JPH0717193A - 彫刻機の制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】被彫刻物を一定温度に冷却し、これにより被彫
刻物を硬化させて安定的に固定し、被彫刻物の彫刻加工
を確実に行う。 【構成】被彫刻物を冷却手段により硬化させて固定する
冷却バイスを備えた彫刻機の制御装置であり、彫刻機本
体部の動作のためのパラメータのパラメータ値とそのパ
ラメータ値における被彫刻物の最適温度との関係を記憶
した第一の記憶手段と、彫刻機本体部の現在のパラメー
タ値を記憶する第二の記憶手段と、被彫刻物の温度を検
出する検出手段と、第二の記憶手段に記憶されたパラメ
ータ値における被彫刻物の最適な温度を、第一の記憶手
段から読み出す読み出し手段と、読み出し手段によって
読み出された温度と、検出手段によって検出された温度
とを比較する比較手段と、比較手段の比較結果に基づい
て、読み出し手段によって読み出された温度に等しくな
るように冷却手段を制御する制御手段とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、彫刻機の制御装置に関
し、さらに詳細には、ゴム、熱可塑性樹脂などの被彫刻
物を彫刻加工するための彫刻機の制御装置に関するもの
であり、特に、ゴム印などを彫刻加工する際に用いて好
適な彫刻機の制御装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ゴム、熱可塑性樹脂などの軟性材
料よりなる被彫刻物を彫刻機に固定して、彫刻機により
被彫刻物を彫刻加工してゴム印などを作成する場合にお
いては、彫刻機の彫刻用カッターやドリルなどが被彫刻
物に当接した際に被彫刻物が変形してしまい、被彫刻物
を予め設定した形状に彫刻加工することができないとい
う問題点があった。

【０００３】このため、被彫刻物を冷却して硬化させる
ようにして彫刻機に固定し、彫刻機の彫刻用カッターや
ドリルなどが被彫刻物に当接しても、被彫刻物が変形す
ることがないようにすることが提案されていた。

【０００４】そして、被彫刻物を冷却して硬化させるよ
うにして彫刻機に固定するために、例えば、特公昭６２
−４０１３１号公報ならびに実開平１−７４０３４号公
報に開示されたような冷凍チャック法を用いたり、ある
いはワーク台上の被彫刻物に対して直接的にフロンガス
などの冷媒ガスを吹き付けたりするなどの手段が提案さ
れている。

【０００５】上記特公昭６２−４０１３１号公報に開示
された冷凍チャック方法では、固定すべきワーク（被彫
刻物）を冷凍枠のキャビティ内に収容し、これを液体の
凍結温度以下に冷却した後、上記キャビティ内に液体を
注入し、この液体を凝固させてワークを固定する手段が
採られている。

【０００６】また、上記実開平１−７４０３４号公報に
開示された冷凍チャックは、被彫刻物と液体とを収容す
る凹部を形成した冷凍チャックの内部に冷却媒体を通
し、凹部に収容された液体を凍結させて被彫刻物を固定
するようになされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
公昭６２−４０１３１号公報ならびに実開平１−７４０
３４号公報に示されたような冷凍チャック法にあって
は、冷凍枠のキャビティを冷却する大きな冷凍庫が必要
であったり、冷却媒体を循環させる冷凍装置や配管設備
などが必要であったりするため、設備費が高価にならざ
るを得ないという問題点があった。

【０００８】また、直接的にフロンガスなどの冷媒ガス
を被彫刻物に吹き付ける手段では、冷媒ガスを大量に消
費するためにランニングコストが高価なものとなり、ま
た、コスト節減のために一定のサイクルで冷媒ガスの吹
き付けを行う場合には、彫刻中に被彫刻物の温度が変化
する恐れがあって、温度管理が困難になるとともに、さ
らには、冷媒ガスとしてフロンガスを用いた場合には、
多量のフロンガスを大気中に放出するので環境破壊を引
き起こすなどの問題点が指摘されていた。

