JPH07182687A - 光ピックアップ - Google Patents
光ピックアップInfo
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- JPH07182687A JPH07182687A JP5327856A JP32785693A JPH07182687A JP H07182687 A JPH07182687 A JP H07182687A JP 5327856 A JP5327856 A JP 5327856A JP 32785693 A JP32785693 A JP 32785693A JP H07182687 A JPH07182687 A JP H07182687A
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- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- hologram element
- mirror
- light
- optical pickup
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1353—Diffractive elements, e.g. holograms or gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光源からのビームの光軸をディスクに垂直な
方向に変換する光学部品として、ホログラムミラーを用
いた光ピックアップにおいて、ホログラムミラーの回折
特性を高める。回折特性の経年劣化を防ぐ。ホログラム
ミラーの作製を容易にする。 【構成】 ホログラムミラー１２の基板表面１３（光入
射側の面）に透過型のホログラム素子を形成する。基板
裏面１４に反射膜２０を形成する。ホログラム素子の回
折特性を支配する溝形状が、反射膜２０の存在によって
も変化しない。反射膜２０が経年劣化してその表面の一
部に変形等が生じても、回折特性が変化しない。反射膜
２０の寸法精度が緩和され、その作製が容易になる。ホ
ログラムミラー１２の基板裏面１４にホログラム素子を
形成し、且つその上に反射膜２０を形成してもよい。
方向に変換する光学部品として、ホログラムミラーを用
いた光ピックアップにおいて、ホログラムミラーの回折
特性を高める。回折特性の経年劣化を防ぐ。ホログラム
ミラーの作製を容易にする。 【構成】 ホログラムミラー１２の基板表面１３（光入
射側の面）に透過型のホログラム素子を形成する。基板
裏面１４に反射膜２０を形成する。ホログラム素子の回
折特性を支配する溝形状が、反射膜２０の存在によって
も変化しない。反射膜２０が経年劣化してその表面の一
部に変形等が生じても、回折特性が変化しない。反射膜
２０の寸法精度が緩和され、その作製が容易になる。ホ
ログラムミラー１２の基板裏面１４にホログラム素子を
形成し、且つその上に反射膜２０を形成してもよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク等の情報記
録媒体に対してレーザ光を照射して情報記録媒体の記録
面上に情報を光学的に記録し、或いは情報記録媒体から
の戻り光を検出することにより、記録面に書き込まれた
（記録された）情報を再生する光ピックアップに関し、
更に詳しくは、光源からの入射光の光軸を情報記録媒体
の記録面に対して垂直となる方向に変換する光学部品と
してホログラムミラーを備えた薄型の光ピックアップに
関する。
録媒体に対してレーザ光を照射して情報記録媒体の記録
面上に情報を光学的に記録し、或いは情報記録媒体から
の戻り光を検出することにより、記録面に書き込まれた
（記録された）情報を再生する光ピックアップに関し、
更に詳しくは、光源からの入射光の光軸を情報記録媒体
の記録面に対して垂直となる方向に変換する光学部品と
してホログラムミラーを備えた薄型の光ピックアップに
関する。
【０００２】
【従来の技術】高密度で多大の情報を記録することがで
きる光ディスクは、近年多くの分野において利用が進め
られている。特に、光ディスクは非接触で情報の記録／
再生が行え、かつ媒体交換が可能であるという特長を有
するため、光ファイルやコンピュータの外部記憶媒体と
して有望視されている。
きる光ディスクは、近年多くの分野において利用が進め
られている。特に、光ディスクは非接触で情報の記録／
再生が行え、かつ媒体交換が可能であるという特長を有
するため、光ファイルやコンピュータの外部記憶媒体と
して有望視されている。
【０００３】このような光ディスクに対しては、一般
に、レーザ光を用いた光ピックアップによって情報の記
録或は再生が行われ、媒体によっては記録された情報が
消去され、または書き換えられる。この種の光ピックア
ップでは、高速アクセス化のために、小型軽量化が重要
な課題になっている。
に、レーザ光を用いた光ピックアップによって情報の記
録或は再生が行われ、媒体によっては記録された情報が
消去され、または書き換えられる。この種の光ピックア
ップでは、高速アクセス化のために、小型軽量化が重要
な課題になっている。
【０００４】このような課題を解決する光ピックアップ
の一従来例として、特開平２−７１４４２号公報やＵ．
Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ４，９１８，６７９に開示されたもの
がある。これらの従来例では、ホログラムミラーを用い
ることにより光ピックアップの薄型化を図って、小型軽
量化している。
の一従来例として、特開平２−７１４４２号公報やＵ．
Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ４，９１８，６７９に開示されたもの
がある。これらの従来例では、ホログラムミラーを用い
ることにより光ピックアップの薄型化を図って、小型軽
量化している。
【０００５】図１２は、ホログラムミラーを用いた従来
の薄型の光ピックアップを示す。図示しない半導体レー
ザ素子から出射されたレーザ光は、コリメートレンズ６
で平行光化される。続いて、この平行光ｘはホログラム
ミラー７に導かれる。ホログラムミラー７に入射した光
は、ホログラムミラー７の光入射側の面に作製されてい
る反射型のホログラム素子７ａで、ディスク１０の表面
に垂直な方向に１次回折反射され、続いて対物レンズ９
でディスク１０上に集光される。
の薄型の光ピックアップを示す。図示しない半導体レー
ザ素子から出射されたレーザ光は、コリメートレンズ６
で平行光化される。続いて、この平行光ｘはホログラム
ミラー７に導かれる。ホログラムミラー７に入射した光
