JPH0717980A - カルバペネム誘導体又はその塩 - Google Patents
カルバペネム誘導体又はその塩Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式で示されるカルバペネム誘導体又
はその塩 【化1】 (式中の記号は以下の意味を有する。 R:水素原子,陰電荷又はエステル残基 X:−S−,−O−又は−NH− Y:O,NH又はH2 ) 【効果】 特にMRSAに対し優れた抗菌活性を有し,
医薬として有用である。
はその塩 【化1】 (式中の記号は以下の意味を有する。 R:水素原子,陰電荷又はエステル残基 X:−S−,−O−又は−NH− Y:O,NH又はH2 ) 【効果】 特にMRSAに対し優れた抗菌活性を有し,
医薬として有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬,殊にメチシリン耐
性黄色ブドウ状球菌(以下MRSAと略記する。)に対
する抗菌剤として有用な新規カルバペネム誘導体又はそ
の塩に関する。
性黄色ブドウ状球菌(以下MRSAと略記する。)に対
する抗菌剤として有用な新規カルバペネム誘導体又はそ
の塩に関する。
【0002】
【従来の技術】近年既知抗生物質の濫用により,これら
の抗生物質に対して高い耐性度を示すMRSAが臨床の
場において非常に多く出現している。MRSAは院内感
染症の主原因の1つと考えられており,社会的に深刻な
問題となっている。このため抗MRSA作用を有する種
々の化合物が検討されている。一方,カルバペネム化合
物については,その抗菌作用について従来種々の研究が
なされているが現在までMRSAに対し顕著な効果を有
するカルバペネム化合物は知られていなかった。例え
ば,広範囲な抗菌活性を示すカルバペネム化合物である
イミペネム[J.Med.Chem,22,1435,(1979)]に関しても
MRSAに対する抗菌活性は十分なものとはいえなかっ
た。しかも一般的にカルバペネム化合物は,生体内にお
いて腎デヒドロペプチターゼ(以下DHP−1と略記す
る)により分解不活性が生じやすく,イミペネムについ
ても同様であり,このため分解を防ぐ目的でDHP−1
阻害剤の一種であるシラスタチンと併用したイミペネム
/シラスタチン(IPM/CS)の配合処方として臨床
的に使用されている[Autimicrob Agents Chemother,12
(Supp1D),1,(1983)]。
の抗生物質に対して高い耐性度を示すMRSAが臨床の
場において非常に多く出現している。MRSAは院内感
染症の主原因の1つと考えられており,社会的に深刻な
問題となっている。このため抗MRSA作用を有する種
々の化合物が検討されている。一方,カルバペネム化合
物については,その抗菌作用について従来種々の研究が
なされているが現在までMRSAに対し顕著な効果を有
するカルバペネム化合物は知られていなかった。例え
ば,広範囲な抗菌活性を示すカルバペネム化合物である
イミペネム[J.Med.Chem,22,1435,(1979)]に関しても
MRSAに対する抗菌活性は十分なものとはいえなかっ
た。しかも一般的にカルバペネム化合物は,生体内にお
いて腎デヒドロペプチターゼ(以下DHP−1と略記す
る)により分解不活性が生じやすく,イミペネムについ
ても同様であり,このため分解を防ぐ目的でDHP−1
阻害剤の一種であるシラスタチンと併用したイミペネム
/シラスタチン(IPM/CS)の配合処方として臨床
的に使用されている[Autimicrob Agents Chemother,12
(Supp1D),1,(1983)]。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】現在,MRSAに対す
る優れた抗菌活性を有する化合物の創製は,医薬上の重
要な課題である。本発明は,上記課題を解決すべく,M
RSAに対する優れた抗菌活性を有し,かつ単剤でDH
P−1に安定なカルバペネム誘導体の提供を目的とする
ものである。
る優れた抗菌活性を有する化合物の創製は,医薬上の重
要な課題である。本発明は,上記課題を解決すべく,M
RSAに対する優れた抗菌活性を有し,かつ単剤でDH
P−1に安定なカルバペネム誘導体の提供を目的とする
ものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】こうした背景のもと,本
発明者等は鋭意研究を重ねた結果,ペネム環の2位に置
換プロペニル基を介して複素環を有することを特徴とす
る新規カルバペネム誘導体が,MRSAに対する優れた
抗菌活性を有し,かつ単剤でDHP−1に安定であるこ
とを見出し,本発明を完成した。更に本発明者等は,本
発明化合物が,MRSAのみならず,MRSA以外のグ
ラム陽性菌及び緑膿菌をはじめとするグラム陰性菌に対
しても優れた抗菌活性を有することをも知見した。即
ち,本発明は下記一般式(I)で示されるカルバペネム
誘導体又はその製薬学的に許容される塩である。
発明者等は鋭意研究を重ねた結果,ペネム環の2位に置
換プロペニル基を介して複素環を有することを特徴とす
る新規カルバペネム誘導体が,MRSAに対する優れた
抗菌活性を有し,かつ単剤でDHP−1に安定であるこ
とを見出し,本発明を完成した。更に本発明者等は,本
発明化合物が,MRSAのみならず,MRSA以外のグ
ラム陽性菌及び緑膿菌をはじめとするグラム陰性菌に対
しても優れた抗菌活性を有することをも知見した。即
ち,本発明は下記一般式(I)で示されるカルバペネム
誘導体又はその製薬学的に許容される塩である。
【化2】
