JPH07191764A - 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 - Google Patents
高周波電源装置及びプラズマ発生装置Info
- Publication number
- JPH07191764A JPH07191764A JP5330663A JP33066393A JPH07191764A JP H07191764 A JPH07191764 A JP H07191764A JP 5330663 A JP5330663 A JP 5330663A JP 33066393 A JP33066393 A JP 33066393A JP H07191764 A JPH07191764 A JP H07191764A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high frequency
- frequency power
- data
- matching
- power supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/3299—Feedback systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32266—Means for controlling power transmitted to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Control Of Voltage And Current In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波電源装置及びプラズマ発生装置の改善
に関し、プラズマ発生用の高周波電力やチューナ位置を
自動調整して、電力検出器の固体差と経時的なドリフト
とを解消すること、及び、プラズマ以外で損失される電
力を極力低減すること。 【構成】 電源装置は、規定周波数の入力信号を増幅す
る増幅器11と、増幅された高周波電力の情報を検出す
る電力検出器12と、検出された高周波電力の情報を二
値化した電力検出データD11と予め設定された初期特性
データDR及び電力設定データDthから利得制御データ
D12を求め、利得制御データD12に基づいて増幅器11
の出力制御をする制御器13とを備える。発生装置は、
プラズマを発生するチャンバに設けられた電極と、この
電極に高周波電力を供給する高周波電源とを備え、この
高周波電源が、本発明の高周波電源装置を有する。
に関し、プラズマ発生用の高周波電力やチューナ位置を
自動調整して、電力検出器の固体差と経時的なドリフト
とを解消すること、及び、プラズマ以外で損失される電
力を極力低減すること。 【構成】 電源装置は、規定周波数の入力信号を増幅す
る増幅器11と、増幅された高周波電力の情報を検出す
る電力検出器12と、検出された高周波電力の情報を二
値化した電力検出データD11と予め設定された初期特性
データDR及び電力設定データDthから利得制御データ
D12を求め、利得制御データD12に基づいて増幅器11
の出力制御をする制御器13とを備える。発生装置は、
プラズマを発生するチャンバに設けられた電極と、この
電極に高周波電力を供給する高周波電源とを備え、この
高周波電源が、本発明の高周波電源装置を有する。
Description
【0001】〔目次〕 産業上の利用分野 従来の技術(図17) 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1〜4) 作用 実施例 (1)第1の実施例の説明(図5〜8) (2)第2の実施例の説明(図9〜10) (3)第3の実施例の説明(図11) (4)各実施例の応用例の説明(図12〜14) (5)第4の実施例の説明(図15,16) 発明の効果
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波電源装置及びプ
ラズマ発生装置に関するものであり、更に詳しく言え
ば、プラズマ発生に要する高周波電力等を発生する装置
及びその応用装置に改善に関するものである。近年,半
導体集積回路(以下LSIという)の高集積化及び高密
度化の要求に伴い、LSI、液晶等の製造時に、薄膜の
形成やそれを加工するRF(高周波)スパッタ装置,プ
ラズマCVD装置,ドライエッチング装置及びアッシン
グ装置等が使用されている。これら装置はいずれも、プ
ラズマが利用される。
ラズマ発生装置に関するものであり、更に詳しく言え
ば、プラズマ発生に要する高周波電力等を発生する装置
及びその応用装置に改善に関するものである。近年,半
導体集積回路(以下LSIという)の高集積化及び高密
度化の要求に伴い、LSI、液晶等の製造時に、薄膜の
形成やそれを加工するRF(高周波)スパッタ装置,プ
ラズマCVD装置,ドライエッチング装置及びアッシン
グ装置等が使用されている。これら装置はいずれも、プ
ラズマが利用される。
【0003】これらプラズマを利用した装置では、例え
ば、数百kHz〜数GHzの周波数が用いられている。RF
領域では、規定周波数の正弦波を固体素子又は真空管で
増幅し、数10Wから数KWの高周波電力をプラズマ発
生用の電極に供給している。また、マイクロ波の領域で
は、クライストロンやマグネトロンに低周波又は直流の
電力を供給することにより、GHzオーダーのマイクロ波
の電力を発生し、これをプラズマ発生用の電極に供給し
ている。
ば、数百kHz〜数GHzの周波数が用いられている。RF
領域では、規定周波数の正弦波を固体素子又は真空管で
増幅し、数10Wから数KWの高周波電力をプラズマ発
生用の電極に供給している。また、マイクロ波の領域で
は、クライストロンやマグネトロンに低周波又は直流の
電力を供給することにより、GHzオーダーのマイクロ波
の電力を発生し、これをプラズマ発生用の電極に供給し
ている。
【0004】しかし、これら電極に供給する高周波電力
やマイクロ波の電力が必ずしも一定していない。そこ
で、プラズマ発生用の高周波電力やチューナ位置を自動
調整して、電力検出器の固体差と経時的なドリフトとを
解消すること、及び、プラズマ以外で損失される電力を
極力低減することができる装置及びその応用装置が望ま
れている。
やマイクロ波の電力が必ずしも一定していない。そこ
で、プラズマ発生用の高周波電力やチューナ位置を自動
調整して、電力検出器の固体差と経時的なドリフトとを
解消すること、及び、プラズマ以外で損失される電力を
極力低減することができる装置及びその応用装置が望ま
れている。
【0005】
【従来の技術】図17は、従来例に係るプラズマ発生用の
高周波電源装置の構成図を示している。例えば、半導体
ウエハ8をプラズマ処理するCVD装置の高周波電源装
置は、図17に示すように、水晶発振器1,高周波増幅器
2,電力検出器3,整合器4及び電力検出計6を備え
る。
高周波電源装置の構成図を示している。例えば、半導体
ウエハ8をプラズマ処理するCVD装置の高周波電源装
置は、図17に示すように、水晶発振器1,高周波増幅器
2,電力検出器3,整合器4及び電力検出計6を備え
る。
【0006】当該装置の機能は、周波数13.56 MHzの高
周波信号が水晶発振器1により発生されると、この信号
が高周波増幅器2により増幅される。この高周波電力
は、電力検出器3及び整合器4を介して電極5A,5B
間に供給される。電極5A,5Bは、ウエハ8をプラズ
マ処理する真空チャンバ7内に設けられる。ここで、高
周波電力を負荷のインピーダンスに整合させる場合に
は、ユーザは、電力検出計6を参照しながら、整合器4
のバリコンを調整する。なお、電力検出計6は電力検出
器3により検出された反射波又は入射波から高周波電力
を指示する。これにより、電極5A,5Bに供給する高
周波電力を調整することができる。
周波信号が水晶発振器1により発生されると、この信号
が高周波増幅器2により増幅される。この高周波電力
は、電力検出器3及び整合器4を介して電極5A,5B
間に供給される。電極5A,5Bは、ウエハ8をプラズ
マ処理する真空チャンバ7内に設けられる。ここで、高
周波電力を負荷のインピーダンスに整合させる場合に
は、ユーザは、電力検出計6を参照しながら、整合器4
のバリコンを調整する。なお、電力検出計6は電力検出
器3により検出された反射波又は入射波から高周波電力
を指示する。これにより、電極5A,5Bに供給する高
周波電力を調整することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例によ
れば、電極5A,5Bに供給する高周波電力が必ずしも
一定していない。このため、真空チャンバ7内のプラズ
マ密度が変化することから、薄膜の成長速度やカバレー
ジ,膜質,あるいは、薄膜のエッチング速度や形状選択
比等が変動するという恐れがある。
れば、電極5A,5Bに供給する高周波電力が必ずしも
一定していない。このため、真空チャンバ7内のプラズ
マ密度が変化することから、薄膜の成長速度やカバレー
ジ,膜質,あるいは、薄膜のエッチング速度や形状選択
比等が変動するという恐れがある。
【0008】この原因の一つには、電力検出器3の固体
差及びその経時的なドリフトのために、電極5A,5B
に供給する高周波電力が電力検出計6毎に、あるいは、
使用時間によって相違するというものである。この固体
差は、構成部品のバラ付きにより生ずる。例えば、熱電
対の結合度のバラ付きや熱電対の起電力のバラ付き、周
波数特性のバラ付き又は電力検出計6のバラ付き等であ
る。経時的なドリフトは、構成部品の熱的劣化,変形に
よる結合度のずれや電力検出計6の指示ずれ等である。
差及びその経時的なドリフトのために、電極5A,5B
に供給する高周波電力が電力検出計6毎に、あるいは、
使用時間によって相違するというものである。この固体
差は、構成部品のバラ付きにより生ずる。例えば、熱電
対の結合度のバラ付きや熱電対の起電力のバラ付き、周
波数特性のバラ付き又は電力検出計6のバラ付き等であ
る。経時的なドリフトは、構成部品の熱的劣化,変形に
よる結合度のずれや電力検出計6の指示ずれ等である。
【0009】これにより、実際の製造プロセスにおいて
は、供給電力の定期的な手動による校正(誤差修正)が
余儀無くされている。もう一つの原因は、プラズマ以外
で電力が損失されることにより、電極5A,5Bに供給
される正味の電力が変動するというものである。例え
ば、電極5A,5Bの汚れによる電力リークや、導体の
接触抵抗による発熱等により電力が損失する。
は、供給電力の定期的な手動による校正(誤差修正)が
余儀無くされている。もう一つの原因は、プラズマ以外
で電力が損失されることにより、電極5A,5Bに供給
される正味の電力が変動するというものである。例え
ば、電極5A,5Bの汚れによる電力リークや、導体の
接触抵抗による発熱等により電力が損失する。
【0010】これにより、当該高周波電源装置を応用し
たRFスパッタ装置,プラズマCVD装置,ドライエッ
チング装置又はアッシング装置等の信頼性の低下を招く
という問題がある。本発明は、かかる従来例の問題点に
鑑み創作されたものであり、プラズマ発生用の高周波電
力やチューナ位置を自動調整して、電力検出器の固体差
と経時的なドリフトとを解消すること、及び、プラズマ
以外で損失される電力を極力低減することが可能となる
高周波電源装置及びプラズマ発生装置の提供を目的とす
る。
たRFスパッタ装置,プラズマCVD装置,ドライエッ
チング装置又はアッシング装置等の信頼性の低下を招く
という問題がある。本発明は、かかる従来例の問題点に
鑑み創作されたものであり、プラズマ発生用の高周波電
力やチューナ位置を自動調整して、電力検出器の固体差
と経時的なドリフトとを解消すること、及び、プラズマ
以外で損失される電力を極力低減することが可能となる
高周波電源装置及びプラズマ発生装置の提供を目的とす
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】図1〜3は、本発明に係
る高周波電源装置の原理図(その1〜3)であり、図4
は、本発明に係るプラズマ発生装置の原理図をそれぞれ
示している。本発明の第1の高周波電源装置は、図1に
示すように、規定周波数の入力信号を増幅する増幅器1
1と、前記増幅された高周波電力の情報を検出する電力
検出器12と、前記検出された高周波電力の情報を二値
化した電力検出データD11と予め設定された初期特性デ
ータDR及び電力設定データDth1から利得制御データ
D12を求め、前記利得制御データD12に基づいて増幅器
11の出力制御をする制御器13とを備えることを特徴
とする。
る高周波電源装置の原理図(その1〜3)であり、図4
は、本発明に係るプラズマ発生装置の原理図をそれぞれ
示している。本発明の第1の高周波電源装置は、図1に
示すように、規定周波数の入力信号を増幅する増幅器1
1と、前記増幅された高周波電力の情報を検出する電力
検出器12と、前記検出された高周波電力の情報を二値
化した電力検出データD11と予め設定された初期特性デ
ータDR及び電力設定データDth1から利得制御データ
D12を求め、前記利得制御データD12に基づいて増幅器
11の出力制御をする制御器13とを備えることを特徴
とする。
【0012】本発明の第1の高周波電源装置において、
前記制御器13は、前記初期特性データDR及び初期利
得データDGを記憶するメモリ13Aと、前記初期特性デ
ータDR及び前記電力検出データD11から制御目標デー
タを求め、前記制御目標データと電力設定データDth1
との差から利得制御データD12を演算する比較演算部13
Bとを有することを特徴とする。
前記制御器13は、前記初期特性データDR及び初期利
得データDGを記憶するメモリ13Aと、前記初期特性デ
ータDR及び前記電力検出データD11から制御目標デー
タを求め、前記制御目標データと電力設定データDth1
との差から利得制御データD12を演算する比較演算部13
Bとを有することを特徴とする。
【0013】また、本発明の第1の高周波電源装置にお
いて、前記比較演算部13Bは、利得制御データD12と初
期利得データDGとを比較して警報信号SA1を発生す
ることを特徴とする。本発明の第2の高周波電源装置
は、図2に示すように、高周波電力の情報を検出する電
力検出器14と、前記高周波電力を負荷のインピーダン
スに整合させる整合器15と、前記検出された高周波電
力の情報を二値化した電力検出データD21から前記整合
器15のチューナー位置を調整する整合位置データD22
を求め、前記整合位置データD22に基づいて整合器15
の出力制御をする制御器16とを備えることを特徴とす
る。
いて、前記比較演算部13Bは、利得制御データD12と初
期利得データDGとを比較して警報信号SA1を発生す
ることを特徴とする。本発明の第2の高周波電源装置
は、図2に示すように、高周波電力の情報を検出する電
力検出器14と、前記高周波電力を負荷のインピーダン
スに整合させる整合器15と、前記検出された高周波電
力の情報を二値化した電力検出データD21から前記整合
器15のチューナー位置を調整する整合位置データD22
を求め、前記整合位置データD22に基づいて整合器15
の出力制御をする制御器16とを備えることを特徴とす
る。
【0014】本発明の第2の高周波電源装置において、
前記制御器16は、前記整合器15のチューナー位置の
情報を二値化した位置検出データD23を記憶するメモリ
16Aと、前記位置検出データD23及び前記整合位置デー
タD22から制御目標データを求め、前記制御目標データ
と位置設定データDth2とを比較して警報信号SA2を
発生する比較演算部16Bとを備えることを特徴とする。
前記制御器16は、前記整合器15のチューナー位置の
情報を二値化した位置検出データD23を記憶するメモリ
16Aと、前記位置検出データD23及び前記整合位置デー
タD22から制御目標データを求め、前記制御目標データ
と位置設定データDth2とを比較して警報信号SA2を
発生する比較演算部16Bとを備えることを特徴とする。
【0015】なお、本発明の第2の高周波電源装置にお
いて、前記比較演算部16Bは、前記検出された高周波電
力の情報を二値化した電力検出データD21から前記整合
器15のチューナー位置を調整する整合位置データD22
を求めることを特徴とする。本発明の第3の高周波電源
装置は、図3に示すように、高周波電力を負荷のインピ
ーダンスに整合させる整合器17と、前記整合器17の
