JPH07183192A - 移動ステージ機構およびこれを用いた露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ステージの移動速度および位置決め精度を向
上することができ、発熱が低減され、信頼性の高い移動
機構を実現すること。 【構成】 ステージを移動する推力を発生する第１及び
第２のアクチュエータユニットと、前記第１のアクチュ
エータユニットによる推力のステージへの伝達状態を制
御するためのクラッチとを有し、前記第２のアクチュエ
ータユニットおよびクラッチは、第１のアクチュエータ
ユニットとステージとの間に並列に設けられていること
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用露光装置
で用いられる移動機構に関し、特に、マスクやウェハ等
を搭載し、精密な位置決めが要求されるステージの移動
機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】２５６Ｍ容量のＤＲＡＭを作製するため
の露光装置においては、マスクやウェハ等を搭載するス
テージの移動機構には以下のような性能が必要とされて
いる。

【０００３】１．位置決め精度〜０．０１μｍ ２．位置決め整定時間を含めたステップ移動時間〜０．
３秒 ３．ステップ移動距離〜３０ｍｍ ４．位置合わせの障害となる発熱量が小さなこと その他、一般的として、構成が簡単であり、信頼性が高
いこと 従来、この種の移動機構としては、特開平２−１００３
１１号公報中の第１７図に関する記載に示されるよう
に、移動量の大きな粗動機構と微妙な位置決めを行うた
めの微動機構が組み合わされていた。

【０００４】図８は上述したような従来の移動機構の概
念を示す図である。

【０００５】ステージ８０６は、微動ガイド８０５上に
搭載され、微動ガイド８０５は、粗動ガイド８０２を介
してベース８０１上に搭載されている。

【０００６】ベース８０１には、粗動用伸縮アクチュエ
ータユニット８０３およびレーザ干渉計８０９が取り付
けられている。粗動用伸縮アクチュエータユニット８０
３は、シリンダ８１０を介して微動ガイド８０５と連結
され、その内部にはモータ、ボールねじおよびナットを
利用した回転−直進変換ユニット（不図示）が設けられ
たもので、モータの回転に応じてシリンダ８１０が伸縮
し、微動ガイド８０５が移動する。また、モータの回転
量はエンコーダ８０４によって計測されており、これに
より微動ガイド８０５の粗動量が計測される。

【０００７】ステージ８０６のレーザ干渉計８０９に対
向する一端部には測長用ミラー８０８が設けられ、微動
フレームにはピエゾアクチュエータ８０７を取り付ける
ための突出部が設けられている。ステージ８０６はピエ
ゾアクチュエータ８０７により微動ガイド８０５と連結
され、該ピエゾアクチュエータ８０７によりステージ８
０６の微動が行われる。

【０００８】レーザ干渉計８０９より出射されたレーザ
光は、測長用ミラー８０８にて反射され、この反射光を
用いてレーザ干渉計８０９とステージ８０６の位置が測
定される。この測定結果に基づいてピエゾアクチュエー
タ８０７が駆動され、ステージ８０６の位置決めが行わ
れる。

【０００９】上記のようにステージのステップ移動を行
う際には、粗動用アクチュエータを用いた駆動をステー
ジに対して行い、この後、高速・高分解能で駆動が可能
なピエゾアクチュエータを用いて位置決めを含めたた微
動制御が行われていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の移動機
構においては、以下の点が改善すべき点として挙げられ
る。

【００１１】１．微動機構にピエゾアクチュエータを用
いているので、ストロークを十分にとることができず、
組立、調整に時間がかかる。

【００１２】２．高速・高分解能で駆動が可能なピエゾ
アクチュエータをステージとの結合部材として用いてい
るが、ピエゾアクチュエータ自身が外部の振動を伝達す
るので、位置決めを行った後の振動が抑制しにくい。し
たがって、粗動アクチュエータの残留振動等によって位
置決め時間が長くなり、位置決め精度が悪くなる。