【0005】(式中の記号は以下の意味を有する。 R:水素原子,陰電荷又はエステル残基 X:−S−,−O−又は−NH− Y:O,NH又はH2 )
【0006】式(I)の記号の意味をさらに説明すると
次の通りである。
次の通りである。
【0007】式(I)中,Rが示す「エステル残基」と
しては,生体内で代謝を受け加水分解されるエステル残
基か,あるいはカルボキシル基の保護基となり得るエス
テル残基が挙げられる。生体内で代謝を受け加水分解さ
れるエステル残基としては,例えば,低級アルカノイル
オキシ低級アルキル基,低級アルケノイル低級アルキル
基,シクロアルキルカルボニルオキシ低級アルキル基,
低級アルケノイルオキシ低級アルキル基,低級アルコキ
シ低級アルカノイルオキシ低級アルキル基,低級アルコ
キシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルコキシ低
級アルキル基,低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基,低級アルコキシ低級アルコキシカルボニルオ
キシ低級アルキル基,ベンゾイルオキシ低級アルキル
基,2−オキソテトラヒドフラン−5−イル基,2−オ
キソ−5−アルキル−1,3−ジオキソレン−4−イル
メチル基,テトラヒドロフラニルカルボニルオキシメチ
ル基,3−フタリジル基等の常用のエステル残基等が挙
げられる。また,カルボキシル基の保護基となり得るエ
ステル残基としては,例えば,低級アルキル基,低級ア
ルケニル基,ハロゲノ低級アルキル基,ニトロベンジル
基,低級アルコキシベンズヒドリル基などが挙げられ
る。上記において低級アルカノイル基として炭素数2乃
至6個のもの,低級アルキル基として炭素数1乃至6個
のもの,低級アルケノイル基として炭素数2乃至6個の
もの,シクロアルキル基として炭素数3乃至8個,殊に
炭素数3乃至6個のもの,アルコキシ基として炭素数1
乃至6個,殊に1乃至4個のもの,低級アルケニル基と
して炭素数が2乃至6個のものが好適な例として挙げら
れる。また,式(I)中,
しては,生体内で代謝を受け加水分解されるエステル残
基か,あるいはカルボキシル基の保護基となり得るエス
テル残基が挙げられる。生体内で代謝を受け加水分解さ
れるエステル残基としては,例えば,低級アルカノイル
オキシ低級アルキル基,低級アルケノイル低級アルキル
基,シクロアルキルカルボニルオキシ低級アルキル基,
低級アルケノイルオキシ低級アルキル基,低級アルコキ
シ低級アルカノイルオキシ低級アルキル基,低級アルコ
キシ低級アルキル基,低級アルコキシ低級アルコキシ低
級アルキル基,低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基,低級アルコキシ低級アルコキシカルボニルオ
キシ低級アルキル基,ベンゾイルオキシ低級アルキル
基,2−オキソテトラヒドフラン−5−イル基,2−オ
キソ−5−アルキル−1,3−ジオキソレン−4−イル
メチル基,テトラヒドロフラニルカルボニルオキシメチ
ル基,3−フタリジル基等の常用のエステル残基等が挙
げられる。また,カルボキシル基の保護基となり得るエ
ステル残基としては,例えば,低級アルキル基,低級ア
ルケニル基,ハロゲノ低級アルキル基,ニトロベンジル
基,低級アルコキシベンズヒドリル基などが挙げられ
る。上記において低級アルカノイル基として炭素数2乃
至6個のもの,低級アルキル基として炭素数1乃至6個
のもの,低級アルケノイル基として炭素数2乃至6個の
もの,シクロアルキル基として炭素数3乃至8個,殊に
炭素数3乃至6個のもの,アルコキシ基として炭素数1
乃至6個,殊に1乃至4個のもの,低級アルケニル基と
して炭素数が2乃至6個のものが好適な例として挙げら
れる。また,式(I)中,
【0008】
【化3】
【0009】で示される基の好ましい具体例としては,
以下に示す基等が挙げられる。
以下に示す基等が挙げられる。
【0010】
【化4】
【0011】本発明化合物は,2位の置換基であるヘテ
ロ環が有する陽イオンと3位カルボキシ陰イオン又は3
位に置換した水素原子[式(I)中,基Rに該当]との
間で分子内塩を形成しうる。例えば,塩酸,臭化水素
酸,ヨウ化水素酸,硫酸,硝酸,リン酸等の鉱酸や,ギ
酸,酢酸,プロピオン酸,シュウ酸,マロン酸,コハク
酸,フマール酸,マレイン酸,乳酸,リンゴ酸,クエン
酸,酒石酸,メタンスルホン酸,エタンスルホン酸,グ
ルタミン酸等の有機酸との酸付加塩を挙げることができ
る。3位にエステル残基が置換している場合[式(I)
中,基Rに該当],陰イオン類と分子内塩を形成しう
る。例えばヨウ素陰イオン,臭素陰イオン等のハロゲン
陰イオン類やメチルスルフォネート陰イオン,アリール
スルフォネート陰イオン等のスルフォネート陰イオン類
を挙げることができる。また本発明化合物には不斉炭素
原子及び二重結合が存在するため,光学異性体,ラセミ
体,ジアステレオマー,ケト,エノール,シス,トラン
ス等の複数の異性体が存在する。本発明は,これらの異
性体の分離したもの又は混合物を含む。更に本発明化合
物は,置換基の種類によっては,その分子内塩の状態も
とることができる。本発明のカルバペネム環における好
ましい異性体は次式で示される,1R,5S及び6Sの
立体配置を有するものである。更に,本発明化合物には
その薬学的に許容される水和物,溶媒和物あるいは結晶
多形の物質も含まれる。
ロ環が有する陽イオンと3位カルボキシ陰イオン又は3
位に置換した水素原子[式(I)中,基Rに該当]との
間で分子内塩を形成しうる。例えば,塩酸,臭化水素
酸,ヨウ化水素酸,硫酸,硝酸,リン酸等の鉱酸や,ギ
