JPH07199109A - ラスタースキャニングシステム - Google Patents
ラスタースキャニングシステムInfo
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- JPH07199109A JPH07199109A JP6240924A JP24092494A JPH07199109A JP H07199109 A JPH07199109 A JP H07199109A JP 6240924 A JP6240924 A JP 6240924A JP 24092494 A JP24092494 A JP 24092494A JP H07199109 A JPH07199109 A JP H07199109A
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- lens
- scanning
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- scan
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 走査線の示差的な彎曲を補正するための光学
素子を利用するラスタースキャナーシステムを提供す
る。 【構成】 本発明によるポリゴン後方の光学装置は、２
つのレンズ及び１つのワブル補正ミラーを有する。第１
のレンズ（９８）は、光ビームを受ける側において凹表
面（１０２）を有し、光ビームがレンズを出る側におい
て球面状凸表面（１００）を有している。第２のレンズ
（９０）は、光ビームを受ける側において副走査方向に
円筒形の凹表面（９４）を有し、光ビームがレンズを出
る側において球面状凸表面（９６）を有している。ま
た、ワブル補正ミラー（９２）は副走査方向に円筒形の
凹表面を有している。これらの光学素子の組合せが、フ
ィールド彎曲Ｆｃを生成し、それによって走査線の示差
的な彎曲を減少させる。
素子を利用するラスタースキャナーシステムを提供す
る。 【構成】 本発明によるポリゴン後方の光学装置は、２
つのレンズ及び１つのワブル補正ミラーを有する。第１
のレンズ（９８）は、光ビームを受ける側において凹表
面（１０２）を有し、光ビームがレンズを出る側におい
て球面状凸表面（１００）を有している。第２のレンズ
（９０）は、光ビームを受ける側において副走査方向に
円筒形の凹表面（９４）を有し、光ビームがレンズを出
る側において球面状凸表面（９６）を有している。ま
た、ワブル補正ミラー（９２）は副走査方向に円筒形の
凹表面を有している。これらの光学素子の組合せが、フ
ィールド彎曲Ｆｃを生成し、それによって走査線の示差
的な彎曲を減少させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ラスタースキャナーに
関し、特に走査線の示差的な彎曲を補償するための光学
素子を利用するラスタースキャナーシステムに関する。
関し、特に走査線の示差的な彎曲を補償するための光学
素子を利用するラスタースキャナーシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】図１を参照すると、従来のラスタースキ
ャナーシステム１０が、光源１２、コリメーター１４、
ポリゴン前方の光学装置１６、スキャニング素子として
の多面体回転ポリゴンミラー１８、ポリゴン後方の光学
装置２０及び感光性媒体２２を利用する。レーザー源で
もよい光源１２が、光ビーム２４を生成し、コリメータ
ー１４及びポリゴン前方の光学装置１６を経て、光ビー
ム２４を回転ポリゴンミラーに送る。コリメーター１４
が光ビーム２４を視準し、ポリゴン前方の光学装置１６
が矢状方向すなわち副走査面において、光ビームを回転
ポリゴンミラー１８上に集める。回転ポリゴン１８が複
数の面２６を有しており、その各々が平面鏡である。回
転ポリゴンミラー１８の面２６は、光ビーム２４を反射
し、反射光２４を回転ポリゴンミラー１８の面２６の反
射点近くの軸回りに回転させる。この反射光ビームは、
ポリゴン後方の光学装置２０を通過して、ラスター入力
スキャナーであるイメージシステムの入力端で資料を走
査するのに利用され、又はイメージシステムの出力部で
静電写真法のドラム（光受容体）のような写真フィルム
もしくは感光性媒体２２を照射するのに使用されること
もできる。
ャナーシステム１０が、光源１２、コリメーター１４、
ポリゴン前方の光学装置１６、スキャニング素子として
の多面体回転ポリゴンミラー１８、ポリゴン後方の光学
装置２０及び感光性媒体２２を利用する。レーザー源で
もよい光源１２が、光ビーム２４を生成し、コリメータ
ー１４及びポリゴン前方の光学装置１６を経て、光ビー
ム２４を回転ポリゴンミラーに送る。コリメーター１４
が光ビーム２４を視準し、ポリゴン前方の光学装置１６
が矢状方向すなわち副走査面において、光ビームを回転
ポリゴンミラー１８上に集める。回転ポリゴン１８が複
数の面２６を有しており、その各々が平面鏡である。回
