180（前出）に
溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を塗布し、 1
50℃で１時間乾燥して厚みが 0.2mmの接着剤層を形成さ
せたのち、これにペリクル膜を貼合わせ、このアルミニ
ウムフレームをホットプレートで95℃に加熱して加熱接
触し、余分な膜を取り除いた。つぎに、このペリクル膜
とアルミニウムフレーム間の接着強度の目安として、膜
の中央部を指でゆっくり押したところ、膜が破壊するま
で押してもペリクル膜とアルミニウムフレーム間で剥離
が起こらず強固に接着していることが確認され、またこ
のペリクル膜は経時変化で膜が剥離したり、シワが発生
したりすることもなかった。
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、ガラス転移温度69℃
［旭硝子（株）製商品名］を溶剤CTsolv 180（前出）に
溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を塗布し、 1
50℃で１時間乾燥して厚みが 0.2mmの接着剤層を形成さ
せたのち、これにペリクル膜を貼合わせ、このアルミニ
ウムフレームをホットプレートで95℃に加熱して加熱接
触し、余分な膜を取り除いた。つぎに、このペリクル膜
とアルミニウムフレーム間の接着強度の目安として、膜
の中央部を指でゆっくり押したところ、膜が破壊するま
で押してもペリクル膜とアルミニウムフレーム間で剥離
が起こらず強固に接着していることが確認され、またこ
のペリクル膜は経時変化で膜が剥離したり、シワが発生
したりすることもなかった。
【００１７】実施例２ テトラフルオロエチレンとパーフルオロ（２，２−ジメ
チル−１，３−ジオキソール）の共重合体、テフロンＡ
Ｆ1600、ガラス転移温度 160℃［米国デュポン社製商品
名］をその溶剤フロリナートＦＣ−75［住友スリーエム
（株）製商品名］に溶解し、濃度３％の溶液を調製し
た。ついで、この溶液を用いて直径 200mm、厚さ３mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成した。
チル−１，３−ジオキソール）の共重合体、テフロンＡ
Ｆ1600、ガラス転移温度 160℃［米国デュポン社製商品
名］をその溶剤フロリナートＦＣ−75［住友スリーエム
（株）製商品名］に溶解し、濃度３％の溶液を調製し
た。ついで、この溶液を用いて直径 200mm、厚さ３mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成した。
【００１８】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤CTsolv
180（前出）に溶解した濃度10％フッ素ポリマー接着剤
を塗布し、 150℃で３時間乾燥して厚みが 0.2mmの接着
剤層を形成させたのち、これに前記のペリクル膜を貼合
わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで 1
20℃に加熱して加熱接触し、ついで余分な膜を取り除い
た。つぎにこのペリクル膜とアルミニウムフレーム間の
接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押し
たところ、膜が破壊するまで押してもペリクル膜とアル
ミニウムフレーム間で剥離が起こらず強固に接着してい
ることが確認され、またこのペリクル膜は張力変化で膜
が剥離したり、シワが発生したりすることもなかった。
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤CTsolv
180（前出）に溶解した濃度10％フッ素ポリマー接着剤
を塗布し、 150℃で３時間乾燥して厚みが 0.2mmの接着
剤層を形成させたのち、これに前記のペリクル膜を貼合
わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで 1
20℃に加熱して加熱接触し、ついで余分な膜を取り除い
た。つぎにこのペリクル膜とアルミニウムフレーム間の
接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押し
たところ、膜が破壊するまで押してもペリクル膜とアル
ミニウムフレーム間で剥離が起こらず強固に接着してい
ることが確認され、またこのペリクル膜は張力変化で膜
が剥離したり、シワが発生したりすることもなかった。
【００１９】実施例３ ガラス転移温度が 100℃であるプロピオン酸セルロース
を溶剤としての２−ブタノンに溶解して濃度５％の溶液
を調製し、この溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板上にスピンコーターを用いて膜厚が 1.4μ
ｍの透明膜として形成させ、 150℃で20分間乾燥してペ
リクル膜を形成した。ついで、アルマイト処理をした 1
20mm角のアルミニウムフレームからなるペリクル枠の上
面に、接着剤としての酢酸セルロース（ガラス転移温度
60℃）またはエチルセルロース（ガラス転移温度60℃）
を２−ブタノンに溶解した濃度20％の接着剤溶液を塗布
し、 150℃で20分間乾燥して厚みが 0.2mmの接着剤層を
形成したのち、これに上記で得たペリクル膜を貼合わ
せ、このアルミニウムフレームをホットプレートで90℃
に加熱してこれらを加熱接着させ、余分の膜を取り除い
た。
を溶剤としての２−ブタノンに溶解して濃度５％の溶液
を調製し、この溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板上にスピンコーターを用いて膜厚が 1.4μ
ｍの透明膜として形成させ、 150℃で20分間乾燥してペ
リクル膜を形成した。ついで、アルマイト処理をした 1
20mm角のアルミニウムフレームからなるペリクル枠の上
面に、接着剤としての酢酸セルロース（ガラス転移温度
60℃）またはエチルセルロース（ガラス転移温度60℃）
を２−ブタノンに溶解した濃度20％の接着剤溶液を塗布
し、 150℃で20分間乾燥して厚みが 0.2mmの接着剤層を
形成したのち、これに上記で得たペリクル膜を貼合わ
せ、このアルミニウムフレームをホットプレートで90℃
に加熱してこれらを加熱接着させ、余分の膜を取り除い
た。
【００２０】つぎに、このペリクル膜とアルミニウムフ
レーム間の接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆ
っくりと押したところ、膜が破壊するまで押してもペリ
クル膜とアルミニウムフレーム間では剥離が起こらず、
これは強固に接着していることが確認されたし、このペ
リクル膜には経時変化で膜が剥離したり、シワの発生す
ることもなかった。
レーム間の接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆ
っくりと押したところ、膜が破壊するまで押してもペリ
クル膜とアルミニウムフレーム間では剥離が起こらず、
これは強固に接着していることが確認されたし、このペ
リクル膜には経時変化で膜が剥離したり、シワの発生す
ることもなかった。