酸,酢酸,プロピオン酸,シュウ酸,マロン酸,コハク
酸,フマール酸,マレイン酸,乳酸,リンゴ酸,クエン
酸,酒石酸,メタンスルホン酸,エタンスルホン酸,グ
ルタミン酸等の有機酸との酸付加塩を挙げることができ
る。3位にエステル残基が置換している場合[式(I)
中,基Rに該当],陰イオン類と分子内塩を形成しう
る。例えばヨウ素陰イオン,臭素陰イオン等のハロゲン
陰イオン類やメチルスルフォネート陰イオン,アリール
スルフォネート陰イオン等のスルフォネート陰イオン類
を挙げることができる。また本発明化合物には不斉炭素
原子及び二重結合が存在するため,光学異性体,ラセミ
体,ジアステレオマー,ケト,エノール,シス,トラン
ス等の複数の異性体が存在する。本発明は,これらの異
性体の分離したもの又は混合物を含む。更に本発明化合
物は,置換基の種類によっては,その分子内塩の状態も
とることができる。本発明のカルバペネム環における好
ましい異性体は次式で示される,1R,5S及び6Sの
立体配置を有するものである。更に,本発明化合物には
その薬学的に許容される水和物,溶媒和物あるいは結晶
多形の物質も含まれる。
【0012】
【化5】 (上式中,R,X及びYは前記と同様の意味を有する。
以下同様)
以下同様)
【0013】(製造法)以下に本発明化合物の製造法に
ついて説明する。 第1製法
ついて説明する。 第1製法
【0014】
【化6】 (式中,X及びYは前記と同様の意味を有し,R1は,
ジフェニルホスホリル基,低級アルキルスルホニル基,
トリハロゲノメチルスホニル基をR´ は,容易に除去
し得るカルボキシル基の保護基をM+ は金属陽イオンを
Zは,ハロゲン原子,低級アルキルスルホニルオキシ基
又はトリハロゲノメチルスルホニルオキシ基を意味す
る。以下同様) 本発明化合物のうち,一般式(Ia)で示される化合物
は,上記反応式で示される工程により得ることができ
る。以下に第1〜4の各工程について説明する。
ジフェニルホスホリル基,低級アルキルスルホニル基,
トリハロゲノメチルスホニル基をR´ は,容易に除去
し得るカルボキシル基の保護基をM+ は金属陽イオンを
Zは,ハロゲン原子,低級アルキルスルホニルオキシ基
又はトリハロゲノメチルスルホニルオキシ基を意味す
る。以下同様) 本発明化合物のうち,一般式(Ia)で示される化合物
は,上記反応式で示される工程により得ることができ
る。以下に第1〜4の各工程について説明する。
【0015】第1工程 本製法の第1工程は式(II)で示される化合物にジフェニ
ルホスホリルクロリド等のリン酸エステル化剤又はスル
ホン酸エステル化剤を反応させる工程である。この反応
に用いられる溶媒としては,アセトン,メチルエチルケ
トン等のケトン類,ジメチルホルムアミド,ジメチルア
セトアミド,ジメチルスルホキシド,テトラヒドロフラ
ン,ジクロロメエタン,クロロホルム,アセトニトリル
あるいはこれらの混合溶媒であってもよい。また,本反
応では反応を促進するために塩基を添加することができ
る。この場合の塩としては,トリエチルアミン,ジイソ
プロピルエチルアミン,DBU,N−メチルモルホリ
ン,キヌクリジン等の有機塩基,水酸化カリウム,水酸
化ナトリウム,炭酸カリウム等の無機塩基,ナトリウム
メトキシド等の金属アルコラート等である。反応温度
は,冷却下乃至室温下,好ましくは冷却下に設定され
る。
ルホスホリルクロリド等のリン酸エステル化剤又はスル
ホン酸エステル化剤を反応させる工程である。この反応
に用いられる溶媒としては,アセトン,メチルエチルケ
トン等のケトン類,ジメチルホルムアミド,ジメチルア
セトアミド,ジメチルスルホキシド,テトラヒドロフラ
ン,ジクロロメエタン,クロロホルム,アセトニトリル
あるいはこれらの混合溶媒であってもよい。また,本反
応では反応を促進するために塩基を添加することができ
る。この場合の塩としては,トリエチルアミン,ジイソ
プロピルエチルアミン,DBU,N−メチルモルホリ
ン,キヌクリジン等の有機塩基,水酸化カリウム,水酸
化ナトリウム,炭酸カリウム等の無機塩基,ナトリウム
メトキシド等の金属アルコラート等である。反応温度
は,冷却下乃至室温下,好ましくは冷却下に設定され
る。
【0016】第2工程 次に,得られた化合物(III)は,一般式(IV)で示され
る化合物と置換反応を行う。尚,化合物(III) は一旦単
離してもよいし,第1工程の反応を行ったのち単離せ
ず,化合物(IV)との反応を行ってもよい。本工程の溶媒
としては,好ましくは第1工程で述べた溶媒が用いられ
る。また,本工程は塩基の存在下に反応を行ってもよ
く,この場合の塩基としては第1工程で述べた塩基が挙
げられる。また,Mの意味する金属としては,リチウ
ム,カリウム,ナトリウム,銀等が挙げられる。本工程
で得られた化合物(V)は,次工程の原料化合物として
も使用できるが,自体抗菌活性を有する有用な化合物で
ある。 第3工程 更に化合物(V)は,本第3工程において,i)リン酸
エステル化剤又はスルホン酸エステル化剤を反応させた
のち,ii)i)において化合物(V)にリン酸エステル
化剤を反応させた場合には,ハロゲン供与体を反応させ
ることにより,化合物(VI)とする。リン酸エステル化剤
又はスルホン酸エステル化剤との反応は,第1工程で述
べた方法が適宜採用される。また,リン酸エステル化剤
と反応した場合には,ヨウ化カリウム,ヨウ化ナトリウ
ム等のハロゲン化剤と反応させ,2−(3−ハロゲノ−
1−プロペニル)チオ基を有する化合物とした方が以降
の反応に好ましい結果を与える。
る化合物と置換反応を行う。尚,化合物(III) は一旦単
離してもよいし,第1工程の反応を行ったのち単離せ
