JPH0718757Y2 - 蒸着装置用プラネタリ治具 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は蒸着装置用プラネタリ治具に関するものであ
る。

（従来の技術） ガラス等の基板に真空蒸着を行なう場合に、蒸着源を通
る中心線まわりに複数の基板を公転させながら、各基板
を自転せしめるようにしたプラネタリ治具を用いて、蒸
着膜の厚さの均等化を図るという技術がある。

すなわち、このプラネタリ治具は、センタメンバより放
射方向に突出せしめた複数本のアームを備え、この各ア
ームの先端に基板を保持する基板ホルダーとローラとを
固定した自転軸を回転自在に支持し、各ローラを蒸着槽
内に略水平に設けた環状レール上で転動せしめるように
なっているのが通常である。この場合、プラネタリ治具
は、上記複数本のアーム先端のローラにより上記環状レ
ールに支持されているものである。そして、上記環状レ
ール上でのローラの転動により、プラネタリ治具全体が
回転、つまり基板ホルダーが公転することになり、ま
た、このローラの転動により基板ホルダー自身が自転軸
まわりに回転、つまり自転することになる。

（考案が解決しようとする課題） しかし、このようなプラネタリ治具では、４個以上の基
板ホルダーを設ける場合、それに対応する数のアームを
設けて環状レールに４点以上で支持することになるが、
その場合にはすべてのアームの先端のローラを環状レー
ル上で転動せしめることが難しくなる。

すなわち、プラネタリ治具を環状レールに４点以上で支
持しようとする場合、アーム間に若干でも寸法誤差があ
れば、３点までは環状レールに当接するものの、残りは
環状レールへの当接が不十分になる。従って、その場合
には一部のアームではローラの回転が不十分になって、
各基板ホルダーの自転状態にバラツキを生じ、上述の蒸
着膜厚さの均等化が図れなくなる。

本考案の課題は、プラネタリ治具に４本以上のアームを
設ける場合でも、各アームのローラを環状レールに確実
に当接転動せしめて、各基板ホルダーの自転にバラツキ
を生じないようにすることにある。

（課題を解決するための手段） 本考案は、このような課題に対して、４本以上のアーム
を備えたプラネタリ治具において、３本のアームについ
てはこれをセンタメンバに固定し、残りのアームについ
てはセンタメンバに上下回動自在に連結することによ
り、上記固定された３本のアームのローラにてプラネタ
リ治具の荷重を受けるようにして、当該ローラを環状レ
ールに当接せしめるとともに、残りのアームのローラに
ついてはアーム，ローラ及び基板ホルダーの自重により
環状レールに当せしめるものである。

すなわち、その具体的な手段は、 基板を保持するための４個以上の基板ホルダーを有し、
蒸着槽内に略水平に設けられた環状レールに支持され
て、上記基板ホルダーを環状レールの中心まわりに公転
させながら、各基板ホルダーを自転させるためのプラネ
タリ治具であって、 上記環状レールの中心位置に配設され、上記環状レール
の中心まわりに回転するセンタメンバと、 上記センタメンバよりそれぞれ放射方向に突出した４本
以上のアームと、 上記各アームの先端に回転自在に支持され、上記基板ホ
ルダーが固定された自転軸と、 上記自転軸に固定され、上記環状レールの上を転動して
基板ホルダーを公転せしめるとともに自転せしめるロー
ラと、 を備え、 上記４本以上のアームのうちの３本のアームはセンタメ
ンバに固定され、他のアームはセンタメンバに上下回動
自在に連結されていて、センタメンバに固定された３本
のアームのローラによりフラネタリ治具の荷重を支える
ようにしたことを特徴とするものである。

（作用） 上記プラネタリ治具においては、センタメンバには３本
のアームのみが固定され、残りのアームは上下動自在に
なされているから、プラネタリ治具は３本のアーム先端
のローラにより３点で環状レールに支持されることにな
る。よって、この固定された３本のアーム間においてア
ーム長さやローラ径等に寸法誤差があっても、この３本
のアーム先端のローラは環状レールに確実に当接してそ
の上を転動することになる。

一方、上下回動自在にされた残りのアームのローラにつ
いては、このアーム，ローラ及び基板ホルダーの自重に
よって環状レールに当接し、その上を転動することにな
る。

（考案の効果） 従って、本考案によれば、４本以上のアームを備えたプ
ラネタリ治具において、３本のアームについてはこれを
センタメンバに固定し、残りのアームについてはセンタ
メンバに上下回動自在に連結するようにしたから、すべ
てのアームのローラを環状レールに当接させてその上を
転動せしめることができるようになり、各基板ホルダー
の自転状態にバラツキがなくなって、蒸着膜厚さの均等
化が図れる。

（実施例） 以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図に示す真空蒸着装置において、１は高真空状態に
される蒸着槽、２は電子銃等によって成膜材料の蒸発が
行なわれる蒸発源、３は蒸発源２の上方に略水平にして
設けられた環状レール、４は環状レール３に支持され蒸
着膜を形成すべき基板を保持する複数の基板ホルダー５
を備えたプラネタリ治具、６はプラネタリ治具４を上記
環状レール３上で回転せしめる駆動手段である。

