JPH07198931A - カラーフィルターの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】透明基板の透明導電層上に、ポジ型感光性塗膜
を形成し、露光量が少なくとも３段階に異なる露光領域
を形成し、露光領域の塗膜を現像して透明導電層を露出
させ、次いで着色層を形成する操作を、露光領域の露光
量が大きい順に、順次繰り返して異なる少なくとも２色
の着色層を形成し、残余の塗膜を除去した後、塗膜が除
去された基板にポジ型又はネガ型感光性塗膜を形成し、
形成した塗膜に露光量が少なくとも３段階に異なる露光
領域を形成し、更に露光領域の塗膜を現像して透明導電
層を露出させ、次いで着色層を形成する操作を、露光領
域の露光量順に、順次繰り返して着色層を形成するカラ
ーフィルターの製造法。 【効果】前記製造法では、高度な微細加工技術を必要と
せず、着色層のパターン形状の自由度を大きく、大型化
への対処も容易であり、かつ大量生産が容易である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルターの製造
法に関し、特にカラー液晶表示装置用等として好適なカ
ラーフィルターの製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、一般に使用されているカラーフィ
ルターの製造法としては、透明基板を染料や顔料を含ん
だバインダーによって着色する染色法、印刷法、顔料分
散法等がある。

【０００３】しかしながら、前記染色法は、基板上の樹
脂薄膜を色素で選択染色する方法であるので、色替えの
度に防染およびフォトリソグラフィー工程を行なう必要
があり、工程が煩雑化し、このため製造コストが高くな
るという問題がある。また着色剤として染料を使用する
ために耐熱性、耐候性、耐薬品性等が劣るという欠点も
有している。前記印刷法では防染の必要はないが、色パ
ターンの微細化に限界が生じ、多色化が進むほど印刷位
置の精度が悪くなるという問題がある。更に前記顔料分
散法では微細パターンの製造は可能であるものの、色替
えの度に高精度のフォトリソグラフィー工程を経ねばな
らず工程がきわめて複雑化するという欠点がある。

【０００４】一方、これらの欠点を解消するために、電
着塗装法によるカラーフィルターの製造法が提案されて
いる。例えば予め透明電極を所定のパターンで形成して
おき、溶媒中に溶解又は分散した染料や顔料を含む高分
子をイオン化させた槽中において電圧を印加してカラー
フィルターを形成する電着法のカラーフィルターの製造
法では、表示用の透明電極以外にカラーフィルター形成
用の透明電極が必要であり、この透明電極は色別に絶縁
されていなければならないためにエッチング工程が必要
であり、電気的ショートが生じると線欠陥となってしま
うことによる歩留りの低下が生じ、その電極の引き回し
から生じるストライプ以外には、画素を配置し難い等の
問題点がある。

【０００５】また特開昭６１−２０３４０３号公報、特
開昭６１−２７２７２０号公報及び特開昭６１−２７９
８０３号公報には、透明電極を形成したガラス基板上に
ポジ型感光性組成物を塗工し、カラーフィルターを形成
すべき所定の部分を露光、現像処理して電極表面を露光
し、電着法により露出した透明電極表面上にカラーフィ
ルターを形成後、全体を露光してポジ型感光性組成物を
除去し、露出した透明導電層をエッチングして除去する
方法が開示されている。

【０００６】更に特開昭６３−２４９１０７号公報に
は、フォトエッチングによって窓を有するレジストパタ
ーンを形成し、高分子電着法によりカラーフィルターを
形成することを組み合わせた形成法が開示されている。

【０００７】また特開昭６１−２７２７２０号公報に
は、基板上に導電層を形成し、その上にポジ型感光性被
膜を形成し、次いで露光し、露光した部分を現像除去し
た後、必要な色の着色層を電着により形成する工程を必
要色数分繰り返す方法が記載されている。この方法で
は、ポジ型の感光性被膜を使用しており、露光部分のみ
が現像液に可溶化するので、感光性被膜を剥離せずに露
光、現像を繰り返すことができる。しかしこの方法では
感光性被膜を剥離せずに再度使用できるものの、露光、
現像、着色工程を必要色数分繰り返す必要がある。現在
必要とされているカラーフィルターは、赤、緑、青だけ
でなくブラックマトリックスや透明な外枠部分も必要で
あり、この分前記工程の繰返し回数が増加する。特に前
記方法では、電着の後に露光を行なう工程が必要色数よ
り１回少ない回数分行なう必要があるが、露光装置は精
密機器であるため、該電着の後に露光を行なう工程は、
電着後の洗浄、乾燥に細心の注意と手間を要するために
プロセスを煩雑化するという問題がある。また露光機か
ら基板を出し入れする工程も、大きな作業負担となる。
更に、製造ラインを考慮すると、前記方法では電着後に
露光を行なう工程を繰り返す目的で、非常に高価な露光
機を少なくとも露光回数分の台数必要とするという問題
がある。そこで露光機から出し入れする回数を少なく
し、特に着色工程後に基板を露光機に入れる工程の回数
を最小にとどめることが要望されている。また特にブラ
ックマトリックス部分は、ディスプレーの性質上他の画
素に比較して格段の精度が要求されており、且つ他の画
素とブラックマトリックスとの隙間が生じないことが望
まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような欠点を解決し、高度な微細加工技術を必要とせ
ず、遮光層及び着色層の形状の自由度が大きく、大型化
への対処も容易であり、かつ大量生産が容易で簡便な、
カラーフィルターの製造法を提供することにある。

【０００９】本発明の別の目的は、液晶カラーディスプ
レイ用カラーフィルターとして、少なくとも赤、緑、青
色の着色層及び暗色の遮光層を有し、必要に応じて透明
な外枠部分を有するカラーフィルターを、簡便な工程に
より製造する方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、遮光層及
び着色層の形状の自由度が大きく、大型化にも対処可能
なカラーフィルターの製造法について研究の結果、ポジ
型若しくはネガ型フォトレジストと特定の露光方法を組
み合わせるという簡便な工程により優れた性能を有する
カラーフィルターが得られることを見いだした。

【００１１】すなわち、本発明によれば、(ａ1)透明導
電層を有する透明基板の透明導電層上に、ポジ型感光性
塗膜を形成する工程、(ｂ1)該ポジ型感光性塗膜に露光
量が少なくとも３段階に異なる複数の露光領域を形成す
る工程、(ｃ1)該露光領域のポジ型感光性塗膜を現像し
て透明導電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗装し
着色層を形成する操作を、露光領域の露光量が大きい順
に、順次繰り返すことにより異なる少なくとも２色の着
色層を形成する工程、(ｄ1)残余のポジ型感光性塗膜を
除去する工程、(ｅ1)(ｄ1)工程によりポジ型感光性塗膜
が除去された基板にポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を
形成する工程、(ｆ)該ポジ型若しくはネガ型感光性塗膜
に露光量が少なくとも３段階に異なる複数の露光領域を
形成する工程及び(ｇ)該露光領域のポジ型若しくはネガ
型感光性塗膜を現像して透明導電層を露出させ、次いで
着色塗料を電着塗装し着色層を形成する操作を、ポジ型
感光性塗膜の場合には露光領域の露光量が大きい順に、
ネガ型感光性塗膜の場合には露光領域の露光量が小さい
順に順次繰り返すことにより着色層を形成する工程を含
むことを特徴とするカラーフィルターの製造法（以下第
１の製造法という）が提供される。

【００１２】また本発明によれば、(ａ2)透明導電層を
有する透明基板の透明導電層上に、ネガ型感光性塗膜を
形成する工程、(ｂ2)該ネガ型感光性塗膜に露光量が少
なくとも３段階に異なる複数の露光領域を形成する工
程、(ｃ2)該露光領域のネガ型感光性塗膜を現像して透
明導電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗装し着色
層を形成する操作を、露光領域の露光量が小さい順に、
順次繰り返すことにより異なる少なくとも２色の着色層
を形成する工程、(ｄ2)残余のネガ型感光性塗膜を除去
する工程、(ｅ2)(ｄ2)工程によりネガ型感光性塗膜が除
去された基板にポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を形成
する工程、前記（ｆ）工程及び前記（ｇ）工程を含むこ
とを特徴とするカラーフィルターの製造法（以下第２の
製造法という）が提供される。

【００１３】以下、本発明をさらに詳細に説明する。

【００１４】本発明の第１の製造法においては、まず透
明導電層を有する透明基板の透明導電層上に、ポジ型感
光性塗膜を形成する（以下(ａ1)工程という）。また第
２の製造法においては、透明導電層を有する透明基板の
透明導電層上に、ネガ型感光性塗膜を形成する（以下
(ａ2)工程という）。

【００１５】本発明に使用する透明導電層を有する透明
基板は、透明基板上に透明導電層が形成された板状のも
のであれば特に制限されない。該基板の材料としては、
例えばガラス、各種の積層板類、各種のプラスチック板
類、その他の板状絶縁物の表面に透明導電層及び遮光層
を形成した基板等が挙げられる。基板の表面はカラーフ
ィルターの性能上、平滑であることが望ましく、必要に
よっては表面を研磨して使用することもできる。また前
記基板上に形成する透明導電層としては例えば、酸化ス
ズ、酸化インジウムまたは酸化アンチモン等を成分とす
る材料が挙げられ、該透明導電層の膜厚は２０〜３００
ｎｍであるのが好ましい。透明導電層の形成方法は特に
制限されず、例えばスプレー法、ＣＶＤ法、スパッタリ
ング法、真空蒸着法等の公知の方法が挙げられる。また
透明導電層は、カラーフィルターの性能上、できる限り
透明度の高いものを用いることが望ましい。