【００１３】３．ガイドが粗動用と微動用の２段必要と
なり、構成が複雑である。

【００１４】本発明は上述したような従来の技術が有す
る問題点に鑑みてなされたものであって、ステージの移
動速度および位置決め精度を向上することができ、発熱
が低減され、信頼性の高い移動機構を実現することを目
的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の移動ステージ機
構は、ステージを移動する推力を発生する第１及び第２
のアクチュエータユニットと、前記第１のアクチュエー
タユニットによる推力のステージへの伝達状態を制御す
るためのクラッチとを有し、前記第２のアクチュエータ
ユニットおよびクラッチは、第１のアクチュエータユニ
ットとステージとの間に並列に設けられていることを特
徴とする。

【００１６】この場合、第２のアクチュエータユニット
をボイスコイルモータとしてもよい。

【００１７】本発明の露光装置は、上記のように構成さ
れたマスク又はウエハを搭載する移動ステージ機構と、
ウエハに露光を行う露光手段を有する。

【００１８】

【作用】本発明においては、第１のアクチュエータユニ
ットとステージとの間に第２のアクチュエータユニット
とクラッチが並列に設けられる。第１のアクチュエータ
ユニットを粗動用のものとし、第２のアクチュエータユ
ニットを微動用のものとすると、粗動動作終了後の振動
は、第２のアクチュエータユニットとクラッチとによっ
て収束される。従って、第２のアクチュエータユニット
に剛性の低いものを使用したとしても、クラッチを接続
状態として粗動動作を行うことにより、振動の収束を速
くすることができ、ステップ移動の速度を速くすること
が可能となる。

【００１９】粗動動作終了後にはクラッチを切り離した
状態とすることにより、第２のアクチュエータユニット
のみによる駆動を行うことができ、精度の高い位置決め
が可能となる。

【００２０】第２のアクチュエータユニットとして、非
接触で駆動力のみを伝達するボイスコイルモータを用い
た場合には、クラッチを離した状態とすることにより、
ステージと各アクチュエータが機械的に全く離された状
態となり、第１のアクチュエータユニットによる外乱が
ステージに伝達されることはない。

【００２１】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。

【００２２】図１は本発明の一実施例の構成を示す斜視
図である。

【００２３】本実施例はシンクロトロン放射光を露光光
源とするＸ線露光装置で、ウェハやマスク等を移動させ
るために用いられるステージの構成を示すものである。
ここでは説明を簡単とするためにウェハ、マスクおよび
露光光学系は図示省略している。

【００２４】ベース１０１の上部には、平行な２本のレ
ール状のＹ用ガイド１０２と、Ｙ用粗動伸縮アクチュエ
ータユニット１０３、Ｙ用レーザ干渉計１１０およびＸ
用レーザ干渉計１１１が設けられている。

【００２５】Ｙ用ガイド１０２上には、Ｙ用ガイド１０
２の長手方向に移動するＹステージ１１４が搭載されて
いる。Ｙステージ１１４上には、Ｙ用ガイド１０２と直
交する平行な２本のレール状のＸ用ガイド１０６、Ｘ用
粗動伸縮アクチュエータユニット１０７が設けられてい
る。

【００２６】Ｘ用ガイド１０６にはＸ用ガイド１０６の
長手方向に移動するＸステージ１１５が搭載され、該Ｘ
ステージ１１５上にはウェハチャック１１２と、上記の
Ｙ用レーザ干渉計１１０およびＸ用レーザ干渉計１１１
からの測長用のレーザ光を反射させるためのレーザ干渉
用測長ミラー１１３が設けられている。

【００２７】Ｙ用粗動伸縮アクチュエータユニット１０
３はＹロッド１０２を介してＹステージ１１４の端部に
設けられたＹ用微動アクチュエータユニット１０５と連
結し、Ｘ用粗動伸縮アクチュエータユニット１０７はＸ
ロッド１０８を介してＸステージ１１５の端部に設けら
れたＸ用微動アクチュエータユニット１０９と連結して
いる。

【００２８】Ｙ用粗動伸縮アクチュエータユニット１０
３およびＸ用粗動伸縮アクチュエータユニット１０７の
それぞれは、図８に示した従来例の粗動伸縮アクチュエ
ータユニットと同様に、電動モータ、エンコーダ、キ
ア、ボールナット、ねじ、およびベアリング（ともに不
図示）からなる回転−直進変換ユニットで、電動モータ
の回転に応じてＹロッド１０４およびＸロッド１０８が
それぞれ伸縮し、Ｙステージ１１４およびＸステージ１
１５のそれぞれを移動させることにより粗動が行われ
る。