出力波形の情報を二値化した波形検出データD31をサン
プルホールドし、前記サンプルホールドされた波形検出
データD31から前記整合器17の出力波形のピーク電圧
の平均値及び標準偏差を演算する制御器18を備えるこ
とを特徴とする。
いて、前記比較演算部16Bは、前記検出された高周波電
力の情報を二値化した電力検出データD21から前記整合
器15のチューナー位置を調整する整合位置データD22
を求めることを特徴とする。本発明の第3の高周波電源
装置は、図3に示すように、高周波電力を負荷のインピ
ーダンスに整合させる整合器17と、前記整合器17の
出力波形の情報を二値化した波形検出データD31をサン
プルホールドし、前記サンプルホールドされた波形検出
データD31から前記整合器17の出力波形のピーク電圧
の平均値及び標準偏差を演算する制御器18を備えるこ
とを特徴とする。
【0016】本発明の第3の高周波電源装置において、
前記制御器18は、前記整合器17の波形検出データD
31を記憶するメモリ18Aと、前記メモリ18Aの波形検出
データD31をサンプルホールドし、前記ホールドホール
ドされた波形検出データD31から前記整合器17の出力
波形のピーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する比較
演算部18Bとを有することを特徴とする。
前記制御器18は、前記整合器17の波形検出データD
31を記憶するメモリ18Aと、前記メモリ18Aの波形検出
データD31をサンプルホールドし、前記ホールドホール
ドされた波形検出データD31から前記整合器17の出力
波形のピーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する比較
演算部18Bとを有することを特徴とする。
【0017】なお、本発明の第3の高周波電源装置にお
いて、前記比較演算部18Bは、前記整合器17の出力波
形のピーク電圧の平均値又は標準偏差が、予め設定され
た閾値設定データDth3を越えるときに、警報信号SA
3を発生することを特徴とする。本発明の第1のプラズ
マ発生装置は、図4(A)に示すように、プラズマを発
生するチャンバに設けられた電極19と、前記電極19
に高周波電力を供給する高周波電源20とを備え、前記
高周波電源19が、本発明の第1〜第3の高周波電源装
置を有することを特徴とする。
いて、前記比較演算部18Bは、前記整合器17の出力波
形のピーク電圧の平均値又は標準偏差が、予め設定され
た閾値設定データDth3を越えるときに、警報信号SA
3を発生することを特徴とする。本発明の第1のプラズ
マ発生装置は、図4(A)に示すように、プラズマを発
生するチャンバに設けられた電極19と、前記電極19
に高周波電力を供給する高周波電源20とを備え、前記
高周波電源19が、本発明の第1〜第3の高周波電源装
置を有することを特徴とする。
【0018】また、本発明の第2のプラズマ発生装置
は、図4(B)に示すように、規定周波数の入力信号又
は直流信号を増幅する増幅器21と、前記増幅されたマ
イクロ波の電力を検出する電力検出器22と、前記マイ
クロ波の電力を負荷のインピーダンスに整合させる整合
器23と、前記増幅器21,電力検出器22及び整合器
23の入出力を制御する制御装置24とを備え、前記制
御装置24は、本発明の第1〜第3の高周波電源装置の
制御器13,16又は18を有することを特徴とし、上
記目的を達成する。
は、図4(B)に示すように、規定周波数の入力信号又
は直流信号を増幅する増幅器21と、前記増幅されたマ
イクロ波の電力を検出する電力検出器22と、前記マイ
クロ波の電力を負荷のインピーダンスに整合させる整合
器23と、前記増幅器21,電力検出器22及び整合器
23の入出力を制御する制御装置24とを備え、前記制
御装置24は、本発明の第1〜第3の高周波電源装置の
制御器13,16又は18を有することを特徴とし、上
記目的を達成する。
【0019】
【作 用】まず、本発明の第1の高周波電源装置の動作
を説明する。例えば、規定周波数の入力信号が増幅器1
1により増幅されると、この増幅された高周波電力が電
力検出器12により検出される。また、電力検出器12
によって検出された高周波電力の情報は二値化され、こ
の電力検出データD11は、予め設定された初期特性デー
タDR及び電力設定データDthに基づいて演算され、こ
の演算結果から利得制御データD12が求められる。この
利得制御データD12は、例えば、D/A変換され、それ
が制御器13から増幅器11に出力される。
を説明する。例えば、規定周波数の入力信号が増幅器1
1により増幅されると、この増幅された高周波電力が電
力検出器12により検出される。また、電力検出器12
によって検出された高周波電力の情報は二値化され、こ
の電力検出データD11は、予め設定された初期特性デー
タDR及び電力設定データDthに基づいて演算され、こ
の演算結果から利得制御データD12が求められる。この
利得制御データD12は、例えば、D/A変換され、それ
が制御器13から増幅器11に出力される。
【0020】この際に、制御器13のメモリ13Aから初
期特性データDRが読み出され、この初期特性データD
Rと電力検出データD11から制御目標データが比較演算
部13Bにより求められる。この制御目標データは、比較
演算部13Bにより電力設定データDth1と比較され、こ
の差に基づいて利得制御データD12が当該演算部13Bに
より演算される。
期特性データDRが読み出され、この初期特性データD
Rと電力検出データD11から制御目標データが比較演算
部13Bにより求められる。この制御目標データは、比較
演算部13Bにより電力設定データDth1と比較され、こ
の差に基づいて利得制御データD12が当該演算部13Bに
より演算される。
【0021】このため、利得制御データD12に基づいて
増幅器11の出力を自動調整することにより、電力検出
器12の固体差を解消することが可能となる。また、利
得制御データD12と初期利得データDGとが比較演算部
13Bにより比較される。この比較結果が制御目標から大
きくずれた場合には、警報信号SA1が発生される。
増幅器11の出力を自動調整することにより、電力検出
器12の固体差を解消することが可能となる。また、利
得制御データD12と初期利得データDGとが比較演算部
13Bにより比較される。この比較結果が制御目標から大
きくずれた場合には、警報信号SA1が発生される。
【0022】このため、電力検出器12の経時的なドリ
フトの発生を告知することができ、安定した高周波電力
を負荷に供給することができる。なお、メンテナンスの
到来を早期に促すことが可能となる。これにより、当該
高周波電源装置を応用したRFスパッタ装置,プラズマ
CVD装置,ドライエッチング装置又はアッシング装置
等の信頼性の向上を図ることが可能となる。
フトの発生を告知することができ、安定した高周波電力
を負荷に供給することができる。なお、メンテナンスの
到来を早期に促すことが可能となる。これにより、当該
高周波電源装置を応用したRFスパッタ装置,プラズマ
CVD装置,ドライエッチング装置又はアッシング装置
等の信頼性の向上を図ることが可能となる。
【0023】次に、本発明の第2の高周波電源装置の動
作を説明する。例えば、プラズマ発生用の高周波電力が
電力検出器14により検出されると、この検出信号を二
値化した電力検出データD21が制御器16に出力され
る。また、高周波電力は整合器15により、負荷のイン
ピーダンスに整合される。この際に、制御器16の比較
演算部16Bにより、電力検出データD21から整合位置デ
ータD22が求められ、この整合位置データD22が制御器
16から整合器15に出力される。これにより、整合器
15のチューナー位置を自動調整することが可能とな
る。
作を説明する。例えば、プラズマ発生用の高周波電力が
電力検出器14により検出されると、この検出信号を二
値化した電力検出データD21が制御器16に出力され
る。また、高周波電力は整合器15により、負荷のイン
ピーダンスに整合される。この際に、制御器16の比較
演算部16Bにより、電力検出データD21から整合位置デ
ータD22が求められ、この整合位置データD22が制御器
16から整合器15に出力される。これにより、整合器
15のチューナー位置を自動調整することが可能とな
る。
【0024】また、負荷変動を伴わない正常時に、予
め、整合器15のチューナー位置が検出され、その位置
検出データD23が制御器16のメモリ16Aに記憶され
る。通常使用時には、メモリ16Aから読み出された位置
検出データD23が比較演算部16Bにより演算される。こ
の際の演算は、位置検出データD23と整合位置データD
22との差であり、この制御目標データと位置設定データ
Dth2とが比較演算部16Bにより比較される。
め、整合器15のチューナー位置が検出され、その位置
検出データD23が制御器16のメモリ16Aに記憶され
る。通常使用時には、メモリ16Aから読み出された位置
検出データD23が比較演算部16Bにより演算される。こ
の際の演算は、位置検出データD23と整合位置データD
22との差であり、この制御目標データと位置設定データ
Dth2とが比較演算部16Bにより比較される。
【0025】このため、通常使用時に取得した整合器1
5のチューナー位置が、正常時に取得した整合器15の
チューナー位置から大きくずれている場合には、警報信
号SA2を発生することが可能となる。ここで、警報信
号SA2は、制御目標データが電力設定データDth2を
越えるときに、「負荷のインピーダンスが変動してい
る」ことを示すこととなる。
5のチューナー位置が、正常時に取得した整合器15の
チューナー位置から大きくずれている場合には、警報信
号SA2を発生することが可能となる。ここで、警報信
号SA2は、制御目標データが電力設定データDth2を
越えるときに、「負荷のインピーダンスが変動してい
る」ことを示すこととなる。
【0026】これにより、負荷のインピーダンスの変動
を早期に検出することができ、第1の高周波電源装置と
同様に、安定した高周波電力を負荷に供給することがで
きる。また、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、
従来例のような無駄な電力損失を低減することが可能と
なる。次に、本発明の第3の高周波電源装置の動作を説
明する。例えば、整合器17により高周波電力が負荷の
インピーダンスに整合されると、この整合器17の出力
波形が検出される。この際の出力波形は二値化され、こ
の整合器17の波形検出データD31が制御器18のメモ
リ18Aに記憶される。
を早期に検出することができ、第1の高周波電源装置と
同様に、安定した高周波電力を負荷に供給することがで
きる。また、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、
従来例のような無駄な電力損失を低減することが可能と
なる。次に、本発明の第3の高周波電源装置の動作を説
明する。例えば、整合器17により高周波電力が負荷の
インピーダンスに整合されると、この整合器17の出力
波形が検出される。この際の出力波形は二値化され、こ
の整合器17の波形検出データD31が制御器18のメモ
リ18Aに記憶される。
【0027】この波形検出データD31は制御器18の比
較演算部18Bにより、サンプルホールドされる。当該デ
ータD31は、少なくとも、3周期以上を対象とし、この
波形検出データD31から整合器17の出力波形のピーク
電圧の平均値及び標準偏差が演算される。このため、整
合器17の出力波形のピーク電圧の平均値の変動が過大
となるとき、又は、標準偏差が過大になった場合には、
警報信号SA3を発生することが可能となる。ここで、
警報信号SA3は、ピーク電圧の平均値や標準偏差が、
予め設定された閾値設定データDth3を越えるときに、
第2の高周波電源装置と同様に、「負荷のインピーダン
スが変動している」ことを示すこととなる。
較演算部18Bにより、サンプルホールドされる。当該デ
ータD31は、少なくとも、3周期以上を対象とし、この
波形検出データD31から整合器17の出力波形のピーク
電圧の平均値及び標準偏差が演算される。このため、整
合器17の出力波形のピーク電圧の平均値の変動が過大
となるとき、又は、標準偏差が過大になった場合には、
警報信号SA3を発生することが可能となる。ここで、
警報信号SA3は、ピーク電圧の平均値や標準偏差が、
予め設定された閾値設定データDth3を越えるときに、
第2の高周波電源装置と同様に、「負荷のインピーダン
スが変動している」ことを示すこととなる。
【0028】これにより、負荷のインピーダンスの変動
を早期に検出することができ、第2の高周波電源装置と
同様に、安定した高周波電力を負荷に供給することがで
きる。また、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、
従来例のような無駄な電力損失を低減することが可能と
なる。次に、本発明の第1のプラズマ発生装置の動作を
説明する。例えば、本発明の第1〜第3の高周波電源装
置を有する高周波電源20からチャンバの電極19に、
高周波電力が供給される。
を早期に検出することができ、第2の高周波電源装置と
同様に、安定した高周波電力を負荷に供給することがで
きる。また、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、
従来例のような無駄な電力損失を低減することが可能と
なる。次に、本発明の第1のプラズマ発生装置の動作を
説明する。例えば、本発明の第1〜第3の高周波電源装
置を有する高周波電源20からチャンバの電極19に、
高周波電力が供給される。
【0029】このため、高周波電源20により、高周波
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマを発生する
ことができる。また、チャンバ内のプラズマ密度を安定
に維持することができ、プラズマ以外で損失される電力
を低減することができる。
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマを発生する
ことができる。また、チャンバ内のプラズマ密度を安定
に維持することができ、プラズマ以外で損失される電力
を低減することができる。
【0030】これにより、プラズマ処理される薄膜の成
長速度やカバレージ,膜質,あるいは、薄膜のエッチン
グ速度や形状選択比等の安定化を図ることが可能とな
る。次に、本発明の第2のプラズマ発生装置の動作を説
明する。例えば、規定周波数の入力信号又は直流信号が
増幅器21により増幅されると、この増幅されたマイク
ロ波の電力が電力検出器22により検出される。また、
マイクロ波の電力は負荷のインピーダンスに整合器23
により整合される。
長速度やカバレージ,膜質,あるいは、薄膜のエッチン
グ速度や形状選択比等の安定化を図ることが可能とな
る。次に、本発明の第2のプラズマ発生装置の動作を説
明する。例えば、規定周波数の入力信号又は直流信号が
増幅器21により増幅されると、この増幅されたマイク
ロ波の電力が電力検出器22により検出される。また、
マイクロ波の電力は負荷のインピーダンスに整合器23
により整合される。
【0031】このため、制御装置24により、安定した
高周波電力に基づいてプラズマを発生することができ
る。また、利得制御データD42に基づいて増幅器21の
出力を自動調整することにより、電力検出器22の固体
差を解消することが可能となる。さらに、利得制御デー
タD42と初期利得データDGとが比較され、この比較結
果が制御目標から大きくずれた場合には、警報信号SA
4が発生される。
高周波電力に基づいてプラズマを発生することができ
る。また、利得制御データD42に基づいて増幅器21の
出力を自動調整することにより、電力検出器22の固体
差を解消することが可能となる。さらに、利得制御デー
タD42と初期利得データDGとが比較され、この比較結
果が制御目標から大きくずれた場合には、警報信号SA
4が発生される。
【0032】このため、電力検出器22の経時的なドリ
フトの発生を告知することができ、なお、メンテナンス
の必要性を促すことが可能となる。これにより、高信頼
度のプラズマCVD装置,ドライエッチング装置又はア
ッシング装置等の提供に寄与するところが大きい。
フトの発生を告知することができ、なお、メンテナンス
の必要性を促すことが可能となる。これにより、高信頼