は、ホログラムミラー７の光入射側の面に作製されてい
る反射型のホログラム素子７ａで、ディスク１０の表面
に垂直な方向に１次回折反射され、続いて対物レンズ９
でディスク１０上に集光される。
【０００６】ホログラムミラー７の光入射側の面に作製
された反射型のホログラム素子７ａは、例えばピッチｄ
の直線格子であり、その断面形状は鋸歯形状になってい
る。即ち、このホログラム素子７ａは、ホログラムミラ
ー７の基板表面にピッチｄの鋸歯形状の溝を形成し、基
板表面に反射膜１８を被覆して構成されている。この構
成により、ホログラムミラー７の光ディスク垂直方向の
厚みが、４５度立ち上げミラーを用いる通常の光ピック
アップに比べて薄くなり、光ピックアップの薄型化が達
成される。
された反射型のホログラム素子７ａは、例えばピッチｄ
の直線格子であり、その断面形状は鋸歯形状になってい
る。即ち、このホログラム素子７ａは、ホログラムミラ
ー７の基板表面にピッチｄの鋸歯形状の溝を形成し、基
板表面に反射膜１８を被覆して構成されている。この構
成により、ホログラムミラー７の光ディスク垂直方向の
厚みが、４５度立ち上げミラーを用いる通常の光ピック
アップに比べて薄くなり、光ピックアップの薄型化が達
成される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構造の
従来のホログラムミラーでは、反射型のホログラム素子
７ａによる１次光の回折効率は、光が入射する側のホロ
グラム素子７ａの溝形状に依存している。そして、従来
の素子構成では、その溝に反射膜１８が被覆されている
ため、図１２（ｂ）に示すように、ホログラム素子７ａ
の実質的な溝深さが浅くなると共に、その形状も丸くな
っている。このため、所望の回折効率を得ることが困難
であった。しかも、その溝形状の悪化を抑制する必要
上、非常に高度な成膜技術が要求されるため、反射膜の
製作が困難になり、光ピックアップの製造効率を向上す
る上でのネックになっていた。
従来のホログラムミラーでは、反射型のホログラム素子
７ａによる１次光の回折効率は、光が入射する側のホロ
グラム素子７ａの溝形状に依存している。そして、従来
の素子構成では、その溝に反射膜１８が被覆されている
ため、図１２（ｂ）に示すように、ホログラム素子７ａ
の実質的な溝深さが浅くなると共に、その形状も丸くな
っている。このため、所望の回折効率を得ることが困難
であった。しかも、その溝形状の悪化を抑制する必要
上、非常に高度な成膜技術が要求されるため、反射膜の
製作が困難になり、光ピックアップの製造効率を向上す
る上でのネックになっていた。
【０００８】また、経年変化により反射膜表面の一部に
劣化や変形、変質が生じることがある。これらの現象
は、ホログラム素子７ａの溝形状が変化することと同等
である。そのため、反射膜の経年変化によっても、回折
効率の低下や、不必要な高次回折光の発生を引き起こす
おそれがあった。
劣化や変形、変質が生じることがある。これらの現象
は、ホログラム素子７ａの溝形状が変化することと同等
である。そのため、反射膜の経年変化によっても、回折
効率の低下や、不必要な高次回折光の発生を引き起こす
おそれがあった。
【０００９】本発明は上記従来技術の問題点を解決する
ものであり、その目的は、ホログラムミラーにおけるホ
ログラム素子の溝形状が反射膜の存在によっても変化せ
ず、高性能あり、しかも、その高性能が長期間維持さ
れ、更に、製作も容易な光ピックアップを提供すること
にある。
ものであり、その目的は、ホログラムミラーにおけるホ
ログラム素子の溝形状が反射膜の存在によっても変化せ
ず、高性能あり、しかも、その高性能が長期間維持さ
れ、更に、製作も容易な光ピックアップを提供すること
にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の光ピックアップ
は、光源からの出射ビームの光軸をディスク面に対して
垂直となる方向に変換する光学部品として、ホログラム
ミラーを備えた光ピックアップであって、該ホログラム
ミラーが、対向する２面を有する透光性の基板と、該基
板の一方の面に形成されたホログラム素子と、該ホログ
ラム素子上に形成された反射膜とを具備して形成され、
該ホログラム素子が、該基板の他方の面から透過して入
射する入射光の指定した１次回折光のみを強く反射して
回折するブレーズ特性を有しており、そのことにより上
記目的が達成される。
は、光源からの出射ビームの光軸をディスク面に対して
垂直となる方向に変換する光学部品として、ホログラム
ミラーを備えた光ピックアップであって、該ホログラム
ミラーが、対向する２面を有する透光性の基板と、該基
板の一方の面に形成されたホログラム素子と、該ホログ
ラム素子上に形成された反射膜とを具備して形成され、
該ホログラム素子が、該基板の他方の面から透過して入
射する入射光の指定した１次回折光のみを強く反射して
回折するブレーズ特性を有しており、そのことにより上
記目的が達成される。
【００１１】また、本発明の光ピックアップは、光源か
らの出射ビームの光軸をディスク面に対して垂直となる
方向に変換する光学部品として、ホログラムミラーを備
えた光ピックアップであって、該ホログラムミラーが、
対向する２面を有する透光性の基板と、該基板の一方の
面に形成された透過型のホログラム素子と、該基板の他
方の面に形成された反射膜とを具備して形成され、該ホ
ログラム素子が、入射光の指定した１次回折光のみを強
く回折するブレーズ特性を有しており、そのことにより
上記目的が達成される。
らの出射ビームの光軸をディスク面に対して垂直となる
方向に変換する光学部品として、ホログラムミラーを備
えた光ピックアップであって、該ホログラムミラーが、
対向する２面を有する透光性の基板と、該基板の一方の
面に形成された透過型のホログラム素子と、該基板の他
方の面に形成された反射膜とを具備して形成され、該ホ
ログラム素子が、入射光の指定した１次回折光のみを強
く回折するブレーズ特性を有しており、そのことにより
上記目的が達成される。
【００１２】好ましくは、前記ホログラム素子として、
入射光が有する非点隔差を補正するホログラムパターン
を具備するものを用いる。
入射光が有する非点隔差を補正するホログラムパターン
を具備するものを用いる。
【００１３】また、好ましくは、前記ホログラム素子の
ホログラムパターンが直線格子である。
ホログラムパターンが直線格子である。
【００１４】また、好ましくは、前記ホログラム素子の
ホログラムパターンが格子周期が徐々に変化するもので
ある。
ホログラムパターンが格子周期が徐々に変化するもので