【００２９】また、Ｙ用粗動伸縮アクチュエータユニッ
ト１０３およびＸ用粗動伸縮アクチュエータユニット１
０７のそれぞれは、Ｙ用微動アクチュエータユニット１
０５およびＸ用微動アクチュエータユニット１０９と連
結されており、上記の粗動制御が終了した後にはこれら
による微動制御が行われる。

【００３０】本実施例におけるＹ用ガイド１０２による
Ｙステージ１１４の支持およびＸ用ガイド１０６による
Ｘステージ１１５の支持はエアベアリングによってなさ
れているが、この他にもクロスローラガイドを使用する
ことが考えられる。

【００３１】ベース１０１に対するウェハチャッル１１
２の位置はＹ用レーザ干渉計１１０およびＸ用レーザ干
渉計１１１により常に行われており、該計測結果に基づ
いて上記の粗動制御および微動制御は不図示の制御装置
によって行われる。

【００３２】なお、上記の各粗動伸縮アクチュエータユ
ニットは、その負荷質量を０．３秒以内に３０ｍｍをス
テップ移動できるように十分なパワーを持つものが選択
されている。

【００３３】図２は図１に示したＸ軸あるいはＹ軸ステ
ージの構成の概念を示す図である。微動アクチュエータ
ユニットは、粗動伸縮アクチュエータユニット２０１か
らのロッド２０５とステージ２０７との間に設けられる
もので、並列に設けられたボイスコイルモータ２０４と
クラッチ２０６とにより構成されている。

【００３４】上述したようにステージ２０７の位置はレ
ーザ干渉計２１０常に計測されており、該計測を行うた
めのと測長ミラー２０８がステージ２０７上に設けられ
ている。ステージ２０７は１つの方向については１つの
ガイド２０９によって案内される。

【００３５】本実施例において、クラッチ２０６は、粗
動伸縮アクチュエータユニット２０１によるステップ移
動が行われるときに接続状態とされ、ステップ移動制御
が終了し、ボイスコイルモータ２０４による精密位置決
めが行われるときに離れた状態とされる。

【００３６】クラッチ２０６が離された状態のときに
は、レーザ干渉計２１０からの測長信号に基づいたボイ
スコイルモータ２０４による微動制御が行われる。

【００３７】図３および図４のそれぞれは、上述した微
動機構のうちのボイスコイルモータ２０４およびクラッ
チ２０６の構造を示す部分切断側面図である。

【００３８】まず、図３を参照してボイスコイルモータ
２０４の構造について説明する。

【００３９】ボイスコイルモータは粗動伸縮アクチュエ
ータからのロッド２０５とウェハ、マスク等を搭載する
ステージ２０７との間に設けられるもので、コイル３０
５、コイル３０５を巻き付けるためのボビン３０６、永
久磁石３０７および永久磁石３０７を収容するヨーク３
０８により構成されている。ボビン３０６およびコイル
３０５はロッド３０３側に設けられ、永久磁石３０７お
よびヨーク３０８はステージ３０１側に設けられてい
る。これにより、コイル３０５に電流を流したときの推
力がロッド３０３とステージ２０７との間に働くように
構成されている。

【００４０】次に、図４を参照してクラッチ２０６の構
造について説明する。

【００４１】クラッチ機構はコの字上のフレーム部材４
０９、フレーム部材４０９の内周面にて、フレーム部材
４０９の内部から開放端に向って突出するまさつ板４０
２を両側から挟持するエアパッド４０３、フレーム部材
４０９の外周面から開放端に向けて延在する板ばね４０
６および該板ばね４０６の端部に取り付けられ、内部に
はコイル４０５が収容される電磁石ユニット４１０によ
り構成されている。

【００４２】上記のように構成されたクラッチは、粗動
伸縮アクチュエータユニットのロッドである２０５と板
ばね４０１によって接続され、ステージである移動体側
４０８にフレーム部材４０９が取り付けられて、粗動伸
縮アクチュエータユニットの駆動力の伝達を制御するよ
うに構成されている。