ず,化合物(IV)との反応を行ってもよい。本工程の溶媒
としては,好ましくは第1工程で述べた溶媒が用いられ
る。また,本工程は塩基の存在下に反応を行ってもよ
く,この場合の塩基としては第1工程で述べた塩基が挙
げられる。また,Mの意味する金属としては,リチウ
ム,カリウム,ナトリウム,銀等が挙げられる。本工程
で得られた化合物(V)は,次工程の原料化合物として
も使用できるが,自体抗菌活性を有する有用な化合物で
ある。 第3工程 更に化合物(V)は,本第3工程において,i)リン酸
エステル化剤又はスルホン酸エステル化剤を反応させた
のち,ii)i)において化合物(V)にリン酸エステル
化剤を反応させた場合には,ハロゲン供与体を反応させ
ることにより,化合物(VI)とする。リン酸エステル化剤
又はスルホン酸エステル化剤との反応は,第1工程で述
べた方法が適宜採用される。また,リン酸エステル化剤
と反応した場合には,ヨウ化カリウム,ヨウ化ナトリウ
ム等のハロゲン化剤と反応させ,2−(3−ハロゲノ−
1−プロペニル)チオ基を有する化合物とした方が以降
の反応に好ましい結果を与える。
【0017】第4工程 本製法の第4工程は,化合物(VI)に種々のアミン試薬と
置換反応させ,保護基を除去する工程である。アミン試
薬との置換反応は,例えばテトラヒドロフラン,アセト
ニトリル,ジオキサン,ジメチルスルホキシド,ジメチ
ルホルムアミド,メチレンクロライド,ジブリム,ジメ
トキシエタン等の反応に不活性な溶媒中,中間体(VI)に
対して適量乃至やや過剰量のアミン試薬を反応させて行
われる。
置換反応させ,保護基を除去する工程である。アミン試
薬との置換反応は,例えばテトラヒドロフラン,アセト
ニトリル,ジオキサン,ジメチルスルホキシド,ジメチ
ルホルムアミド,メチレンクロライド,ジブリム,ジメ
トキシエタン等の反応に不活性な溶媒中,中間体(VI)に
対して適量乃至やや過剰量のアミン試薬を反応させて行
われる。
【0018】次に,保護基の除去は,p−ニトロベンジ
ル基,ベンジル基,ベンズヒドリル基等を有する場合,
これらの保護基の除去は化合物(VI)を1)亜鉛又は鉄を
使用する還元,2)液安還元又は3)パラジウム−炭素
又は水酸化パラジウム−炭素を用いる接触還元すること
によって行うことができる。上記1)の還元法は化合物
(VI)を緩衝液(必要に応じて不活性溶媒を添加する)中
に加え,次いで反応対応量もしくは過剰量の亜鉛を添加
し冷却下乃至加温下撹拌することにより行うことができ
る。また,3)の還元法はパラジウム−炭素又は水酸化
パラジウム−炭素のような触媒存在下,冷却下乃至室温
下に行うことができる。 第2製法
ル基,ベンジル基,ベンズヒドリル基等を有する場合,
これらの保護基の除去は化合物(VI)を1)亜鉛又は鉄を
使用する還元,2)液安還元又は3)パラジウム−炭素
又は水酸化パラジウム−炭素を用いる接触還元すること
によって行うことができる。上記1)の還元法は化合物
(VI)を緩衝液(必要に応じて不活性溶媒を添加する)中
に加え,次いで反応対応量もしくは過剰量の亜鉛を添加
し冷却下乃至加温下撹拌することにより行うことができ
る。また,3)の還元法はパラジウム−炭素又は水酸化
パラジウム−炭素のような触媒存在下,冷却下乃至室温
下に行うことができる。 第2製法
【0019】
【化7】
【0020】本製法は,化合物(VII) に化合物(VIII)を
反応させ,その後保護基を除去する方法である。化合物
(VIII)との反応は,第1製法第2工程で用いた方法が適
宜採用され,保護基の除去も同第4工程で用いた方法が
採用される。 第3製法
反応させ,その後保護基を除去する方法である。化合物
(VIII)との反応は,第1製法第2工程で用いた方法が適
宜採用され,保護基の除去も同第4工程で用いた方法が
採用される。 第3製法
【0021】
【化8】
【0022】(式中,R2は3個のフェニル基,低級ア
ルキル基又は低級アルコキシ基を意味する。以下同様
) 次に本発明化合物(Ia)又はその塩は,化合物(IX)又
はその塩を分子内Wittig反応に付したのち,保護
基を除去することにより得ることができる。分子内Wi
ttig反応は,ベンゼン,トルエン等の不活性溶媒
中,加熱下に行うことができる。また,保護基の除去
は,第1製法第4工程で述べた方法が採用される。尚,
上記化合物(IX)は,化合物(X)に
ルキル基又は低級アルコキシ基を意味する。以下同様
) 次に本発明化合物(Ia)又はその塩は,化合物(IX)又
はその塩を分子内Wittig反応に付したのち,保護
基を除去することにより得ることができる。分子内Wi
ttig反応は,ベンゼン,トルエン等の不活性溶媒
中,加熱下に行うことができる。また,保護基の除去
は,第1製法第4工程で述べた方法が採用される。尚,
上記化合物(IX)は,化合物(X)に
【0023】
【化9】 (式中,R3はエトキシカルボニルオキシ基,イソブチ
ロキシカルボニルオキシ基,トリメチルシリルオキシ基
等の活性脱離基を表わす。以下同様)
ロキシカルボニルオキシ基,トリメチルシリルオキシ基
等の活性脱離基を表わす。以下同様)
【0024】
【化10】
【0025】を反応させることにより得ることができ
る。以上第1〜3製法により得られた反応液からの目的
物質の単離,精製は,有機溶媒による抽出,クロマトグ
ラフィー,結晶化等を適宜組み合わせることによって行
われる。
る。以上第1〜3製法により得られた反応液からの目的
物質の単離,精製は,有機溶媒による抽出,クロマトグ
ラフィー,結晶化等を適宜組み合わせることによって行
われる。
【0026】
【発明の効果】本発明化合物は種々のグラム陽性菌及び