ある。
【００１５】
【作用】上記第１の構成によれば、ホログラムミラーに
入射した光は、基板の光入射側の面に形成された透過型
のホログラム素子で１次回折を起こす。続いて、この１
次回折光は基板を透過し、反射膜が被覆された反対側の
面で全反射する。その反射光は光入射側の面に形成され
た透過型のホログラム素子で再び１次回折を起こし、そ
の１次回折光は光ディスク面に向かう。このような構成
によれば、ホログラム素子の上に反射膜が形成されてい
ないので、その特性は反射膜の影響を受けない。即ち、
回折効率が低くなったり、不必要な高次回折光が発生す
ることがない。しかも、この反射膜はホログラム素子の
保護層として機能する。
入射した光は、基板の光入射側の面に形成された透過型
のホログラム素子で１次回折を起こす。続いて、この１
次回折光は基板を透過し、反射膜が被覆された反対側の
面で全反射する。その反射光は光入射側の面に形成され
た透過型のホログラム素子で再び１次回折を起こし、そ
の１次回折光は光ディスク面に向かう。このような構成
によれば、ホログラム素子の上に反射膜が形成されてい
ないので、その特性は反射膜の影響を受けない。即ち、
回折効率が低くなったり、不必要な高次回折光が発生す
ることがない。しかも、この反射膜はホログラム素子の
保護層として機能する。
【００１６】また、上記第２の構成によれば、ホログラ
ムミラーに入射した光が、基板を透過して、光入射側の
面とは反対側の面に形成されたホログラム素子で１次回
折を起こすと共に、ホログラム素子の上に被覆された反
射膜で反射する。反射した１次回折光は基板を透過し、
光入射側の面から出射して光ディスクに向かう。ホログ
ラム素子の上に反射膜が形成されているが、その回折特
性は光入射側から見たホログラム素子の溝形状に依存し
ている。従って、この場合に、溝形状は、ホログラム素
子の上に形成された反射膜の影響を受けることがない。
即ち、このような構成によれば、ホログラム素子の上に
反射膜が形成されているにもかかわらず、その特性は反
射膜の影響を受けることがない。
ムミラーに入射した光が、基板を透過して、光入射側の
面とは反対側の面に形成されたホログラム素子で１次回
折を起こすと共に、ホログラム素子の上に被覆された反
射膜で反射する。反射した１次回折光は基板を透過し、
光入射側の面から出射して光ディスクに向かう。ホログ
ラム素子の上に反射膜が形成されているが、その回折特
性は光入射側から見たホログラム素子の溝形状に依存し
ている。従って、この場合に、溝形状は、ホログラム素
子の上に形成された反射膜の影響を受けることがない。
即ち、このような構成によれば、ホログラム素子の上に
反射膜が形成されているにもかかわらず、その特性は反
射膜の影響を受けることがない。
【００１７】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１８】（実施例１）図１は本発明光ピックアップ
の実施例１を示す。この光ピックアップは、光源として
の半導体レーザ素子１およびディスク（光ディスク）１
０からの戻り光を検出する光検出器３等を一体化したホ
ログラムレーザユニット５を備えている。ホログラムレ
ーザユニット５内の半導体レーザ素子１から出射された
光は、ホログラム素子２’、２を経て、ミラーコリメー
トレンズ６で平行光化され、続いて、コリメートレンズ
６の前方に配設されたホログラムミラー１２に導かれ
る。
の実施例１を示す。この光ピックアップは、光源として
の半導体レーザ素子１およびディスク（光ディスク）１
０からの戻り光を検出する光検出器３等を一体化したホ
ログラムレーザユニット５を備えている。ホログラムレ
ーザユニット５内の半導体レーザ素子１から出射された
光は、ホログラム素子２’、２を経て、ミラーコリメー
トレンズ６で平行光化され、続いて、コリメートレンズ
６の前方に配設されたホログラムミラー１２に導かれ
る。
【００１９】ホログラムミラー１２は、入射ビームのビ
ーム径を拡大すると共に、この入射ビームをディスク１
０の表面に垂直な方向に立ち上げる。立ち上げられたビ
ームは、対物レンズ９により集束されてディスク１０の
表面に光スポットとして照射される。
ーム径を拡大すると共に、この入射ビームをディスク１
０の表面に垂直な方向に立ち上げる。立ち上げられたビ
ームは、対物レンズ９により集束されてディスク１０の
表面に光スポットとして照射される。
【００２０】ディスク１０の表面で反射された光は、戻
り光となって上記とは逆の経路を辿ってホログラムレー
ザユニット５内のホログラム素子２に入射する。ホログ
ラム素子２は入射光を１次回折して、光検出器３に導
く。光検出器３は、この戻り光によりフォーカスエラー
信号（ＦＥＳ）、ラジアルエラー信号（ＲＥＳ）および
情報信号を検出する。そして、検出されたフォーカスエ
ラー信号（ＦＥＳ）およびラジアルエラー信号（ＲＥ
Ｓ）に従って、対物レンズ９がアクチュエータ１１によ
りフォーカス方向およびラジアル方向に駆動されて、フ
ォーカス制御およびトラッキング制御が行われる。
り光となって上記とは逆の経路を辿ってホログラムレー
ザユニット５内のホログラム素子２に入射する。ホログ
ラム素子２は入射光を１次回折して、光検出器３に導
く。光検出器３は、この戻り光によりフォーカスエラー
信号（ＦＥＳ）、ラジアルエラー信号（ＲＥＳ）および
情報信号を検出する。そして、検出されたフォーカスエ
ラー信号（ＦＥＳ）およびラジアルエラー信号（ＲＥ
Ｓ）に従って、対物レンズ９がアクチュエータ１１によ
りフォーカス方向およびラジアル方向に駆動されて、フ
ォーカス制御およびトラッキング制御が行われる。
【００２１】図２はホログラムミラー１２の詳細を示
す。ホログラムミラー１２は、対向する２面を有する光
透過性のある基板Ａを備えている。基板Ａとしては、例
えばガラス基板を用いる。基板Ａは、入射ビームの光軸
に対してθの角度で傾斜している。そして、基板Ａの光
入射側の面、即ち表面１３には、周期ｄのブレーズ化さ
れた透過型のホログラム素子１３ａが形成され、反対側
の面、即ち裏面１４には、反射膜２０がコーティングさ
れている。この反射膜２０としては、ＡｕやＡｌ等の反
射率が高い周知の金属膜（多層膜を含む）を用いること
ができる。
す。ホログラムミラー１２は、対向する２面を有する光
透過性のある基板Ａを備えている。基板Ａとしては、例
えばガラス基板を用いる。基板Ａは、入射ビームの光軸
に対してθの角度で傾斜している。そして、基板Ａの光
入射側の面、即ち表面１３には、周期ｄのブレーズ化さ
れた透過型のホログラム素子１３ａが形成され、反対側
の面、即ち裏面１４には、反射膜２０がコーティングさ