【００１６】前記透明基板の透明導電層上に形成するポ
ジ型又はネガ型感光性塗膜の形成方法は、特に限定され
ないが、公知の方法、例えば電着法、吹き付け法、浸漬
塗装法、ロールコート法、スクリーン印刷法、スピンコ
ーターで塗装する方法等で、透明導電層上に塗布するこ
とにより形成することができる。

【００１７】前記（ａ1）工程において、ポジ型感光性
塗膜を形成するためのポジ型感光性塗料としては、塗膜
形成能と感光性とを有する樹脂（以下、ポジ型感光性塗
料用樹脂という）、更に必要により染料及び／又は顔料
等を有機溶媒や水などに分散あるいは溶解した塗料等を
挙げることができる。前記ポジ型感光性塗料として電着
可能な塗料を選択した場合には、（ａ1）工程を電着法
で行なうことができる。該ポジ型感光性塗料は、染料及
び／又は顔料等を含んでいても、含んでいなくとも良
い。

【００１８】前記（ａ1）工程において好ましく使用さ
れるポジ型感光性塗料用樹脂としては、露光部分が現像
液によって溶出されるものであれば特に限定されるもの
ではなく、例えばキノンジアジド基を有する樹脂、ジア
ゾメルドラム酸又はニトロベンジルエステル等を有する
樹脂又はこれらの樹脂を有する樹脂組成物等を好ましく
挙げることができる。具体的には例えばアクリル樹脂、
エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂等
に、アミノ基、アンモニウム、スルホニウム等のオニウ
ム基と水酸基とを導入し、更にキノンジアジドスルホン
酸化合物をエステル化反応により付加した樹脂で、蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸等の酸あるいは酸性物質
で水に可溶化及び／又は分散される樹脂等のキノンジア
ジド基を有するカチオン性の樹脂組成物；アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジ
エン樹脂、エポキシ樹脂等に、カルボキシル基等と水酸
基とを導入し、更にキノンジアジドスルホン酸化合物を
エステル化反応により付加した樹脂で、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、アン
モニア等の塩基性物質で水に可溶化及び／又は分散され
る樹脂等のキノンジアジド基を有するアニオン性の樹脂
組成物；造膜機能を有する樹脂及びヒドロキシル基を有
する化合物と、キノンジアジドスルホン酸誘導体とを反
応させて得られる樹脂を適宜混合した組成物等を挙げる
ことができ、特に工程簡略化や公害防止の点から、水に
可溶化及び／又は分散しうる樹脂の使用が好ましい。ま
た前記組成物における混合割合は、露光条件や現像条件
によって任意に選択することができる。この他、酸触媒
によりアルカリ又は水可溶性基を生成しうる基を有する
化合物と光酸発生剤を必須成分とするポジ型フォトレジ
ストも使用することができる。

【００１９】前記ポジ型感光性塗料に用いる樹脂等の各
成分を分散又は溶解させるために使用する有機溶媒とし
ては、前記樹脂を分散又は溶解しうるものであれば良
く、各種のグリコールエーテル類、例えばエチレングリ
コールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘ
キシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジ
メチルエーテル等；ケトン類、例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン等；エーテ
ル類、例えば、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等；アルコール類、例えば、メトキシブタ
ノール、ジアセトンアルコール、ブタノール、オクタノ
ール、イソプロパノール等；炭化水素類、例えば、トル
エン、キシレン、シクロヘキサン、ヘキサン等；エステ
ル類、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸２−メト
キシエチル、酢酸２−エトキシエチル、酢酸２−メトキ
シプロピル、安息香酸エチル等；酸アミド類、例えば、
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等を挙げることができ、使用
に際しては単独若しくは混合物として用いることができ
る。

【００２０】また前記有機溶媒は、可溶化や分散を容易
にし、浴安定性の向上、平滑塗膜を得る等のために、前
記カチオン性の樹脂またはアニオン性の樹脂を水に可溶
化及び／又は分散させる際に添加することもできる。

【００２１】必要に応じて前記ポジ型感光性塗料には、
染料及び／又は顔料を配合することができる。該染料及
び／又は顔料の色相は、目的に応じ適宜選択でき、例え
ばポジ型感光性塗料の解像度を改善するためには、露光
時に回析の大きい長波長の光線を除去する目的で４００
〜５００ｎｍの波長の光を吸収する染料、例えばオイル
イエロー若しくは紫外線吸収剤、例えばトリヒドロキシ
ベンゾフェノン等を配合することが望ましい。また目的
とする色相に応じて、前記染料及び／又は顔料をその特
性を損なわないかぎりにおいて、２種以上混合して用い
ることもできる。該染料及び／又は顔料の使用割合は、
目的、色相、使用する染料及び／又は顔料の種類、ポジ
型感光性塗料の乾燥時の膜厚等により適宜選択され、好
ましくはポジ型感光性塗料全体に対して、０．０１〜１
０重量％、特に０．１〜５．０重量％程度が好ましい。

【００２２】前記ポジ型感光性塗料の調製は、ポジ型感
光性塗料用樹脂、有機溶媒及び／又は水、必要に応じて
染料及び／又は顔料、酸性物質または塩基性物質、染料
又は顔料の分散助剤、塗膜の平滑性を良くするレベリン
グ剤、粘度調整剤、消泡剤等の各種助剤類等を混合し、
一般的に使用されるサンドミル、ロールミル、アトライ
ター等の分散機を用いて充分に分散させ所望の濃度に希
釈する方法等により得ることができる。このようにして
得られるポジ型感光性塗料により形成されるポジ型感光
性塗膜の膜厚は特に制限されず、カラーフィルターに要
求される性能等に応じて適宜選択できるが、乾燥時に通
常０．３〜２０μｍ、好ましくは０．５〜１５μｍ、更
に好ましくは１〜３μｍ程度であればよい。該膜厚を調
整するには、例えば電着法で形成する場合、電流、電
圧、電着時間、液温等の電着条件を調整することにより
制御できるが、通常は後述の着色塗料の電着塗装と同様
の条件で行うことができる。

【００２３】前記（ａ1）工程に用いるネガ型感光性塗
膜を形成するためのネガ型感光性塗料としては、塗膜形
成能と感光性を有する樹脂（以下ネガ型感光性塗料用樹
脂という）、光重合開始剤及び必要により染料及び／又
は顔料を有機溶媒や水等に分散あるいは溶解した塗料等
を挙げることができる。該ネガ型感光性塗料は、染料及
び／又は顔料等を含んでいても、含んでいなくとも良い
が、場合によっては目的とするカラーフィルターの一構
成部分となる色相の染料及び／又は顔料等をネガ型感光
性塗料の光硬化性に悪影響を及ぼさない限りにおいて含
ませておくこともできる。

【００２４】前記（ａ1）工程に好ましく使用されるネ
ガ型感光性塗料用樹脂としては、アクリロイル基、メタ
クリロイル基等の（メタ）アクリロイル基及び／又はシ
ンナモイル基等の感光性基を、分子末端及び／又は側鎖
に有する、一般に分子量５００〜１０，０００程度のプ
レポリマーまたは樹脂等を挙げることができる。

【００２５】該プレポリマーまたは樹脂としては、例え
ばエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）ア
クリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のプ
レポリマー；アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹
脂、ポリブタジエン樹脂等に、アミノ基、アンモニウ
ム、スルホニウム等のオニウム基と前記感光性基とを導
入した樹脂で、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸等の酸
あるいは酸性物質で水に可溶化及び／又は分散される樹
脂等のカチオン性の樹脂；アクリル樹脂、ポリエステル
樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキ
シ樹脂等にカルボキシル基等と前記感光性基とを導入し
た樹脂で、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジメチ
ルエタノールアミン、アンモニア等の塩基性物質で水に
可溶化及び／又は分散される樹脂等のアニオン性の樹脂
等を挙げることができ、特に工程簡略化や公害防止の点
から、水に可溶化及び／又は分散しうるプレポリマー又
は樹脂の使用が好ましい。

【００２６】また前記ネガ型感光性塗料用樹脂には、塗
膜の感光性や粘度などを調整するために低分子量の（メ
タ）アクリレート類を添加してもよく、具体的には、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノ
キシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロ
イルオキシエチル）イソシアヌレート等が例示でき、こ
れらは混合物として使用してもよい。これらの（メタ）
アクリレート類の配合割合は、ネガ型感光性塗料用樹脂
１００重量部に対して０〜５０重量部、好ましくは０〜
３０重量部である。（メタ）アクリレート類の配合割合
が５０重量部を越えると塗膜に粘着性が出やすくなり好
ましくない。

【００２７】前記光重合開始剤は公知のものでよく、例
えばベンゾインおよびそのエーテル類、ベンジルアルキ
ルケタール類、ベンゾフェノン誘導体、アントラキノン
誘導体、チオキサントン誘導体等が挙げられ、さらに必
要によって増感剤を添加してもよい。光重合開始剤の添
加量は、前記ネガ型感光性塗料用樹脂１００重量部に対
し、好ましくは０．１〜３０重量部、特に好ましくは
０．５〜２０重量部の範囲である。光重合開始剤の添加
量が０．１重量部未満では光硬化性が不足し、また３０
重量部を越えると硬化が進みすぎて塗膜強度が不足し、
かつ不経済であるため好ましくない。

【００２８】前記ネガ型感光性塗料の各成分を分散また
は溶解するために用いる、有機溶媒としては、上述のプ
レポリマーまたは樹脂を溶解しうるものであればよく、
各種のグリコールエーテル類、例えば、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメ
チルエーテル等；ケトン類、例えば、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、イソホロン等；エーテル類、例えば、ジブチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等；アルコー
ル類、例えば、メトキシブタノール、ジアセトンアルコ
ール、ブタノール、イソプロパノール等；炭化水素類、
例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン等；エステル
類、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸２−メトキ
シエチル、酢酸２−メトキシプロピル等を挙げることが
でき、使用に際しては単独若しくは混合物として用いる
ことができる。