グラム陰性菌,殊にMRSAを含むグラム陽性菌に対
し,優れた抗菌活性を有する。更に,本発明化合物は腎
における分解酵素デヒドロペプチダーゼ(DHP−1)
に安定であり,シラスタチン等のDHP−1阻害剤の合
剤とすることなく,良好な体内動態プロフィールを有し
単剤で臨床上有用な抗菌剤となり得る。本発明化合物
の,MRSAに対する抗菌活性(MIC)を,この目的
に従来使用されるミューラーヒントン・アガー培地を用
いた寒天平板希釈法によって測定した。またイミペネム
/シラスタチン(IPM/CS)を対照として置いた。
以下表1に測定結果を示す。
グラム陰性菌,殊にMRSAを含むグラム陽性菌に対
し,優れた抗菌活性を有する。更に,本発明化合物は腎
における分解酵素デヒドロペプチダーゼ(DHP−1)
に安定であり,シラスタチン等のDHP−1阻害剤の合
剤とすることなく,良好な体内動態プロフィールを有し
単剤で臨床上有用な抗菌剤となり得る。本発明化合物
の,MRSAに対する抗菌活性(MIC)を,この目的
に従来使用されるミューラーヒントン・アガー培地を用
いた寒天平板希釈法によって測定した。またイミペネム
/シラスタチン(IPM/CS)を対照として置いた。
以下表1に測定結果を示す。
【0027】
【表1】
【0028】一般式(I)で示された化合物の1種又は
2種以上を有効成分として含有する製剤は,通常製剤化
に用いられる担体や賦形剤,その他の添加剤を用いて調
剤される。製剤用の担体や賦形剤としては,固体又は液
体の何れでもよく,例えば乳糖,ステアリン酸マグネシ
ウム,スターチ,タルク,ゼラチン,寒天,ペクチン,
アラビアゴム,オリーブ油,ゴマ油,カカオバター,エ
チレングリコール等やその他常用のものが挙げられる。
2種以上を有効成分として含有する製剤は,通常製剤化
に用いられる担体や賦形剤,その他の添加剤を用いて調
剤される。製剤用の担体や賦形剤としては,固体又は液
体の何れでもよく,例えば乳糖,ステアリン酸マグネシ
ウム,スターチ,タルク,ゼラチン,寒天,ペクチン,
アラビアゴム,オリーブ油,ゴマ油,カカオバター,エ
チレングリコール等やその他常用のものが挙げられる。
【0029】投与は錠剤,丸剤,カプセル剤,顆粒剤,
散剤,液剤等による経口投与あるいは静注,筋注等の注
射剤,坐剤,経皮剤等による非経口投与の何れの形態で
あってもよい。投与量は症状,投与対象の年齢,性別等
を考慮して個々の場合に応じて適宜決定される。
散剤,液剤等による経口投与あるいは静注,筋注等の注
射剤,坐剤,経皮剤等による非経口投与の何れの形態で
あってもよい。投与量は症状,投与対象の年齢,性別等
を考慮して個々の場合に応じて適宜決定される。
【0030】
【実施例】以上,本発明化合物及びその製造法について
説明したが,以下に実施例を掲記し,本発明化合物を更
に詳細に説明する。なお,本発明化合物の原料化合物の
製造法についても参考例として説明する。 参考例1
説明したが,以下に実施例を掲記し,本発明化合物を更
に詳細に説明する。なお,本発明化合物の原料化合物の
製造法についても参考例として説明する。 参考例1
【0031】
【化11】
【0032】1)(4R)−2−ジアゾ−4−[(2
R,3S)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
−4−オキソアゼチジン−2−イル]−3−オキソペン
タン酸パラニトロベンジル5.0gをトルエン55ml
に加え,アルゴン気流下95℃にて,酢酸ロジウム(II)
二量体2mgを加え,同温度にて20分撹拌した後,ト
ルエンを減圧留去した。得られた粗パラニトロベンジル
(1R,3R,5R,6S)−6−[(1R)−1−
ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−オキソカルバペ
ナム−3−カルボキシレートにアセトニトリル100m
lを加え,アルゴン気流下,−5℃にて,ジイソプロピ
ルエチルアミン2.35ml,次いでジフェニルリン酸
クロリド2.80mlを加えて−5℃で2時間撹拌し
た。
R,3S)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
−4−オキソアゼチジン−2−イル]−3−オキソペン
タン酸パラニトロベンジル5.0gをトルエン55ml
に加え,アルゴン気流下95℃にて,酢酸ロジウム(II)
二量体2mgを加え,同温度にて20分撹拌した後,ト
ルエンを減圧留去した。得られた粗パラニトロベンジル
(1R,3R,5R,6S)−6−[(1R)−1−
ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−オキソカルバペ
ナム−3−カルボキシレートにアセトニトリル100m
lを加え,アルゴン気流下,−5℃にて,ジイソプロピ
ルエチルアミン2.35ml,次いでジフェニルリン酸
クロリド2.80mlを加えて−5℃で2時間撹拌し
た。
【0033】2)(Z)−3−(トリフェニルメチルチ
オ)アリルアルコール7.70g,テトラヒドロフラン
100ml,メタノール250ml及びピリジン2.1
gを加えた溶液に,10mlの水に溶かした硝酸銀5.
2gを徐々に加えて室温で90分撹拌した。析出した沈
殿物を濾取し減圧乾燥した後,アセトニトリル220m
l及びヨウ化リチウム6.84gを加えて30分撹拌し
た。3)1)で得られた溶液中に2)で得られた溶液を
0℃で混合した後,10℃で90分撹拌した。溶媒を留
去して得られた残留物に酢酸エチル及びpH7.0の冷
リン酸緩衝液を加えた後,酢酸エチル層を水洗し,硫酸
マグネシウムで乾燥した。
オ)アリルアルコール7.70g,テトラヒドロフラン