【０００９】本発明は、従来技術の有する上記したよう
な種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的
とするところは、設備費やランニングコストを増大する
ことなく、しかも環境破壊を招来することなしに、被彫
刻物を一定温度に冷却することを実現し、これにより被
彫刻物を硬化させて安定的に固定することができるよう
にして、被彫刻物の彫刻加工時における変形を防止し、
予め設定された形状の彫刻加工を確実に行うことができ
るようにした彫刻機の制御装置を提供しようとするもの
である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明における彫刻機の制御装置は、ベースと、上
記ベースの上面に配設されたテーブルと、上記ベースよ
り立設された支柱部と、上記支柱部に装着された主軸ヘ
ッドとを有し、上記テーブルに対して上記主軸ヘッドが
上下前後左右方向に相対的に移動できるようにした彫刻
機本体部と、上記テーブルの上面に配置され、被彫刻物
を熱電子素子による冷却手段により硬化させ、硬化させ
た状態で固定する冷却バイスとを有する彫刻機の制御装
置であって、上記彫刻機本体部の動作のためのパラメー
タのパラメータ値と上記パラメータ値における被彫刻物
の最適な温度との関係を記憶した第一の記憶手段と、彫
刻機本体部の現在設定されているパラメータ値を記憶す
る第二の記憶手段と、被彫刻物の温度を検出する検出手
段と、上記第二の記憶手段に記憶されたパラメータ値に
おける被彫刻物の最適な温度を、上記第一の記憶手段か
ら読み出す読み出し手段と、上記読み出し手段によって
読み出された温度と、上記検出手段によって検出された
温度とを比較する比較手段と、上記比較手段の比較結果
に基づいて、上記読み出し手段によって読み出された温
度に等しくなるように冷却手段を制御する制御手段とを
有するようにしたものである。

【００１１】

【作用】彫刻機の移動テーブルの上面に、ゴムや熱可塑
性樹脂などの被彫刻物を冷却手段により硬化させて固定
する冷却バイスを配設し、上記彫刻機の主軸ヘッド部に
取付けられた主軸ヘッドの彫刻用カッターまたはドリル
などにより、冷却バイスのワーク台に固定された被彫刻
物に所定の彫刻加工を行う。

【００１２】従って、変形しやすいゴム、熱可塑性樹脂
などの被彫刻物に彫刻加工する場合でも、冷却バイスの
ワーク台の上に被彫刻物を硬化させて固定することがで
きるので、彫刻用カッターまたはドリルなどが被彫刻物
に当接しても、被彫刻物が変形することが防止されるの
で、被彫刻物を予め設定された形状に確実に彫刻加工す
ることができる。

【００１３】そして、比較手段によって、第二の記憶手
段に記憶されたパラメータ値に基づいて第一の記憶手段
から読み出し手段によって読み出された温度と検出手段
によっ検出された温度とが比較され、この比較結果に基
づき制御手段によって、読み出し手段によって読み出さ
れた温度に等しくなるように冷却手段を制御するので、
常に最適の温度になるように冷却手段を制御することが
できる。

【００１４】即ち、冷却バイスのワーク台に載置された
被彫刻物が、被彫刻物の材料や彫刻機本体部の動作など
に応じた適性温度で硬化され固定されるので、彫刻用カ
ッターまたはドリルなどにより、予め設定した所望の形
状にする彫刻加工を、確実に行うことできるようにな
る。

【００１５】

【実施例】以下、図面に基づいて、本発明による彫刻機
の制御装置の一実施例を詳細に説明するものとする。

【００１６】図１は、本発明による彫刻機の制御装置を
備えた彫刻機の外観を示す全体斜視図であり、図２は、
図１に示された彫刻機の側面側の要部を示す断面図であ
り、図３は、図１に示された彫刻機の正面側の要部を示
す断面図であり、図４は、冷却バイスの分解斜視図であ
る。

【００１７】彫刻機は、本体部１０と冷却バイス２０と
により構成され、本体部１０は、ベース１２と、ベース
１２より立設された支柱部１４と、支柱部１４に上下動
自在に装着された主軸ヘッド部１６と、ベース１２の上
面に本体部１０の前後左右に移動できるように一体に設
置されている移動テーブル１８とを有して構成されてい
る。

【００１８】移動テーブル１８の上面には、被彫刻物Ａ
を熱電子素子による冷却手段で固定する冷却バイス２０
が固定され、主軸ヘッド部１６に取付けられた主軸ヘッ
ド２２の彫刻用カッター２２ａにより、冷却バイス２０
に固定されたゴムなどの被彫刻物Ａに所定の彫刻加工が
なされることになる。