【００２９】またこれらの有機溶媒は、可溶化や分散を
容易にするため、浴安定性の向上のため、平滑塗膜を得
る等のために、前記カチオン性の樹脂又はアニオン性の
樹脂の水溶化時または水分散時において添加することも
できる。

【００３０】必要によりネガ型感光性塗料に配合される
染料及び／又は顔料の色相は、目的に応じ適宜選択で
き、前述のポジ型感光性塗膜で使用したものと同様なも
のを使用することができる。具体的には後述する（ｃ
1）工程、（ｃ2）工程で列挙したもの等を挙げることが
できる。

【００３１】前記染料及び／又は顔料の使用割合は、目
的、色相、使用する染料及び／又は顔料の種類、ネガ型
感光性塗料の乾燥時の膜厚等により適宜選択することが
でき、好ましくはネガ型感光性塗料全体に対して、３〜
７０重量％、特に好ましくは５〜６０重量％程度が適し
ている。

【００３２】さらに場合によっては、該染料及び／又は
顔料の種類や使用割合により、塗膜の光硬化性に悪影響
を及ぼさない限りにおいて、塗膜を透光性だけでなく遮
光性にもすることができ、目的により適宜選択できる。
例えば顔料としてカーボンブラック等を、ネガ型感光性
塗料全体に対して３〜５０重量％の範囲で用いることに
より、黒色かつ遮光性の塗膜を得ることができる。また
該染料及び／又は顔料の色には白色も含まれる。更にま
た使用する染料及び／又は顔料は、良好な塗膜を得るた
めに精製して不純物を除去して使用するのが好ましい。
さらに感光性塗料に、該染料や顔料の分散助剤、塗膜の
平滑性をよくするレベリング剤、粘度調整剤、消泡剤等
の各種助剤類等を添加してもよい。

【００３３】前記ネガ型感光性塗料の調製は、ネガ型感
光性塗料用樹脂、光重合開始剤、有機溶媒及び／又は
水、必要に応じて染料及び／又は顔料、酸性物質または
塩基性物質、染料あるいは顔料の分散助剤、塗膜の平滑
性をよくするレベリング剤、粘度調整剤、消泡剤等の各
種助剤類等を混合し、一般的に使用されるサンドミル、
ロールミル、アトライター等の分散機を用いて充分に分
散させる方法等により得ることができる。このようにし
て得られるネガ型感光性塗料により形成されるネガ型感
光性塗膜の膜厚は特に制限されず、カラーフィルターに
要求される性能等に応じて適宜選択できるが、乾燥時に
通常０．３〜５μｍ、好ましくは１〜３μｍ程度であれ
ばよい。該膜厚を調整するには、例えばネガ型感光性塗
膜を電着法で形成する場合、電圧、電着時間、液温等の
電着条件を調整することにより制御できるが、通常は後
述の着色塗料の電着塗装と同様の条件で行うことができ
る。

【００３４】前記ネガ型感光性塗膜を着色膜として用い
ない場合には、着色剤を添加せずに、膜厚を通常５〜１
５μｍ程度に厚くすることが、酸素による硬化阻害作用
の軽減、ピンホールの生成防止等の点で好ましい。

【００３５】次に本発明の第１の製造法においては、該
ポジ型感光性塗膜に露光量が少なくとも３段階に異なる
複数の露光領域を形成する（以下（ｂ1）工程とい
う）。また第２の製造法においては、該ネガ型感光性塗
膜に露光量が少なくとも３段階に異なる複数の露光領域
を形成する（以下（ｂ2）工程という）。（ｂ1）工程及
び（ｂ2）工程において、露光量が少なくとも３段階に
異なる複数の露光領域のうちの１段階として、未露光領
域を割り当てることができる。

【００３６】露光領域の形状は、特に制限されず、カラ
ーフィルターとしての目的に応じて適宜決定することが
でき、このため着色層作成用の領域だけでなく、遮光層
作成用の領域を形成することも好ましく行なうことがで
きる。ここで、遮光層を有するカラーフィルターを製造
する目的においては、特に（ｂ1）工程において最も露
光量が多い露光領域が、また（ｂ2）工程において最も
露光量が少ない露光領域が、遮光層に相当する部分であ
ると、最も精度が要求される遮光層を最初に形成するこ
とができるため、カラーフィルター全体の精度を向上さ
せることができ好ましい。更にまた、該露光領域の形状
には、液晶カラーディスプレー組立用の合わせマーク、
更にはカラーフィルターの透明外枠部分の形状を含んで
いると、カラーフィルター製造時に、合わせマーク、更
には外枠部分を同時に製造することができ、工程の簡素
化、精度の向上を図ることができるので望ましい。

【００３７】前記露光量が少なくとも３段階に異なる複
数の露光領域を形成する工程の方法は、特に限定され
ず、例えば少なくとも３段階に光透過率が異なるパター
ンを有するマスクを介して一回露光する方法、２段階に
光透過率が異なり特定のパターンを有するマスクを介し
て露光し、該マスクを移動させ異なる露光量で再度露光
する操作を繰り返す方法、２段階に光透過率が異なる特
定のパターンを有するマスクを介して露光し、異なるパ
ターンを有する別のマスクを介し露光量を変えて再度露
光する操作を繰り返す方法等が挙げられる。

【００３８】前記光透過率が少なくとも３段階に異なる
パターンを有するマスクを介して露光する方法において
光透過率とは、露光に使用する光線が、該マスクを透過
する前後における強度の比率をいう。また該マスクのパ
ターンの異なる光透過率の段数は、少なくとも３段階あ
れば良く、使用する着色塗料の種類の数に応じて決定で
き、各段階間の光透過率の差は露光条件や後述の現像条
件に応じて適宜選択することができる。

【００３９】一般には夫々の光透過率の相対的な差を大
きくする方が露光量、露光時間の調整が容易となるため
に好ましいが、光透過率の差が小さい場合であっても露
光量を増大し、あるいは露光時間を長くすることで同一
目的を達成することができる。従って、光透過率の相対
的差は特に限定されないが、通常５％以上の有意差を有
することが好ましい。前記露光は、通常紫外線を多量に
発生できる装置を用いることができ、例えば、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を光源とし
て用いることができ、必要によっては紫外線以外の他の
放射線源を使用してもよい。露光条件は、用いるポジ型
感光性塗料、露光装置、前記マスク等に応じて適宜選択
できる。このようにしてポジ型又はネガ型感光性塗膜
に、マスクのパターンの光透過率の異なる段数の数と通
常同数の露光状態の段数を有する、複数の露光領域を形
成することができる。

【００４０】またこの他に前記２段階に光透過率が異な
る特定のパターンを有するマスクを介して露光し、該マ
スクを移動させ異なる露光量で再度露光する操作を繰り
返す方法等を用いることもできる。該移動とは、マスク
と基板との相対位置を変化させることであって、例え
ば、基板を固定してマスクを移動させる、若しくは基板
とマスクとの両者を移動させる等のいずれでも良い。前
記特定のパターンを有するマスクは、光が通過する部分
（以下パターンブロックという）が、必要回数移動した
後において各パターンブロックが相互に重ならないもの
を用いるのが好ましい。従って１つのパターンブロック
と隣のパターンブロックとの間隙は、最低でも１つのパ
ターンブロックが移動回数分移動しても各露光時におけ
るパターンブロックが重ならないだけの幅が必要であ
る。

【００４１】前記マスクの移動方向には特に制限はな
く、同一平面上であれば、前後左右いずれでも良く、ま
た該マスクのパターンブロックの位置及び相対距離は、
移動回数、移動方向、移動距離等により適宜決定され
る。

【００４２】前記露光は、マスクの移動毎にそれ以前に
行なわれた光照射とはそれぞれ異なる光照射量にて露光
する。かかる光照射量を変える手段としては、特に制限
はなく、例えば露光時間を変化させる方法、光源の距離
を変化させる方法、光源の出力を変化させる方法等の各
種方法を用いることができる。この際、光照射量が異な
るように露光する際の光照射量の差は、露光条件、後述
する現像条件に応じて適宜選択することができる。光照
射量の相対的な差は特に限定されないが、通常５％以上
の有意差を有することが好ましい。

【００４３】前記方法において、特定の１つのマスクを
移動させて使用する代わりに、異なるパターンを有する
２枚のマスクを露光毎に取り替えて使用することもで
き、露光方法、露光量等は、前記方法同様に行なうこと
ができる。

【００４４】前記少なくとも２枚のマスクを使用する方
法においては、各マスクのパターンの一部は重なってい
ても良く、この場合には各マスクを介する露光の１回の
光照射量は異なっていても良く、若しくは各マスクを介
する光照射量が同じであってもパターンの重なっている
部分の露光量は重なっていない部分よりも多くなること
を利用し、光照射量をマスク毎に同じにすることもでき
る。このようにして（ｂ1）工程及び（ｂ2）工程による
露光量が少なくとも３段階に異なる複数の露光領域を形
成することができる。

【００４５】次に本発明の第１の方法においては、該露
光領域のポジ型感光性塗膜を現像して透明導電層を露出
させ、次いで着色塗料を電着塗装し着色層を形成する操
作を、露光領域の露光量が大きい順に、順次繰り返すこ
とにより異なる少なくとも２色の着色層を形成する（以
下(ｃ1)工程という）。また第２の方法においては、該
露光領域のネガ型感光性塗膜を現像して透明導電層を露
出させ、次いで着色塗料を電着塗装し着色層を形成する
操作を、露光領域の露光量が小さい順に、順次繰り返す
ことにより異なる少なくとも２色の着色層を形成する
（以下(ｃ2)工程という）。