100ml,メタノール250ml及びピリジン2.1
gを加えた溶液に,10mlの水に溶かした硝酸銀5.
2gを徐々に加えて室温で90分撹拌した。析出した沈
殿物を濾取し減圧乾燥した後,アセトニトリル220m
l及びヨウ化リチウム6.84gを加えて30分撹拌し
た。3)1)で得られた溶液中に2)で得られた溶液を
0℃で混合した後,10℃で90分撹拌した。溶媒を留
去して得られた残留物に酢酸エチル及びpH7.0の冷
リン酸緩衝液を加えた後,酢酸エチル層を水洗し,硫酸
マグネシウムで乾燥した。
【0034】溶媒を減圧留去して得られた残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィーに付しクロロホルムーメタノ
ール(10:1)で溶出し,パラニトロベンジル (1
R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエ
チル]−1−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−
1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−
3−カルボキシレート3.38gを得た。
カゲルクロマトグラフィーに付しクロロホルムーメタノ
ール(10:1)で溶出し,パラニトロベンジル (1
R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエ
チル]−1−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−
1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−
3−カルボキシレート3.38gを得た。
【0035】理化学的性状 NMR(CDCl3 ,δppm);1.24(3H,
d),1.34(3H,d),3.32(1H,d
d),3.6(1H,m),4.2−4.4(4H,
m),5.40(2H,ABq.),5.92−6.4
4(2H,d),7.64(2H,d),8.20(2
H,d)
d),1.34(3H,d),3.32(1H,d
d),3.6(1H,m),4.2−4.4(4H,
m),5.40(2H,ABq.),5.92−6.4
4(2H,d),7.64(2H,d),8.20(2
H,d)
【0036】参考例2
【0037】
【化12】
【0038】1)パラニトロベンジル (1R,5S,
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−1−プロペ
ン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボ
キシレート326mgのジクロロメタン6ml溶液に,
アルゴン気流下,−40℃にて4−ジメチルアミノピリ
ジン0.10g及びジフェニル燐酸クロリド0.165
mlを加え,−20℃で1時間撹拌した。
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−1−プロペ
ン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボ
キシレート326mgのジクロロメタン6ml溶液に,
アルゴン気流下,−40℃にて4−ジメチルアミノピリ
ジン0.10g及びジフェニル燐酸クロリド0.165
mlを加え,−20℃で1時間撹拌した。
【0039】反応後,ジクロロメタン50mlを加え
て,冷水,冷炭酸水素ナトリウム水溶液,冷0.5N塩
酸水及び冷水の順に洗浄した後,無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した。濾過後,溶媒を減圧留去して,パラニト
ロベンジル (1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−
3−ジフェニルホスホリルオキシ−1−プロペン−1−
イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト458mgを得た。 理化学的性状 IR(KBr):1770cm-1 実施例1 1)
て,冷水,冷炭酸水素ナトリウム水溶液,冷0.5N塩
酸水及び冷水の順に洗浄した後,無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した。濾過後,溶媒を減圧留去して,パラニト
ロベンジル (1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−
3−ジフェニルホスホリルオキシ−1−プロペン−1−
イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト458mgを得た。 理化学的性状 IR(KBr):1770cm-1 実施例1 1)
【0040】
【化13】
【0041】参考例2で得られたパラニトロベンジル
(1R,5S,6S)−2−[(Z)−3−ジフェニル
ホスホリルオキシ−1−プロペニル]チオ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバ
ペン−2−エム−3−カルボキシレート599mgをア
セトニトリル12mlに溶解し,ヨウ化ナトリウム16
2mgを加えて室温で50分間撹拌した後,析出した不
溶物を濾過した。得られた溶液に3,4−ジヒドロ−2
H−ピリド[4,3−b]−1,4−チアジン165m
gを加えて室温で5時間撹拌する。エーテル80mlを
加えて析出した沈澱物を濾取し,減圧乾燥後25%アセ