【００１９】本体部１０の支柱部１４には、主軸ヘッド
部駆動モータ２４と、主軸ヘッド部駆動モータ２４によ
り回転駆動される垂直な主軸送りねじ２６が設置されて
おり、この主軸ヘッド部駆動モータ２４の回転により、
主軸送りねじ２６に係合している主軸ヘッド部１６が上
下に移動できるようになっている。

【００２０】主軸ヘッド部１６内に取付けられた主軸ヘ
ッド２２は、主軸駆動モータ２８により駆動ベルト３０
を介して回転駆動される。

【００２１】ベース１２内にはＹ軸送りねじ３２が設置
されており、このＹ軸送りねじ３２には、ベース１２の
上面に設置された移動テーブル１８が係合し、Ｙ軸送り
ねじ３２の端部には、テーブルＹ軸駆動モータ３６が接
続されている。そして、上記Ｙ軸送りねじ３２が、支柱
部１４に設置されたテーブルＹ軸駆動モータ３６により
回転駆動されると、移動テーブル１８を本体部１０の前
後方向に移動させることができる。

【００２２】また、上記移動テーブル１８内にはＸ軸送
りねじ３８が設置されており、このＸ軸送りねじ３６の
端部には、テーブルＸ軸駆動モータ４０が設置されてお
り、このテーブルＸ軸駆動モータ４０が回転駆動される
と、移動テーブル１８を本体部１０の左右方向に移動さ
せることができる。

【００２３】さらに、上記移動テーブル１８の上面に
は、底面が広くなっているあり溝状の凹溝３４が、移動
テーブル１８の長手方向中央部に形成されており、この
凹溝３４に嵌合された図示しないボルトにより、冷却バ
イス２０が移動テーブル１８の所定位置に固定されるよ
うになっている。

【００２４】上記主軸ヘッド部駆動モータ２４、主軸駆
動モータ２８、テーブルＹ軸駆動モータ３６およびテー
ブルＸ軸駆動モータ４０（以下、これらを総称して駆動
モータ群１１２と称す。）の回転駆動制御は、図５に示
す彫刻機の制御装置のブロック構成図に基づいて後述す
るように、制御部１００により制御されることになる。

【００２５】なお、本体部１０のベース部１２には、操
作子部９０が配設されており、操作子部９０の各操作子
を操作することにより、彫刻条件として駆動モータ群１
１２の動作（移動テーブル１８の移動方向ならびに移動
速度、主軸ヘッド２２の回転数など）を制御するパラメ
ータのパラメータ値を設定できるようになされている。

【００２６】また、操作子部９０は、上記した駆動モー
タ群１１２の動作を制御するパラメータの他に、もっぱ
ら後述する温度制御のためにのみ用いられるパラメータ
として、被彫刻物Ａの材質や、彫刻用カッター２２ａの
材質および径などを示す情報を入力できるようになされ
ている。

【００２７】そして、上記移動テーブル１８の上面に固
定されている冷却バイス２０は、図４の分解斜視図に示
すように構成されている。

【００２８】冷却バイス２０は、例えば、ワーク台４２
の上面に、ゴム、熱可塑性樹脂などの被彫刻物Ａを冷却
して硬化させて固定するものであり、この冷却バイス２
０が本体部１０の移動テーブル１８上に設置され、主軸
ヘッド部１６に設置された彫刻用カッター２２ａによ
り、被彫刻物Ａの彫刻が行われることになる。

【００２９】冷却バイス２０は、上記した被彫刻物Ａが
載置されるワーク台４２と、ワーク台４２の下面に密着
してワーク台４２を冷却するペルチェ効果を利用した熱
電子素子（以下、ペルチェ素子と称す。）４４と、ペル
チェ素子４４の周囲を保持する断熱保持板４６と、ペル
チェ素子４４の下面に発生する熱を外部に放出させる放
熱支持板４８と、放熱支持板４８の下面に設置して放熱
支持板４８の熱を外部に放出させる放熱ボックス５０
と、放熱ボックス５０の左右側に設置され、外部から放
熱ボックス５０内に冷気を流入する吸気用ファン５２お
よび放熱ボックス５０内から暖気を外部へ排出する排気
用ファン５４とを有して構成されている。