【００４６】即ち、前記(ｃ1)工程及び(ｃ2)工程におい
ては、ポジ型又はネガ型感光性塗膜において露光量が最
も多い領域又は露光量が最も少ない領域を選択的に現像
して透明導電層を露出させ、着色塗料を電着塗装して着
色層を形成し、次いで露光量が２番目に多い領域又は２
番目に少ない領域を選択的に現像して透明導電層を露出
させ、別の色の着色塗料を電着塗装して着色層を形成す
る操作を、必要回数繰り返す。この際ネガ型感光性塗膜
を使用し、かつ露光後に未露光領域が含まれている場
合、該未露光領域を最も露光量の小さい部分として扱う
ことができる。

【００４７】前記ポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を現
像する条件は、選択的に除去すべき部分の露光量、使用
するポジ型若しくはネガ型感光性塗料の現像液に対する
溶解性、現像液の種類や濃度、更には現像温度、現像時
間等によって変わりうるものであり、感光性塗料の調製
に使用する樹脂等に適した条件を適宜選択すれば良い。
また露光領域の露光量が異なる部分を各々選択的に現像
除去、電着を順次繰り返す目的で、ポジ型又はネガ型感
光性塗料に対する溶解能力が異なる現像液を、必要な種
類数用意しておくことが望ましい。更にまた場合によっ
ては、現像液の種類が前記必要な種類数より少なくて
も、現像時間を加減することにより、選択的に現像を行
なうこともできる。

【００４８】前記(ｃ1)工程に使用可能な現像液として
は、具体的には例えば、通常塩基性物質を溶解した水溶
液等を使用することができる。該塩基性物質としては、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、メタ桂酸ナトリ
ウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることができ、
例えばメタ桂酸ナトリウム水溶液を現像液に使用する場
合、メタ桂酸ナトリウムの濃度は、通常０．０１〜２５
重量％、好ましくは０．０５〜２０重量％、温度は通常
１０〜７０℃、好ましくは１５〜５０℃、現像時間は通
常２〜６００秒、好ましくは３０〜３００秒等の範囲か
ら適宜選択すれば良い。更に前記現像液には濡れ性改良
や消泡のために界面活性剤、アルコール類、グリコール
エーテル類、ケトン類、塩素化炭化水素類等の有機溶媒
あるいは消泡剤を添加しても良い。

【００４９】前記(ｃ2)工程に使用可能な現像液として
は、具体的には例えば、ネガ型感光性塗料の成分にカチ
オン性の樹脂を使用する場合の現像液としては、酸性物
質を溶解した水溶液を使用することができる。該酸性物
質としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸等の有機
酸や塩酸、リン酸等の無機酸を挙げることができ、例え
ば乳酸を現像液に使用する場合は、乳酸濃度は通常０．
０１〜５０重量％、好ましくは０．０１〜３０重量％、
温度は通常１０〜７０℃、好ましくは２０〜５０℃、現
像時間は通常５〜６００秒等の範囲から適宜選定すれば
良い。またネガ型感光性塗料の成分にアニオン性の樹脂
を使用する場合の現像液としては塩基性物質を溶解した
水溶液等を使用することができる。該塩基性物質として
は、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、メタ珪酸ナ
トリウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることがで
き、例えば炭酸ナトリウム水溶液を現像液に使用する場
合、炭酸ナトリウム濃度は通常０．０１〜２５重量％、
好ましくは０．０５〜１５重量％、温度は通常１０〜７
０℃、現像時間は通常５〜６００秒、好ましくは５〜３
００秒等の範囲から適宜選択すれば良い。さらに現像液
としてアルコール類、グリコールエーテル類、ケトン
類、塩素化炭化水素類等の有機溶媒を使用することもで
きる。またこれらの現像液には濡れ性改良や消泡のため
に界面活性剤や消泡剤を添加してもよく、毒性や作業環
境性等の点で水溶液系の現像液を使用するのが好まし
い。

【００５０】前記現像後、露出した透明導電層上に、着
色塗料を電着塗装し、着色層を形成する。

【００５１】前記着色塗料としては、例えば樹脂成分と
してカチオン性またはアニオン性の樹脂を使用し、着色
成分として染料及び／又は顔料を加え、更に酸性または
塩基性物質を使用して水に溶解及び／又は分散させた塗
料等を用いることができ、更にまた着色塗料における樹
脂の溶解及び／又は分散を容易ならしめるため、浴安定
性の向上のため又は平滑塗膜を得る等のために有機溶媒
等を添加してもよい。

【００５２】前記着色塗料の樹脂成分として用いるカチ
オン性の樹脂としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミド
樹脂等に、アミノ基、アンモニウム、スルホニウム等の
オニウム基を導入した樹脂で、蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、乳酸等の酸あるいは酸性物質で水に可溶化または分
散される樹脂等を挙げることができる。

【００５３】また前記着色塗料の樹脂成分として用いる
アニオン性の樹脂としては、例えばアクリル樹脂、ポリ
エステル樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹
脂、エポキシ樹脂等にカルボキシル基等を導入した樹脂
で、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタ
ノールアミン、アンモニア等の塩基性物質で水に可溶化
または分散される樹脂等を挙げることができる。更にま
た、着色塗料の造膜成分は感光性を有するものであって
もよい。更には、着色塗料の樹脂成分には、熱硬化性の
強い電着樹脂、例えばアクリル樹脂あるいはポリエステ
ル樹脂とメラミン樹脂とを混合したものを用いても良
い。着色塗料は、露光量が異なる部分ごとに種類、色
相、色濃度、色明暗の異なるものを使用することが望ま
しいが、露光量が異なる部分が、必要色数以上ある場合
には、重複して同じ色相を用いることもできる。

【００５４】着色塗料の色相は、目的に応じ適宜選択す
ることができる。例えば（ｃ1）工程において、通常
は、異なる少なくとも２つの色相が選択され、これらの
色相は特に限定されない。（ｃ1）工程及び（ｃ2）工程
において、着色層の一つの色相を黒色若しくは暗色にす
ることにより、遮光層とすることができ、特に１回目の
着色工程による着色層を遮光層にすることが、カラーフ
ィルターの精度を向上させる目的において好ましい。

【００５５】前記着色塗料に使用する染料及び／又は顔
料は、目的とする色相に応じ選択されるが、得られる塗
膜の透明性、塗料の安定性、電着特性、塗膜の耐久性等
について問題の生じないものを選択することが望まし
い。この点から染料としては、油溶性あるいは分散性染
料が好ましく、具体的には例えばアゾ系、アントラキノ
ン系、ベンゾジフラノン系、縮合メチン系等が挙げられ
る。また顔料としては例えばアゾレーキ系、キナクリド
ン系、フタロシアニン系、イソインドリノン系、アント
ラキノン系、チオインジゴ系等の有機顔料、黄鉛、酸化
鉄、クロムバーミリオン、クロムグリーン、群青、紺
青、コバルトブルー、コバルトグリーン、エメラルドグ
リーン、チタンホワイト、カーボンブラック等の無機顔
料を挙げることができる。なお染料及び／又は顔料につ
いては適宜「COLOUR INDEX」等を参照すれば良い。

【００５６】前記着色塗料の調製は、樹脂、染料及び／
又は顔料、酸性物質または塩基性物質および必要により
有機溶剤や、染料あるいは顔料の分散助剤、塗膜の平滑
性をよくするレベリング剤、粘度調整剤、消泡剤等の各
種助剤類等を混合し、一般的に使用されるサンドミル、
ロールミル、アトライター等の分散機を用いて充分に分
散させ、その後、水で所定の濃度、好ましくは固形分含
量約４〜２５重量％、特に好ましくは７〜２０重量％に
希釈して電着に適する塗料とする方法等により行なうこ
とができる。このようにして得られる着色塗料は、透明
導電層上に電着塗装することによって着色層を形成させ
る。該着色層の膜厚は特に制限されず、カラーフィルタ
ーに要求される性能に応じて適宜選択できるが、乾燥時
に通常０．３〜５μｍ、好ましくは１〜３μｍ程度であ
ればよい。

【００５７】前記電着塗装の条件は、使用する着色塗料
の種類、目的とする着色層の膜厚に応じて適宜選択され
るが、電圧は通常５〜５００Ｖ、好ましくは１０〜３０
０Ｖの直流であるのが好ましく、電着時間は通常５〜３
００秒、好ましくは１０〜２００秒、液温は通常１０〜
３５℃、好ましくは１５〜３０℃であるのが望ましい。
この際所望の膜厚を得る電着時間が経過したところで通
電を停止し、基板を浴から取り出し、余剰に付着した浴
液を水等でよく洗浄し乾燥することにより着色層を形成
することができる。

【００５８】前記乾燥条件は、後工程の条件等により適
宜選択できるが、通常は表面の水分が乾燥し得る条件で
あれば良く、例えば１５０℃以下、好ましくは６０℃〜
１２０℃で、通常０．０１〜１時間、好ましくは１〜３
０分程度乾燥させるのが望ましい。

【００５９】次に本発明の第１の製造法では、残余のポ
ジ型感光性塗膜を除去する（以下(ｄ1)工程という）。
残余のポジ型感光性塗膜の除去は、溶解能力が比較的高
い現像液を用いる方法、若しくは少なくとも除去する部
分を含有する領域を一定以上の露光量で露光し、現像液
で除去する方法等が挙げられる。

【００６０】また第２の方法では、残余のネガ型感光性
塗膜を除去する（以下(ｄ2)工程という）。残余のネガ
型感光性塗膜の除去は、溶解能力が比較的高い現像液を
用いる方法等が挙げられる。