れている。この反射膜２０としては、ＡｕやＡｌ等の反
射率が高い周知の金属膜（多層膜を含む）を用いること
ができる。
【００２２】基板の表面１３に形成された透過型のホロ
グラム素子１３ａの断面溝形状としては、第２図に示す
ように、ホログラム素子１３ａの法線ｍに対して入射角
αで、波長λのビームが入射したときに、その主な回折
光である−１次回折光ａ、０次回折光ｂ及び＋１次回折
光ｃのうち、＋１次回折光ｃのみが発生するように、溝
傾斜角βおよび溝深さｔが最適化された鋸歯形状が採用
されている。
グラム素子１３ａの断面溝形状としては、第２図に示す
ように、ホログラム素子１３ａの法線ｍに対して入射角
αで、波長λのビームが入射したときに、その主な回折
光である−１次回折光ａ、０次回折光ｂ及び＋１次回折
光ｃのうち、＋１次回折光ｃのみが発生するように、溝
傾斜角βおよび溝深さｔが最適化された鋸歯形状が採用
されている。
【００２３】ホログラム素子１３ａで発生した＋１次回
折光ｃは、反射膜２０がコーティングされた裏面１４で
全反射し、再び表面１３で回折を起こす。このときも、
主な回折光である−１次回折光ｇ、０次回折光ｆ、＋１
次回折光ｅのうち、＋１次回折光ｅのみが発生し、その
＋１次回折光ｅが、法線ｍに対して出射角γで出射して
対物レンズ９に向かう。
折光ｃは、反射膜２０がコーティングされた裏面１４で
全反射し、再び表面１３で回折を起こす。このときも、
主な回折光である−１次回折光ｇ、０次回折光ｆ、＋１
次回折光ｅのうち、＋１次回折光ｅのみが発生し、その
＋１次回折光ｅが、法線ｍに対して出射角γで出射して
対物レンズ９に向かう。
【００２４】このような構造のホログラムミラー１２で
は、反射膜２０は基板Ａの裏面１４、即ちホログラム素
子１３ａと反対側の面にコーティングされているため、
反射膜２０が存在していてもホログラム素子１３ａの溝
形状が変化することがない。また、反射膜２０の表面が
劣化、変形しても、光が反射する裏面１４には何らの影
響も与えない。更には、反射膜２０の寸法精度が緩和さ
れることから、その作製も容易になる。
は、反射膜２０は基板Ａの裏面１４、即ちホログラム素
子１３ａと反対側の面にコーティングされているため、
反射膜２０が存在していてもホログラム素子１３ａの溝
形状が変化することがない。また、反射膜２０の表面が
劣化、変形しても、光が反射する裏面１４には何らの影
響も与えない。更には、反射膜２０の寸法精度が緩和さ
れることから、その作製も容易になる。
【００２５】加えて、ホログラムミラー１２の光ディス
ク垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーを使う場合
に比べて、幾何学的関係により、ｓｉｎγ倍薄くでき
る。そして、このｓｉｎγは入射角α、出射角γおよび
格子周期ｄを用いて下記（１）式で表される。
ク垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーを使う場合
に比べて、幾何学的関係により、ｓｉｎγ倍薄くでき
る。そして、このｓｉｎγは入射角α、出射角γおよび
格子周期ｄを用いて下記（１）式で表される。
【００２６】ｓｉｎγ＝ｓｉｎα−２λ／ｄ …（１） このように、本発明のホログラムミラー１２では、同一
のホログラム素子１３ａにより入射光を２回回折させて
その光軸を変換しているので、従来のホログラムミラー
に比べて１回あたりの回折角を小さくすることができ
る。この結果、ホログラム素子１３ａにおける格子周期
を大きくできるので、ホログラム素子１３ａの作製も容
易となる。
のホログラム素子１３ａにより入射光を２回回折させて
その光軸を変換しているので、従来のホログラムミラー
に比べて１回あたりの回折角を小さくすることができ
る。この結果、ホログラム素子１３ａにおける格子周期
を大きくできるので、ホログラム素子１３ａの作製も容
易となる。
【００２７】本実施例１のホログラム素子１３ａは、以
下の各方法によって作製される。その一つは、まず、光
透過性のある基板Ａ、例えばガラス基板の表面１３に図
３（ａ）に示すような周期ｄの直線格子のホログラムパ
ターンを転写し、続いて、転写されたホログラムパター
ンに対し斜め入射イオンビームブレーズエッチングを施
すことにより作製される。他の方法としては、基板Ａの
表面を切削加工することにより上記同様のホログラムパ
ターンを直接形成する方法がある。
下の各方法によって作製される。その一つは、まず、光
透過性のある基板Ａ、例えばガラス基板の表面１３に図
３（ａ）に示すような周期ｄの直線格子のホログラムパ
ターンを転写し、続いて、転写されたホログラムパター
ンに対し斜め入射イオンビームブレーズエッチングを施
すことにより作製される。他の方法としては、基板Ａの
表面を切削加工することにより上記同様のホログラムパ
ターンを直接形成する方法がある。
【００２８】図３（ａ）に示すホログラムパターンの設
計は、具体的には、例えば図４に示すように、ホログラ
ムミラー１２に入射する半導体レーザ素子１からの平行
光ｈ1と、対物レンズ方向からの平行光ｈ3が基板Ａの裏
面１４で反射して表面１３に達する光束と等価な平行光
ｈ2とを、基板Ａの表面１３で干渉させて生成する２光
束干渉法によって行われる。或は、計算機ホログラム
等、既に良く知られている手法を用いて設計することも
できる。
計は、具体的には、例えば図４に示すように、ホログラ
ムミラー１２に入射する半導体レーザ素子１からの平行
光ｈ1と、対物レンズ方向からの平行光ｈ3が基板Ａの裏
面１４で反射して表面１３に達する光束と等価な平行光
ｈ2とを、基板Ａの表面１３で干渉させて生成する２光
束干渉法によって行われる。或は、計算機ホログラム
等、既に良く知られている手法を用いて設計することも
できる。
【００２９】なお、上記の平行光ｈ1は光源である半導
体レーザ素子１の非点隔差成分を含んでいてもよい。そ
の場合、ホログラムパターンは、図３（ｂ）に示すよう
に、非点隔差を補正できる周期ｄ’のほぼ直線とするの
が望ましい。そうすれば、ディスク１０上でのビームの
集光特性が良くなり、良好な情報の記録再生が可能とな
るからである。
体レーザ素子１の非点隔差成分を含んでいてもよい。そ
の場合、ホログラムパターンは、図３（ｂ）に示すよう
に、非点隔差を補正できる周期ｄ’のほぼ直線とするの
が望ましい。そうすれば、ディスク１０上でのビームの
集光特性が良くなり、良好な情報の記録再生が可能とな
るからである。
【００３０】次に、本実施例１の具体的な数値例を示
す。ここでは、ホログラムミラー１２への入射角と、ホ
ログラムミラー１２からの出射角とのなす角度が９０度
になる配置を考えている。