トニトリル水溶液200mlに溶かし,ダイヤイオンH
P−20に吸着させ,水,20%アセトニトリル水,次
いで40%アセトニトリル水にて溶出させ,目的分画を
集めて減圧濃縮した後,凍結乾燥してパラニトロベンジ
ル(1R,5S,6S)−2−[[(Z)−3−(3,
4−ジヒドロ−2H−ピリド[4,3−b]−1,4−
チアジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバ
ペン−2−エム−3−カルボキシレートのヨウ化物20
5mgを得た。 理化学的性状 MS:569(M+) 2)
(1R,5S,6S)−2−[(Z)−3−ジフェニル
ホスホリルオキシ−1−プロペニル]チオ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバ
ペン−2−エム−3−カルボキシレート599mgをア
セトニトリル12mlに溶解し,ヨウ化ナトリウム16
2mgを加えて室温で50分間撹拌した後,析出した不
溶物を濾過した。得られた溶液に3,4−ジヒドロ−2
H−ピリド[4,3−b]−1,4−チアジン165m
gを加えて室温で5時間撹拌する。エーテル80mlを
加えて析出した沈澱物を濾取し,減圧乾燥後25%アセ
トニトリル水溶液200mlに溶かし,ダイヤイオンH
P−20に吸着させ,水,20%アセトニトリル水,次
いで40%アセトニトリル水にて溶出させ,目的分画を
集めて減圧濃縮した後,凍結乾燥してパラニトロベンジ
ル(1R,5S,6S)−2−[[(Z)−3−(3,
4−ジヒドロ−2H−ピリド[4,3−b]−1,4−
チアジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバ
ペン−2−エム−3−カルボキシレートのヨウ化物20
5mgを得た。 理化学的性状 MS:569(M+) 2)
【0042】
【化14】
【0043】1)で得られた化合物200mgをテトラ
ヒドロフラン10ml,pH6.1の0.35M燐酸緩
衝液10ml及び亜鉛末800mgを加えて,室温で7
0分間撹拌した。セライト濾過した溶液に水100ml
を加えて,酢酸エチル50mlで洗浄後,水層をアンバ
ーライトIR120B樹脂カラムクロマトグラフィーに
付し,水150mlで溶出させる。溶液を100mlま
で減圧濃縮し,ダイヤイオンHP−20に吸着させ,
水,10%アセトニトリル水,次いで15%アセトニト
リル水にて溶出させ,目的分画を集めて減圧濃縮し,凍
結乾燥して,(1R,5S,6S)−2−[[(Z)−
3−(3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[4,3−b]
−1,4−チアジン−6−イオ)−1−プロペニル]チ
オ]−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレート48
mgを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.02(3
H,d),1.14(3H,d),3.12(1H,d
d),3.18(1H,t),3.32(2H,m),
3.57(2H,t),3.91(1H,t),4.0
4(1H,dd),5.02(2H,d),5.87
(1H,q),6.85(1H,d),7.59(1
H,d),7.86(1H,d),8.20(1H,
s) MS:434(M++1) 実施例2
ヒドロフラン10ml,pH6.1の0.35M燐酸緩
衝液10ml及び亜鉛末800mgを加えて,室温で7
0分間撹拌した。セライト濾過した溶液に水100ml
を加えて,酢酸エチル50mlで洗浄後,水層をアンバ
ーライトIR120B樹脂カラムクロマトグラフィーに
付し,水150mlで溶出させる。溶液を100mlま
で減圧濃縮し,ダイヤイオンHP−20に吸着させ,
水,10%アセトニトリル水,次いで15%アセトニト
リル水にて溶出させ,目的分画を集めて減圧濃縮し,凍
結乾燥して,(1R,5S,6S)−2−[[(Z)−
3−(3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[4,3−b]
−1,4−チアジン−6−イオ)−1−プロペニル]チ
オ]−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレート48
mgを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.02(3
H,d),1.14(3H,d),3.12(1H,d
d),3.18(1H,t),3.32(2H,m),
3.57(2H,t),3.91(1H,t),4.0
4(1H,dd),5.02(2H,d),5.87
(1H,q),6.85(1H,d),7.59(1
H,d),7.86(1H,d),8.20(1H,
s) MS:434(M++1) 実施例2
【0044】
【化15】
【0045】実施例1と同様にして,(1R,5S,6
S)−2−[[(Z)−3−(3,4−ジヒドロ−2H
−ピリド[4,3−b]−1,4−オキサジン−6−イ
オ)−1−プロペニル]チオ]−6−(R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3
−カルボキシレートを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.00(3
H,d),1.14(3H,d),3.11(1H,
d),3.33(1H,t),3.40(2H,t),
3.91(1H,t),4.03(1H,dd),4.