度のプラズマCVD装置,ドライエッチング装置又はア
ッシング装置等の提供に寄与するところが大きい。
【0033】
【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図5〜16は、本発明の実施例に係る高
周波電源装置及びプラズマ発生装置を説明する図であ
る。 (1)第1の実施例の説明 図5は、本発明の第1の実施例に係る高周波電源装置の
構成図であり、図6は、その各実施例に係る電力検出器
及び整合器の構成図である。図7はCPUの機能を説明
する特性図であり、図8は、本発明の第1の実施例に係
るCPUの制御フローチャートをそれぞれ示している。
いて説明をする。図5〜16は、本発明の実施例に係る高
周波電源装置及びプラズマ発生装置を説明する図であ
る。 (1)第1の実施例の説明 図5は、本発明の第1の実施例に係る高周波電源装置の
構成図であり、図6は、その各実施例に係る電力検出器
及び整合器の構成図である。図7はCPUの機能を説明
する特性図であり、図8は、本発明の第1の実施例に係
るCPUの制御フローチャートをそれぞれ示している。
【0034】例えば、プラズマ発生装置の高周波電源に
適用可能な電源装置は、図5に示すように、水晶発振器
30,高周波増幅器31,電力検出器32,中央処理装
置(以下単にCPUという)33,整合器34,出力表
示回路35及びアラーム発生回路36を備える。すなわ
ち、水晶発振器30は周波数13.56 MHzの正弦波信号を
発生するものである。高周波増幅器31は原理図1の増
幅器11の一例であり、周波数13.56 MHzの正弦波信号
を増幅するものである。高周波増幅器31は、従来例と
異なり、利得制御信号S12に基づいて増幅度が可変され
る。
適用可能な電源装置は、図5に示すように、水晶発振器
30,高周波増幅器31,電力検出器32,中央処理装
置(以下単にCPUという)33,整合器34,出力表
示回路35及びアラーム発生回路36を備える。すなわ
ち、水晶発振器30は周波数13.56 MHzの正弦波信号を
発生するものである。高周波増幅器31は原理図1の増
幅器11の一例であり、周波数13.56 MHzの正弦波信号
を増幅するものである。高周波増幅器31は、従来例と
異なり、利得制御信号S12に基づいて増幅度が可変され
る。
【0035】電力検出器32は電力検出器12の一例で
あり、高周波増幅器31で増幅された高周波電力の情報
を検出し、電力検出信号S11をCPU33に出力するも
のである。電力検出器32は、例えば、図6(A)に示
すように、CM型方向性結合器32A及び電力検出計32
B,32Cから成る。CM型方向性結合器32Aは熱電対T
1,T2を有し、高周波電力を伝送する50Ωの同軸ケ
ーブルに接合される。電力検出計32Bは入射波を指示
し、電力検出計32Cは反射波をそれぞれ指示する。
あり、高周波増幅器31で増幅された高周波電力の情報
を検出し、電力検出信号S11をCPU33に出力するも
のである。電力検出器32は、例えば、図6(A)に示
すように、CM型方向性結合器32A及び電力検出計32
B,32Cから成る。CM型方向性結合器32Aは熱電対T
1,T2を有し、高周波電力を伝送する50Ωの同軸ケ
ーブルに接合される。電力検出計32Bは入射波を指示
し、電力検出計32Cは反射波をそれぞれ指示する。
【0036】CPU33は制御器13の一例であり、A
/D変換器301 ,RAM(随時書込み/読出し可能なメ
モリ)13A,比較演算部13B及びD/A変換器301 を有
する。A/D変換器301 は電力検出信号S11をアナログ
/デジタル変換して二値化し、この電力検出データD11
を比較演算部13Bに出力する。RAMは原理図1のメモ
リ13Aの一例であり、初期利得データDG及び初期特性
データDRを記憶する。初期利得データDGは、高周波
増幅器31の初期の利得Go(D)を示すデータであ
る。
/D変換器301 ,RAM(随時書込み/読出し可能なメ
モリ)13A,比較演算部13B及びD/A変換器301 を有
する。A/D変換器301 は電力検出信号S11をアナログ
/デジタル変換して二値化し、この電力検出データD11
を比較演算部13Bに出力する。RAMは原理図1のメモ
リ13Aの一例であり、初期利得データDG及び初期特性
データDRを記憶する。初期利得データDGは、高周波
増幅器31の初期の利得Go(D)を示すデータであ
る。
【0037】初期特性データDRは図7(A)に示すよ
うに高周波電力の真の値Rと電力検出器32の電力検出
信号S11の関係を示すデータである。なお、図7(A)
において、縦軸は電力検出器32の電力検出量Pfoで
あり、横軸は高周波電力の真の値PfR である。Rは真
の高周波電力と電力検出値との関係を示す特性である。
Xは同軸ケーブルに伝送される高周波電力と電力検出器
32の電力検出信号S11の関係を示す特性である。
うに高周波電力の真の値Rと電力検出器32の電力検出
信号S11の関係を示すデータである。なお、図7(A)
において、縦軸は電力検出器32の電力検出量Pfoで
あり、横軸は高周波電力の真の値PfR である。Rは真
の高周波電力と電力検出値との関係を示す特性である。
Xは同軸ケーブルに伝送される高周波電力と電力検出器
32の電力検出信号S11の関係を示す特性である。
【0038】比較演算部13Bは、演算器302 ,304 及び
比較回路303 ,305 を有する。演算器302 は初期特性デ
ータDR及び電力検出データD11から制御目標データD
fRを求める。例えば、演算器302 は電力検出データD1
1から修正データを減算し、制御目標データDfR を出
力する。ここで、電力検出データD11は同軸ケーブルに
伝送される高周波電力Pfoを示し、修正データは電力
検出器32のキャリブレーション量ΔPfを示し、制御
目標データDfR は真の高周波電力PfR をそれぞれ示
す。キャリブレーション量ΔPfと真の高周波電力Pf
R との関係は、図7(B)に示される。
比較回路303 ,305 を有する。演算器302 は初期特性デ
ータDR及び電力検出データD11から制御目標データD
fRを求める。例えば、演算器302 は電力検出データD1
1から修正データを減算し、制御目標データDfR を出
力する。ここで、電力検出データD11は同軸ケーブルに
伝送される高周波電力Pfoを示し、修正データは電力
検出器32のキャリブレーション量ΔPfを示し、制御
目標データDfR は真の高周波電力PfR をそれぞれ示
す。キャリブレーション量ΔPfと真の高周波電力Pf
R との関係は、図7(B)に示される。
【0039】比較回路303 は制御目標データDfR と電
力設定データDth1とを比較し、この比較結果データD
εを演算器304 に出力する。電力設定データDth1は電
力設定値PR を示し、外部から設定される。演算器304
は比較結果データDεから利得制御データD12を演算し
て、それを比較回路305 に出力する。比較回路305 は、
利得制御データD12と初期利得データDGとを比較して
警報信号SA1を発生する。D/A変換器301 は、利得
制御データD12をデジタル/アナログ変換し、その利得
制御信号S12を高周波増幅器31に出力する。
力設定データDth1とを比較し、この比較結果データD
εを演算器304 に出力する。電力設定データDth1は電
力設定値PR を示し、外部から設定される。演算器304
は比較結果データDεから利得制御データD12を演算し
て、それを比較回路305 に出力する。比較回路305 は、
利得制御データD12と初期利得データDGとを比較して
警報信号SA1を発生する。D/A変換器301 は、利得
制御データD12をデジタル/アナログ変換し、その利得
制御信号S12を高周波増幅器31に出力する。
【0040】これにより、CPU33は電力検出データ
D11、初期特性データDR及び電力設定データDth1か
ら利得制御データD12を求め、利得制御データD12に基
づいて高周波増幅器31の出力制御をすることができ
る。なお、整合器34は高周波電力を負荷のインピーダ
ンスに整合させるものである。例えば、整合器34は、
図6(B)に示すように、コイルL,カップリング容量
C及びバリコンVC1,VC2を備える。本発明の実施
例では、バリコンVC1,VC2を駆動するモータM
1,M2及びチューナ位置を検出するエンコーダE1,
E2が設けられる。
D11、初期特性データDR及び電力設定データDth1か
ら利得制御データD12を求め、利得制御データD12に基
づいて高周波増幅器31の出力制御をすることができ
る。なお、整合器34は高周波電力を負荷のインピーダ
ンスに整合させるものである。例えば、整合器34は、
図6(B)に示すように、コイルL,カップリング容量
C及びバリコンVC1,VC2を備える。本発明の実施
例では、バリコンVC1,VC2を駆動するモータM
1,M2及びチューナ位置を検出するエンコーダE1,
E2が設けられる。
【0041】出力表示回路35は制御目標データDfR
に基づいて真の高周波電力PfR を表示するものであ
る。アラーム発生回路36は警報信号SA1に基づいて
アラームを発生するものである。次に、図5,8を参照
しながら本実施例の高周波電源装置の動作を説明する。
例えば、周波数13.56 MHzの正弦波信号が、図5に示し
たような高周波増幅器31により増幅されると、この増
幅された高周波電力Pfoが電力検出器32により検出
され、この電力検出信号S11がA/D変換器301 により
二値化される。
に基づいて真の高周波電力PfR を表示するものであ
る。アラーム発生回路36は警報信号SA1に基づいて
アラームを発生するものである。次に、図5,8を参照
しながら本実施例の高周波電源装置の動作を説明する。
例えば、周波数13.56 MHzの正弦波信号が、図5に示し
たような高周波増幅器31により増幅されると、この増
幅された高周波電力Pfoが電力検出器32により検出
され、この電力検出信号S11がA/D変換器301 により
二値化される。
【0042】また、高周波電力Pfoは電力制御値Dと
の関係において、図7(C)に示すような特性になった
ものとする。図7(C)において、縦軸は電力検出器3
2により検出される高周波電力Pfoであり、横軸は高
周波電力Pfoを制御する電力制御値Dである。すなわ
ち、図8のCPUの制御フローチャートに示すように、
まず、ステップP1で高周波電力PfoをCPU33に
入力する。具体的には、A/D変換器301 により電力検
出信号S11がアナログ/デジタル変換され、その二値化
された電力検出データD11が比較演算部13Bに出力され
る。
の関係において、図7(C)に示すような特性になった
ものとする。図7(C)において、縦軸は電力検出器3
2により検出される高周波電力Pfoであり、横軸は高
周波電力Pfoを制御する電力制御値Dである。すなわ
ち、図8のCPUの制御フローチャートに示すように、
まず、ステップP1で高周波電力PfoをCPU33に
入力する。具体的には、A/D変換器301 により電力検
出信号S11がアナログ/デジタル変換され、その二値化
された電力検出データD11が比較演算部13Bに出力され
る。
【0043】次に、ステップP2で真の高周波電力Pf
R =Pfo−ΔPfを演算する。この際に、メモリ13A
から初期特性データDRが読み出される。この初期特性
データDRと電力検出データD11から制御目標データD
fR が演算器302 により求められる。その後、ステップ
P3で真の高周波電力PfR と電力設定値PR とを比較
する。この際に、電力PfR と設定値PR とが一致しな
い場合(NO)には、ステップP4に移行して利得制御
データD12の増減をする。具体的には、比較回路303に
より電力設定データDth1と制御目標データDfR とが
比較され、この比較結果に基づいて利得制御データD12
が演算器304 により演算される。また、ステップP3で
電力PfR と設定値PR とが一致する場合(YES)に
は、ステップP5に移行する。
R =Pfo−ΔPfを演算する。この際に、メモリ13A
から初期特性データDRが読み出される。この初期特性
データDRと電力検出データD11から制御目標データD
fR が演算器302 により求められる。その後、ステップ
P3で真の高周波電力PfR と電力設定値PR とを比較
する。この際に、電力PfR と設定値PR とが一致しな
い場合(NO)には、ステップP4に移行して利得制御
データD12の増減をする。具体的には、比較回路303に
より電力設定データDth1と制御目標データDfR とが
比較され、この比較結果に基づいて利得制御データD12
が演算器304 により演算される。また、ステップP3で
電力PfR と設定値PR とが一致する場合(YES)に
は、ステップP5に移行する。
【0044】すなわち、ステップP5では、高周波増幅
器31の初期の利得から大きくずれているか否かをGo
(D)−d<Pfo/D<Go(D)+dにより検証す
る。ここで、A=Go(D)−dは利得の下限値であ
り、C=Go(D)+dは利得の上限値である。また、
B=Pfo/Dは高周波電力Pfoを供給する際の高周
波増幅器31の利得である。Go(D)は初期の利得で
あり、Dは電力制御値である。Dは利得制御信号S11に
依存する。
器31の初期の利得から大きくずれているか否かをGo
(D)−d<Pfo/D<Go(D)+dにより検証す
る。ここで、A=Go(D)−dは利得の下限値であ
り、C=Go(D)+dは利得の上限値である。また、
B=Pfo/Dは高周波電力Pfoを供給する際の高周
波増幅器31の利得である。Go(D)は初期の利得で
あり、Dは電力制御値である。Dは利得制御信号S11に
依存する。
【0045】この関係式を満たす場合(YES)には、初
期の利得からのずれが大きくないので、ステップP1に
戻って高周波電力Pfoを入力してデータ処理を継続す
る。反対に、この関係式を満たさない場合(NO)に
は、初期の利得からのずれが大きくなっているのでステ
ップP6に移行する。ステップP6ではアラームコール
を実行する。具体的には利得制御データD12と初期利得
データDGとが比較演算部13Bにより比較される。この
比較結果が制御目標から大きくずれた場合に、警報信号
SA1がアラーム発生回路36に出力される。
期の利得からのずれが大きくないので、ステップP1に
戻って高周波電力Pfoを入力してデータ処理を継続す
る。反対に、この関係式を満たさない場合(NO)に
は、初期の利得からのずれが大きくなっているのでステ
ップP6に移行する。ステップP6ではアラームコール
を実行する。具体的には利得制御データD12と初期利得
データDGとが比較演算部13Bにより比較される。この
比較結果が制御目標から大きくずれた場合に、警報信号
SA1がアラーム発生回路36に出力される。
【0046】その後、ステップP7でデータ処理を終了
する場合(YES)には、プラズマOFF信号で終了する。
なお、データ処理を継続する場合(NO)には、ステッ
プP1に戻って高周波電力PfoをCPU33に入力す
る。このようにして、本発明の第1の実施例に係る高周
波電源装置によれば、図5に示すように、電力検出デー
タD11と予め設定された初期特性データDR及び電力設
定データDthから利得制御データD12を求め、この利得
制御データD12に基づいて高周波増幅器31の出力制御
をするCPU33を備える。
する場合(YES)には、プラズマOFF信号で終了する。
なお、データ処理を継続する場合(NO)には、ステッ
プP1に戻って高周波電力PfoをCPU33に入力す
る。このようにして、本発明の第1の実施例に係る高周
波電源装置によれば、図5に示すように、電力検出デー
タD11と予め設定された初期特性データDR及び電力設
定データDthから利得制御データD12を求め、この利得
制御データD12に基づいて高周波増幅器31の出力制御
をするCPU33を備える。
【0047】このため、利得制御信号S12に基づいて高
周波増幅器31の出力を自動調整することにより、電力
検出器32の固体差を解消することが可能となる。ま
た、利得制御データD12と初期利得データDGとが比較
演算部13Bにより比較される。この比較結果が制御目標
から大きくずれた場合には、アラーム発生回路36に警
報信号SA1が出力される。
周波増幅器31の出力を自動調整することにより、電力
検出器32の固体差を解消することが可能となる。ま
た、利得制御データD12と初期利得データDGとが比較
演算部13Bにより比較される。この比較結果が制御目標