【００２１】比較例１ テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤
CTsolv 180（前出）に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84
μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリ
クル膜を形成した。
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤
CTsolv 180（前出）に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84
μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリ
クル膜を形成した。
【００２２】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）を溶剤CTsolv 180
（前出）に溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を
塗布し、 150℃で１時間乾燥して厚さが 0.2mmの接着剤
層を形成させたのち、これに前記したペリクル膜を貼合
わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで95
℃に加熱してこれらを加熱接触し、余分の膜を取り除い
た。つぎに、このペリクル膜とアルミニウムフレーム間
の接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押
したところ、このものはペリクル膜とアルミニウムフレ
ームとの間で容易に剥離が起こり、接着強度が不十分で
あることが判明した。
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）を溶剤CTsolv 180
（前出）に溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を
塗布し、 150℃で１時間乾燥して厚さが 0.2mmの接着剤
層を形成させたのち、これに前記したペリクル膜を貼合
わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで95
℃に加熱してこれらを加熱接触し、余分の膜を取り除い
た。つぎに、このペリクル膜とアルミニウムフレーム間
の接着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押
したところ、このものはペリクル膜とアルミニウムフレ
ームとの間で容易に剥離が起こり、接着強度が不十分で
あることが判明した。
【００２３】比較例２ テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤
CTsolv 180（前出）に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84
μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリ
クル膜を形成した。
を有する含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴ
ＸＳタイプ、ガラス転移温度 108℃（前出）をその溶剤
CTsolv 180（前出）に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨
した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜厚が0.84
μｍの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥してペリ
クル膜を形成した。
【００２４】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）を溶剤CTsolv 180
（前出）に溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を
塗布し、 150℃で１時間乾燥し、これにペリクル膜を貼
合わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで
110℃に加熱して加熱接着し、余分な膜を取り除いた。
つぎに、このペリクル膜とアルミニウムフレーム間の接
着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押した
ところ、膜が破壊するまで押してもペリクル膜とアルミ
ニウムフレーム間で剥離が起こらず強固に接着している
ことが判明したが、しかし、このものはペリクル膜とア
ルミニウムフレームぞいのペリクル膜に膜のシワや歪み
が多数発生していた。
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＡタ
イプ、ガラス転移温度 108℃（前出）を溶剤CTsolv 180
（前出）に溶解した10％濃度のフッ素ポリマー接着剤を
塗布し、 150℃で１時間乾燥し、これにペリクル膜を貼
合わせ、このアルミニウムフレームをホットプレートで
110℃に加熱して加熱接着し、余分な膜を取り除いた。
つぎに、このペリクル膜とアルミニウムフレーム間の接
着強度の目安として、膜の中央部を指でゆっくり押した
ところ、膜が破壊するまで押してもペリクル膜とアルミ
ニウムフレーム間で剥離が起こらず強固に接着している
ことが判明したが、しかし、このものはペリクル膜とア
ルミニウムフレームぞいのペリクル膜に膜のシワや歪み
が多数発生していた。
【００２５】
【発明の効果】本発明はリソグラフィー用ペリクルに関
するものであり、これは前記したようにポリマーからな
るペリクル膜を、それよりもガラス転移温度が低いポリ
マーからなる接着剤でペリクル枠に加熱接着してなるこ
とを特徴とするものであるが、このものは接着剤のガラ
ス転移温度がペリクル膜のガラス転移温度より低いもの
とされているので、この接着強度を向上させるために接
客剤のガラス転移温度以上に加熱しても、ペリクル膜の
温度がそのガラス転移温度以上になることがないので、
これらが強固に接着してもペリクル膜にシワや歪みの発
生することがないという有利性が与えられる。
するものであり、これは前記したようにポリマーからな
るペリクル膜を、それよりもガラス転移温度が低いポリ
マーからなる接着剤でペリクル枠に加熱接着してなるこ
とを特徴とするものであるが、このものは接着剤のガラ
ス転移温度がペリクル膜のガラス転移温度より低いもの
とされているので、この接着強度を向上させるために接
客剤のガラス転移温度以上に加熱しても、ペリクル膜の
温度がそのガラス転移温度以上になることがないので、
これらが強固に接着してもペリクル膜にシワや歪みの発
生することがないという有利性が与えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永田 愛彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 樫田 周 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ポリマーからなるペリクル膜をポリマー
