JPH07192965A - コンデンサ用フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄いプラスチックフィルムを用いて電気的特
性に優れたコンデンサ用誘電体を提供する。 【構成】 ポリエチレンテレフタレート、ポリプロビレ
ン、ポリスチレン等のプラスチックフィルムと、プラス
チックフィルム上に蒸着されたセラミックス薄膜とから
なるコンデンサ用フィルム。このフィルムにおいて、プ
ラスチックフィルムおよびセラミックス薄膜が誘電体と
なる。セラミックス薄膜は、電子ビーム蒸着法等に従っ
てプラスチックフィルム上に蒸着される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コンデンサ用フィル
ム、特に、プラスチックフィルムの電気的特性を向上さ
せたコンデンサ用フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックフィルムは、コンデンサ用
の誘電体として利用される。一方、コンデンサの小型
化、静電容量の増大等の観点から、現在、誘電体の薄手
化が強く求められている。また、生産速度を向上させる
ために、フィルムに係る温度が高くなっており、耐熱性
に対する要求も厳しくなっている。したがって、耐熱
性、電気的特性などに優れたプラスチックフィルムの開
発が期待される。

【０００３】しかし、コンデンサの小型化、静電容量の
増大のため、プラスチックフィルムを単に薄くしたので
は、単位膜厚当たりの耐電圧が一定の場合、膜厚が減少
した分、絶縁耐圧も減少する。また、フィルムを薄くす
ると製造時および加工時のハンドリングが悪くなる。ハ
ンドリングを良好にするため、滑剤を添加すると、重合
構造が脆くなるため、滑剤の周りにボイドを発生してし
まう。その結果、フィルムの電気的特性の中で、特に耐
電圧特性および耐久性が低下しやすくなる。したがっ
て、従来、耐電圧を大きくしようとすれば、プラスチッ
クフィルムを十分に厚くする必要があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、薄い
プラスチックフィルムを用いて、電気的特性に優れた誘
電体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のコンデンサ用フ
ィルムは、プラスチックフィルムと、プラスチックフィ
ルム上に蒸着された、セラミックスからなる薄膜とを備
え、プラスチックフィルムおよびセラミックス薄膜が誘
電体となることを特徴とする。

【０００６】本発明でいうプラスチックフィルムとは、
有機高分子を溶融押出をして、必要に応じて、長手方向
および／または幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフ
ィルムである。有機高分子として、たとえば、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリカーボネイト、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリフェニレンスル
フィド、シンジオクタチックポリスチレン、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート、ナイロン６、ナイロン４、
ナイロン６６、ナイロン１２、ポリ塩化ビニール、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、全芳香族ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテル
イミド、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシドなどが
挙げられる。また、これらの有機重合体または有機高分
子は、他の有機重合体と少量共重合させたり、ブレンド
したりしてもよい。

【０００７】本発明のプラスチックフィルムは、公知の
方法、たとえば、縦延伸および横延伸を順に行なう逐次
法の他、横・縦・縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦
・横延伸法などの延伸法によって形成することができ
る。要求される強度、寸法、安定性などの諸特性に応じ
て適当な延伸法によって作製されたフィルムが選択され
る。また、本発明において、蒸着層の接着特性等を向上
するために、インラインコートやオフラインコートによ
り接着層を設けたり、コロナ放電処理、グロー放電処
理、その他の表面粗面化処理を行なうことができる。さ
らに、有機高分子には、公知の添加剤、たとえば、紫外
線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、着色剤などが添
加されていてもよい。