【００４３】上記のように構成されたクラッチの動作に
ついて説明する。

【００４４】まさつ板４０２は上述したように板ばね４
０１を介して粗動伸縮アクチュエータユニットのロッド
２０５に取り付けられている。移動体側４０８に固定さ
れているフレーム部材４０９には板ばね４０６を介して
取り付けられている電磁石ユニット４１０は、コイル４
０５に電流を流すことにより、板ばね４０６が変形した
状態にてまさつ板４０２に吸着される。この状態にてロ
ッド２０５を移動させると、電磁石ユニット４１０とま
さつ板４０２とのまさつ力によってステージ２０７に駆
動力が伝えられる。コイル４０５に電流が流れていない
状態では、電磁石ユニット４１０とまさつ板４０２とは
非接触の状態であるために、ロッド２０５が移動しても
駆動力が伝わることはない。

【００４５】上記のように構成されるクラッチ機構にお
いて、エアパッド４０３は、まさつ板４０２と電磁石ユ
ニット４１０とのクリアランスを適性に保ために設けら
れたもので、空気を常に流出することにより、まさつ板
４０２の一部との間にエアベアリングを構成している。
駆動部材４０７と移動体側４０８の姿勢が変わるような
場合には、上述のエアベアリング機構のスラスト力によ
って板ばね４０１が変形するように構成されている。

【００４６】なお、板ばね４０１、４０６のそれぞれ
は、移動体側４０８を移動させる際に加えられる力によ
って座屈することなく、駆動力を伝えられるような材質
および寸法のものが選択されている。

【００４７】図５は上述のように構成された本実施例の
制御動作を示すブロック図である。

【００４８】図中、微動アクチュエータユニットについ
てはボイスコイルモータをリニアモータとし、その指令
動作を上側部分に示している。また、粗動伸縮アクチュ
エータユニットについては、その構成要素であるモータ
とシリンダ（OR ボールねじ）とし、その指令動作を下
側部分に示す。

【００４９】粗動伸縮アクチュエータユニットによるス
テップ移動を行う際の粗動時には、図４に示したクラッ
チ機構は接続状態とされる。

【００５０】粗動伸縮アクチュエータユニットは図２に
示したユニット内に設けられるエンコーダによって計測
されるモータの回転量に基づいて制御が行われるもの
で、指令は、例えば速度パターンを有する連続的な位置
指令を与える形で行われる。上記のような指令により所
定のステップ移動が行われた後にクラッチが離されて、
微動制御が行われる。

【００５１】指令に含まれる電流信号成分は電流増幅器
によって増幅された後に（Ｓ５０７）モータに供給され
る（Ｓ５０８）。これにより、シリンダが伸縮し、ステ
ージに推力が与えられてステージの移動が行われる（Ｓ
５０９）。この後、ステップ移動が終了したことの確認
が行われ（Ｓ５１１）、移動が確認されるとクラッチが
離されて（Ｓ５１０）微動制御動作へ移行する。

【００５２】移動を行うための指令値は粗動伸縮アクチ
ュエータユニットと微動アクチュエータユニットの両方
に与えられる（Ｓ５０１）。

【００５３】微動アクチュエータユニットによるステッ
プ移動終了後の微動時には、図４に示したクラッチ機構
は離された状態とされる。

【００５４】微動アクチュエータユニットでは、指令に
含まれる電流信号成分をフィルタによって抽出し（Ｓ５
０２）、電流増幅器によって増幅した後に（Ｓ５０
３）、切替スイッチ１へ送出する。切替スイッチ１では
リニアモータに対する電流制限が行っており（Ｓ５０
４）、供給する電流値が許容値以内であるかを確認し
（Ｓ５０６）、許容値以内であればリニアモータへの電
流供給が行われる（Ｓ５０５）。この結果、ステージに
微動アクチュエータによる推力が加えられ、所望とする
位置への移動制御がなされる（Ｓ５１２）。