す。ここでは、ホログラムミラー１２への入射角と、ホ
ログラムミラー１２からの出射角とのなす角度が９０度
になる配置を考えている。
【００３１】半導体レーザ素子１の波長を０．７８μ
ｍ、コリメートレンズ６で平行光とされたビームの楕円
率を１：３とし、このビームの断面光強度分布を円状に
拡大して整形する場合を仮定すると、ホログラムミラー
１２でのビーム整形率を３倍にする必要がある。従っ
て、この場合のホログラムミラー１２の入射光の光軸に
対する傾斜角度θは、 θ＝ｔａｎ-1（１／３）＝１８．４度 となる。
ｍ、コリメートレンズ６で平行光とされたビームの楕円
率を１：３とし、このビームの断面光強度分布を円状に
拡大して整形する場合を仮定すると、ホログラムミラー
１２でのビーム整形率を３倍にする必要がある。従っ
て、この場合のホログラムミラー１２の入射光の光軸に
対する傾斜角度θは、 θ＝ｔａｎ-1（１／３）＝１８．４度 となる。
【００３２】この結果より、入射角αはα＝７１．６度
（９０度−１８．４度）となり、また、α＋γ＝９０度
の関係を有するので、出射角γはγ＝１８．４となる。
従って、上記（１）式より、格子周期ｄはｄ＝２．４６
μｍとなる。この格子周期ｄの具体的な数値からも分か
るように、ホログラム素子としてはブレーズ加工のしや
すい比較的広い周期のものである。
（９０度−１８．４度）となり、また、α＋γ＝９０度
の関係を有するので、出射角γはγ＝１８．４となる。
従って、上記（１）式より、格子周期ｄはｄ＝２．４６
μｍとなる。この格子周期ｄの具体的な数値からも分か
るように、ホログラム素子としてはブレーズ加工のしや
すい比較的広い周期のものである。
【００３３】また、ホログラムミラー１２のディスク１
０の垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーの場合に
比べて、ｓｉｎ（１８．４度）＝０．３１６倍となり、
１／３以下の厚さになっている。
０の垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーの場合に
比べて、ｓｉｎ（１８．４度）＝０．３１６倍となり、
１／３以下の厚さになっている。
【００３４】更に本実施例１の別の具体的な数値例とし
て、図５に示すように、ホログラムミラー１２をディス
ク１０と平行に配置した場合を考える。
て、図５に示すように、ホログラムミラー１２をディス
ク１０と平行に配置した場合を考える。
【００３５】上記数値例と同様に、コリメートレンズ６
で平行光とされたビームの楕円率を１：３とし、このビ
ームの断面光強度分布を円状に拡大して整形する場合を
仮定すると、ホログラムミラー１２でのビーム整形率を
３倍にする必要がある。従って、光源方向からの入射角
αとしては、同様にα＝７１．６度となる。そして、こ
こでは出射角γ＝０であるから、上記（１）式より、格
子周期ｄ＝１．６４μｍとなる。
で平行光とされたビームの楕円率を１：３とし、このビ
ームの断面光強度分布を円状に拡大して整形する場合を
仮定すると、ホログラムミラー１２でのビーム整形率を
３倍にする必要がある。従って、光源方向からの入射角
αとしては、同様にα＝７１．６度となる。そして、こ
こでは出射角γ＝０であるから、上記（１）式より、格
子周期ｄ＝１．６４μｍとなる。
【００３６】入射角αを確保するため、図５ではホログ
ラムレーザユニット５およびコリメートレンズ６をディ
スク１０の表面に対して傾けて配置しているが、図６に
示すように、ホログラムミラー１２とコリメートレンズ
６との間にプリズム１９を配置すれば、ホログラムレー
ザユニット５およびコリメートレンズ６を、ホログラム
ミラー１２と共に、ディスク１０の表面に対して平行に
配置することが可能になる。
ラムレーザユニット５およびコリメートレンズ６をディ
スク１０の表面に対して傾けて配置しているが、図６に
示すように、ホログラムミラー１２とコリメートレンズ
６との間にプリズム１９を配置すれば、ホログラムレー
ザユニット５およびコリメートレンズ６を、ホログラム
ミラー１２と共に、ディスク１０の表面に対して平行に
配置することが可能になる。
【００３７】但し、この場合は、プリズム１９がビーム
整形機能を有するので、それを考慮してホログラムミラ
ー１２に対する入射角α′は、図５の配置例での入射角
αより大きくして整形比を大きくすることが必要にな
る。
整形機能を有するので、それを考慮してホログラムミラ
ー１２に対する入射角α′は、図５の配置例での入射角
αより大きくして整形比を大きくすることが必要にな
る。
【００３８】（実施例２）図７は本発明の実施例２を示
す。本実施例２が上記の実施例２と大きく異なる点は、
ホログラムミラー１２において、ホログラム素子および
反射膜２０が、いずれも基板Ａの裏面側に設けられてい
る点である。
す。本実施例２が上記の実施例２と大きく異なる点は、
ホログラムミラー１２において、ホログラム素子および
反射膜２０が、いずれも基板Ａの裏面側に設けられてい
る点である。
【００３９】即ち、本実施例２では、半導体レーザ素子
１から出射され、コリメートレンズ６で平行光とされた
ビームが、ホログラムミラー１２の基板表面１３’を入
射角αで透過し、裏面１４’のブレーズ化された格子周
期ｄのホログラム素子により１次回折すると共に、ホロ
グラム素子上にコーティングされた反射膜２０により反
射し、再び表面１３’を出射角γで透過して対物レンズ
９の方向に立ち上げられる構成になっている。反射膜２
０としては、回折光が反射しやすいように、実施例１と
同様、ＡｕやＡｌ等の反射率が高い周知の金属膜（多層
膜を含む）が用いられる。
１から出射され、コリメートレンズ６で平行光とされた
ビームが、ホログラムミラー１２の基板表面１３’を入
射角αで透過し、裏面１４’のブレーズ化された格子周
期ｄのホログラム素子により１次回折すると共に、ホロ
グラム素子上にコーティングされた反射膜２０により反
射し、再び表面１３’を出射角γで透過して対物レンズ
９の方向に立ち上げられる構成になっている。反射膜２
０としては、回折光が反射しやすいように、実施例１と
同様、ＡｕやＡｌ等の反射率が高い周知の金属膜（多層
膜を含む）が用いられる。
【００４０】このように、基板Ａの裏面側にホログラム
素子を設けたホログラムミラー１２では、ホログラム素
子の回折効率が、光入射側からみたホログラム素子の溝
形状に依存するため、ホログラム素子の上にコーティン
グされた反射膜２０が、ホログラム素子の回折効率に影
響を与えることがない。換言すると、ホログラム素子１
３ａを裏面１４’の側から見たときに、その溝が反射膜