から大きくずれた場合には、アラーム発生回路36に警
報信号SA1が出力される。
【0048】このため、電力検出器32の経時的なドリ
フトの発生を告知することができ、安定した高周波電力
を負荷に供給することができる。なお、メンテナンスの
必要性を促すことが可能となる。これにより、電力検出
器32の誤差補正機能及びその経時的ドリフトの監視機
能が強化された高周波電源装置が提供される。また、当
該高周波電源装置を応用したRFスパッタ装置,プラズ
マCVD装置,ドライエッチング装置又はアッシング装
置等の信頼性の向上を図ることが可能となる。
フトの発生を告知することができ、安定した高周波電力
を負荷に供給することができる。なお、メンテナンスの
必要性を促すことが可能となる。これにより、電力検出
器32の誤差補正機能及びその経時的ドリフトの監視機
能が強化された高周波電源装置が提供される。また、当
該高周波電源装置を応用したRFスパッタ装置,プラズ
マCVD装置,ドライエッチング装置又はアッシング装
置等の信頼性の向上を図ることが可能となる。
【0049】(2)第2の実施例の説明 図9は、本発明の第2の実施例に係る高周波電源装置の
構成図であり、図10は、本発明の第2の実施例に係るC
PUの制御フローチャートをそれぞれ示している。第2
の実施例では第1の実施例と異なり、整合位置データD
22に基づいて整合器43の出力制御をするCPU44が
設けられる。
構成図であり、図10は、本発明の第2の実施例に係るC
PUの制御フローチャートをそれぞれ示している。第2
の実施例では第1の実施例と異なり、整合位置データD
22に基づいて整合器43の出力制御をするCPU44が
設けられる。
【0050】すなわち、本発明の第2の高周波電源装置
は、図9に示すように、水晶発振器30,アラーム発生
回路36,高周波増幅器41,電力検出器42,整合器
43,CPU44,ドライバ45及び位置表示回路46
を備える。電力検出器42は原理図2の電力検出器14
の一例であり、高周波電力の情報を検出して電力検出信
号S21をCPU44に出力する。整合器43は整合器1
5の一例であり、図6(B)に示したように、バリコン
VC1,VC2を駆動するモータM1,M2及びチュー
ナ位置を検出するエンコーダE1,E2が設けられる。
これらの入出力を自動制御することにより、高周波電力
を負荷のインピーダンスに整合させる。
は、図9に示すように、水晶発振器30,アラーム発生
回路36,高周波増幅器41,電力検出器42,整合器
43,CPU44,ドライバ45及び位置表示回路46
を備える。電力検出器42は原理図2の電力検出器14
の一例であり、高周波電力の情報を検出して電力検出信
号S21をCPU44に出力する。整合器43は整合器1
5の一例であり、図6(B)に示したように、バリコン
VC1,VC2を駆動するモータM1,M2及びチュー
ナ位置を検出するエンコーダE1,E2が設けられる。
これらの入出力を自動制御することにより、高周波電力
を負荷のインピーダンスに整合させる。
【0051】CPU44は制御器16の一例であり、A
/D変換器401 ,404 ,RAM16A,比較演算部16B及
びD/A変換器403 ,408 を有する。A/D変換器401
は電力検出信号S21をアナログ/デジタル変換して二値
化し、この電力検出データD21を比較演算部16Bに出力
する。A/D変換器404 は位置検出信号S23をアナログ
/デジタル変換して二値化し、この位置検出データD23
を比較演算部16Bに出力する。RAMは原理図2のメモ
リ16Aの一例であり、チューナ位置を示す位置検出デー
タD23を記憶する。
/D変換器401 ,404 ,RAM16A,比較演算部16B及
びD/A変換器403 ,408 を有する。A/D変換器401
は電力検出信号S21をアナログ/デジタル変換して二値
化し、この電力検出データD21を比較演算部16Bに出力
する。A/D変換器404 は位置検出信号S23をアナログ
/デジタル変換して二値化し、この位置検出データD23
を比較演算部16Bに出力する。RAMは原理図2のメモ
リ16Aの一例であり、チューナ位置を示す位置検出デー
タD23を記憶する。
【0052】比較演算部16Bは、演算器402 ,405 ,プ
リセット演算回路407 及び比較回路406 を有する。演算
器402 は電力検出データD21と位置検出データD23から
整合位置データD22を求め、これをD/A変換器403 に
出力する。D/A変換器403は整合位置データD22をデ
ジタル/アナログ変換して、この整合位置信号S22をド
ライバ45に出力する。
リセット演算回路407 及び比較回路406 を有する。演算
器402 は電力検出データD21と位置検出データD23から
整合位置データD22を求め、これをD/A変換器403 に
出力する。D/A変換器403は整合位置データD22をデ
ジタル/アナログ変換して、この整合位置信号S22をド
ライバ45に出力する。
【0053】演算器405 は初期位置データDPと位置検
出データD23からチューナ位置を求め、この制御目標デ
ータDPR を比較回路406 に出力する。プリセット演算
回路407 はプリセットPSに基づいてモータ駆動データ
D24及び初期位置データDPを発生し、データD24をD
/A変換器408 に出力する。D/A変換器408 はデータ
D24をデジタル/アナログ変換して、このモータ制御信
号S24をドライバ45に出力する。また、演算回路407
はデータDPを演算器405 に出力する。比較回路406 は
制御目標データDPR と電力設定データDth2とを比較
して警報信号SA2を発生し、これをアラーム発生回路
36に出力する。
出データD23からチューナ位置を求め、この制御目標デ
ータDPR を比較回路406 に出力する。プリセット演算
回路407 はプリセットPSに基づいてモータ駆動データ
D24及び初期位置データDPを発生し、データD24をD
/A変換器408 に出力する。D/A変換器408 はデータ
D24をデジタル/アナログ変換して、このモータ制御信
号S24をドライバ45に出力する。また、演算回路407
はデータDPを演算器405 に出力する。比較回路406 は
制御目標データDPR と電力設定データDth2とを比較
して警報信号SA2を発生し、これをアラーム発生回路
36に出力する。
【0054】これにより、CPU44は電力検出データ
D21から整合位置データD22を求め、この整合位置デー
タD22に基づいて整合器43の出力制御をすることがで
きる。ドライバ45は整合位置信号S22及びモータ制御
信号S24に基づいてモータ駆動信号S25を発生し、それ
をバリコンVC1,VC2を駆動するモータM1,M2
に供給する。位置表示回路46は制御目標データDPR
に基づいてチューナ位置を表示する。なお、水晶発振器
30,アラーム発生回路36,高周波増幅器41につい
ては、第1の実施例と同じ機能を有するため、その説明
を省略する。
D21から整合位置データD22を求め、この整合位置デー
タD22に基づいて整合器43の出力制御をすることがで
きる。ドライバ45は整合位置信号S22及びモータ制御
信号S24に基づいてモータ駆動信号S25を発生し、それ
をバリコンVC1,VC2を駆動するモータM1,M2
に供給する。位置表示回路46は制御目標データDPR
に基づいてチューナ位置を表示する。なお、水晶発振器
30,アラーム発生回路36,高周波増幅器41につい
ては、第1の実施例と同じ機能を有するため、その説明
を省略する。
【0055】次に、図10のCPUの制御フローチャート
を参照しながら本実施例の高周波電源装置の動作を説明
する。例えば、図10のCPUの制御フローチャートに示
すように、まず、ステップP1でプリセット位置にモー
タM1,M2を合わせる。具体的には、図6(B)に示
したような整合器43のバリコンVC1,VC2がモー
タM1,M2により駆動される。ここでは、高周波電力
が負荷されていない状態である。
を参照しながら本実施例の高周波電源装置の動作を説明
する。例えば、図10のCPUの制御フローチャートに示
すように、まず、ステップP1でプリセット位置にモー
タM1,M2を合わせる。具体的には、図6(B)に示
したような整合器43のバリコンVC1,VC2がモー
タM1,M2により駆動される。ここでは、高周波電力
が負荷されていない状態である。
【0056】次に、ステップP2で高周波電力Pfoを
CPU44に入力する。ここで、負荷に高周波電力が供
給され、これが電力検出器42により検出される。電力
検出信号S21はCPUに出力され、A/D変換器401 に
より電力検出信号S21がアナログ/デジタル変換され、
その二値化された電力検出データD21が演算器402 に出
力される。
CPU44に入力する。ここで、負荷に高周波電力が供
給され、これが電力検出器42により検出される。電力
検出信号S21はCPUに出力され、A/D変換器401 に
より電力検出信号S21がアナログ/デジタル変換され、
その二値化された電力検出データD21が演算器402 に出
力される。
【0057】次に、ステップP3でチューナの整合位置
を演算する。ここでは、予め、負荷変動を伴わない正常
時に、整合器43のチューナー位置が検出され、その位
置検出信号S23がA/D変換器404 に出力される。A/
D変換器404 では信号S23がA/D変換され、その位置
検出データD23がメモリ16Aに記憶される。整合位置の
演算は、演算器402 により実行される。例えば、電力検
出データD21と位置検出データD23から整合位置データ
D22が求められ、この整合位置データD22がD/A変換
器403 に出力される。このデータD22はD/A変換され
る。この整合位置信号S22はドライバ45に出力され
る。
を演算する。ここでは、予め、負荷変動を伴わない正常
時に、整合器43のチューナー位置が検出され、その位
置検出信号S23がA/D変換器404 に出力される。A/
D変換器404 では信号S23がA/D変換され、その位置
検出データD23がメモリ16Aに記憶される。整合位置の
演算は、演算器402 により実行される。例えば、電力検
出データD21と位置検出データD23から整合位置データ
D22が求められ、この整合位置データD22がD/A変換
器403 に出力される。このデータD22はD/A変換され
る。この整合位置信号S22はドライバ45に出力され
る。
【0058】また、ステップP4でモータ制御データD
24をD/A変換器408 に出力する。具体的には、プリセ
ットPSに基づいてプリセット演算回路407 からD/A
変換器408 にモータ駆動データD24が出力される。これ
により、整合器43のチューナー位置が自動調整され
る。次いで、ステップP5で反射波が最小になったか否
かを判断する。この際に、反射波が最小になった場合
(YES)には、ステップP2に戻って、高周波電力Pf
oをCPU44に入力する。また、ステップP5で反射
波が最小にならない場合(NO)には、ステップP6に
移行する。
24をD/A変換器408 に出力する。具体的には、プリセ
ットPSに基づいてプリセット演算回路407 からD/A
変換器408 にモータ駆動データD24が出力される。これ
により、整合器43のチューナー位置が自動調整され
る。次いで、ステップP5で反射波が最小になったか否
かを判断する。この際に、反射波が最小になった場合
(YES)には、ステップP2に戻って、高周波電力Pf
oをCPU44に入力する。また、ステップP5で反射
波が最小にならない場合(NO)には、ステップP6に
移行する。
【0059】すなわち、ステップP6では、プリセット
位置と整合位置とのずれを比較する。ここでは、プリセ
ット演算回路407 からの初期位置データDPと位置検出
データD23とが演算器405 により演算される。この際の
演算は、初期位置データDPと位置検出データD23との
差及びその修正である。また、この差データを修正した
制御目標データDPR は位置設定データDth2と比較回
路406 により比較される。制御目標データDPR は位置
表示回路46に表示される。
位置と整合位置とのずれを比較する。ここでは、プリセ
ット演算回路407 からの初期位置データDPと位置検出
データD23とが演算器405 により演算される。この際の
演算は、初期位置データDPと位置検出データD23との
差及びその修正である。また、この差データを修正した
制御目標データDPR は位置設定データDth2と比較回
路406 により比較される。制御目標データDPR は位置
表示回路46に表示される。
【0060】この結果、ステップP7でプリセット位置
と整合位置とのずれが大きい場合(YES)には、ステッ
プP8に移行する。また、プリセット位置と整合位置と
のずれが小さい場合(NO)には、ステップP2に戻っ
て、高周波電力PfoをCPU44に入力する。これら
のずれが大きい場合には、ステップP8でアラームコー
ルを実行する。この状態は、通常使用時に取得した整合
器43のチューナー位置が、正常時に取得した整合器4
3のチューナー位置から大きくずれている場合である。
具体的には、比較回路406 からアラーム発生回路36に
警報信号SA2が出力される。警報信号SA2は、制御
目標データDfR が位置設定データDth2を越えるとき
に、「負荷のインピーダンスが変動している」ことを示
す。
と整合位置とのずれが大きい場合(YES)には、ステッ
プP8に移行する。また、プリセット位置と整合位置と
のずれが小さい場合(NO)には、ステップP2に戻っ
て、高周波電力PfoをCPU44に入力する。これら
のずれが大きい場合には、ステップP8でアラームコー
ルを実行する。この状態は、通常使用時に取得した整合
器43のチューナー位置が、正常時に取得した整合器4
3のチューナー位置から大きくずれている場合である。
具体的には、比較回路406 からアラーム発生回路36に
警報信号SA2が出力される。警報信号SA2は、制御
目標データDfR が位置設定データDth2を越えるとき
に、「負荷のインピーダンスが変動している」ことを示
す。
【0061】その後、ステップP9でデータ処理を終了
する場合(YES)には、プラズマOFF信号で終了する。
なお、データ処理を継続する場合(NO)には、ステッ
プP2に戻って高周波電力PfoをCPU44に入力す
る。このようにして、本発明の第2の実施例に係る高周
波電源装置によれば、図9に示すように、電力検出デー
タD21から整合位置データD22を求め、この整合位置デ
ータD22に基づいて整合器43の位置制御をするCPU
44を備える。
する場合(YES)には、プラズマOFF信号で終了する。
なお、データ処理を継続する場合(NO)には、ステッ
プP2に戻って高周波電力PfoをCPU44に入力す
る。このようにして、本発明の第2の実施例に係る高周
波電源装置によれば、図9に示すように、電力検出デー
タD21から整合位置データD22を求め、この整合位置デ
ータD22に基づいて整合器43の位置制御をするCPU
44を備える。
【0062】このため、通常使用時に取得した整合器4
3のチューナー位置が、正常時に取得した整合器43の
チューナー位置から大きくずれている場合には、警報信
号SA2を発生することが可能となる。このことで、
「負荷のインピーダンスが変動している」ことを確認す
ることができる。これにより、整合器43のバリコンの
位置検出、位置ずれ監視機能が強化された高周波電源装
置が提供される。このことで、負荷のインピーダンスの
変動を早期に検出することができ、第1の実施例と同様
に、安定した高周波電力を負荷に供給することができ
る。
3のチューナー位置が、正常時に取得した整合器43の
チューナー位置から大きくずれている場合には、警報信
号SA2を発生することが可能となる。このことで、
「負荷のインピーダンスが変動している」ことを確認す
ることができる。これにより、整合器43のバリコンの
位置検出、位置ずれ監視機能が強化された高周波電源装
置が提供される。このことで、負荷のインピーダンスの
変動を早期に検出することができ、第1の実施例と同様
に、安定した高周波電力を負荷に供給することができ
る。
【0063】また、メンテナンスの必要性を促すこと、
及び、従来例のような無駄な電力損失を低減することが
可能となる。また、第1の実施例と同様に、当該高周波
電源装置を応用したプラズマ発生装置の信頼性の向上を
図ることが可能となる。 (3)第3の実施例の説明 図11は、本発明の第3の実施例に係る高周波電源装置の