【００６１】次に本発明の第１の方法では、前記(ｄ1)
工程によりポジ型感光性塗膜が除去された基板にポジ型
若しくはネガ型感光性塗膜を形成する（以下(ｅ1)工程
という）。また第２の方法では、前記(ｄ2)工程により
ネガ型感光性塗膜が除去された基板にポジ型若しくはネ
ガ型感光性塗膜を形成する（以下(ｅ2)工程という）。
この際前記(ｅ1)工程及び(ｅ2)工程は、前述の（ａ1）
工程及び（ａ2）工程と同様な方法で行なうことができ
る。

【００６２】次いで本発明の第１及び第２の製造法で
は、該ポジ型若しくはネガ型感光性塗膜に露光量が少な
くとも３段階に異なる複数の露光領域を形成する（以下
(ｆ)工程という）。この際露光領域の形状は特に制限さ
れず、カラーフィルターとしての目的に応じて適宜決定
することができ、このため着色層作成用の領域だけでな
く、遮光層作成用の領域を形成することも好ましく行な
うこともできる。但し前述の（ｃ1）工程若しくは（ｃ
2）工程で遮光層を形成した場合には、（ｆ）工程内で
遮光層を形成する操作は必須ではない。

【００６３】前記露光量が少なくとも３段階に異なる複
数の露光領域を形成する工程の方法は、特に限定され
ず、（ｂ1）工程及び（ｂ2）工程と同様な方法に準じて
行なうことができる。例えば少なくとも３段階に光透過
率が異なるパターンを有するマスクを介して一回露光す
る方法、２段階に光透過率が異なり特定のパターンを有
するマスクを介して露光し、該マスクを移動させ異なる
露光量で再度露光する操作を繰り返す方法、２段階に光
透過率が異なる特定のパターンを有するマスクを介して
露光し、異なるパターンを有する別のマスクを介し露光
量を変えて再度露光する操作を繰り返す方法等が挙げら
れる。

【００６４】次に本発明の第１の方法及び第２の方法で
は、該露光領域のポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を現
像して透明導電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗
装し着色層を形成する操作を、ポジ型感光性塗膜の場合
には露光領域の露光量が大きい順に、ネガ型感光性塗膜
の場合には露光領域の露光量が小さい順に順次繰り返す
ことにより着色層を形成する（以下(ｇ)工程という）。
この際ネガ型感光性塗膜を使用し、かつ露光後に未露光
領域が含まれている場合、該未露光領域を最も露光量の
小さい部分として扱うことができる。

【００６５】前記（ｇ）工程は、前述の（ｃ1）工程若
しくは（ｃ2）工程の方法に準じて行なうことができ
る。また着色塗料としては、前記（ｃ1）工程若しくは
（ｃ2）工程で列挙したものを使用することができる。
着色塗料の色相は、通常前記（ｃ1）工程若しくは（ｃ
2）工程で使用しなかったものを用いるが、目的によっ
ては、同様な色相を使用することもできる。また着色塗
料の色相は、通常各露光量の領域毎に異なるものを用い
るが、目的によっては他の領域と重複する色相を使用す
ることもできる。液晶ディスプレイ用のカラーフィルタ
ーを製造する場合、第１の製造法では、（ｃ1)工程と
（ｇ）工程、第２の製造法では、（ｃ2)工程と（ｇ）工
程の両者併せて、少なくとも赤、青、緑の色相の着色塗
料を形成し、かつ必要に応じて各色相の間隙に黒色遮光
層を形成しておくことが最も好ましい。着色条件、その
他の水洗、乾燥条件等も前記（ｃ1）工程若しくは（ｃ
2）工程の方法に準じて行なうことができる。

【００６６】以上の（ａ1）〜（ｇ）工程（第１の製造
法）若しくは（ａ2）〜（ｇ）工程（第２の製造法）に
より、目的とするカラーフィルターを製造することがで
きるが、必要に応じて更に加熱・硬化又は光硬化等を行
ない、耐候性や耐薬品性等をより向上させることもでき
る。該加熱・硬化を行なう場合には、例えば温度を通常
１００〜２７０℃、好ましくは１２０〜２５０℃とし、
５分〜１時間、好ましくは１５〜４０分の条件で行なえ
ば良い。本発明では、着色層及び遮光層だけでなく、カ
ラーフィルターの外枠部分に透明且つ表面内での導電性
を有する部分を、特別な工程を行なわずに製造すること
もできる。即ち、本発明において透明な外枠部分を製造
するには、前記各工程において外枠部分をレジストで保
護し、最後にレジストを除去すれば良い。このような方
法は、例えば（ｂ1）工程若しくは（ｂ2）工程で、外枠
部分を最後に形成する色調部分として扱い、かつ着色操
作を行なわずに残し、更に（ｆ）及び（ｇ）工程におい
ても外枠部分を最後に形成する色調部分として扱い、し
かも該色調部分のレジストを除去した後に着色操作を行
なわないことにより、外枠部分を容易に形成することが
できる。

【００６７】

【発明の効果】本発明のカラーフィルターの製造法で
は、高度な微細加工技術を必要とせず、着色層のパター
ン形状の自由度を大きく、大型化への対処も容易であ
り、かつ大量生産が容易で簡便な方法であるため、工業
的にも極めて有用である。また本発明では、簡便な方法
により、遮光層、着色層、更に必要に応じて透明な外枠
部分を形成することもできる。

【００６８】

【実施例】以下に本発明を合成例および実施例によって
具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００６９】

【合成例１】黒色塗料（ＢＫ−１）の合成 着色塗料（Ｒ−１）（Ｇ−１）（Ｂ−１）の合成 アクリル樹脂（東亞合成化学（株）製、商品名「アロン
Ｓ−４０２０」）をトリエチルアミンでｐＨが約８とな
るまで中和し、これに脱イオン水を加えた樹脂水溶液
（Ｓ）を作成した。

【００７０】次に樹脂水溶液（Ｓ）に、撹拌下でカーボ
ンブラック、アゾ金属塩赤顔料、フタロシアニングリー
ン、フタロシアニンブルーをそれぞれ加え、黒色、赤
色、緑色および青色の顔料分散液を各々作成した。

【００７１】さらにこれとは別に、前記アクリル樹脂に
メラミン樹脂（住友化学（株）製、商品名「Ｍ−５
６」）を混合したものを、トリエチルアミンでｐＨが８
となるまで中和し、これに脱イオン水を加えた樹脂水溶
液（Ｔ）を作成した。

【００７２】前記各色の顔料分散液に対して、樹脂水溶
液（Ｔ）を加えることにより、表１に示される組成の、
黒色塗料（ＢＫ−１）および着色塗料（Ｒ−１、Ｇ−
１、Ｂ−１）を得た。なお、得られた黒色塗料（ＢＫ−
１）および着色塗料（Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１）は、熱
硬化性であり、かつアニオン型の電着性を有するもので
ある。

【００７３】

【表１】

【００７４】

【実施例１】（階調＋階調） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に有す
る厚さ０．７ｍｍのパイレックスガラス基板にポジ型フ
ォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−
８００」をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０分間
乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成した
（以下、「原板１」と称す）。

【００７５】図１に示すマスク（遮光層に相当する部分
１および第１色部分に対応するパターンを有するマス
ク）を介し、高圧水銀ランプを有するＵＶ露光装置
（（株）オーク製作所製、商品名「ＪＬ−３３００」）
を使用して、１００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した
後、濃度２．４重量％のテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド水溶液で現像したところ、露光量が最も大きい
領域、すなわちマスクの光透過率が最も高い部分１に対
応する部分のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透
明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板
１を陽極とし、黒色塗料（ＢＫ−１）を入れたステンレ
ススチール製ビーカーを陰極として、直流電流２８Ｖ、
２５℃の条件で２０秒間電着した。原板１をイオン交換
水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、黒色の遮
光層を形成した。ついで３．５重量％のテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光
量が２番目に大きい領域、すなわちマスクの光透過率が
２番目に高い部分２に対応する部分のポジ型感光性塗膜
が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第１色目（赤色）の着色塗料（Ｒ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光層には何等変
化は認められず、第１色目の着色層が形成された。

【００７６】次に原板１の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除
去し、水洗、乾燥させた。さらに、原板１にポジ型フォ
トレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−８
００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０分間
乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成した。

【００７７】次いで図２に示すマスクを介し、高圧水銀
ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所製、
商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、１００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射した後、濃度２．４重量％のテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像したと
ころ、露光量が最も大きい領域、すなわちマスクの光透
過率が最も高い部分４に対応する部分のポジ型感光塗膜
が選択的に除去され、透明導電層ＩＴＯ膜）が露出し
た。水洗、乾燥後、原板１を陽極とし、第２色目（緑
色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れたステンレススチール
製ビーカーを陰極として、直流電圧２８Ｖ、２５℃の条
件で２０秒間電着した。原板１をイオン交換水で洗浄し
た後、１２０℃で１０分間乾燥し、第２の色（緑色）の
着色層を形成した。

【００７８】次いで３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量が
２番目に大きい領域、すなわちマスクの光透過率が２番
目に高い部分５に対応する部分のポジ型感光性塗膜が選
択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。
次に、水洗、乾燥後、着色塗料（Ｇ−１）の電着と同様
にして、第３の色（青色）の着色塗料（Ｂ−１）を電着
し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１０分間乾燥し
た。先に形成された黒色遮光層、第１の色および第２の
色の着色層には何等変化は認められず、第３の色の着色
層が形成された。続いて原板１の全面に２００ｍＪ／ｃ
ｍ²の紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗
膜を除去し、水洗、乾燥させた。この際、カラーフィル
ターの外枠部分の透明導電層が露出した。その後１８０
℃で３０分間加熱し、遮光層および着色層を硬化させた
ところ、常温で粘着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μ
ｍの、黒色の遮光層、着色層および透明な外枠を有す
る、均一で透明性に優れたカラーフィルターが得られ
た。