２０で埋まっていたとしても、ホログラム素子の回折効
率は影響を受けることがない。
素子を設けたホログラムミラー１２では、ホログラム素
子の回折効率が、光入射側からみたホログラム素子の溝
形状に依存するため、ホログラム素子の上にコーティン
グされた反射膜２０が、ホログラム素子の回折効率に影
響を与えることがない。換言すると、ホログラム素子１
３ａを裏面１４’の側から見たときに、その溝が反射膜
２０で埋まっていたとしても、ホログラム素子の回折効
率は影響を受けることがない。
【００４１】従って、本実施例２でも、実施例１と同様
に、回折特性を支配するホログラム素子の溝形状が、反
射膜２０の存在によっても変化せず、その存在による特
性低下がない。また、反射膜２０の寸法精度が緩和され
るために、その作製が容易となる。更に、本実施例２で
は、ホログラム素子の溝が反射膜２０によって保護さ
れ、ホログラム素子の劣化が抑えられるという利点もあ
る。
に、回折特性を支配するホログラム素子の溝形状が、反
射膜２０の存在によっても変化せず、その存在による特
性低下がない。また、反射膜２０の寸法精度が緩和され
るために、その作製が容易となる。更に、本実施例２で
は、ホログラム素子の溝が反射膜２０によって保護さ
れ、ホログラム素子の劣化が抑えられるという利点もあ
る。
【００４２】また、ホログラムミラー１２のディスク垂
直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーを使用する場合
に比べてｓｉｎγ倍薄くなる。但し、ｓｉｎγは、この
場合は入射角α、出射角γおよび格子周期ｄを用いて次
式で表される。
直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーを使用する場合
に比べてｓｉｎγ倍薄くなる。但し、ｓｉｎγは、この
場合は入射角α、出射角γおよび格子周期ｄを用いて次
式で表される。
【００４３】ｓｉｎγ＝ｓｉｎα−λ／ｄ …（２） 次に、本実施例２の具体的な数値例を示す。ここでは、
ホログラムミラー１２への入射角αと、ホログラムミラ
ー１２からの出射角γとのなす角度が９０度になる配置
を考える。
ホログラムミラー１２への入射角αと、ホログラムミラ
ー１２からの出射角γとのなす角度が９０度になる配置
を考える。
【００４４】半導体レーザ素子１の波長を０．７８μ
ｍ、コリメートレンズ６で平行光とされたビームの楕円
率を１：３とし、ビームの断面光強度分布を円状に拡大
して整形する場合を仮定すると、ホログラムミラー１２
でのビーム整形率を３倍にする必要がある。従って、ホ
ログラムミラー１２の入射光の光軸に対する傾斜角度θ
は、 θ＝ｔａｎ-1（１／３）＝１８．４度 となる。
ｍ、コリメートレンズ６で平行光とされたビームの楕円
率を１：３とし、ビームの断面光強度分布を円状に拡大
して整形する場合を仮定すると、ホログラムミラー１２
でのビーム整形率を３倍にする必要がある。従って、ホ
ログラムミラー１２の入射光の光軸に対する傾斜角度θ
は、 θ＝ｔａｎ-1（１／３）＝１８．４度 となる。
【００４５】この結果より、入射角αはα＝７１．６度
となり、また、α＋γ＝９０度の関係よりγ＝１８．４
になる。、そして、上記（２）式より格子周期ｄ＝１．
２３μｍとなる。また、ホログラムミラー１２のディス
ク垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーの場合に比
べｓｉｎ（１８．４度）＝０．３１６倍となり、１／３
以下の厚さになっている。
となり、また、α＋γ＝９０度の関係よりγ＝１８．４
になる。、そして、上記（２）式より格子周期ｄ＝１．
２３μｍとなる。また、ホログラムミラー１２のディス
ク垂直方向の厚みは、４５度立ち上げミラーの場合に比
べｓｉｎ（１８．４度）＝０．３１６倍となり、１／３
以下の厚さになっている。
【００４６】（実施例３）図８は本発明の実施例３を示
す。本実施例３が図７の実施例２と異なる点は、コリメ
ートレンズを省略して、対物レンズ９’を有限系とした
点である。これに対応して、ホログラムミラー１２のホ
ログラム素子が採用するホログラムパターンは、図９に
示すように、周期ｄ''が徐々に変化したものになってい
る。他の構成は実施例２と同一になっている。
す。本実施例３が図７の実施例２と異なる点は、コリメ
ートレンズを省略して、対物レンズ９’を有限系とした
点である。これに対応して、ホログラムミラー１２のホ
ログラム素子が採用するホログラムパターンは、図９に
示すように、周期ｄ''が徐々に変化したものになってい
る。他の構成は実施例２と同一になっている。
【００４７】本実施例３によれば、上記実施例１および
実施例２と同様の効果を奏することはもちろんこと、光
学部品の削減が図れるので、光ピックアップの低コスト
化に寄与できる利点がある。
実施例２と同様の効果を奏することはもちろんこと、光
学部品の削減が図れるので、光ピックアップの低コスト
化に寄与できる利点がある。
【００４８】以上の各実施例では、ホログラムミラーの
ホログラム素子として、そのホログラム溝をエッチン
グ、切削等により基板に直接形成するレリーフ型のもの
を使用しているが、本発明で使用されるホログラム素子
についてはかかるものに限定されるものではなく、例え
ば、ＬｉＮｂＯ3基板に格子をプロトン交換法等で形成
するような体積型のホログラム素子を使用することもで
きる。
ホログラム素子として、そのホログラム溝をエッチン
グ、切削等により基板に直接形成するレリーフ型のもの
を使用しているが、本発明で使用されるホログラム素子
についてはかかるものに限定されるものではなく、例え
ば、ＬｉＮｂＯ3基板に格子をプロトン交換法等で形成
するような体積型のホログラム素子を使用することもで
きる。
【００４９】また、本発明の光ピックアップが対象とす
る情報記録媒体、即ちディスクは、ＣＤやライトワンス
形或は相変化形のように情報検出が明暗や凹凸による位
相差形式のものに限られるものではなく、光磁気ディス
クに対しても適用できる。
る情報記録媒体、即ちディスクは、ＣＤやライトワンス
形或は相変化形のように情報検出が明暗や凹凸による位
相差形式のものに限られるものではなく、光磁気ディス
クに対しても適用できる。
【００５０】例えば、本発明の光ピックアップを光磁気
ディスクに適用する場合は、ホログラムレーザユニット
におけるホログラム素子を、戻り光の偏光方向を分離で
きる、例えばプロトン交換法等によって作製された体積
型ホログラムを使用し、光検出器として、光の偏光方向
を分離して検出できる光導波路によって構成されている
もの等を使用すれば、対応できる。