【０００８】そして、後述する３次元表面粗さＳΔａ、
空気抜け速さは、フィルムの成膜条件および滑剤粒子に
よって調整される。滑剤粒子の種類および添加量は、３
次元表面粗さＳΔａおよび空気抜け速さが所定の範囲内
に入るならば特に限定されるものではないが、シリカ、
二酸化チタン、タルク、カオリナイト等の金属酸化物、
炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、硫酸バリウムなどの
金属の塩、または有機ポリマーからなる粒子等のポリマ
ーに対し不活性な粒子が滑剤として例示される。これら
の滑剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、また２
種以上を使用してもよい。使用する滑剤の平均粒子径
は、０．０１μｍ以上２．０μｍ以下、特に０．０５μ
ｍ以上１．５μｍ以下が好ましい。滑剤の粒子径のばら
つき度（標準偏差と平均粒子径との比率）は、２５％以
下が好ましく、滑剤の添加量は、ポリマー１００重量％
に対し０．００５重量％以上２．０重量％以下とするこ
とが好ましく、特に０．１重量％以上１．０重量％以下
がより好ましい。滑剤粒子の形状は、面積形状係数が６
０％以上のものが１種類以上含まれていることが好まし
い。この面積形状係数は次式によって求められる。

【０００９】面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子
に外接する円の面積）×１００（％） たとえば、本発明のプラスチックに用いられるポリスチ
レン系重合体には、必要に応じて、公知の酸化防止剤、
帯電防止剤などを適量配合することができる。配合量
は、ポリスチレン系重合体１００重量％に対して、１０
重量％以下が望ましい。１０重量％を超えると延伸時に
破断が起こりやすくなり、生産安定性が悪くなる。

【００１０】本発明のプラスチックフィルムは、その厚
さとして１〜５０μｍの範囲が好ましく、さらに好まし
くは１〜６μｍの範囲である。また特に好ましいフィル
ムの厚さは、１〜３μｍの範囲である。

【００１１】本発明のセラミックス薄膜を作製するた
め、各種真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が用いら
れる。この中では、真空蒸着が最も速い堆積速度が得ら
れるので好ましいが、本発明においてはこれに限られる
ものではない。

【００１２】真空蒸着法に関し、加熱方式として、電子
銃（以下ＥＢ銃という）単体または複数を用いてもよ
く、また他の加熱方式あるいはそれらの併用でもよい。
他の加熱方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、レ
ーザビーム加熱等が知られているが、特にこれに限られ
るものではない。また、真空蒸着法およびスパッタ法に
関し、反応性ガスとして酸素、窒素、水蒸気等を導入す
ることができ、さらに、オゾン、イオンアシスト等を用
いた反応性蒸着やスパッタを薄膜形成のため適用するこ
とができる。さらに、基板にバイアス等を加えたり、基
板温度を上昇または冷却するなど、堆積条件を変化させ
てもよい。スパッタ法、ＣＶＤ法等においても同様であ
る。

【００１３】本発明において、セラミックスは、一般に
定義されるとおり、無機の非金属物質から構成される固
体材料を指し、金属の酸化物、窒化物および炭化物なら
びに半金属の酸化物、窒化物および炭化物等を含む。ま
た、酸化物、窒化物および炭化物の間の任意の化合物ま
たは混合物も含む。本発明に用いるセラミックスは誘電
体である。

【００１４】本発明でいう金属とは、単一の金属または
２種以上の金属からなる混合物もしくは合金で、たとえ
ば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｖ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｂ、
Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｙが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。また半金属の代表例と
してＳｉを挙げることができる。

【００１５】本発明において、薄膜の厚みは、たとえば
１〜０．００５μｍであり、好ましくは０．５〜０．０
１μｍであり、より好ましくは０．３〜０．０２μｍで
あり、特に好ましくは０．２〜０．０５μｍの範囲であ
る。したがって、本発明のコンデンサ用フィルムの厚み
は、１〜５０μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは
１〜６μｍであり、特に好ましくは１〜３μｍの範囲で
ある。