【００７９】

【実施例２】（階調＋移動法） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に有
する厚さ０．７ｎｍのパイレックスがラス基板にポジ型
フォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ
−８００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０
分間乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成し
た（以下、「原板２」と称す）。

【００８０】次いで図１に示すマスク（遮光層に相当す
る部分１および第１色部分に対応するパターンを有する
マスク）を介し、高圧水銀ランプを有するＵＶ露光装置
（（株）オーク製作所製、商品名「ＪＬ−３３００」）
を使用して、１００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した
後、濃度２．４重量％のテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド水溶液で現像したところ、露光量が最も大きい
領域、すなわちマスクの光透過率が最も高い部分１に対
応する部分のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透
明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板
２を陽極とし、黒色塗料（ＢＫ−１）を入れたステンレ
ススチール製ビーカーを陰極として、直流電圧２８Ｖ、
２５℃の条件で２０秒間電着した。原板２をイオン交換
水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、黒色の遮
光層を形成した。次いで３．５重量％のテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光
量が２番目に大きい領域、すなわちマスクの光透過率が
２番目に高い部分２に対応する部分のポジ型感光性塗膜
が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第１色目（赤色）の着色塗料（Ｒ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光層には何等変
化は認められず、第１色目の着色層が形成された。続い
て原板２の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
し、３．５重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除去し、水洗、
乾燥させた。さらに原板２にポジ型フォトレジスト（東
京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−８００」）をスピ
ンコーターで塗布し、８０℃で１０分間乾燥し膜厚２．
５μｍのポジ型感光性塗膜を形成した。

【００８１】次いで図３に示すマスク（移動方向に充分
な長さを有する）を介し、高圧水銀ランプを有するＵＶ
露光装置（（株）オーク製作所製、商品名「ＪＬ−３３
００」）を使用して、１００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照
射した（以下、「第１露光」と称す）。図３に示した方
向および距離だけマスクを移動させ、７５ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射した（以下、「第２露光」と称す）。

【００８２】次に濃度２．４重量％のテトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量
が最も大きい領域、すなわち第１露光で露光された部分
のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層
（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板２を陽極
とし、第２色目（緑色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れた
ステンレススチール製ビーカーを陰極として、直流電圧
２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原板２をイ
オン交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、
第２の色（緑色）の着色層を形成した。

【００８３】次いで３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量が
２番目に大きい領域、すなわち第２露光で露光された部
分のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層
（ＩＴＯ膜）が露出した。次に、水洗、乾燥後、着色塗
料（Ｇ−１）の電着と同様にして、第３の色（例えば青
色）の着色塗料（Ｂ−１）を電着し、イオン交換水で洗
浄し、１２０℃で１０分間乾燥した。先に形成された黒
色遮光層、第１の色および第２の色の着色層には何等変
化は認められず、第３の色の着色層が形成された。

【００８４】次に原板２の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除
去し、水洗、乾燥させた。続いて１８０℃で３０分間加
熱し、遮光層および着色層を硬化させたところ、常温で
粘着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μｍの、黒色の遮
光層および着色層を有する、均一で透明性に優れたカラ
ーフィルターが得られた。

【００８５】

【実施例３】（２枚＋移動法） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に有
する厚さ０．７ｍｍのパイレックスがラス基板にポジ型
フォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ
−８００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０
分間乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成し
た（以下、「原板３」と称す）。

【００８６】次いで図４に示すマスクを介し、高圧水銀
ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所製、
商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、１００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射し（以下「第１露光」と称す）、
続いて図５に示すマスクを介して７５ｍＪ／ｃｍ²の紫
外線を照射した（以下、「第２露光」と称す）。

【００８７】次に濃度２．４重量％のテトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量
が最も大きい領域、すなわち第１露光で露光された、マ
スクの部分９に対応する部分のポジ型感光性塗膜が選択
的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。水
洗、乾燥後、原板３を陽極とし、黒色塗料（ＢＫ−１）
を入れたステンレススチール製ビーカーを陰極として、
直流電圧２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原
板３をイオン交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間
乾燥し、黒色の遮光層を形成した。次いで３．５重量％
のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像
したところ、露光量が２番目に大きい領域、すなわち第
２露光で露光された、マスクの部分１２に対応する部分
のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層
（ＩＴＯ膜）が露出した。この際、前記の黒色の遮光層
には何等変化は認められなかった。次に、水洗、乾燥
後、黒色塗料（ＢＫ−１）の電着と同様にして、第１色
目（赤色）の着色塗料（Ｒ−１）を電着し、イオン交換
水で洗浄し、１２０℃で１０分間乾燥した。先に形成さ
れた黒色遮光層には何等変化は認められず、第１色目の
着色層が形成された。

【００８８】次に原板３の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除
去し、水洗、乾燥させた。さらに、原板３にポジ型フォ
トレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−８
００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０分間
乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成した。

【００８９】次に前記図３に示すマスク（移動方向に充
分な長さを有する）を介し、高圧水銀ランプを有するＵ
Ｖ露光装置（（株）オーク製作所製、商品名「ＪＬ−３
３００」）を使用して、１００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を
照射し（以下、「第３露光」と称す）。次いで図３に示
した方向および距離だけマスクを移動させ、７５ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射した（以下、「第４露光」と称
す）。

【００９０】次に濃度２．４重量％のテトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量
が最も大きい領域、すなわち第３露光で露光された部分
のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層
（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板３を陽極
とし、第２色目（緑色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れた
ステンレススチール製ビーカーを陰極として、直流電圧
２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原板３をイ
オン交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、
第２の色（緑色）の着色層を形成した。続いて３．５重
量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で
現像したところ、露光量が２番目に大きい領域、すなわ
ち第４露光で露光された部分のポジ型感光性塗膜が選択
的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。次
に、水洗、乾燥後、着色塗料（Ｇ−１）の電着と同様に
して、第３の色（青色）の着色塗料（Ｂ−１）を電着
し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１０分間乾燥し
た。先に形成された黒色遮光層、第１の色および第２の
色の着色層には何等変化は認められず、第３の色の着色
層が形成された。

【００９１】次いで原板３の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を
除去し、水洗、乾燥させた。続いて１８０℃で３０分間
加熱し、遮光層および着色層を硬化させたところ、常温
で粘着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μｍの、黒色の
遮光層および着色層を有する、均一で透明性に優れたカ
ラーフィルターが得られた。

【００９２】

【実施例４】（２枚＋２枚） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に有す
る厚さ０．７ｍｍのパイレックスガラス基板にポジ型フ
ォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−
８００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０分
間乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成した
（以下、「原板４」と称す）。

【００９３】次いで図６に示すマスクを介し、高圧水銀
ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所製、
商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、１００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射し（以下、「第１露光」と称
す）、続いて図７に示すマスクを介して７５ｍＪ／ｃｍ
²の紫外線を照射した（以下、「第２露光」と称す）。

【００９４】次に濃度２．４重量％のテトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量
が最も大きい領域、すなわち第１露光で露光された、マ
スクの部分１３に対応する部分のポジ型感光性塗膜が選
択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。
水洗、乾燥後、原板４を陽極とし、黒色塗料（ＢＫ−
１）を入れたステンレススチール製ビーカーを陰極とし
て、直流電圧２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着し
た。原板４をイオン交換水で洗浄した後、１２０℃で１
０分間乾燥し、黒色の遮光層を形成した。次いで３．５
重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液
で現像したところ、露光量が２番目に大きい領域、すな
わち第２露光で露光された、マスクの部分１５に対応す
る部分のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導
電層（ＩＴＯ膜）が露出した。この際、前記黒色の遮光
層には何等変化は認められなかった。次に、水洗、乾燥
後、黒色塗料（ＢＫ−１）の電着と同様にして、第１色
目（赤色）の着色塗料（Ｒ−１）を電着し、イオン交換
水で洗浄し、１２０℃で１０分間乾燥した。先に形成さ
れた黒色遮光層には何等変化は認められず、第１色目の
着色層が形成された。

【００９５】次いで原板４の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を
除去し、水洗、乾燥させた。さらに、原板４にポジ型フ
ォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−
８００」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０分
間乾燥し膜厚２．５μｍのポジ型感光性塗膜を形成し
た。

【００９６】次に図８に示すマスクを介し、高圧水銀ラ
ンプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所製、商
品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、１００ｍＪ／ｃ
ｍ²の紫外線を照射した（以下、「第３露光」と称
す）。続いて図９に示すマスクを介し、７５ｍＪ／ｃｍ
²の紫外線を照射した（以下、「第４露光」と称す）。

【００９７】次に濃度２．４重量％のテトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量
が最も大きい領域、すなわち第３露光で露光された部分
のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層
（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板４を陽極
とし、第２色目（緑色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れた
ステンレススチール製ビーカーを陰極として、直流電圧
２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原板４をイ
オン交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、
第２の色（緑色）の着色層を形成した。

【００９８】次いで３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量が
２番目に大きい領域、すなわち第４露光で露光卯された
部分のポジ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電
層（ＩＴＯ膜）が露出した。次に、水洗、乾燥後、着色
塗料（Ｇ−１）の電着と同様にして、第３の色（青色）
の着色塗料（Ｂ−１）を電着し、イオン交換水で洗浄
し、１２０℃で１０分間乾燥させた。先に形成された黒
色遮光層、第１の色および第２の色の着色層には何等変
化は認められず、第３の色の着色層が形成された。

【００９９】次に原板４の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射し、３．５重量％のテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除
去し、水洗、乾燥させた。この際、カラーフィルターの
外枠部分の透明導電層が露出された。続いて１８０℃で
３０分間加熱し、遮光層および着色層を硬化させたとこ
ろ、常温で粘着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μｍ
の、黒色の遮光層、着色層および透明な外枠を有する、
均一で透明性に優れたカラーフィルターが得られた。