【００３０】ワーク台４２は、熱伝導性の良好なアルミ
板により成形されており、上面に被彫刻物Ａが載置され
る凹部４２ａが形成されている。この凹部４２ａの上面
および下面は、ペルチェ素子４４ならびに被彫刻物Ａと
の密着性を良好にするために平滑に加工されている。な
お、凹部４２ａの被彫刻物Ａが固定される上面は、被彫
刻物Ａの位置ズレを防止するために、格子状の溝や、あ
るいは高さの低い格子状の突条を設けてもよい。

【００３１】ペルチェ素子４４は、上面側の吸熱板５６
と下面側の放熱板５８との間に、導電体により上下が挟
持された多数の半導体素子６０を組み付け、この半導体
素子６０にリード線６２を介して電流を流すことによ
り、吸熱板５６と放熱板５８との間に温度差を生じさせ
る。

【００３２】そして、これら吸熱板５６と放熱板５８と
の温度差を利用して、上面の吸熱板５６側をワーク台４
２の下面に密着させるとともに、放熱板５８の下面に放
熱支持板４８を密着させ、放熱支持板４８側の熱を強制
的に外部に放出させることにより、ワーク台４２の表面
を安定した冷却温度に保持することができるものであ
る。

【００３３】上記ペルチェ素子４４の周囲を保持する断
熱保持板４６は、ペルチェ素子４４と同一厚さのセラミ
ック材などにより成形されており、この断熱保持板４６
の中央部にはペルチェ素子４４が嵌込まれる開口窓部６
４が形成されている。さらに、上記断熱保持板４６の側
壁面には、ペルチェ素子４４に通電するためのリード線
６２が挿入されるリード線穴６６が穿設されているとと
もに、断熱保持板４６の四隅には、下面の放熱支持板４
８の上に固定するためのボルトを挿通するボルト穴６８
が穿設けられている。

【００３４】放熱支持板４８は、熱伝導性の良好なアル
ミ材により成形されており、下側に取り付けられる放熱
ボックス５０の上蓋を兼ねている。そして、断熱保持板
４６のボルト穴６８に挿通されたボルトが固着されるこ
とになるネジ穴８０と、下側の放熱ボックス５０に固定
するためのボルトを挿通するためのボルト穴８２とが穿
設されている。

【００３５】放熱ボックス５０は、上蓋を兼ねた放熱支
持板４８と、熱伝導性の良好なアルミ材により成形され
た左右一対の側面板８４とからなり、この側面板８４の
対向する内側には、多数の放熱フィン８６が一体に形成
されている。

【００３６】吸気用ファン５２および排気用ファン５４
は、それぞれ軸流ファンからなり、放熱ボックス５０の
左右の開口端部に設置される。

【００３７】さらに、ワーク台４２の端部上面には、温
度センサ９２が取り付けられており、ワーク台４２と熱
平衡する被彫刻物Ａの温度を検出できるように構成され
ている。

【００３８】次に、冷却バイス２０の組み付け方法の一
例に関して説明する。まず、左右一対の側面板８４の上
面に放熱支持板４８を固定して、放熱ボックス５０を組
み立てる。それから、この放熱ボックス５０の左右に、
吸気用ファン５２および排気用ファン５４を設置する。
それから、放熱支持板４８の上面に、ペルチェ素子４４
を組み付けた断熱保持板４６を固定し、さらに断熱保持
板４６の上面にワーク台４２を固定することにより冷却
バイス２０の組み付けが行われる。

【００３９】ここで、上記各構成部材の接触面の間に、
熱伝導性の良好なシリコーン・グリスを塗布するか、あ
るいはシリコーン・シートを挟持するようにして、各構
成部材を締結することにより、各構成部材の密着性を高
めるとともに、各構成部材間の熱伝導性を向上させてい
る。

【００４０】以上の構成において、冷却バイス２０を用
いてワーク台４２に被彫刻物Ａを固定する場合について
説明する。

【００４１】まず、ワーク台４２の凹部４２ａの上面に
被彫刻物Ａを載置した後に、ペルチェ素子４４に通電を
開始すると、上面の吸熱板５６と下面の放熱板５８との
間に温度差が生じ、吸熱板５６側が急速冷却されるとと
もに、放熱板５８側が高温になる。