【００１６】本発明において、プラスチックフィルム上
に蒸着させる薄膜材料として、特に酸化物が好ましい。
本発明では、酸化物として金属が酸素と化合したもの
（金属酸化物）および半金属が酸素と化合したものが用
いられる。酸化物には、単純酸化物と複合酸化物が含ま
れる。単純酸化物とは、単一の金属または半金属と酸素
からなる酸化物を指す。単純酸化物として、たとえば、
ＡｌＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣｅＯ₂ 、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、
ＳｉＯ_x 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、ＨｆＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＭｇＯ、
ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｎｄ₂ Ｏ₃ 、ＰｂＯ、ＴｈＯ₂ 等
を用いることができる。本発明では、これらの単純酸化
物中に、目的を損なわない範囲（３％程度）で不純物を
含んでもよい。また複合酸化物とは、２種以上の酸化物
の混合物または化合物であって、たとえば、Ａｌ₂ Ｏ₃
−ＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ−ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＭｇＯ−
ＳｉＯ₂ 、ＢａＴｉ₂ Ｏ（ＢａＯ−ＴｉＯ₂ ）、ＳｒＴ
ｉＯ ₃ 、ＰｂＴｉＯ₃ 、ＺｎＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ−
ＢｉＯ₃ 、ＴｉＯ₂ −ＳｉＯ ₂ 、ＢａＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −
ＳｉＯ₂ 、Ｙ₂ Ｏ₃ −ＺｒＯ₂ 等を挙げることができる
が、特にこれらに限られるものではない。

【００１７】本発明でいう窒化物とは、金属または半金
属が窒素と化合したものを指し、たとえば、ＴｉＮ、Ｂ
Ｎ、ＡｌＮ、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、ＨｆＮ、ＴａＮ、ＶＮ、Ｎｂ
Ｎ等を挙げることができるが、特にこれらに限られるも
のではない。

【００１８】本発明でいう炭化物とは、金属または半金
属が炭素と化合したものを指し、たとえば、ＴｉＣ、Ｈ
ｆＣ、ＺｒＣ、ＳｉＣ、Ｂ₄ Ｃ、Ｂ_X Ｃ、Ｗ₂ Ｃ、Ｃｒ
₇ Ｃ ₃ Ｃｒ₃ Ｃ₂ 、ＴａＣ、ＶＣ、ＮｂＣ等を挙げるこ
とができるが、特にこれらに限られるものではない。

【００１９】酸化物、窒化物および炭化物の間の任意の
化合物または混合物には、たとえば、ＳｉＡｌＯＮ、Ｓ
ｉ−Ｏ−Ｎ、ＳｉＹＡｌＯＮ化合物などの酸窒化物、Ｔ
ｉＮ−ＳｉＯ等のＳｉＯと窒化物の混合物、ＳｉＮ−Ｓ
ｉＣ等のＳｉＮと炭化物の混合物、Ｙ₂ Ｏ₃ −ＡＩＮ等
のＹ₂ Ｏ₃ と窒化物の混合物、Ｔａ₂ Ｏ₅ −ＺｒＮ等の
Ｔａ₂ Ｏ₅ と窒化物の混合物、ＺｒＯ₂ −ＳｉＮ等のＺ
ｒＯ₂ と窒化物の混合物等があるが、これらに限られる
ものではない。

【００２０】本発明のフィルムの少なくとも片面の３次
元表面粗さＳΔａは、０．００４以上０．０４以下の範
囲内にあることが望ましい。ＳΔａが０．００４未満で
は、ハンドリング特性および走行性が悪くなり、０．０
４を超えると耐電圧特性や寿命特性が悪くなってくる。
さらに、本発明のフィルムの空気抜け速さは、９００秒
以下であることが好ましく、さらに好ましくは７００秒
以下である。空気抜け速さを９００秒以下、さらに好ま
しくは７００以下にすることにより、高速作業時におい
ても、フィルムの厚みや強度とは無関係にハンドリング
特性が良好なフィルムが得られる。反対に、空気抜け速
さが９００秒を超えた場合、高速作業時のハンドリング
特性が悪くなり、たとえば、フィルムを高速でロール状
に巻取る場合に、フィルムと巻取ロールの間に空気が取
込まれて皺が生じやすく、巻姿が不良になったり、フィ
ルムが巻込む空気層の潤滑効果によってフィルムが幅方
向に蛇行してロールの端面の不揃いが生じたりする。