からなる接着剤を用いてペリクル枠に接着してなるリソ
グラフィー用ペリクルにおいて、この接着剤をそのガラ
ス転移温度がペリクル膜のガラス転移温度よりも低いも
のとしてなることを特徴とするリソグラフィー用ペリク
ル。 - 【請求項２】 接着剤のガラス転移温度がペリクル膜の
ガラス転移温度よりも少なくとも５℃低い請求項１に記
載したリソグラフィー用ペリクル。 - 【請求項３】 ペリクル膜と接着剤がいずれも非晶質フ
ッ素系重合体からなるものである請求項１に記載したリ
ソグラフィー用ペリクル。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31191393A JP3089153B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | リソグラフィー用ペリクル |
| TW083111239A TW439017B (en) | 1993-12-13 | 1994-12-02 | Photolithographic pellicle and preparing method thereof |
| KR1019940033988A KR100353659B1 (ko) | 1993-12-13 | 1994-12-13 | 사진석판술에서 포토마스크의 방진 보호용으로 사용되는 프레임 지지된 펠리클 |
| US08/647,140 US5693382A (en) | 1993-12-13 | 1996-05-09 | Frame-supported pellicle for dustproof protection of photomask in photolithography |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31191393A JP3089153B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | リソグラフィー用ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07168345A true JPH07168345A (ja) | 1995-07-04 |
| JP3089153B2 JP3089153B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=18022933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31191393A Expired - Lifetime JP3089153B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | リソグラフィー用ペリクル |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5693382A (ja) |
| JP (1) | JP3089153B2 (ja) |
| KR (1) | KR100353659B1 (ja) |
| TW (1) | TW439017B (ja) |
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| US6639650B2 (en) | 1999-12-21 | 2003-10-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane |
| EP1978404A1 (en) | 2007-04-04 | 2008-10-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
| EP2017671A1 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Lithographic pellicle |
| EP2017673A1 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame |
| EP2017672A2 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame |
| EP2034360A1 (en) | 2007-09-05 | 2009-03-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame |
| EP2120093A1 (en) | 2008-05-14 | 2009-11-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle for use in semiconductor lithography |
| EP2120092A1 (en) | 2008-05-14 | 2009-11-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
| EP2228683A1 (en) | 2009-03-11 | 2010-09-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for Producing Pellicle |
| EP2333607A2 (en) | 2009-11-30 | 2011-06-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle for lithography |
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| US8338060B2 (en) | 2010-01-29 | 2012-12-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle for lithography and method for manufacturing the same |
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-
1993
- 1993-12-13 JP JP31191393A patent/JP3089153B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-12-02 TW TW083111239A patent/TW439017B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-12-13 KR KR1019940033988A patent/KR100353659B1/ko not_active Expired - Lifetime
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1996
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