上記環状レール３を蒸着槽１の内壁面に支持するため
に、この内壁面にブラケット７を介して固定された複数
の上下方向のねじ部材８が設けられている。そして、環
状レール３はこのねじ部材８にナットを適用して上下位
置調整可能に設けた支持ブラケット９に固定されてい
る。

プラネタリ治具４は、第２図にも示すように、上記環状
レール３の中心位置に配設され、上記環状レール３の中
心まわり（上記蒸着源２を通る垂直線まわり）に回転す
るセンタメンバ11と、このセンタメンバ11よりそれぞれ
放射方向に60度の角度間隔をおいて且つ下向きに突出し
た６本のアームとを備えている。この６本のアームのう
ち120度の角度間隔をおいて配設された３本は上記セン
タメンバ11に一体に固定された固定アーム12であり、残
りの３本はセンタメンバ11に水平支軸13により上下回動
自在に連結された回動アーム14である。

そうして、上記各アーム12,14の先端には、軸心をこの
アームに直交せしめて両端を上下に突出せしめた自転軸
15が軸受16にて回転自在に支持されている。そして、こ
のアーム12,14の上側に突出した自転軸15の上端部に上
記環状レール３に当接させてその上を転動せしめるロー
ラ17が固定され、アーム12,14の下側に突出した自転軸1
5の下端部に基板ホルダー５が固定されている。また、
上記センタメンバ11には上記駆動手段６からその回転駆
動力をプラネタリ治具４に受けるロッド18が上方へ突設
されている。

駆動手段６は、上記蒸発源２を通る垂直線上に軸心を配
置して蒸着槽１の天井壁に固定の軸受21に支持した中空
の回転軸22と、この回転軸22を伝動手段23を介して回転
駆動するモータ24とを備えている。そして、蒸着槽１内
において、回転軸22の下端から上記プラネタリ治具４の
ロッド18に回転係合可能な係合ロッド25が水平に突設さ
れている。また、上記中空の回転軸22には下端に基板へ
の成膜状態を検出するためのセンサ26を固定したセンサ
ロッド27が通されている。

従って、上記真空蒸着装置においては、プラネタリ治具
４は環状レール３に対し、３本の固定アーム12により支
持されることになる。すなわち、この３本の固定アーム
12の各自転軸15に固定したローラ17は、プラネタリ治具
４の荷重を受けて上記環状レール３の上に当接すること
になる。一方、残り３本の回動アーム14の各自転軸15に
固定のローラ17は、それぞれ回動アーム14,ローラ17及
び基板ホルダー５の自重により、回動アーム14が下方へ
回動するよう付勢されることにより、上記環状レール３
の上に当接することになる。

そうして、上記駆動手段６の係合ロッド25をモータ24に
より回転軸22を介して回転駆動すると、この係合ロッド
25がプラネタリ治具４のロッド18に係合してプラネタリ
治具４に回転力を与える。すなわち、プラネタリ治具４
は、各ローラ17が環状レール３の上を転動することによ
り回転して各基板ホルダー５を蒸発源２を通る垂直線ま
わりに公転せしめることになる。また、上記ローラ17は
すべて環状レール３の上に当接しているから、この環状
レール３の上を転動して自転軸15を回転し、そのことに
より、この自転軸15に固定の基板ホルダー５はすべて自
転することになる。

よって、すべての基板ホルダー５は公転をしながら自転
をすることになり、これにより、これら基板ホルダー５
に保持せしめる基板は蒸着膜厚さが略一定になる。

なお、上記実施例ではアームが６本の例であるが、本考
案が４本以上のアームを備えたプラネタリ治具であれ
ば、アームの数を問わずに適用できることはもちろんで
ある。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の実施例を示し、第１図は真空蒸着装置の
全体構成を示す縦断面図、第２図はプラネタリ治具と環
状レールとの関係を示す平面図である。 １……蒸着槽 ３……環状レール ４……プラネタリ治具 ５……基板ホルダー 11……センタメンバ 12……固定アーム 14……回動アーム 17……ローラ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を保持するための４個以上の基板ホル
   ダーを有し、蒸着槽内に略水平に設けられた環状レール
   に支持されて、上記基板ホルダーを環状レールの中心ま
   わりに公転させながら、各基板ホルダーを自転させるた
   めのプラネタリ治具であって、 上記環状レールの中心位置に配設され、上記環状レール
   の中心まわりに回転するセンタメンバと、 上記センタメンバよりそれぞれ放射方向に突出した４本
   以上のアームと、 上記各アームの先端に回転自在に支持され、上記基板ホ
   ルダーが固定された自転軸と、 上記自転軸に固定され、上記環状レールの上を転動して
   基板ホルダーを公転せしめるとともに自転せしめるロー
   ラと、 を備え、 上記４本以上のアームのうちの３本のアームはセンタメ
   ンバに固定され、他のアームはセンタメンバに上下回動
   自在に連結されていて、センタメンバに固定された３本
   のアームのローラによりプラネタリ治具の荷重を支える
   ようにしたことを特徴とする蒸着装置用プラネタリ治
   具。