構成図を示している。第3の実施例では第1,第2の実
施例と異なり、整合器53の出力波形に基づいて負荷の
インピーダンスの変動を検出するCPU55が設けられ
る。
及び、従来例のような無駄な電力損失を低減することが
可能となる。また、第1の実施例と同様に、当該高周波
電源装置を応用したプラズマ発生装置の信頼性の向上を
図ることが可能となる。 (3)第3の実施例の説明 図11は、本発明の第3の実施例に係る高周波電源装置の
構成図を示している。第3の実施例では第1,第2の実
施例と異なり、整合器53の出力波形に基づいて負荷の
インピーダンスの変動を検出するCPU55が設けられ
る。
【0064】すなわち、本発明の第3の高周波電源装置
は、図11に示すように、アラーム発生回路36,整合器
53,降圧回路54,CPU55及びデータ表示回路4
6を備える。整合器53は原理図1の整合器17の一例
であり、高周波電力を負荷のインピーダンスに整合させ
るものである。整合器53は従来例のような手動型で
も、本発明の第2の実施例のような自動調整機構のもの
でも良い。
は、図11に示すように、アラーム発生回路36,整合器
53,降圧回路54,CPU55及びデータ表示回路4
6を備える。整合器53は原理図1の整合器17の一例
であり、高周波電力を負荷のインピーダンスに整合させ
るものである。整合器53は従来例のような手動型で
も、本発明の第2の実施例のような自動調整機構のもの
でも良い。
【0065】降圧回路54は、抵抗R1及びR2から成
り、両抵抗R1及びR2は直列に接続される。降圧回路
54は、整合器53のカップリング容量Cの出力側と接
地線との間に接続される。この抵抗R1及びR2の直列
接続点に現れる出力波形をCPU55により監視する。
CPU55は制御器18の一例であり、A/D変換器50
1 ,RAM18A及び比較演算部18Bを有する。A/D変
換器501 は抵抗R1及びR2の直列接続点から得られる
出力波形信号S31をA/D変換し、この出力波形データ
D31をRAM18Aに出力する。メモリ18Aは波形検出デ
ータD31を記憶する。
り、両抵抗R1及びR2は直列に接続される。降圧回路
54は、整合器53のカップリング容量Cの出力側と接
地線との間に接続される。この抵抗R1及びR2の直列
接続点に現れる出力波形をCPU55により監視する。
CPU55は制御器18の一例であり、A/D変換器50
1 ,RAM18A及び比較演算部18Bを有する。A/D変
換器501 は抵抗R1及びR2の直列接続点から得られる
出力波形信号S31をA/D変換し、この出力波形データ
D31をRAM18Aに出力する。メモリ18Aは波形検出デ
ータD31を記憶する。
【0066】比較演算部18Bはメモリ18Aの波形検出デ
ータD31をサンプルホールドし、このホールドホールド
された波形検出データD31から整合器53の出力波形の
ピーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する。また、比
較演算部18Bは、整合器53の出力波形のピーク電圧の
平均値又は標準偏差が、予め設定された閾値設定データ
Dth3を越えるときに、警報信号SA3を発生する。
ータD31をサンプルホールドし、このホールドホールド
された波形検出データD31から整合器53の出力波形の
ピーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する。また、比
較演算部18Bは、整合器53の出力波形のピーク電圧の
平均値又は標準偏差が、予め設定された閾値設定データ
Dth3を越えるときに、警報信号SA3を発生する。
【0067】これにより、CPU55は整合器53の出
力波形から負荷のインピーダンスの変動を監視すること
ができる。なお、データ表示回路46は表示制御信号S
32に基づいて出力波形のピーク電圧の平均値及び標準偏
差を表示する。次に、本実施例の高周波電源装置の動作
を説明する。例えば、整合器53により高周波電力が負
荷のインピーダンスに整合されると、この整合器53の
出力波形が検出される。この際の出力波形信号S31はA
/D変換器501 により二値化され、この波形検出データ
D31がCPU55のメモリ18Aに記憶される。
力波形から負荷のインピーダンスの変動を監視すること
ができる。なお、データ表示回路46は表示制御信号S
32に基づいて出力波形のピーク電圧の平均値及び標準偏
差を表示する。次に、本実施例の高周波電源装置の動作
を説明する。例えば、整合器53により高周波電力が負
荷のインピーダンスに整合されると、この整合器53の
出力波形が検出される。この際の出力波形信号S31はA
/D変換器501 により二値化され、この波形検出データ
D31がCPU55のメモリ18Aに記憶される。
【0068】波形検出データD31は比較演算部18Bによ
りサンプルホールドされる。当該データD31は、少なく
とも、3周期以上がサンプリングされる。この波形検出
データD31は比較演算部18Bにより演算される。演算内
容は、整合器53の出力波形のピーク電圧の平均値及び
標準偏差である。また、比較演算部18Bではピーク電圧
の平均値の変動が過大となるとき、又は、標準偏差が過
大になった場合には、警報信号SA3を発生する。ここ
で、警報信号SA3は、ピーク電圧の平均値や標準偏差
が、予め設定された閾値設定データDth3を越えるとき
である。これにより、CPU55により発振電圧のホー
ルドとピーク電圧のバラツキとが管理される。
りサンプルホールドされる。当該データD31は、少なく
とも、3周期以上がサンプリングされる。この波形検出
データD31は比較演算部18Bにより演算される。演算内
容は、整合器53の出力波形のピーク電圧の平均値及び
標準偏差である。また、比較演算部18Bではピーク電圧
の平均値の変動が過大となるとき、又は、標準偏差が過
大になった場合には、警報信号SA3を発生する。ここ
で、警報信号SA3は、ピーク電圧の平均値や標準偏差
が、予め設定された閾値設定データDth3を越えるとき
である。これにより、CPU55により発振電圧のホー
ルドとピーク電圧のバラツキとが管理される。
【0069】このようにして、本発明の第3の実施例に
係る高周波電源装置によれば、図11に示すように、整合
器53の出力波形の情報を二値化した波形検出データD
31をサンプルホールドし、この波形検出データD31から
整合器53の出力波形のピーク電圧の平均値及び標準偏
差を演算するCPU55を備える。このため、整合器5
3の出力波形のピーク電圧の平均値の変動が過大となる
とき、又は、標準偏差が過大になった場合には、警報信
号SA3を発生することが可能となる。このことで、第
2の実施例と同様に、「負荷のインピーダンスが変動し
ている」ことを確認することができる。
係る高周波電源装置によれば、図11に示すように、整合
器53の出力波形の情報を二値化した波形検出データD
31をサンプルホールドし、この波形検出データD31から
整合器53の出力波形のピーク電圧の平均値及び標準偏
差を演算するCPU55を備える。このため、整合器5
3の出力波形のピーク電圧の平均値の変動が過大となる
とき、又は、標準偏差が過大になった場合には、警報信
号SA3を発生することが可能となる。このことで、第
2の実施例と同様に、「負荷のインピーダンスが変動し
ている」ことを確認することができる。
【0070】これにより、負荷のインピーダンスの変動
を早期に検出することができ、第2の実施例と同様に、
安定した高周波電力を負荷に供給することができる。ま
た、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、従来例の
ような無駄な電力損失を低減することが可能となる。ま
た、第1,第2の実施例と同様に、当該高周波電源装置
を応用したプラズマ発生装置の信頼性の向上を図ること
が可能となる。
を早期に検出することができ、第2の実施例と同様に、
安定した高周波電力を負荷に供給することができる。ま
た、メンテナンスの必要性を促すこと、及び、従来例の
ような無駄な電力損失を低減することが可能となる。ま
た、第1,第2の実施例と同様に、当該高周波電源装置
を応用したプラズマ発生装置の信頼性の向上を図ること
が可能となる。
【0071】(4)各実施例の応用例の説明 図12〜14は、本発明の各実施例に係る高周波電源を応用
したプラズマ発生装置の構成であり、図12は、高周波電
源装置を応用したプラズマCVD装置の構成図である。
例えば、半導体ウエハ8にSiO2 膜を成長するRFプ
ラズマCVD装置は、図12に示すように、高周波電源10
0 ,真空チャンバ101 ,電極102 及びヒータ兼用電極10
3 を有する。
したプラズマ発生装置の構成であり、図12は、高周波電
源装置を応用したプラズマCVD装置の構成図である。
例えば、半導体ウエハ8にSiO2 膜を成長するRFプ
ラズマCVD装置は、図12に示すように、高周波電源10
0 ,真空チャンバ101 ,電極102 及びヒータ兼用電極10
3 を有する。
【0072】すなわち、高周波電源100 は原理図4
(A)の高周波電源20一例であり、電極102 に高周波
電力を供給する電源である。高周波電源100 は本発明の
第1〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この組
み合わせは、任意である。3つの機能を備えればベスト
である。電極102 は真空チャンバ101 に設けられ、反応
ガスSiH4 ,PH3 ,N2 O等を導入し、それを吹き
出すシャワー板が設けられる。ヒータ兼用電極103 は、
半導体ウエハ8を載置するサセプタを兼用する。
(A)の高周波電源20一例であり、電極102 に高周波
電力を供給する電源である。高周波電源100 は本発明の
第1〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この組
み合わせは、任意である。3つの機能を備えればベスト
である。電極102 は真空チャンバ101 に設けられ、反応
ガスSiH4 ,PH3 ,N2 O等を導入し、それを吹き
出すシャワー板が設けられる。ヒータ兼用電極103 は、
半導体ウエハ8を載置するサセプタを兼用する。
【0073】RFプラズマCVD装置の動作を説明す
る。例えば、高周波電源100 からチャンバ内の電極101
及びヒータ兼用電極103 に、高周波電力が供給されと、
両電極102 ,103 間にプラズマPZが発生する。この際
に、高周波電力や整合器のチューナ位置が自動調整され
る。このようにして、本発明のプラズマCVD装置によ
れば、図12に示すように、プラズマ発生用の電極102 に
高周波電力を供給する高周波電源100 が、本発明の第1
〜第3の実施例に係る高周波電源装置を有する。
る。例えば、高周波電源100 からチャンバ内の電極101
及びヒータ兼用電極103 に、高周波電力が供給されと、
両電極102 ,103 間にプラズマPZが発生する。この際
に、高周波電力や整合器のチューナ位置が自動調整され
る。このようにして、本発明のプラズマCVD装置によ
れば、図12に示すように、プラズマ発生用の電極102 に
高周波電力を供給する高周波電源100 が、本発明の第1
〜第3の実施例に係る高周波電源装置を有する。
【0074】このため、高周波電源100 により、高周波
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマPZを発生
することができる。ここで、本発明の実施例に係るプラ
ズマ発生装置と従来例に係る装置とを比較する。例え
ば、半導体ウエハにSiO2 膜を成長する場合であっ
て、成膜条件は、SiH4 ガスを20SCCM,O2 ガスを
50SCCM,N2 ガスを300SCCM,真空度を0.5To
rr,ウエハ温度を400°Cとし、高周波出力は周波
数13.56MHz,出力50Wとした。この場合、本発明
の実施例より処理したウエハと、従来例により処理した
ウエハとを比較すると、膜厚バラツキが8%から2%以
内に減少した。
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマPZを発生
することができる。ここで、本発明の実施例に係るプラ
ズマ発生装置と従来例に係る装置とを比較する。例え
ば、半導体ウエハにSiO2 膜を成長する場合であっ
て、成膜条件は、SiH4 ガスを20SCCM,O2 ガスを
50SCCM,N2 ガスを300SCCM,真空度を0.5To
rr,ウエハ温度を400°Cとし、高周波出力は周波
数13.56MHz,出力50Wとした。この場合、本発明
の実施例より処理したウエハと、従来例により処理した
ウエハとを比較すると、膜厚バラツキが8%から2%以
内に減少した。
【0075】これは、プラズマに供給される正味の高周
波電力が従来例に比べて安定したためである。また、膜
厚や膜質の異常が、SiH4 の流量異常(マスフローコ
ントローラのつまり)として採られがちな原因が、バリ
コン位置異常としてとらえることができた。これは、従
来例の装置では、バリコン位置異常が検出することがで
きなかったものが、第1の実施例に係る整合器43を用
いることで、これが解消されたためである。
波電力が従来例に比べて安定したためである。また、膜
厚や膜質の異常が、SiH4 の流量異常(マスフローコ
ントローラのつまり)として採られがちな原因が、バリ
コン位置異常としてとらえることができた。これは、従
来例の装置では、バリコン位置異常が検出することがで
きなかったものが、第1の実施例に係る整合器43を用
いることで、これが解消されたためである。
【0076】これにより、チャンバ内のプラズマ密度を
安定に維持することができ、プラズマPZ以外で損失さ
れる電力を低減することができる。また、プラズマ処理
される薄膜の成長速度やカバレージ,膜質,あるいは、
薄膜のエッチング速度や形状選択比等の安定化を図るこ
とが可能となる。このことで、高信頼度のRFプラズマ
CVD装置の提供に寄与するところが大きい。
安定に維持することができ、プラズマPZ以外で損失さ
れる電力を低減することができる。また、プラズマ処理
される薄膜の成長速度やカバレージ,膜質,あるいは、
薄膜のエッチング速度や形状選択比等の安定化を図るこ
とが可能となる。このことで、高信頼度のRFプラズマ
CVD装置の提供に寄与するところが大きい。
【0077】図13は、本発明の各実施例に係る高周波電
源を応用したドライエッチング装置の構成図である。例
えば、半導体ウエハ8上の膜を除去するドライエッチン
グ装置は、図13に示すように、高周波電源200 ,真空チ
ャンバ104 ,カソード電極105 及びヒータ兼用電極106
を有する。すなわち、高周波電源200 は原理図4(A)
の高周波電源20の一例であり、電極108 に高周波電力
を供給する電源である。高周波電源200 は本発明の第1
〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この組み合
わせはRFプラズマCVD装置の場合と同様に任意であ
る。3つの機能を備えればベストである。
源を応用したドライエッチング装置の構成図である。例
えば、半導体ウエハ8上の膜を除去するドライエッチン
グ装置は、図13に示すように、高周波電源200 ,真空チ
ャンバ104 ,カソード電極105 及びヒータ兼用電極106
を有する。すなわち、高周波電源200 は原理図4(A)
の高周波電源20の一例であり、電極108 に高周波電力
を供給する電源である。高周波電源200 は本発明の第1
〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この組み合
わせはRFプラズマCVD装置の場合と同様に任意であ
る。3つの機能を備えればベストである。
【0078】カソード電極105 は真空チャンバ104 に設
けられ、それが接地線に接続される。真空チャンバ104
には、反応ガスCH4 ,CHF3 ,O2 等が導入され
る。ヒータ兼用電極106 は、半導体ウエハ8を載置する
サセプタを兼用する。次に、ドライエッチング装置の動
作を説明する。例えば、高周波電源200 からチャンバ内
のカソード電極105 及びヒータ兼用電極106 に、高周波
電力が供給されと、両電極105 ,106 間にプラズマPZ
が発生する。この際に、高周波電力や整合器のチューナ
位置が自動調整される。
けられ、それが接地線に接続される。真空チャンバ104
には、反応ガスCH4 ,CHF3 ,O2 等が導入され