【００５５】なお、以上説明した実施例においては、位
置指令が粗動伸縮アクチュエータユニットと微動アクチ
ュエータユニットの両方に同じに与えられるものとして
説明したが、粗動伸縮アクチュエータユニットによる駆
動が終了した後に、微動アクチュエータユニットによる
駆動が行われるように位置指令を分けて各アクチュエー
タユニットに与えるものとしてもよい。

【００５６】以上説明したように本実施例においては、
粗動制御についてはクラッチを接続した状態として行わ
れるので、粗動伸縮アクチュエータユニットの性能を十
分ぶ確保することによって高速のステップ移動を行うこ
とができる。この際、アクチュエータの発熱はステージ
から離れているので影響は少ない。

【００５７】また、この後行われる微動制御において
は、位置決め精度が極めて高いボイスコイルモータによ
る駆動力がステージに直接加えられるので、精度のよい
位置決めが可能となっている。ボイスコイルモータは直
接駆動力を伝えるものではなく、駆動力のみを伝えるも
のであるために、クラッチが離される微動制御時には、
粗動伸縮アクチュエータユニットは駆動方向に関して機
械的にステージと全く切り離されることとなり、粗動伸
縮アクチュエータユニットから外乱が伝わることなく、
精度が高く、かつ高速の位置決めが行われる。また、微
動制御では、駆動量が極めて小さなため、母イスコイル
モータに流す電流も少なく、発熱を少なくすることがで
きる。

【００５８】以上の実施例においては、ステップ移動を
行うステージを例にとって説明したが、ステージ走査さ
せながら露光を行う走査露光ステージに適用することも
できる。走査移動では、ステージ上のウェハあるいはマ
スクを露光領域内でほぼ等速の走査速度で移動させるた
めに、走査移動の前に加速するための除草領域が必要で
ある。

【００５９】この除草領域では精密な位置決めは必要な
いが、短い時間で所定の速度に達するためのパワーがア
クチュエータに必要である。これに対して、走査露光中
は精密な位置決め精度が必要であるが、大パワーは必要
ない。走査露光ステージに適用する場合、加速移動中は
クラッチを接続状態として粗動伸縮アクチュエータユニ
ットによって加速する。そして走査露光状態に達した後
は、クラッチを切り離してボイスコイルモータによって
ステージを駆動する。走査移動中は、クラッチの動作す
る許容範囲内に収まるように粗動アクチュエータにも移
動指令を与える。この指令はエンコーダを利用して所定
のデータテーブルに従って与える。あるいはボイスコイ
ルモータの電流値を監視して、電流値からボイスコイル
モータの位置偏差、すなわち、粗動アクチュエータのロ
ッドとステージの相対距離を演算して、この距離が所定
の範囲に入るように制御してもよい。

【００６０】露光領域の走査移動が終了したら、再び、
クラッチを接続して粗動アクチュエータを駆動し、ステ
ージを減速させる。以上の走査は図５において、Ｓ５１
１を走査露光中であるかどうかの判断に置き換えること
で実現できる。

【００６１】クラッチ接続中は、ステップ移動中である
から目標位置とステージ位置は大きく離れており、リニ
アモータへは大きな駆動力が働くように指令値が与えら
れる。このときは電流制限が働き、切替スイッチ１が動
作してリニアモータに無駄な電流が流れるのを防止する
ように構成されている。

【００６２】次に、上記説明した移動機構を備えた露光
装置を利用したデバイスの製造方法の実施例を説明す
る。

【００６３】図６は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半
導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等）の製造工程を示すフローチャートであ
る。ステップ６１（回路設計）では半導体デバイスの回
路設計を行う。ステップ６２（マスク製作）では設計し
た回路パターンを形成したマスクを製作する。このマス
クは反射型マスクであって、上記説明した特徴を有して
いる。一方、ステップ６３（ウエハ製造）ではシリコン
等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ６４（ウ
エハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスク
とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上
に実際の回路を形成する。次のステップ６５（組み立
て）は後工程と呼ばれ、ステップ６４によって作製され
たウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッ
センブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケー
ジング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こ
うした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ６７）される。