【００４２】従って、吸熱板５６の上面に密着している
ワーク台４２が冷却されることになるので、ワーク台４
２の凹部４２ａ上の被彫刻物Ａが冷凍硬化されるととも
に、大気中の水蒸気が凍結されることになる。このた
め、被彫刻物Ａの周囲が氷結されることになって、被彫
刻物Ａがワーク台４２に一体的に固定されるようになる
ものである。なお、凹部４２ａに予め水を注入しておく
と、この注入された水が凍結して被彫刻物Ａの周囲を氷
結させるので、被彫刻物Ａを一層強固にワーク台１２に
固定することができる。

【００４３】また、ペルチェ素子４４への通電時には、
放熱板５８側が高温になり、この熱が放熱支持板４８を
介して放熱ボックス５０に熱伝導される。この際に、放
熱ボックス５０の左右の端部に設置された吸気用ファン
５２および排気用ファン５４により、放熱ボックス５０
内に冷却風が導入され、内部の熱風が強制的に外部に放
出されているので、効率良く放熱板２８の熱を放熱でき
る。

【００４４】従って、上記ペルチェ素子４４の吸熱板５
６と放熱板５８との間に常に安定した温度差が維持され
ることになり、ワーク台４２上の被彫刻物Ａの冷却温度
が常時一定の状態で被彫刻物Ａを硬化することができる
とともに、ワーク台４２に固定することができるので、
変形しやすいゴムや熱可塑性樹脂などの被彫刻物Ａを、
主軸ヘッド２２の彫刻用カッター２２ａにより予め設定
された形状に確実に彫刻加工することができる。

【００４５】なお、上記ペルチェ素子４４は、被彫刻物
Ａを「−４０°Ｃ」程度にまで冷却することが可能であ
り、吸熱板５６と放熱板５８との温度差は、最大で「８
０°Ｃ」程度になる。

【００４６】次に、図５のブロック構成図および図６の
フローチャートを参照しながら、本発明の要旨をなす彫
刻機の制御装置に関して説明する。

【００４７】上記したように、図５には、本発明による
彫刻機の制御装置のブロック構成図が示されており、彫
刻機は、その全体動作の制御を、制御部１００の中央処
理装置（ＣＰＵ）１００ａを用いて制御するように構成
されている。

【００４８】また、制御部１００は、ＣＰＵ１００ａに
よる全体動作の制御のためのプログラムなどが格納され
たリード・オンリ・メモリ１００ｂと、ＣＰＵ１００ａ
による上記プログラムの実行時に必要な各種レジスタな
ど設定されたワーキング・エリアとしてのランダム・ア
クセス・メモリ（ＲＡＭ）１００ｃとを備えている。

【００４９】そして、操作子部９０の操作により設定さ
れた各種パラメータのパラメータ値を入力するパラメー
タ値入力部１０２から入力されたパラメータ値は、イン
ターフェース１０４を介してバッファ・メモリ１０６に
一時的に記憶され、それから制御部１００に入力される
ことになる。

【００５０】さらに、バッファ・メモリ１０６には、温
度センサ９２により検出されたペルチェ素子４４の温度
が、アナログ・デジタル変換器（Ａ／Ｄ）１２４を介し
てフィード・バックされて一時的に記憶され、それから
制御部１００に、温度センサ９２により検出されたペル
チェ素子４４の温度入力されることになる。

【００５１】一方、制御部１００には、ＲＯＭなどによ
り構成されているパラメータ値−温度テーブル１０８が
接続されている。

【００５２】このパラメータ値−温度テーブル１０８
は、制御部１００に入力されたパラメータ値に基づいて
被彫刻物Ａを彫刻加工する場合における、被彫刻物Ａの
最適温度を示したテーブルである。

【００５３】即ち、パラメータ値−温度テーブル１０８
は、予めファジー・ルールに基づいて、パラメータ値に
対応した最適温度を記憶したテーブルであり、このテー
ブルを参照することにより、パラメータ値に対応した最
適温度を求めることができるようになる。

【００５４】従って、ＣＰＵ１００ａがパラメータ値−
温度テーブル１０８を読み出すことにより、パラメータ
値入力部１０２によって入力されたパラメータ値で被彫
刻物Ａを彫刻加工する場合における、被彫刻物Ａの最適
温度を決定することができるものである。