る。ヒータ兼用電極106 は、半導体ウエハ8を載置する
サセプタを兼用する。次に、ドライエッチング装置の動
作を説明する。例えば、高周波電源200 からチャンバ内
のカソード電極105 及びヒータ兼用電極106 に、高周波
電力が供給されと、両電極105 ,106 間にプラズマPZ
が発生する。この際に、高周波電力や整合器のチューナ
位置が自動調整される。
【0079】このようにして、本発明のドライエッチン
グ装置によれば、図13に示すように、ヒータ兼用電極10
6 に高周波電力を供給する高周波電源200 が、本発明の
第1〜第3の実施例に係る高周波電源装置を有する。こ
のため、高周波電源200 により、高周波電力や整合器の
チューナ位置が自動調整されることから、電力検出器の
固体差や経時的なドリフトが解消され、安定した高周波
電力に基づいてプラズマPZを発生することができる。
グ装置によれば、図13に示すように、ヒータ兼用電極10
6 に高周波電力を供給する高周波電源200 が、本発明の
第1〜第3の実施例に係る高周波電源装置を有する。こ
のため、高周波電源200 により、高周波電力や整合器の
チューナ位置が自動調整されることから、電力検出器の
固体差や経時的なドリフトが解消され、安定した高周波
電力に基づいてプラズマPZを発生することができる。
【0080】ここで、本発明の実施例に係るプラズマ発
生装置と従来例に係る装置とを比較する。例えば、シリ
コンのトレンチをRIEエッチングする場合、従来例の
装置では、所定の溝の深さと形状を維持するために3カ
月に一度程度の電力値を校正する必要があった。これに
対して、本発明の実施例の電源装置を用いた場合には、
このような管理が不要になった。また、万が一、カソー
ド電極105 の止めネジ等の緩みにより、異常放電が発生
した場合には、ピーク電圧監視機能により、プラズマの
異常を検知することが可能となった。
生装置と従来例に係る装置とを比較する。例えば、シリ
コンのトレンチをRIEエッチングする場合、従来例の
装置では、所定の溝の深さと形状を維持するために3カ
月に一度程度の電力値を校正する必要があった。これに
対して、本発明の実施例の電源装置を用いた場合には、
このような管理が不要になった。また、万が一、カソー
ド電極105 の止めネジ等の緩みにより、異常放電が発生
した場合には、ピーク電圧監視機能により、プラズマの
異常を検知することが可能となった。
【0081】これにより、チャンバ内のプラズマ密度を
安定に維持することができ、プラズマPZ以外で損失さ
れる電力を低減することができる。また、プラズマ処理
の安定化を図ることが可能となる。このことで、高信頼
度のドライエッチング装置の提供に寄与するところが大
きい。図14は、本発明の各実施例に係る高周波電源を応
用したスパッタリング装置の構成図である。例えば、半
導体ウエハ8上に金属原子を成膜するスパッタリング装
置は、図14に示すように、高周波電源300 ,真空チャン
バ107 ,ターゲット電極108 及び載置電極109 を有す
る。
安定に維持することができ、プラズマPZ以外で損失さ
れる電力を低減することができる。また、プラズマ処理
の安定化を図ることが可能となる。このことで、高信頼
度のドライエッチング装置の提供に寄与するところが大
きい。図14は、本発明の各実施例に係る高周波電源を応
用したスパッタリング装置の構成図である。例えば、半
導体ウエハ8上に金属原子を成膜するスパッタリング装
置は、図14に示すように、高周波電源300 ,真空チャン
バ107 ,ターゲット電極108 及び載置電極109 を有す
る。
【0082】すなわち、高周波電源300 は原理図4
(A)の高周波電源20の一例であり、電極108 に高周
波電力を供給する電源である。高周波電源300 は本発明
の第1〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この
組み合わせはRFプラズマCVD装置の場合と同様に任
意である。3つの機能を備えればベストである。ターゲ
ット電極108 は真空チャンバ107 に設けられ、それが電
源装置300 に接続される。真空チャンバ107 には、反応
ガスArが導入される。載置電極109 は、半導体ウエハ
8を載置する電極である。
(A)の高周波電源20の一例であり、電極108 に高周
波電力を供給する電源である。高周波電源300 は本発明
の第1〜第3の実施例の高周波電源装置を有する。この
組み合わせはRFプラズマCVD装置の場合と同様に任
意である。3つの機能を備えればベストである。ターゲ
ット電極108 は真空チャンバ107 に設けられ、それが電
源装置300 に接続される。真空チャンバ107 には、反応
ガスArが導入される。載置電極109 は、半導体ウエハ
8を載置する電極である。
【0083】スパッタリング装置の動作を説明する。例
えば、高周波電源300 からチャンバ内のターゲット電極
108 及び載置電極109 に、高周波電力が供給されと、両
電極105 ,106 間にプラズマPZが発生する。この際
に、高周波電力や整合器のチューナ位置が自動調整され
る。このようにして、本発明のスパッタリング装置によ
れば、図14に示すように、載置電極109 に高周波電力を
供給する高周波電源300 が、本発明の第1〜第3の実施
例に係る高周波電源装置を有する。
えば、高周波電源300 からチャンバ内のターゲット電極
108 及び載置電極109 に、高周波電力が供給されと、両
電極105 ,106 間にプラズマPZが発生する。この際
に、高周波電力や整合器のチューナ位置が自動調整され
る。このようにして、本発明のスパッタリング装置によ
れば、図14に示すように、載置電極109 に高周波電力を
供給する高周波電源300 が、本発明の第1〜第3の実施
例に係る高周波電源装置を有する。
【0084】このため、高周波電源300 により、高周波
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマPZを発生
することができる。これにより、チャンバ内のプラズマ
密度を安定に維持することができ、プラズマPZ以外で
損失される電力を低減することができる。また、プラズ
マ処理の安定化を図ることが可能となる。このことで、
高信頼度のスパッタリング装置の提供に寄与するところ
が大きい。
電力や整合器のチューナ位置が自動調整されることか
ら、電力検出器の固体差や経時的なドリフトが解消さ
れ、安定した高周波電力に基づいてプラズマPZを発生
することができる。これにより、チャンバ内のプラズマ
密度を安定に維持することができ、プラズマPZ以外で
損失される電力を低減することができる。また、プラズ
マ処理の安定化を図ることが可能となる。このことで、
高信頼度のスパッタリング装置の提供に寄与するところ
が大きい。
【0085】(5)第4の実施例の説明 図15は、本発明の第4の実施例に係る高周波電源(マイ
クロ波)を応用したプラズマ発生装置の構成図であり、
図16は、その各チューナーの構成図をそれぞれ示してい
る。第4の実施例では第1〜第3の実施例の高周波電源
装置を応用したプラズマ発生装置と異なり、マイクロ波
を発生する電源に、本発明の第1〜第3の実施例に係る
CPUの機能を応用するものである。
クロ波)を応用したプラズマ発生装置の構成図であり、
図16は、その各チューナーの構成図をそれぞれ示してい
る。第4の実施例では第1〜第3の実施例の高周波電源
装置を応用したプラズマ発生装置と異なり、マイクロ波
を発生する電源に、本発明の第1〜第3の実施例に係る
CPUの機能を応用するものである。
【0086】すなわち、本発明の第4の実施例に係るプ
ラズマ発生装置は、図15に示すように、電源60,マグ
ネトロン61,方向性結合器62,チューナ63及びC
PU64及び導波管65を有するマイクロ波発生源と、
真空チャンバ66内に載置台67が設けられて成る。導
波管65は真空チャンバ66に接続され、マイクロ波の
電力を真空チャンバ65に伝播する。
ラズマ発生装置は、図15に示すように、電源60,マグ
ネトロン61,方向性結合器62,チューナ63及びC
PU64及び導波管65を有するマイクロ波発生源と、
真空チャンバ66内に載置台67が設けられて成る。導
波管65は真空チャンバ66に接続され、マイクロ波の
電力を真空チャンバ65に伝播する。
【0087】電源60は、DC電源又は低周波パルス電
源から成る。DC電源は半波又は全波整流回路を有す
る。電源60はCPU64からの利得制御データD42に
基づいてDC電圧又は低周波パルス信号をマグネトロン
61に出力する。マグネトロン61は原理図4(B)の
増幅器21の一例であり、DC電圧又は低周波パルス信
号を増幅して、マイクロ波の電力を導波管65に輻射す
る。方向性結合器62は電力検出器22の一例であり、
マイクロ波の電力を検出して、電力検出信号S43をCP
U64に出力するものである。
源から成る。DC電源は半波又は全波整流回路を有す
る。電源60はCPU64からの利得制御データD42に
基づいてDC電圧又は低周波パルス信号をマグネトロン
61に出力する。マグネトロン61は原理図4(B)の
増幅器21の一例であり、DC電圧又は低周波パルス信
号を増幅して、マイクロ波の電力を導波管65に輻射す
る。方向性結合器62は電力検出器22の一例であり、
マイクロ波の電力を検出して、電力検出信号S43をCP
U64に出力するものである。
【0088】チューナ63は整合器23の一例であり、
マイクロ波の電力を真空チャンバ66に整合させるもの
である。チューナ63には図16(A)に示すようなスタ
ブチューナを用いる。スタブチューナ63は金属性の棒
体63Aとモータ63Bを有する。棒体63Aはモータ63Bに
より駆動され、導波管65に挿入される。これにより、
反射波が真空チャンバ66に戻される。モータ63BはC
PU64からのモータ駆動信号S45に基づいて駆動され
る。チューナ63には図16(B)に示すようなEHチュ
ーナ73を用いても良い。EHチューナ73は導波管6
5のE面,H面を可変する可動板73A,73Bを有する。
可動板73A,73Bはモータにより駆動される。EHチュ
ーナ73の機能は、導波管65のE面,H面を可変する
ことにより、導波管65の長さを変え、反射波を真空チ
ャンバ66に戻すものである。
マイクロ波の電力を真空チャンバ66に整合させるもの
である。チューナ63には図16(A)に示すようなスタ
ブチューナを用いる。スタブチューナ63は金属性の棒
体63Aとモータ63Bを有する。棒体63Aはモータ63Bに
より駆動され、導波管65に挿入される。これにより、
反射波が真空チャンバ66に戻される。モータ63BはC
PU64からのモータ駆動信号S45に基づいて駆動され
る。チューナ63には図16(B)に示すようなEHチュ
ーナ73を用いても良い。EHチューナ73は導波管6
5のE面,H面を可変する可動板73A,73Bを有する。
可動板73A,73Bはモータにより駆動される。EHチュ
ーナ73の機能は、導波管65のE面,H面を可変する
ことにより、導波管65の長さを変え、反射波を真空チ
ャンバ66に戻すものである。
【0089】CPU64は原理図4(B)の制御装置2
4の一例であり、電源60,マグネトロン61,方向性
結合器62及びチューナ63の入出力を制御するもので
ある。CPU64は、本発明の第1〜第3の高周波電源
装置のCPU33,44又は55を利用する。次に、本
実施例のプラズマ発生用高周波電源の動作を説明する。
例えば、DC電圧又は低周波パルス信号がマグネトロン
61により増幅されると、この増幅されたマイクロ波の
電力が方向性結合器62により検出される。また、マイ
クロ波の電力は真空チャンバ66にチューナ63を介し
て整合される。この際に、CPU64から利得制御デー
タD42が電源60に出力され、これに基づいてマグネト
ロン61の出力が自動調整される。
4の一例であり、電源60,マグネトロン61,方向性
結合器62及びチューナ63の入出力を制御するもので
ある。CPU64は、本発明の第1〜第3の高周波電源
装置のCPU33,44又は55を利用する。次に、本
実施例のプラズマ発生用高周波電源の動作を説明する。
例えば、DC電圧又は低周波パルス信号がマグネトロン
61により増幅されると、この増幅されたマイクロ波の
電力が方向性結合器62により検出される。また、マイ
クロ波の電力は真空チャンバ66にチューナ63を介し
て整合される。この際に、CPU64から利得制御デー
タD42が電源60に出力され、これに基づいてマグネト
ロン61の出力が自動調整される。
【0090】これにより、安定したマイクロ波の電力が
真空チャンバ66に供給され、これに基づいてプラズマ
PZが発生される。このようにして、本発明の第4の実
施例に係る高周波電源(マイクロ波)を応用したプラズ
マ発生装置によれば、マグネトロン61,方向性結合器
62及びチューナ63の入出力を制御するCPU64を
備え、当該CPU64が、本発明の第1〜第3の高周波
電源装置のCPU33,44又は44の機能を有する。
真空チャンバ66に供給され、これに基づいてプラズマ
PZが発生される。このようにして、本発明の第4の実
施例に係る高周波電源(マイクロ波)を応用したプラズ
マ発生装置によれば、マグネトロン61,方向性結合器
62及びチューナ63の入出力を制御するCPU64を
備え、当該CPU64が、本発明の第1〜第3の高周波
電源装置のCPU33,44又は44の機能を有する。
【0091】このため、CPU64により、安定した高
周波電力に基づいてプラズマを発生することができる。
また、利得制御データD42に基づいてマグネトロン61
の出力を自動調整することにより、方向性結合器62の
固体差を解消することが可能となる。さらに、CPU6
4で利得制御データD42と初期利得データとが比較さ
れ、この比較結果が制御目標から大きくずれた場合に
は、警報信号SA4が発生される。このため、方向性結
合器62の経時的なドリフトの発生を告知することがで
きる。
周波電力に基づいてプラズマを発生することができる。
また、利得制御データD42に基づいてマグネトロン61
の出力を自動調整することにより、方向性結合器62の
固体差を解消することが可能となる。さらに、CPU6
4で利得制御データD42と初期利得データとが比較さ
れ、この比較結果が制御目標から大きくずれた場合に
は、警報信号SA4が発生される。このため、方向性結
合器62の経時的なドリフトの発生を告知することがで
きる。
【0092】これにより、マイクロ波を応用した装置の
プラズマ変動に対する監視機能を強化すること可能とな
り、高信頼度のプラズマ発生装置の提供に寄与するとこ
ろが大きい。
プラズマ変動に対する監視機能を強化すること可能とな
り、高信頼度のプラズマ発生装置の提供に寄与するとこ
ろが大きい。
【0093】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1の高
周波電源装置によれば、電力検出データ、初期特性デー
タ及び電力設定データから利得制御データを求め、当該
利得制御データに基づいて増幅器の出力制御をする制御
器を備える。このため、利得制御データに基づいて増幅
器の出力を自動調整することにより、電力検出器の固体
差を解消することができる。
周波電源装置によれば、電力検出データ、初期特性デー
タ及び電力設定データから利得制御データを求め、当該
利得制御データに基づいて増幅器の出力制御をする制御
器を備える。このため、利得制御データに基づいて増幅
器の出力を自動調整することにより、電力検出器の固体
差を解消することができる。
【0094】また、利得制御データと初期利得データと
が比較演算部により比較され、その結果が制御目標から
大きくずれた場合には、警報信号が発生される。このた
め、電力検出器の経時的なドリフトの発生を告知するこ
とができ、安定した高周波電力を負荷に供給することが
できる。本発明の第2の高周波電源装置によれば、電力
検出データから整合位置データを求め、この整合位置デ
ータに基づいて整合器のチューナ位置を調整する制御器
を備える。
が比較演算部により比較され、その結果が制御目標から
大きくずれた場合には、警報信号が発生される。このた
め、電力検出器の経時的なドリフトの発生を告知するこ
とができ、安定した高周波電力を負荷に供給することが
できる。本発明の第2の高周波電源装置によれば、電力
検出データから整合位置データを求め、この整合位置デ
ータに基づいて整合器のチューナ位置を調整する制御器
を備える。
【0095】このため、通常使用時に取得した整合器の