【００６４】図７は上記ウエハプロセスの詳細な工程を
示すフローチャートである。ステップ７１（酸化）では
ウエハの表面を酸化させる。ステップ７２（ＣＶＤ）で
はウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ７３（電極
形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ス
テップ７４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち
込む。ステップ７５（レジスト処理）ではウエハに感光
剤を塗布する。ステップ７６（露光）では上記説明した
マスクと露光装置によってマスクの回路パターンをウエ
ハに焼付露光する。ステップ７７（現像）では露光した
ウエハを現像する。ステップ７８（エッチング）では現
像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ７９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。本実施例の製造方法を用いれば、従来は製造が
難しかった高集積度の半導体デバイスを製造することが
できる。

【００６５】

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載するような効果を奏する。

【００６６】ステップ移動あるいは走査移動前の加速動
作を効率のよい回転型のモータで行い、かつ、モータを
ステージより離れた位置に配置できるため、発熱の影響
を小さくすることができる効果がある。

【００６７】リニアモータで位置決めがなされるため、
位置決め精度を向上することができる効果があるととも
に、リニアモータの駆動量が少ないので、発熱も少な
い。

【００６８】ボイスコイルモータおよびクラッチを用い
ることにより、粗動伸縮アクチュエータユニットが離さ
れるため、駆動方向に関して粗動伸縮アクチュエータユ
ニットからステージに振動が伝わらないので、位置決め
時間を速くし、位置決め精度を向上することができる効
果がある。

【００６９】粗動制御および微動制御を行うためのガイ
ド機構が共通とされているため、装置構成を簡単とする
ことができ、信頼性および装置寿命を向上することがで
きる効果がある。

【００７０】上記各効果に基づいて、性能の高い露光装
置用ステージが実現され、ひいては集積度の高いＬＳＩ
を製造することができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の構成を示す斜視図である。

【図２】図１に示した各微動アクチュエータユニットの
構成を詳細に示す側面図である。

【図３】微動機構のうちのボイスコイルモータ２０４の
構造を示す部分切断側面図である。

【図４】微動機構のうちのクラッチ２０６の構造を示す
部分切断側面図である。

【図５】本発明の実施例の制御動作を示すブロック図で
ある。

【図６】半導体デバイスの製造工程を示すフローチャー
トである。

【図７】ウエハプロセスの詳細な工程を示すフローチャ
ートである。

【図８】従来の移動機構の概略構成を示す側面図であ
る。

【符号の説明】

１０１ ベース １０２ Ｙ用ガイド １０３ Ｙ用粗動伸縮アクチュエータユニット １０４ Ｙロッド １０５ Ｙ用微動アクチュエータユニット １０６ Ｘ用ガイド １０７ Ｘ用粗動伸縮アクチュエータユニット １０８ Ｘロッド １０９ Ｘ用微動アクチュエータユニット １１０ Ｙ用レーザ干渉計 １１１ Ｘ用レーザ干渉計 １１２ ウェハチャック １１３ レーザ干渉用測長ミラー １１４ Ｙステージ １１５ Ｘステージ ２０１ 粗動伸縮アクチュエータユニット ２０３ ベース ２０４ ボイスコイルモータ ２０５ ロッド ２０６ クラッチ ２０７ ステージ ２０８ 測長ミラー ２０９ ガイド ２１０ レーザ干渉計 ３０２ クランパー支持部 ３０３ ロッド ３０５ コイル ３０６ ボビン ３０７ 永久磁石 ３０８ ヨーク ４０１ 板ばね ４０２ まさつ板 ４０３ エアパッド ４０６ 板ばね ４０７ 駆動部材

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ステージを移動する推力を発生する第１
   及び第２のアクチュエータユニットと、 前記第１のアクチュエータユニットによる推力のステー
   ジへの伝達状態を制御するためのクラッチとを有し、 前記第２のアクチュエータユニットおよびクラッチは、
   第１のアクチュエータユニットとステージとの間に並列
   に設けられていることを特徴とする移動ステージ機構。
2. 【請求項２】 請求項１の移動ステージ機構において、 第２のアクチュエータユニットがボイスコイルモータで
   あることを特徴とする移動ステージ機構。
3. 【請求項３】 マスク又はウエハを搭載する請求項１ま
   たは２の移動ステージ機構と、ウエハに露光を行う露光
   手段を有することを特徴とする露光装置。