ディスクに適用する場合は、ホログラムレーザユニット
におけるホログラム素子を、戻り光の偏光方向を分離で
きる、例えばプロトン交換法等によって作製された体積
型ホログラムを使用し、光検出器として、光の偏光方向
を分離して検出できる光導波路によって構成されている
もの等を使用すれば、対応できる。
【００５１】或いは、図１に示した光ピックアップのコ
リメートレンズ６とホログラムミラー１２との間に、図
１０および図１１に示すように、偏光ビームスプリッタ
１５、ウォラストンプリズム１６、平凸レンズ１７およ
び光検出器８を配置して、光検出器８で光磁気信号を検
出するようにしてもよい。
リメートレンズ６とホログラムミラー１２との間に、図
１０および図１１に示すように、偏光ビームスプリッタ
１５、ウォラストンプリズム１６、平凸レンズ１７およ
び光検出器８を配置して、光検出器８で光磁気信号を検
出するようにしてもよい。
【００５２】また、光源および光検出部については、上
述の各実施例では光ピックアップの小型軽量化および薄
型化に有利なホログラムレーザユニット５が使用されて
いるが、これを使用しない従来の光学系を使用すること
ももちろん可能である。
述の各実施例では光ピックアップの小型軽量化および薄
型化に有利なホログラムレーザユニット５が使用されて
いるが、これを使用しない従来の光学系を使用すること
ももちろん可能である。
【００５３】要するに、本発明の光ピックアップにおい
ては、光源からのビームをディスク面に対して垂直とな
るように光軸を変換する光学部品が、上述の各実施例に
使用されたようなホログラム素子が反射膜の影響を受け
ないホログラムミラーであればよく、ホログラムミラー
以外の部分については特に制限されるものではない。
ては、光源からのビームをディスク面に対して垂直とな
るように光軸を変換する光学部品が、上述の各実施例に
使用されたようなホログラム素子が反射膜の影響を受け
ないホログラムミラーであればよく、ホログラムミラー
以外の部分については特に制限されるものではない。
【００５４】
【発明の効果】請求項１記載の光ピックアップによれ
ば、ホログラムミラーの基板の光入射側の面に透過型の
ホログラム素子を形成し、反対側の面に反射膜を形成す
る構成をとるので、回折特性を支配するホログラム素子
の溝形状が、反射膜の存在によっても変化しない。この
ため、所望の回折特性を得ることができると共に、反射
膜の寸法精度が緩和されることからその作製が容易にな
る。また、反射膜の経年劣化によりその表面の一部が変
形等を起こしても、回折特性が変化しない。すなわち、
耐久性に優れる。更に、同一のホログラム素子により入
射光を２回回折させてその光軸を変換するので、従来の
ホログラムミラーに比べて１回あたりの回折角を小さく
することができ、ホログラム素子における格子周期が大
きくなる。従って、この点においても、ホログラム素子
の作製が容易になる。
ば、ホログラムミラーの基板の光入射側の面に透過型の
ホログラム素子を形成し、反対側の面に反射膜を形成す
る構成をとるので、回折特性を支配するホログラム素子
の溝形状が、反射膜の存在によっても変化しない。この
ため、所望の回折特性を得ることができると共に、反射
膜の寸法精度が緩和されることからその作製が容易にな
る。また、反射膜の経年劣化によりその表面の一部が変
形等を起こしても、回折特性が変化しない。すなわち、
耐久性に優れる。更に、同一のホログラム素子により入
射光を２回回折させてその光軸を変換するので、従来の
ホログラムミラーに比べて１回あたりの回折角を小さく
することができ、ホログラム素子における格子周期が大
きくなる。従って、この点においても、ホログラム素子
の作製が容易になる。
【００５５】また、請求項２記載の光ピックアップによ
れば、ホログラムミラーの基板の光入射側の面とは反対
側の面にホログラム素子および反射膜を形成する構成を
とるので、ホログラム素子の上に反射膜が存在するにも
かかわらず、回折特性を支配するホログラム素子の溝形
状が変化しない。そのため、所望の回折特性を得ること
ができると共に、反射膜の寸法精度が緩和されることか
らその作製が容易になる。また、反射膜の経年劣化によ
りその表面の一部が変形等を起こしても、回折特性が変
化しない。すなわち、耐久性に優れる。更に、ホログラ
ム素子の溝が反射膜によって保護され、ホログラム素子
の劣化が抑えられるので、この点からも一層耐久性の優
れたものとなる。
れば、ホログラムミラーの基板の光入射側の面とは反対
側の面にホログラム素子および反射膜を形成する構成を
とるので、ホログラム素子の上に反射膜が存在するにも
かかわらず、回折特性を支配するホログラム素子の溝形
状が変化しない。そのため、所望の回折特性を得ること
ができると共に、反射膜の寸法精度が緩和されることか
らその作製が容易になる。また、反射膜の経年劣化によ
りその表面の一部が変形等を起こしても、回折特性が変
化しない。すなわち、耐久性に優れる。更に、ホログラ
ム素子の溝が反射膜によって保護され、ホログラム素子
の劣化が抑えられるので、この点からも一層耐久性の優
れたものとなる。
【００５６】また、特に請求項３記載の光ピックアップ
によれば、ホログラム素子として、入射光が有する非点
隔差を補正するホログラムパターンを有するものを使用
するので、光ディスク上でのビームの集光特性を向上で
き、良好な情報の記録再生が可能になる。
によれば、ホログラム素子として、入射光が有する非点
隔差を補正するホログラムパターンを有するものを使用
するので、光ディスク上でのビームの集光特性を向上で
き、良好な情報の記録再生が可能になる。
【００５７】また、特に請求項５記載の光ピックアップ
によれば、光学部品の削減が図れ、光ピックアップの低
コスト化が図れる利点がある。
によれば、光学部品の削減が図れ、光ピックアップの低
コスト化が図れる利点がある。
【図１】本発明光ピックアップの実施例１を示す概略構
成図。
成図。
【図２】実施例１で使用されるホログラムミラーの詳細
を示す断面図。
を示す断面図。
【図３】ホログラムミラーにおけるホログラム素子のパ
ターン例を示す模式図。
ターン例を示す模式図。
【図４】ホログラム素子の作製法を説明するための模式
図。
図。
【図５】実施例１の変形例を示す光ピックアップの概略
構成図。
構成図。
【図６】実施例１の別の変形例を示すピックアップ主要
部の概略構成図。
部の概略構成図。
【図７】本発明光ピックアップの実施例２を示す概略構
成図。
成図。
【図８】実施例２の変形例を示す光ピックアップの概略
構成図。
構成図。
【図９】ホログラムミラーにおけるホログラム素子のパ
ターンを示す模式図。
ターンを示す模式図。