【００２１】本発明に従えば、使用されるプラスチック
フィルム自体の絶縁耐圧よりも１００Ｖ以上高い絶縁耐
圧を有するフィルムを提供することができる。

【００２２】

【実施例】以下に実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでは
ない。

【００２３】まず、フィルムの評価方法を以下に示す。 （１） ２００℃における熱収縮率 無張力の状態で２００℃の雰囲気中３０分におけるフィ
ルムの収縮率を求めた。

【００２４】（２） ３次元表面粗さＳΔａ フィルム表面を、触針式３次元表面粗さ計（ＳＥ−３Ａ
Ｋ，株式会社小坂研究所社製）を用いて、針の半径２μ
ｍ、荷重３０ｍｇの条件下に、フィルムの長手方向にカ
ットオフ値０．２５ｍｍで、測定長１ｍｍにわたって測
定し、２μｍピッチで５００点に分割し、各点の高さを
３次元粗さ解析装置（ＳＰＡ−１１）に取込ませた。こ
れと同様の操作をフィルムの幅方向について２μｍ間隔
で連続的に１５０回、すなわちフィルムの幅方向０．３
ｍｍにわたって行ない、解析装置にデータを取込ませ
た。次に、解析装置を用いて、ＳΔａを求めた。

【００２５】（３） 空気抜け速度 図１に示す測定装置を準備した。すなわち、台盤１の上
面に円形の孔１ａを設け、この孔１ａ内に直径７０ｍｍ
のガラス平板２を固定した。ガラス平板２の外周と孔壁
１ｂとの間には溝が形成され、さらに孔１ａを囲むリン
グ状の溝孔１ｃが形成された。溝孔１ｃをガラス平板２
の外周の溝と連通させ、溝孔１ｃにパイプ３を介して真
空ポンプ４の吸引口を接続した。そして、台盤１の上面
に、ガラス平板２を覆う大きさのフィルム試料５を重
ね、その外周を粘着テープ６で密封して固定した。真空
ポンプ４を駆動し、ガラス平板２の外周部に干渉縞が出
現してからガラス平板２の全面に干渉縞が広がり、その
動きが止まるまでの時間（秒）を測定し、この時間
（秒）をもって空気抜け速さとした。

【００２６】（４） フィルムのハンドリング特性 広幅のスリットロールを高速でスリットし、小幅のロー
ルに巻き直すに際し、ロール端部の巻ずれ、皺、バルブ
等を生じないで問題のロールが得られるかどうかを４段
階評価し、次のランク付けで評価した。

【００２７】１級：問題のないスリットロールを得るこ
とは極めて困難 ２級：低速で問題のないスリットロールが得られる。

【００２８】３級：中速で問題のないスリットロールが
得られる。 ４級：高速で問題のないスリットロールが得られる。

【００２９】（５） フィルムの走行性・耐摩耗性 フィルムを細幅にスリットし、金属ロールに擦り付けて
走行するとき、一定の供給張力に対してガイドロール通
過後のテープの張力の大小、擦り傷の発生および白粉の
ロールへの付着を５段階評価し、次のランク付けで表し
た。

【００３０】走行性評価 １級：張力大、擦り傷多い ２級：張力やや大、擦り傷かなり多い ３級：張力中、擦り傷やや有り ４級：張力やや小、擦り傷ほとんどなし ５級：張力小、擦り傷なし ここで張力と擦り傷の得られた結果のランクが異なる場
合、悪いほうのランクを採用した。