【００５５】制御部１００は、こうして決定された最適
温度と温度センサ９２により検出されたペルチェ素子４
４の温度とを比較してその差分を求め、ペルチェ素子４
４の温度がパラメータ値−温度テーブル１０８より求め
た最適温度となるように、ペルチェ素子４４の電圧・電
流を設定する信号をバッファ・メモリ１１４およびデジ
タル・アナログ変換器（Ｄ／Ａ）１１６を介して、加算
部１１８へ出力する。

【００５６】さらに、制御部１００は、入力されたパラ
メータ値に基づいて、インターフェース１１０を介して
駆動モータ群１１２の動作を制御することになる。これ
により、移動テーブル１８ならびに主軸ヘッド２２が移
動されることになる。

【００５７】また、操作者は、操作子部９０の操作に基
づいて、制御部１００により決定される最適温度に対す
る補正値を任意に設定できるようになされており、当該
補正値が、補正値入力部１２０から加算部１１８に入力
されることになる。

【００５８】そして、加算部１１８においては、制御部
１００から出力されたペルチェ素子４４の電圧・電流を
設定する信号と補正値入力部１２０から入力された補正
値とを加算して、ペルチェ素子４４へ通電する電圧・電
流値を決定し、当該電圧・電流値となるように電圧・電
流制御部１２２を制御して、ペルチェ素子４４の温度を
管理する。

【００５９】次に、図６のフローチャートに基づいて、
ペルチェ素子４４の温度制御に関してより詳細に説明す
る。

【００６０】まず、パラメータ値入力部１０２からのパ
ラメータ値が制御部１００に読み込まれると（ステップ
Ｓ６０２）、制御部１００は、パラメータ−温度テーブ
ル１０８を参照して、読み込まれたパラメータ値に対す
る最適温度を決定する（ステップＳ６０４）。

【００６１】次に、温度センサ９２により検出されたペ
ルチェ素子４４の温度が、制御部１００に読み込まれる
ことになる。（ステップＳ６０６）

【００６２】そして、ステップＳ６０４で決定された温
度とステップＳ６０６で読み込まれた温度とを比較し
て、ステップＳ６０４で決定された温度にするための値
を求める（ステップＳ６０８）。

【００６３】さらに、操作者により任意に設定された補
正値が、補正値入力部１２０から入力されたか否かを判
断する（ステップＳ６１０）。

【００６４】上記したステップＳ６１０の判断結果が肯
定、即ち、補正値入力部１２０から補正値が入力されて
いるのであるならば、ステップＳ６１２へ進み、ステッ
プＳ６０８で求めた値とステップＳ６１０の補正値とを
合算した値に基づいて、ペルチェ素子４４へ供給する電
圧・電流値を制御する。

【００６５】一方、ステップＳ６１０の判断結果が否
定、即ち、補正値入力部１２０から補正値が入力されて
いないのであるならば、ステップＳ６１４へ進み、ステ
ップＳ６０８で求めた値に基づいて、ペルチェ素子４４
へ供給する電圧・電流値を制御する。

【００６６】なお、上記実施例においては、ペルチェ素
子４４の温度の制御のみ行ったが、ペルチェ素子４４が
制御部１００によって指定された温度に追従できない場
合には、逆にペルチェ素子４４の温度に最適なパラメー
タ値をパラーメータ値−温度テーブルから読み出すよう
にして、ペルチェ素子４４の温度に最適な彫刻条件とな
るように、駆動モータ群１１２の制御を行うようにして
もよい。

【００６７】また、上記実施例においては、主軸ヘッド
２２が上下に移動するとともに、移動テーブル１８が前
後左右に移動する彫刻機に関して説明したが、これに限
られることなく、移動テーブルが上下前後左右の三次元
で移動するようにしてもよいし、またそれとは逆に、主
軸ヘッド２２が上下前後左右の三次元で移動するように
してもよい。要するに、彫刻用カッター２２ａと被彫刻
物Ａとが、三次元方向に相対的に移動できればよいもの
であり、これを実現する構成はいずれのものであっても
よい。

【００６８】さらにまた、上記実施例においては、ワー
ク台４２に取り付けた温度センサ９２により、被彫刻物
Ａの温度を検出するようにしたが、これに限られること
なしに、彫刻機に放射温度計などを取り付けて、直接的
に被彫刻物Ａの温度検出するようにしてもよい。