【０１００】

【実施例５】（ネガ２枚重ね光量一定＋ポジ型階調） 膜厚１００ｎｍ
のＩＴＯ膜を表面に有する厚さ０．７ｍｍのパイレック
スガラス基板にネガ型フォトレジスト（東京応化（株）
製、商品名「ＯＰ−２レジストＤＡ」）をスピンコータ
ーで塗布し、８０℃で１０分間乾燥し膜厚２．５μｍの
ネガ型感光性塗膜を形成した（以下、「原板５」と称
す）。

【０１０１】次いで図１０に示すマスクを介し、高圧水
銀ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所
製、商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、２０ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射し（以下、「第１露光」と称
す）、続いて図１１に示すマスクを介して２０ｍＪ／ｃ
ｍ²の紫外線を照射した（以下、「第２露光」と称
す）。次に濃度０．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液で
現像したところ、露光量が最も少ない領域、すなわち第
１露光および第２露光で露光されなかった、マスクの部
分２２に対応する部分のネガ型感光性塗膜が選択的に除
去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出した。水洗、乾
燥後、原板５を陽極とし、黒色塗料（ＢＫ−１）を入れ
たステンレススチール製ビーカーを陰極として、直流電
圧２８Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原板５を
イオン交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥
し、黒色の遮光層を形成した。

【０１０２】次いで０．５重量％メタケイ酸ソーダ水溶
液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、す
なわち第１露光で露光され、かつ第２露光で露光されな
い部分であるマスクの部分２５に対応する部分のネガ型
感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ
膜）が露出した。この際、前記黒色の遮光層には何等変
化は認められなかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料
（ＢＫ−１）の電着と同様にして、第１色目（赤色）の
着色塗料（Ｒ−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、
１２０℃で１０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光
層には何等変化は認められず、第１色目の着色層が形成
された。

【０１０３】次に残余のネガ型感光性塗膜、すなわち第
１露光で露光され、かつ第２露光で露光された部分であ
るマスクの部分２３に対応する部分のネガ型感光性塗膜
を、１．０％ＮａＯＨ水溶液で除去し、水洗、乾燥させ
た。さらに原板５にポジ型フォトレジスト（東京応化
（株）製、商品名「ＯＦＰＲ−８００」）をスピンコー
ターで塗布し、８０℃で１０分間乾燥し、膜厚２．５μ
ｍのポジ型感光性塗膜を形成した。

【０１０４】次いで図１２に示すマスクを介し、高圧水
銀ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所
製、商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、１００ｍ
Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射した後、濃度２．４重量％の
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像し
たところ、露光量が最も大きい領域、すなわちマスクの
光透過率が最も高い部分２６に対応する部分のポジ型感
光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）
が露出した。水洗、乾燥後、原板５を陽極とし、第２色
目（緑色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れたステンレスス
チール製ビーカーを陰極として、直流電圧２８Ｖ、２５
℃の条件で２０秒間電着した。原板５をイオン交換水で
洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、第２の色（緑
色）の着色層を形成した。

【０１０５】次いで３．５重量％のテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド水溶液で現像したところ、露光量が
２番目に大きい領域、すなわちマスクの光透過率が２番
目に高い部分２７に対応する部分のポジ型感光性塗膜が
選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。次に、水洗、乾燥後、着色塗料（Ｇ−１）の電着と
同様にして、第３の色（青色）の着色塗料（Ｂ−１）を
電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１０分間乾
燥した。先に形成された黒色遮光層、第１の色及び第２
の色の着色層には何等変化は認められず、第３の色の着
色層が形成された。

【０１０６】次に原板５の全面に２００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射し、３．５重量％をテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液で残余のポジ型感光性塗膜を除
去し、外枠部分の透明導電層を露出させ、水洗、乾燥さ
せた。この際、カラーフィルターの外枠部分のポジ型感
光性塗膜が除去された。続いて１８０℃で３０分間加熱
し、遮光層および着色層を硬化させたところ、常温で粘
着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μｍの黒色の遮光層
及び着色層を有し、かつ透明導電層が露出した透明の外
枠部分を有する、均一で透明性に優れたカラーフィルタ
ーが得られた。

【０１０７】

【実施例６】（ネガ２枚＋２枚） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に
有する厚さ０．７ｍｍのパイレックスガラス基板にネガ
型フォトレジスト（東京応化製、商品名「ＯＰ−２レジ
ストＤＡ」）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１０
分間乾燥し膜厚２．５μｍのネガ型感光性塗膜を形成し
た（以下、「原板６」と称す）。

【０１０８】次いで図１３に示すマスクを介し、高圧水
銀ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所
製、商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、２０ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射し（以下、「第１露光」と称
す）、続いて図１４に示すマスクを介して１００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射した（以下、「第２露光」と称
す）。次に濃度０．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液で
現像したところ、露光量が最も少ない領域、すなわち第
１露光および第２露光で露光されなかった部分のネガ型
感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ
膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板６を陽極とし、黒
色塗料（ＢＫ−１）を入れたステンレススチール製ビー
カーを陰極として、直流電圧２８Ｖ、２５℃の条件で２
０秒間電着した。原板６をイオン交換水で洗浄した後、
１２０℃で１０分間乾燥し、黒色の遮光層を形成した。

【０１０９】次いで０．５重量％メタケイ酸ソーダ水溶
液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、す
なわち第１露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜が
選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第１色目（赤色）の着色塗料（Ｒ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光層には何等変
化は認められず、第１色目の着色層が形成された。

【０１１０】次に残余のネガ型感光性塗膜、すなわち第
２露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜を、１．０
％ＮａＯＨ水溶液で除去し、水洗、乾燥させた。さらに
原板６にネガ型フォトレジスト（東京応化製、商品名
「ＯＰ−２レジストＤＡ」）をスピンコーターで塗布
し、８０℃で１０分間乾燥し、膜厚２．５μｍのネガ型
感光性塗膜を形成した。

【０１１１】次いで図１５に示すマスクを介し、高圧水
銀ランプを有するＵＶ露光装置（（株）オーク製作所
製、商品名「ＪＬ−３３００」）を使用して、２０ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射し（以下、「第３露光」と称
す）、続いて図１６に示すマスクを介して１００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射した。

【０１１２】次に濃度０．５重量％の炭酸ナトリウム水
溶液で現像したところ、露光量が最も少ない領域、すな
わち第３露光及び第４露光で露光されなかった部分のネ
ガ型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴ
Ｏ膜）が露出した。水洗、乾燥後、原板６を陽極とし、
第２色目（緑色）の着色塗料（Ｇ−１）を入れたステン
レススチール製ビーカーを陰極として、直流電圧２８
Ｖ、２５℃の条件で２０秒間電着した。原板６をイオン
交換水で洗浄した後、１２０℃で１０分間乾燥し、第２
色目の着色層を形成した。

【０１１３】次いで０．５重量％メタケイ酸ソーダ水溶
液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、す
なわち第３露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜が
選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第３色目（青色）の着色塗料（Ｂ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された遮光層、第１及び２色
目の着色層には何等変化は認められず、第３色目の着色
層が形成された。

【０１１４】次に残余のネガ型感光性塗膜、すなわち第
２露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜を、１．０
％ＮａＯＨ水溶液で除去して外枠部分の透明導電層を露
出させ、水洗、乾燥させた。続いて１８０℃で３０分間
加熱し、遮光層及び着色層を硬化させたところ、常温で
粘着性を示さない膜厚２μｍ±０．１μｍの、黒色の遮
光層及び着色層を有し、かつ透明導電層が露出した透明
の外枠部分を有する、均一で透明性に優れたカラーフィ
ルターが得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１及び２で用いた３段階に光透過
性の異なるマスクの概略図である。

【図２】図２は実施例１で用いた他の３段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図３】図３は実施例で用いた移動用の２段階に光透過
性の異なるマスクの概略図である。

【図４】図４は実施例３で用いた２段階に光透過性の異
なるマスクの概略図である。

【図５】図５は実施例３で用いた他の２段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図６】図６は実施例４で用いた２段階に光透過性の異
なるマスクの概略図である。

【図７】図７は実施例４で用いた他の２段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図８】図８は実施例４で用いた別の２段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図９】図９は実施例４で用いた更に別の２段階に光透
過性の異なるマスクの概略図である。

【図１０】図１０は実施例５で用いた２段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図１１】図１１は実施例５で用いた他の２段階に光透
過性の異なるマスクの概略図である。

【図１２】図１２は実施例５で用いた３段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図１３】図１３は実施例６で用いた２段階に光透過性
の異なるマスクの概略図である。