【００３１】耐摩耗性評価 １級：白粉発生非常に多い ２級：白粉発生多い ３級：白粉発生やや有り ４級：白粉発生ほとんどなし ５級：白粉発生なし （６） 平均粒子径 滑剤粒子を日立製作所（株）製Ｓ−５１０型走査型電子
顕微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大複写し、滑剤
の外形をトレースし、任意に２００個の粒子を黒く塗り
潰した。この像をニコレ（株）製ルーゼックス５００型
画像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフ
ェレ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。ま
た、粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。

【００３２】ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒
子径）×１００（％） （７） 面積形状係数 平均粒子径の測定に用いたトレース像から任意に２０個
の粒子を選び（７）で用いた画像解析装置を用いて、そ
れぞれの粒子の投影断面積を測定した。また、それらの
粒子に外接する円の面積を算出し、下記の式により算出
した。

【００３３】面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子
に外接する円の面積）×１００（％） （８） 耐電圧 ＪＩＳ Ｃ−２３１８に準じて試験を行なった。１０ｋ
Ｖ直流耐電圧試験機を用い、２３℃、５０％ＲＨの雰囲
気下において、１００Ｖ／ｓｅｃの昇圧速度でフィルム
が破壊し短絡したときの電圧を読取った。

【００３４】（９） 寿命特性 真空蒸着機を用いてアルミニウムをフィルム試料に蒸着
し、０．１μｍＦの容量のコンデンサを作製し、このコ
ンデンサの両端子間に３００Ｖの直流電圧を印加した。
１５０℃で２０００時間試験を行ない、この間に１００
個中短絡せずにコンデンサとして機能した素子の残存率
を測定した。

【００３５】実施例１−１、２、３ ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ
実測値１２．３、６．１、３．２μｍ：それぞれを実施
例１−１、１−２、１−３とする）上に、ＺｒＯ₂ −Ｓ
ｉＯ₂ 系薄膜を堆積させた。薄膜の作製は電子ビーム蒸
着で行なった。

【００３６】図２に示すような装置において、真空チャ
ンバ１３内に設けられた水冷基板ホルダ１１上に、ＰＥ
Ｔフィルム１２を置き、蒸着材料を収容するるつぼ１４
を備えたＥＢ銃１５からフィルム１２上に蒸着を行なっ
た。蒸着源として、１〜３ｍｍ程度の大きさで粒子状の
ＺｒＯ₂ およびＳｉＯ₂ （純度９９．９％）を用い、電
子ビーム蒸着法に従って１２．３、６．１、３．２μｍ
厚のＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製）上にそれぞれ
薄膜形成を行なった。蒸着材料は、混合せずに、２つの
ハースから蒸着された。加熱源として１台のＥＢ銃を用
い、ＺｒＯ₂ およびＳｉＯ₂ のそれぞれを時分割で加熱
し、ＺｒＯ₂ −ＳｉＯ₂ 系混合膜を作製した。そのとき
のＥＢ銃の加速電圧を６ｋＶ、エミッション電流を２０
０ｍＡとし、ＡｇとＳｉＯ₂ との加熱比は４８：１２と
した。到達真空度は２．３×１０ ^-5Ｔｏｒｒ、蒸着中の
真空度は２．４×１０^-4Ｔｏｒｒであった。基板ホルダ
は水冷して１０℃に保持した。蒸着時間は２０秒であっ
た。

【００３７】蒸着により０．１μｍの厚みの薄膜が得ら
れた。薄膜中のＺｒＯ₂ 含有率は１０ｗｔ％であった。

【００３８】実施例２−１、２、３ Ａｌ₂ Ｏ₃ 系薄膜を堆積させた。使用したフィルムは、
実施例１−１、２、３と同様であった。薄膜の作製は図
２に示す装置において、電子ビーム蒸着に従って行なっ
た。蒸着源として、１〜３ｍｍ程度の大きさで粒子状の
Ａｌ₂ Ｏ₃ （純度９９．９％）を用いた。蒸着材料は１
つのハースに入れた。加熱源として１台のＥＢ銃を用
い、Ａｌ₂ Ｏ₃ 系薄膜を蒸着させた。ＥＢ銃の加速電圧
は６ｋＶ、エミッション電流は２００ｍＡであった。他
の条件は実施例１と同様であった。蒸着の結果、０．１
μｍの厚みを有する薄膜が得られた。