42(2H,t),5.03(2H,d),5.87
(1H,q),6.85(1H,d),8.02(1
H,d),8.04(1H,d),8.29(1H,
s) MS:418(M++1) 実施例3
S)−2−[[(Z)−3−(3,4−ジヒドロ−2H
−ピリド[4,3−b]−1,4−オキサジン−6−イ
オ)−1−プロペニル]チオ]−6−(R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3
−カルボキシレートを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.00(3
H,d),1.14(3H,d),3.11(1H,
d),3.33(1H,t),3.40(2H,t),
3.91(1H,t),4.03(1H,dd),4.
42(2H,t),5.03(2H,d),5.87
(1H,q),6.85(1H,d),8.02(1
H,d),8.04(1H,d),8.29(1H,
s) MS:418(M++1) 実施例3
【0046】
【化16】 実施例1と同様にして,(1R,5S,6S)−2−
[[Z]−3−(3,4−ジヒドロ−2H−ピリド
[4,3−b]−3−オキソ−1,4−チアジン−6−
イオ)−1−プロペニル]チオ]−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペン−2−エム
−3−カルボキシレートを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.03(3
H,dd),1.15(3H,d),3.11(1H,
m),3.17(1H,t),3.74(1H,d
d),3.92(2H,s),4.06(1H,m),
5.08(1H,d),5.17(1H,d),5.0
9(1H,q),6.89(1H,d),8.05(1
H,d),8.40(1H,d),8.68(1H,
s) MS:448(M++1)
[[Z]−3−(3,4−ジヒドロ−2H−ピリド
[4,3−b]−3−オキソ−1,4−チアジン−6−
イオ)−1−プロペニル]チオ]−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペン−2−エム
−3−カルボキシレートを得た。 理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.03(3
H,dd),1.15(3H,d),3.11(1H,
m),3.17(1H,t),3.74(1H,d
d),3.92(2H,s),4.06(1H,m),
5.08(1H,d),5.17(1H,d),5.0
9(1H,q),6.89(1H,d),8.05(1
H,d),8.40(1H,d),8.68(1H,
s) MS:448(M++1)
【0047】以下に本発明の別の化合物(1)〜(6)
の化学名を掲記する。これらの化合物は前記実施例や製
造法に記載したものとほぼ同様の方法又はそれらの変法
を用いて容易に製造可能なものである。 (1)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−オキソ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−オキサジン−6−イオ)−1−プロ
ペニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート (2)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−イミノ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−チアジン−6−イオ)−1−プロペ
ニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチル)
−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレ
ート (3)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−イミノ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−オキサジン−6−イオ)−1−プロ
ペニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート (4)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチル−2−[(Z)−[3−
(1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド[4,3−
b]−ピラジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]
カルバペン−2−エム−3−カルボキシレート (5)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−2−[(Z)−[3−(3−イミノ−
1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド[4,3−b]
−ピラジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]−1
−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレート (6)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチル−2−[(Z)−[3−
(3−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド
[4,3−b]ピラジン−6−イオ)−1−プロペニ
ル]チオ]カルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト
の化学名を掲記する。これらの化合物は前記実施例や製
造法に記載したものとほぼ同様の方法又はそれらの変法
を用いて容易に製造可能なものである。 (1)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−オキソ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−オキサジン−6−イオ)−1−プロ
ペニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート (2)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−イミノ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−チアジン−6−イオ)−1−プロペ
ニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチル)
−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレ
ート (3)(1R,5S,6S)−2−[(Z)−[3−
(3,4−ジヒドロ−3−イミノ−2H−ピリド[4,
3−b]−1,4−オキサジン−6−イオ)−1−プロ
ペニル]チオ]−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキ
シレート (4)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチル−2−[(Z)−[3−
(1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド[4,3−
b]−ピラジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]
カルバペン−2−エム−3−カルボキシレート (5)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−2−[(Z)−[3−(3−イミノ−
1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド[4,3−b]
−ピラジン−6−イオ)−1−プロペニル]チオ]−1
−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボキシレート (6)(1R,5S,6S)−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチル−2−[(Z)−[3−
(3−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロ−ピリド
[4,3−b]ピラジン−6−イオ)−1−プロペニ
ル]チオ]カルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横田 正樹 茨城県つくば市二の宮2ー5ー9 ルーミ ー筑波315 (72)発明者 新木 富雄 茨城県つくば市二の宮2−5−9 ルーミ ー筑波316 (72)発明者 村上 猛 茨城県つくば市二の宮3−13−1 ルーミ ーにのみや422 (72)発明者 野原 智恵子 茨城県つくば市二の宮3−24−6 ハイツ ライラック202号
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で示される化合物又は
その塩。 【化1】 (式中の記号は以下の意味を有する。 R:水素原子,陰電荷又はエステル残基 X:−S−,−O−又は−NH− Y:O,NH又はH2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5192832A JPH0717980A (ja) | 1993-07-06 | 1993-07-06 | カルバペネム誘導体又はその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5192832A JPH0717980A (ja) | 1993-07-06 | 1993-07-06 | カルバペネム誘導体又はその塩 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0717980A true JPH0717980A (ja) | 1995-01-20 |
Family
ID=16297725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5192832A Pending JPH0717980A (ja) | 1993-07-06 | 1993-07-06 | カルバペネム誘導体又はその塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717980A (ja) |
-
1993
- 1993-07-06 JP JP5192832A patent/JPH0717980A/ja active Pending
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