【図１４】図１４は実施例６で用いた他の２段階に光透
過性の異なるマスクの概略図である。

【図１５】図１５は実施例６で用いた別の２段階に光透
過性の異なるマスクの概略図である。

【図１６】図１５は実施例６で用いた更に別の２段階に
光透過性の異なるマスクの概略図である。

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【手続補正書】

【提出日】平成６年１月１４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】前記（ａ1）工程において好ましく使用さ
れるポジ型感光性塗料用樹脂としては、露光部分が現像
液によって溶出されるものであれば特に限定されるもの
ではなく、例えばキノンジアジド基を有する樹脂、ジア
ゾメルドラム酸又はニトロベンジルエステル等を有する
樹脂又はこれらの樹脂を有する樹脂組成物等を好ましく
挙げることができる。具体的には例えばアクリル樹脂、
エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂等
に、オニウム基化が容易なアミノ基および／またはアン
モニウム、スルホニウム等のオニウム基と水酸基とを導
入し、更にキノンジアジドスルホン酸化合物をエステル
化反応により付加した樹脂で、蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、乳酸等の酸あるいは酸性物質で水に可溶化及び／又
は分散される樹脂等のキノンジアジド基を有するカチオ
ン性の樹脂組成物；アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、
マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂
等に、カルボキシル基等と水酸基とを導入し、更にキノ
ンジアジドスルホン酸化合物をエステル化反応により付
加した樹脂で、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジ
メチルエタノールアミン、アンモニア等の塩基性物質で
水に可溶化及び／又は分散される樹脂等のキノンジアジ
ド基を有するアニオン性の樹脂組成物；造膜機能を有す
る樹脂及びヒドロキシル基を有する化合物とキノンジア
ジドスルホン酸誘導体とを反応させて得られる樹脂を適
宜混合した組成物等を挙げることができ、特に工程簡略
化や公害防止の点から、水に可溶化及び／又は分散しう
る樹脂の使用が好ましい。また前記組成物における混合
割合は、露光条件や現像条件によって任意に選択するこ
とができる。この他、酸触媒によりアルカリ又は水可溶
性基を生成しうる基を有する化合物と光酸発生剤を必須
成分とするポジ型フォトレジストも使用することができ
る。さらには市販の各種ポジ型フォトレジストを適宜使
用することもできる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２５】該プレポリマーまたは樹脂としては、例え
ばエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）ア
クリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のプ
レポリマー；アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹
脂、ポリブタジエン樹脂等に、オニウム基化が容易なア
ミノ基および／またはアンモニウム、スルホニウム等の
オニウム基と前記感光性基とを導入した樹脂で、蟻酸、
酢酸、プロピオン酸、乳酸等の酸あるいは酸性物質で水
に可溶化及び／又は分散される樹脂等のカチオン性の樹
脂；アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン化油樹
脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂等にカルボキシ
ル基等と前記感光性基とを導入した樹脂で、トリエチル
アミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、
アンモニア等の塩基性物質で水に可溶化及び／又は分散
される樹脂等のアニオン性の樹脂等を挙げることがで
き、特に工程簡略化や公害防止の点から、水に可溶化及
び／又は分散しうるプレポリマー又は樹脂の使用が好ま
しい。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】前記光重合開始剤は公知のものでよく、例
えばベンゾインおよびそのエーテル類、ベンジルアルキ
ルケタール類、ベンゾフェノン誘導体、アントラキノン
誘導体、チオキサントン誘導体等が挙げられ、さらに必
要によって増感剤を添加してもよい。光重合開始剤の添
加量は、前記ネガ型感光性塗料用樹脂１００重量部に対
し、好ましくは０．１〜３０重量部、特に好ましくは
０．５〜２０重量部の範囲である。光重合開始剤の添加
量が０．１重量部未満では光硬化性が不足し、また３０
重量部を越えると硬化が進みすぎて塗膜強度が不足し、
かつ不経済であるため好ましくない。また市販の各種ネ
ガ型感光性塗料（フォトレジスト）を適宜使用してもよ
い。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４８】前記(ｃ1)工程に使用可能な現像液として
は、具体的には例えば、通常塩基性物質を溶解した水溶
液等を使用することができる。該塩基性物質としては、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることができ、
例えばメタ珪酸ナトリウム水溶液を現像液に使用する場
合、メタ桂酸ナトリウムの濃度は、通常０．０１〜２５
重量％、好ましくは０．０５〜２０重量％、温度は通常
１０〜７０℃、好ましくは１５〜５０℃、現像時間は通
常２〜６００秒、好ましくは３０〜３００秒等の範囲か
ら適宜選択すれば良い。更に前記現像液には濡れ性改良
や消泡のために界面活性剤、アルコール類、グリコール
エーテル類、ケトン類、塩素化炭化水素類等の有機溶媒
あるいは消泡剤を添加しても良い。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５２】前記着色塗料の樹脂成分として用いるカチ
オン性の樹脂としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミド
樹脂等に、オニウム基化が容易なアミノ基および／また
はアンモニウム、スルホニウム等のオニウム基を導入し
た樹脂で、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸等の酸ある
いは酸性物質で水に可溶化または分散される樹脂等を挙
げることができる。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１０２

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１０２】次いで０．５重量％メタ珪酸ナトリウム水
溶液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、
すなわち第１露光で露光され、かつ第２露光で露光され
ない部分であるマスクの部分２５に対応する部分のネガ
型感光性塗膜が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ
膜）が露出した。この際、前記黒色の遮光層には何等変
化は認められなかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料
（ＢＫ−１）の電着と同様にして、第１色目（赤色）の
着色塗料（Ｒ−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、
１２０℃で１０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光
層には何等変化は認められず、第１色目の着色層が形成
された。

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１０７

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１０７】

【実施例６】（ネガ２枚＋２枚） 膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を表面に
有する厚さ０．７ｍｍのパイレックスガラス基板にネガ
型フォトレジスト（東京応化（株）製、商品名「ＯＰ−
２レジストＤＡ」）をスピンコーターで塗布し、８０℃
で１０分間乾燥し膜厚２．５μｍのネガ型感光性塗膜を
形成した（以下、「原板６」と称す）。

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１０９

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１０９】次いで０．５重量％メタ珪酸ナトリウム水
溶液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、
すなわち第１露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜
が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第１色目（赤色）の着色塗料（Ｒ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された黒色遮光層には何等変
化は認められず、第１色目の着色層が形成された。

【手続補正９】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１１０

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１１０】次に残余のネガ型感光性塗膜、すなわち第
２露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜を、１．０
％ＮａＯＨ水溶液で除去し、水洗、乾燥させた。さらに
原板６にネガ型フォトレジスト（東京応化（株）製、商
品名「ＯＰ−２レジストＤＡ」）をスピンコーターで塗
布し、８０℃で１０分間乾燥し、膜厚２．５μｍのネガ
型感光性塗膜を形成した。

【手続補正１０】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【０１１３】次いで０．５重量％メタ珪酸ナトリウム水
溶液で現像したところ、露光量が２番目に少ない領域、
すなわち第３露光で露光された部分のネガ型感光性塗膜
が選択的に除去され、透明導電層（ＩＴＯ膜）が露出し
た。この際、前記黒色の遮光層には何等変化は認められ
なかった。次に、水洗、乾燥後、黒色塗料（ＢＫ−１）
の電着と同様にして、第３色目（青色）の着色塗料（Ｂ
−１）を電着し、イオン交換水で洗浄し、１２０℃で１
０分間乾燥した。先に形成された遮光層、第１及び２色
目の着色層には何等変化は認められず、第３色目の着色
層が形成された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯浅 仁士 神奈川県横浜市中区千鳥町８番地 日本石 油株式会社中央技術研究所内 (72)発明者 大月 裕 神奈川県横浜市中区千鳥町８番地 日本石 油株式会社中央技術研究所内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (ａ1)透明導電層を有する透明基板の透
   明導電層上に、ポジ型感光性塗膜を形成する工程、 (ｂ1)該ポジ型感光性塗膜に露光量が少なくとも３段階
   に異なる複数の露光領域を形成する工程、 (ｃ1)該露光領域のポジ型感光性塗膜を現像して透明導
   電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗装し着色層を
   形成する操作を、露光領域の露光量が大きい順に、順次
   繰り返すことにより異なる少なくとも２色の着色層を形
   成する工程、 (ｄ1)残余のポジ型感光性塗膜を除去する工程、 (ｅ1)(ｄ1)工程によりポジ型感光性塗膜が除去された基
   板にポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を形成する工程、 (ｆ)該ポジ型若しくはネガ型感光性塗膜に露光量が少な
   くとも３段階に異なる複数の露光領域を形成する工程及
   び (ｇ)該露光領域のポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を現
   像して透明導電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗
   装し着色層を形成する操作を、ポジ型感光性塗膜の場合
   には露光領域の露光量が大きい順に、ネガ型感光性塗膜
   の場合には露光領域の露光量が小さい順に順次繰り返す
   ことにより着色層を形成する工程を含むことを特徴とす
   るカラーフィルターの製造法。
2. 【請求項２】 前記(ｃ1)工程の着色層の色相の一つ
   が、黒色若しくは暗色であることを特徴とする請求項１
   記載のカラーフィルターの製造法。
3. 【請求項３】 (ａ2)透明導電層を有する透明基板の透
   明導電層上に、ネガ型感光性塗膜を形成する工程、 (ｂ2)該ネガ型感光性塗膜に露光量が少なくとも３段階
   に異なる複数の露光領域を形成する工程、 (ｃ2)該露光領域のネガ型感光性塗膜を現像して透明導
   電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗装し着色層を
   形成する操作を、露光領域の露光量が小さい順に、順次
   繰り返すことにより異なる少なくとも２色の着色層を形
   成する工程、 (ｄ2)残余のネガ型感光性塗膜を除去する工程、 (ｅ2)(ｄ2)工程によりネガ型感光性塗膜が除去された基
   板にポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を形成する工程、 (ｆ)該ポジ型若しくはネガ型感光性塗膜に露光量が少な
   くとも３段階に異なる複数の露光領域を形成する工程及
   び (ｇ)該露光領域のポジ型若しくはネガ型感光性塗膜を現
   像して透明導電層を露出させ、次いで着色塗料を電着塗
   装し着色層を形成する操作を、ポジ型感光性塗膜の場合
   には露光領域の露光量が大きい順に、ネガ型感光性塗膜
   の場合には露光領域の露光量が小さい順に順次繰り返す
   ことにより着色層を形成する工程を含むことを特徴とす
   るカラーフィルターの製造法。
4. 【請求項４】 前記(ｃ2)工程の着色層の色相の一つ
   が、黒色若しくは暗色であることを特徴とする請求項３
   記載のカラーフィルターの製造法。