【００６９】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。

【００７０】ベースと、上記ベースの上面に配設された
テーブルと、上記ベースより立設された支柱部と、上記
支柱部に装着された主軸ヘッドとを有し、上記テーブル
に対して上記主軸ヘッドが上下前後左右方向に相対的に
移動できるようにした彫刻機本体部と、上記テーブルの
上面に配置され、被彫刻物を熱電子素子による冷却手段
により硬化させ、硬化させた状態で固定する冷却バイス
とを有する彫刻機の制御装置であって、上記彫刻機本体
部の動作のためのパラメータのパラメータ値と上記パラ
メータ値における被彫刻物の最適な温度との関係を記憶
した第一の記憶手段と、彫刻機本体部の現在設定されて
いるパラメータ値を記憶する第二の記憶手段と、被彫刻
物の温度を検出する検出手段と、上記第二の記憶手段に
記憶されたパラメータ値における被彫刻物の最適な温度
を、上記第一の記憶手段から読み出す読み出し手段と、
上記読み出し手段によって読み出された温度と、上記検
出手段によって検出された温度とを比較する比較手段
と、上記比較手段の比較結果に基づいて、上記読み出し
手段によって読み出された温度に等しくなるように冷却
手段を制御する制御手段とを有するようにしたため、被
彫刻物を冷却して硬化させた状態で彫刻加工を行うこと
ができるようになるので、彫刻加工中に被彫刻物が変形
することがなく、予め設定された形状に確実に彫刻加工
を行うことができる。

【００７１】しかも、比較手段によって、第二の記憶手
段に記憶されたパラメータ値に基づいて第一の記憶手段
から読み出し手段によって読み出された温度と検出手段
によっ検出された温度とが比較され、この比較結果に基
づき制御手段によって、読み出し手段によって読み出さ
れた温度に等しくなるように冷却手段を制御するので、
常に最適の温度になるように冷却手段を制御することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による彫刻機の制御装置を備えた彫刻機
の外観を示す全体斜視図である。

【図２】図１の彫刻機の側面側の要部を示す断面図であ
る。

【図３】図１の彫刻機の正面側の要部を示す断面図であ
る。

【図４】冷却バイスの分解斜視図である。

【図５】本発明の一実施例による彫刻機の制御装置を示
すブロック構成図である。

【図６】ペルチェ素子の温度制御を示すフローチャート
である。

【符号の説明】

１０ 彫刻機 １２ ベース １４ 支柱部 １６ 主軸ヘッド部 １８ 移動テーブル ２０ 冷却バイス ２２ 主軸ヘッド ４４ ペルチェ素子 ９０ 操作子部 ９２ 温度センサ １００ 制御部 １０２ パラメータ値入力部 １０８ パラメータ値−温度テーブル １１２ 駆動モータ群 １２０ 補正値入力部 １２２ 電圧・電流制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市川 拡 静岡県浜松市大久保町1227 ローランド ディー． ジー． 株式会社内 (72)発明者 宮本 数人 静岡県浜松市大久保町1227 ローランド ディー． ジー． 株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースと、前記ベースの上面に配設され
   たテーブルと、前記ベースより立設された支柱部と、前
   記支柱部に装着された主軸ヘッドとを有し、前記テーブ
   ルに対して前記主軸ヘッドが上下前後左右方向に相対的
   に移動できるようにした彫刻機本体部と、 前記テーブルの上面に配置され、被彫刻物を熱電子素子
   による冷却手段により硬化させ、硬化させた状態で固定
   する冷却バイスとを有する彫刻機の制御装置であって、 前記彫刻機本体部の動作のためのパラメータのパラメー
   タ値と前記パラメータ値における被彫刻物の最適な温度
   との関係を記憶した第一の記憶手段と、 彫刻機本体部の現在設定されているパラメータ値を記憶
   する第二の記憶手段と、 被彫刻物の温度を検出する検出手段と、 前記第二の記憶手段に記憶されたパラメータ値における
   被彫刻物の最適な温度を、前記第一の記憶手段から読み
   出す読み出し手段と、 前記読み出し手段によって読み出された温度と、前記検
   出手段によって検出された温度とを比較する比較手段
   と、 前記比較手段の比較結果に基づいて、前記読み出し手段
   によって読み出された温度に等しくなるように冷却手段
   を制御する制御手段とを有することを特徴とする彫刻機
   の制御装置。