チューナー位置が、正常時に取得した整合器のチューナ
ー位置から大きくずれている場合には、警報信号が発生
され、負荷のインピーダンスが変動していることが、早
期に認識できる。本発明の第3の高周波電源装置によれ
ば、整合器の波形検出データをサンプルホールドし、こ
の波形検出データから整合器の出力波形のピーク電圧の
平均値及び標準偏差を演算する制御器を備える。
チューナー位置が、正常時に取得した整合器のチューナ
ー位置から大きくずれている場合には、警報信号が発生
され、負荷のインピーダンスが変動していることが、早
期に認識できる。本発明の第3の高周波電源装置によれ
ば、整合器の波形検出データをサンプルホールドし、こ
の波形検出データから整合器の出力波形のピーク電圧の
平均値及び標準偏差を演算する制御器を備える。
【0096】このため、整合器の出力波形のピーク電圧
の平均値の変動が過大となるとき、又は、標準偏差が過
大になった場合には、警報信号が発生され、負荷のイン
ピーダンスが変動していること認識することが可能とな
る。本発明の第1のプラズマ発生装置は、プラズマ発生
用の電極に高周波電力を供給する高周波電源が、本発明
の高周波電源装置を有する。
の平均値の変動が過大となるとき、又は、標準偏差が過
大になった場合には、警報信号が発生され、負荷のイン
ピーダンスが変動していること認識することが可能とな
る。本発明の第1のプラズマ発生装置は、プラズマ発生
用の電極に高周波電力を供給する高周波電源が、本発明
の高周波電源装置を有する。
【0097】このため、プラズマチャンバ内の異常放電
やガス流量変動等を検出することができ、安定した高周
波電力に基づいてプラズマを発生することができる。ま
た、チャンバ内のプラズマ密度を安定に維持することが
でき、プラズマ以外で損失される電力を低減することが
できる。本発明の第2のプラズマ発生装置によれば、増
幅器,電力検出器及び整合器の入出力を制御する制御装
置を備え、当該制御装置が、本発明の高周波電源装置の
制御器を有する。
やガス流量変動等を検出することができ、安定した高周
波電力に基づいてプラズマを発生することができる。ま
た、チャンバ内のプラズマ密度を安定に維持することが
でき、プラズマ以外で損失される電力を低減することが
できる。本発明の第2のプラズマ発生装置によれば、増
幅器,電力検出器及び整合器の入出力を制御する制御装
置を備え、当該制御装置が、本発明の高周波電源装置の
制御器を有する。
【0098】このため、本発明の高周波電源装置の制御
器により、増幅器及び整合器の自動調整され、安定した
高周波電力に基づいてプラズマを発生することができ
る。また電力検出器の固体差を解消すること、及び、経
時的なドリフトの発生を告知することができる。これに
より、誤差補正機能,位置ずれ監視機能及びピーク電圧
監視機能が強化された高周波電源装置を提供すること、
及び、これを応用した高信頼度のRFスパッタ装置,プ
ラズマCVD装置,ドライエッチング装置及びアッシン
グ装置等の提供に寄与するところが大きい。
器により、増幅器及び整合器の自動調整され、安定した
高周波電力に基づいてプラズマを発生することができ
る。また電力検出器の固体差を解消すること、及び、経
時的なドリフトの発生を告知することができる。これに
より、誤差補正機能,位置ずれ監視機能及びピーク電圧
監視機能が強化された高周波電源装置を提供すること、
及び、これを応用した高信頼度のRFスパッタ装置,プ
ラズマCVD装置,ドライエッチング装置及びアッシン
グ装置等の提供に寄与するところが大きい。
【図1】本発明に係る高周波電源装置の原理図(その
1)である。
1)である。
【図2】本発明に係る高周波電源装置の原理図(その
2)である。
2)である。
【図3】本発明に係る高周波電源装置の原理図(その
3)である。
3)である。
【図4】本発明に係るプラズマ発生装置の原理図であ
る。
る。
【図5】本発明の第1の実施例に係るプラズマ発生用の
高周波電源装置の構成図である。
高周波電源装置の構成図である。
【図6】本発明の各実施例に係る電力検出器及び整合器
の構成図である。
の構成図である。
【図7】本発明の実施例に係るCPUの機能を説明する
特性図である。
特性図である。
【図8】本発明の第1の実施例に係るCPUの制御フロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図9】本発明の第2の実施例に係る高周波電源装置の
構成図である。
構成図である。
【図10】本発明の第2の実施例に係るCPUの制御フロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図11】本発明の第3の実施例に係る高周波電源装置の
構成図である。
構成図である。
【図12】本発明の各実施例に係る高周波電源を応用した
プラズマCVD装置の構成図である。
プラズマCVD装置の構成図である。
【図13】本発明の各実施例に係る高周波電源を応用した
ドライエッチング装置の構成図である。
ドライエッチング装置の構成図である。
【図14】本発明の各実施例に係る高周波電源を応用した
スパッタリング装置の構成図である。
スパッタリング装置の構成図である。
【図15】本発明の第4の実施例に係る高周波電源(マイ
クロ波)を応用したプラズマ発生装置の構成図である。
クロ波)を応用したプラズマ発生装置の構成図である。
【図16】本発明の第4の実施例に係る各チューナの構成
図である。
図である。
【図17】従来例に係るプラズマ発生用の高周波電源の構
成図である。
成図である。
11…増幅器、 12,14,22…電力検出器、 13,16,18,24…制御器、 15,17,23…整合器、 13A,16A,18A…メモリ、 13B,16B,18B…比較演算部、 19…電極、 20…高周波電源、 21…電源、 D11,D21…電力検出データ、 D12,D42…利得制御データ、 D22…整合位置データ、 D23…位置検出データ、 D31…波形検出データ、 DR…初期特性データ、 DG…初期利得データ、 DP…初期位置データ、 SA1〜SA4…警報信号、 Dth1…電力設定データ、 Dth2…位置設定データ、 Dth3…閾値設定データ。
Claims (11)
- 【請求項1】 規定周波数の入力信号を増幅する増幅器
(11)と、前記増幅された高周波電力の情報を検出す
る電力検出器(12)と、前記検出された高周波電力の
情報を二値化した電力検出データ(D11)と予め設定さ
れた初期特性データ(DR)及び電力設定データ(Dth
1)から利得制御データ(D12)を求め、前記利得制御
データ(D12)に基づいて増幅器(11)の出力制御を
する制御器(13)とを備えることを特徴とする高周波
電源装置。 - 【請求項2】 前記制御器(13)は、初期特性データ
(DR)及び初期利得データ(DG)を記憶するメモリ
(13A)と、前記初期特性データ(DR)及び前記電力
検出データ(D11)から制御目標データを求め、前記制
御目標データと電力設定データ(Dth1)との差から利
得制御データ(D12)を演算する比較演算部(13B)と
を有することを特徴とする請求項1記載の高周波電源装
置。 - 【請求項3】 前記比較演算部(13B)は、利得制御デ
ータ(D12)と初期利得データ(DG)とを比較して警
報信号(SA1)を発生することを特徴とする請求項2
記載の高周波電源装置。 - 【請求項4】 高周波電力の情報を検出する電力検出器
(14)と、前記高周波電力を負荷のインピーダンスに
整合させる整合器(15)と、前記検出された高周波電
力の情報を二値化した電力検出データ(D21)から前記
整合器(15)のチューナー位置を調整する整合位置デ
ータ(D22)を求め、前記整合位置データ(D22)に基
づいて整合器(15)の位置制御をする制御器(16)
とを備えることを特徴とする高周波電源装置。 - 【請求項5】 前記制御器(16)は、前記整合器(1
5)のチューナー位置の情報を二値化した位置検出デー
タ(D23)を記憶するメモリ(16A)と、前記位置検出
データ(D23)及び前記整合位置データ(D22)から制
御目標データを求め、前記制御目標データと位置設定デ
ータ(Dth2)を比較して警報信号(SA2)を発生す
る比較演算部(16B)とを備えることを特徴とする請求
項1記載の高周波電源装置。 - 【請求項6】 前記比較演算部(16B)は、前記高周波
電力の情報を二値化した電力検出データ(D21)から前
記整合器(15)のチューナー位置を調整する整合位置
データ(D22)を求めることを特徴とする請求項5記載
の高周波電源装置。 - 【請求項7】 高周波電力を負荷のインピーダンスに整
合させる整合器(17)と、前記整合器(17)の出力
波形の情報を二値化した波形検出データ(D31)をサン
プルホールドし、前記サンプルホールドされた波形検出
データ(D31)から前記整合器(17)の出力波形のピ
ーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する制御器(1
8)を備えることを特徴とする高周波電源装置。 - 【請求項8】 前記制御器(18)は、前記整合器(1
7)の波形検出データ(D31)を記憶するメモリ(18
A)と、前記メモリ(18A)の波形検出データ(D31)
をサンプルホールドし、前記ホールドホールドされた波
形検出データ(D31)から前記整合器(17)の出力波
形のピーク電圧の平均値及び標準偏差を演算する比較演
算部(18B)とを有することを特徴とする高周波電源装
置。 - 【請求項9】 前記比較演算部(18B)は、前記整合器
(17)の出力波形のピーク電圧の平均値又は標準偏差
が、予め設定された閾値設定データ(Dth3)を越える
ときに、警報信号(SA3)を発生することを特徴とす
る請求項8記載の高周波電源装置。 - 【請求項10】 プラズマを発生するチャンバに設けられ
た電極(19)と、前記電極(19)に高周波電力を供
給する高周波電源(20)とを備え、前記高周波電源
(19)は、請求項1〜9記載の高周波電源装置を有す
ることを特徴とするプラズマ発生装置。 - 【請求項11】 規定周波数の入力信号又は直流信号を増
幅する増幅器(21)と、前記増幅されたマイクロ波の
電力を検出する電力検出器(22)と、前記マイクロ波
の電力を負荷のインピーダンスに整合させる整合器(2
3)と、前記増幅器(21),電力検出器(22)及び
整合器(23)の入出力を制御する制御装置(24)と
を備え、前記制御装置(24)は、請求項2〜9記載の
制御器(13),(16)又は(18)を有することを
特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5330663A JPH07191764A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 |
| US08/301,817 US5543689A (en) | 1993-12-27 | 1994-09-07 | High frequency power source having corrected power output |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5330663A JPH07191764A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07191764A true JPH07191764A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18235199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5330663A Withdrawn JPH07191764A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5543689A (ja) |
| JP (1) | JPH07191764A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003510833A (ja) * | 1999-09-30 | 2003-03-18 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマリアクタにおける高周波電源調節のための電圧制御センサおよび制御インタフェース |
| JP2009021240A (ja) * | 2008-07-03 | 2009-01-29 | Hitachi Kokusai Electric Inc | プラズマ処理装置 |
| JP2011023356A (ja) * | 2010-07-29 | 2011-02-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc | プラズマ処理装置及び基板処理方法 |
| JP2011077342A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
| JP2011192912A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| US8073646B2 (en) | 2007-03-30 | 2011-12-06 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus, radio frequency generator and correction method therefor |
| JP2013214583A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP2015092483A (ja) * | 2007-06-29 | 2015-05-14 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 電源供給を局所化する分散型電源装置 |
| KR20200115178A (ko) * | 2019-03-27 | 2020-10-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 고주파 전력 공급 장치 및 고주파 전력의 공급 방법 |
| JP2021106077A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100560886B1 (ko) | 1997-09-17 | 2006-03-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 가스 플라즈마 프로세스를 감시 및 제어하기 위한 시스템및 방법 |
| JP2000173982A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| WO2001024221A1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-05 | Lam Research Corporation | Voltage control sensor and control interface for radio frequency power regulation in a plasma reactor |
| US6814096B2 (en) * | 2000-12-15 | 2004-11-09 | Nor-Cal Products, Inc. | Pressure controller and method |
| JP2002252207A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波電源、プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の検査方法及びプラズマ処理方法 |
| JP5138131B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2013-02-06 | 忠弘 大見 | マイクロ波プラズマプロセス装置及びプラズマプロセス制御方法 |
| US7221102B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-05-22 | Daihen Corporation | High-frequency power supply device |