【００３９】比較例１−１、２、３ 実施例１−１、２、３に使ったのと同じＰＥＴフィルム
（東洋紡績（株）製）であり、薄膜を付けなかった。こ
の場合の特性を比較例として調べた。

【００４０】比較例２−１、２、３ならびに３−１、
２、３ Ａｌを蒸着したそれぞれ１２．３、６．１、３．２μｍ
の厚みのＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製）上に、実
施例１と同じ組成、同じ条件で薄膜を蒸着した。これを
比較例１−１、２、３とした。一方、Ａｌを蒸着したそ
れぞれ１２．３、６．１、３．２μｍの厚みのＰＥＴフ
ィルム（東洋紡績（株）製）上に、実施例２と同じ組
成、同じ条件で薄膜を蒸着した。これを比較例３−１、
２、３とした。これらの比較例において、蒸着されたＡ
ｌ上に薄膜を形成すること以外は、条件は実施例１また
は２に従った。

【００４１】以上の実施例および比較例で得られたフィ
ルムの耐電圧（Ｖ）を表１に示す。また、同じフィルム
厚同士について、実施例１−１、２、３、と実施例２−
１、２、３の耐電圧が比較例１−１、２、３の耐電圧に
比べて上昇した分を、薄膜による耐電圧上昇として表１
に示した。また、比較例２は、蒸着により形成した薄膜
のみの耐電圧を示していると考えられる。実施例１およ
び２と、比較例２とのデータを比較すると、プラスチッ
クフィルム上に薄膜を形成すれば、薄膜自体がもたらす
耐電圧以上にフィルムの耐電圧を上昇できることがわか
る。

【００４２】

【表１】

【００４３】また、実施例１−２、実施例２−２および
比較例１−２で得られたフィルムについて、２００℃に
おける熱収縮率、３次元表面粗さＳΔａ、空気抜け速
度、走行性、耐摩耗性、耐電圧および寿命特性をそれぞ
れ測定した結果を表２に示す。表２に示すデータの比較
から、本発明のフィルムが、各特性について優れている
ことがわかる。

【００４４】

【表２】

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に従えば、
フィルムの走行性・耐摩耗性損ねることなく、耐電圧、
寿命特性を向上させることができる。このため、本発明
のフィルムは、優れた耐電圧特性、走行性、耐摩耗性を
有し、ハンドリング特性に極めて良好なコンデンサ用誘
電体として提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】コンデンサ用フィルムの空気抜け速度を評価す
るための装置を示す断面図である。

【図２】実施例において使用された薄膜作製装置の真空
チャンバ内の構成を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 台盤、２ ガラス平板、３ 吸引パイプ、４ 真空
ポンプ、５ フィルム試料、６ 粘着テープ、１１ 水
冷基板ホルダ、１２ フィルム試料、１３ 真空チャン
バ、１４ るつぼ、１５ ＥＢ銃

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小谷 徹 滋賀県大津市堅田２−１−１ 東洋紡績株 式会社総合研究所内 (72)発明者 山田 陽三 滋賀県大津市堅田２−１−１ 東洋紡績株 式会社総合研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチックフィルムと、 前記プラスチックフィルム上に蒸着された、セラミック
   スからなる薄膜とを備え、 前記プラスチックフィルムおよび前記薄膜が誘電体とな
   ることを特徴とする、コンデンサ用フィルム。
2. 【請求項２】 前記プラスチックフィルム自体の絶縁耐
   圧よりも１００Ｖ以上高い絶縁耐圧を有することを特徴
   とする、請求項１記載のコンデンサ用フィルム。