【図１０】本発明の光ピックアップを光磁気ディスクに
適用した場合の構成例を概略的に示す側面図。
適用した場合の構成例を概略的に示す側面図。
【図１１】図１０の光ピックアップの平面図。
【図１２】従来の光ピックアップの構成を示す模式図。
１ 半導体レーザ素子 ５ ホログラムレーザユニット ６ コリメートレンズ ９ 対物レンズ １０ 光ディスク １２ ホログラムミラー １３ 基板の光入射側の面（表面） １３ａ ホログラム素子 １４ 基板の光入射側とは反対側の面（裏面） ２０ 反射膜 Ａ 基板
Claims (5)
- 【請求項１】 光源からの出射ビームの光軸を情報記録
媒体の記録面に対して垂直となる方向に変換する光学部
品として、ホログラムミラーを備えた光ピックアップで
あって、 該ホログラムミラーが、 対向する２面を有する透光性の基板と、 該基板の一方の面に形成されたホログラム素子と、 該ホログラム素子上に形成された反射膜とを具備して形
成され、 該ホログラム素子が、該基板の他方の面から透過して入
射する入射光の指定した１次回折光のみを反射して回折
するブレーズ特性を有する光ピックアップ。 - 【請求項２】 光源からの出射ビームの光軸を情報記録
媒体の記録面に対して垂直となる方向に変換する光学部
品として、ホログラムミラーを備えた光ピックアップで
あって、 該ホログラムミラーが、 対向する２面を有する透光性の基板と、 該基板の一方の面に形成された透過型のホログラム素子
と、 該基板の他方の面に形成された反射膜とを具備して形成
され、 該ホログラム素子が、入射光の指定した１次回折光のみ
を強く回折するブレーズ特性を有する光ピックアップ。 - 【請求項３】 前記ホログラム素子は前記入射光が有す
る非点隔差を補正するホログラムパターンを具備する請
求項１又は請求項２に記載の光ピックアップ。 - 【請求項４】 前記ホログラム素子のホログラムパター
ンが直線格子である請求項１又は請求項２記載の光ピッ
クアップ。 - 【請求項５】 前記ホログラム素子のホログラムパター
ンが格子周期が徐々に変化するものである請求項２記載
の光ピックアップ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5327856A JPH07182687A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ピックアップ |
| CA002138436A CA2138436C (en) | 1993-12-24 | 1994-12-19 | Optical pickup |
| US08/363,227 US5515354A (en) | 1993-12-24 | 1994-12-22 | Optical pickup |
| DE4446325A DE4446325C2 (de) | 1993-12-24 | 1994-12-23 | Optische Abtastvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5327856A JPH07182687A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ピックアップ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07182687A true JPH07182687A (ja) | 1995-07-21 |
Family
ID=18203746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5327856A Pending JPH07182687A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ピックアップ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5515354A (ja) |
| JP (1) | JPH07182687A (ja) |
| CA (1) | CA2138436C (ja) |
| DE (1) | DE4446325C2 (ja) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5640380A (en) * | 1994-08-04 | 1997-06-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical head with a translucent plate to split a light beam |
| US5648950A (en) * | 1994-10-25 | 1997-07-15 | Kabushiki Kaisha Sankyo Seiki Seisakusho | Hologram integrated with a beam splitter to separate a plurality of polarized reflected light beams |
| JP3176544B2 (ja) * | 1995-12-13 | 2001-06-18 | 株式会社日立製作所 | 光ディスク装置 |
| JPH10333025A (ja) * | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Pioneer Electron Corp | 光ピックアップ装置 |
| US6108135A (en) * | 1997-06-16 | 2000-08-22 | Digital Papyrus Corporation | Planar proximity lens element and disk drive using same |
| US6154326A (en) * | 1998-03-19 | 2000-11-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical head, disk apparatus, method for manufacturing optical head, and optical element |
| US6269203B1 (en) * | 1999-03-17 | 2001-07-31 | Radiant Photonics | Holographic optical devices for transmission of optical signals |
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