| US6781317B1 (en) * | 2003-02-24 | 2004-08-24 | Applied Science And Technology, Inc. | Methods and apparatus for calibration and metrology for an integrated RF generator system |
| US6825617B2 (en) * | 2003-02-27 | 2004-11-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Semiconductor processing apparatus |
| US7190119B2 (en) * | 2003-11-07 | 2007-03-13 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for optimizing a substrate in a plasma processing system |
| DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
| FI118490B (fi) * | 2004-06-29 | 2007-11-30 | Valtion Teknillinen | Mikromekaaninen anturi mikroaaltotehon mittaamiseen |
| US7105075B2 (en) * | 2004-07-02 | 2006-09-12 | Advanced Energy Industries, Inc. | DC power supply utilizing real time estimation of dynamic impedance |
| CN100362619C (zh) * | 2005-08-05 | 2008-01-16 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 真空反应室的射频匹配耦合网络及其配置方法 |
| DE102006005128B4 (de) * | 2006-02-04 | 2008-09-25 | Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Lastanpassung |
| US7902991B2 (en) * | 2006-09-21 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Frequency monitoring to detect plasma process abnormality |
| DE502006005363D1 (de) * | 2006-11-23 | 2009-12-24 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung |
| US7795817B2 (en) * | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
| EP1928009B1 (de) * | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
| EP1933362B1 (de) * | 2006-12-14 | 2011-04-13 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
| DE502007006093D1 (de) * | 2007-03-08 | 2011-02-10 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Unterdrücken von Bogenentladungen beim Betreiben eines Plasmaprozesses |
| JP4350766B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2009-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置,高周波電源の校正方法,高周波電源 |
| US7839223B2 (en) * | 2008-03-23 | 2010-11-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for advanced frequency tuning |
| US8674844B2 (en) * | 2009-03-19 | 2014-03-18 | Applied Materials, Inc. | Detecting plasma chamber malfunction |
| CN102420579A (zh) * | 2011-11-16 | 2012-04-18 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种自动实现射频功率匹配的方法和系统 |
| CN103137408B (zh) | 2011-11-30 | 2015-07-29 | 中国科学院微电子研究所 | 具有精密功率检测器的射频电源 |
| US9316675B2 (en) * | 2012-09-06 | 2016-04-19 | Mks Instruments, Inc. | Secondary plasma detection systems and methods |
| US9748076B1 (en) | 2016-04-20 | 2017-08-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus for frequency tuning in a RF generator |
| US10009028B2 (en) * | 2016-09-30 | 2018-06-26 | Lam Research Corporation | Frequency and match tuning in one state and frequency tuning in the other state |
| EP3632189B1 (en) * | 2017-05-25 | 2023-09-06 | Oerlikon Metco (US) Inc. | Plasma gun diagnostics apparatus and method |
| EP3754187B1 (en) * | 2019-06-18 | 2023-12-13 | ThrustMe | Radio-frequency generator for plasma source and method for adjusting the same |
| DE202021100710U1 (de) * | 2021-02-12 | 2021-02-19 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Leistungsversorgungseinrichtung und Plasmasystem |
| CN113517169B (zh) * | 2021-04-22 | 2024-03-26 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 匹配器输出功率调试方法及调试系统 |
| US11971434B2 (en) * | 2021-04-30 | 2024-04-30 | Keithley Instruments, Llc | Power source with error detection |
| CN114980473B (zh) * | 2022-05-10 | 2023-09-19 | 国电投核力电科(无锡)技术有限公司 | 一种调整粒子加速器高频系统寄生振荡频率的方法和装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4629940A (en) * | 1984-03-02 | 1986-12-16 | The Perkin-Elmer Corporation | Plasma emission source |
| US5383019A (en) * | 1990-03-23 | 1995-01-17 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5330663A patent/JPH07191764A/ja not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-09-07 US US08/301,817 patent/US5543689A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4828755B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2011-11-30 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマリアクタシステム、プラズマリアクタに供給する電力を制御する方法およびプラズマ処理システム |
| JP2003510833A (ja) * | 1999-09-30 | 2003-03-18 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマリアクタにおける高周波電源調節のための電圧制御センサおよび制御インタフェース |
| US8073646B2 (en) | 2007-03-30 | 2011-12-06 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus, radio frequency generator and correction method therefor |
| JP2015092483A (ja) * | 2007-06-29 | 2015-05-14 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 電源供給を局所化する分散型電源装置 |
| JP2009021240A (ja) * | 2008-07-03 | 2009-01-29 | Hitachi Kokusai Electric Inc | プラズマ処理装置 |
| JP2011077342A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
| JP2011192912A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| US8968513B2 (en) | 2010-03-16 | 2015-03-03 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
| JP2011023356A (ja) * | 2010-07-29 | 2011-02-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc | プラズマ処理装置及び基板処理方法 |
| JP2013214583A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| KR20200115178A (ko) * | 2019-03-27 | 2020-10-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 고주파 전력 공급 장치 및 고주파 전력의 공급 방법 |
| CN111756338A (zh) * | 2019-03-27 | 2020-10-09 | 东京毅力科创株式会社 | 高频供给装置和高频电功率的供给方法 |
| US11411541B2 (en) | 2019-03-27 | 2022-08-09 | Tokyo Electron Limited | High frequency power supply device and high frequency power supply method |
| JP2021106077A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5543689A (en) | 1996-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07191764A (ja) | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 | |
| US10748746B2 (en) | Microwave output device and plasma processing apparatus | |
| TWI558273B (zh) | 具有射頻相位控制之感應耦合電漿反應器及其使用方法 | |
| US7292047B2 (en) | High-frequency power source | |
| US11398369B2 (en) | Method and apparatus for actively tuning a plasma power source | |
| JP4601179B2 (ja) | 高周波バイアスの制御を伴うプラズマ処理方法および装置 | |
| CN101552187B (zh) | 等离子体处理装置和等离子体处理方法 | |
| KR102033120B1 (ko) | 플라즈마 처리 방법 | |
| US20120000888A1 (en) | Methods and apparatus for radio frequency (rf) plasma processing | |
| JP2006286254A5 (ja) | ||
| KR102126937B1 (ko) | 역방향 전력 저감 방법 및 이를 이용한 플라즈마 전력 장치 | |
| US10971337B2 (en) | Microwave output device and plasma processing apparatus | |
| US20190057843A1 (en) | Plasma processing apparatus | |
| KR20160033034A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
| KR20030077932A (ko) | 프로세스 성능을 평가할 수 있는 플라즈마 처리장치 | |
| US12131886B2 (en) | Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system | |
| KR20190053793A (ko) | 펄스 모니터 장치 및 플라즈마 처리 장치 | |
| US20190244789A1 (en) | Microwave output device and plasma processing apparatus | |
| US11031213B2 (en) | Microwave output device and plasma processing device | |
| US20030098127A1 (en) | Plasma processing apparatus | |
| US20190267216A1 (en) | Microwave output device and plasma processing apparatus | |
| US20250006464A1 (en) | Plasma processing apparatus, analysis apparatus, and storage medium | |
| US20210280390A1 (en) | Plasma processing apparatus | |
| US12018361B2 (en) | Waveform shape factor for pulsed PVD power | |
| US11249126B2 (en) | Method of determining correction function |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010306 |