転ポリゴンミラー１８の面２６は、光ビーム２４を反射
し、反射光２４を回転ポリゴンミラー１８の面２６の反
射点近くの軸回りに回転させる。この反射光ビームは、
ポリゴン後方の光学装置２０を通過して、ラスター入力
スキャナーであるイメージシステムの入力端で資料を走
査するのに利用され、又はイメージシステムの出力部で
静電写真法のドラム（光受容体）のような写真フィルム
もしくは感光性媒体２２を照射するのに使用されること
もできる。
【０００３】ポリゴン後方の光学装置２０は、ＦΘレン
ズと呼ばれる２つの球面レンズ２８及び３０、及びワブ
ル補正ミラー３２を有する。レンズ２８は、光ビームを
受ける側において凹面であり、光ビームがレンズを出る
側において平面である。またレンズ３０は、光ビームを
受ける側において平面であり、光ビームがレンズを出る
側において凸面である。ワブル補正ミラー３２は副走査
平面において凹面円筒形ミラーである。世界的な状況に
おいて、ラスタースキャナーは典型的に特別の設計に適
応させるために多数のレンズ及びミラーを有する。形状
及び／もしくは光学素子の据え付けにおける不可避の不
正確さは、必然的に光受容体上の走査線の質において、
ある異常をもたらす。そのような異常の１つが彎曲であ
る。彎曲は走査線の望ましくない特徴であり、その走査
線は、直線及び一つの中心点回りの彎曲を形成しない。
彎曲線の１例として、図２において走査線３４を示す。
装置の構造における不正確さの型に起因して、彎曲線
は、彎曲自由線に関していずれかの方向にたわんでよ
い。上に凸の彎曲線３４（図２）はフラウンと呼ばれ、
下に凸の彎曲線３６（図３）はスマイルと呼ばれる。典
型的には、レンズを走査している光ビームの中心光線が
レンズの光軸に沿って走査しない時、彎曲が生ずる。レ
ンズの光軸からビームの中心光線が遠ざかるほど、彎曲
線の曲率は大きくなる。
ズと呼ばれる２つの球面レンズ２８及び３０、及びワブ
ル補正ミラー３２を有する。レンズ２８は、光ビームを
受ける側において凹面であり、光ビームがレンズを出る
側において平面である。またレンズ３０は、光ビームを
受ける側において平面であり、光ビームがレンズを出る
側において凸面である。ワブル補正ミラー３２は副走査
平面において凹面円筒形ミラーである。世界的な状況に
おいて、ラスタースキャナーは典型的に特別の設計に適
応させるために多数のレンズ及びミラーを有する。形状
及び／もしくは光学素子の据え付けにおける不可避の不
正確さは、必然的に光受容体上の走査線の質において、
ある異常をもたらす。そのような異常の１つが彎曲であ
る。彎曲は走査線の望ましくない特徴であり、その走査
線は、直線及び一つの中心点回りの彎曲を形成しない。
彎曲線の１例として、図２において走査線３４を示す。
装置の構造における不正確さの型に起因して、彎曲線
は、彎曲自由線に関していずれかの方向にたわんでよ
い。上に凸の彎曲線３４（図２）はフラウンと呼ばれ、
下に凸の彎曲線３６（図３）はスマイルと呼ばれる。典
型的には、レンズを走査している光ビームの中心光線が
レンズの光軸に沿って走査しない時、彎曲が生ずる。レ
ンズの光軸からビームの中心光線が遠ざかるほど、彎曲
線の曲率は大きくなる。
【０００４】また、示差的な彎曲と呼ばれる他の望まし
くない特徴もある。示差的な彎曲は、副走査方向におい
て光ビームが名目上は軸を有さない多ビームラスタース
キャナーにおいて生じる。例えば、図４を参照すると、
もし１本のビーム彎曲線がスマイルであり、他のビーム
彎曲線がフラウンであるとすると、その２つのビーム
は、２つのビーム間の走査方向と交差する間隔が変化す
る２つのライン３８及び３９を生成する。この現象は示
差的な彎曲と呼ばれる。示差的な彎曲は、同形状である
が各走査線上の彎曲量が異なる２本の走査線のような形
態を有することもあれば、上方走査線にスマイルを有し
且つ下方走査線にフラウンを有する２本の走査線である
形態を有することもあることは、注意されるべきことで
ある。走査線の間隔が均一であるようにするために、全
ての走査線を直線に且つ平行にすることが望ましく、示
差的な彎曲は除去されるべきである。
くない特徴もある。示差的な彎曲は、副走査方向におい
て光ビームが名目上は軸を有さない多ビームラスタース
キャナーにおいて生じる。例えば、図４を参照すると、
もし１本のビーム彎曲線がスマイルであり、他のビーム
彎曲線がフラウンであるとすると、その２つのビーム
は、２つのビーム間の走査方向と交差する間隔が変化す
る２つのライン３８及び３９を生成する。この現象は示
差的な彎曲と呼ばれる。示差的な彎曲は、同形状である
が各走査線上の彎曲量が異なる２本の走査線のような形
態を有することもあれば、上方走査線にスマイルを有し
且つ下方走査線にフラウンを有する２本の走査線である
形態を有することもあることは、注意されるべきことで
ある。走査線の間隔が均一であるようにするために、全
ての走査線を直線に且つ平行にすることが望ましく、示
差的な彎曲は除去されるべきである。
【０００５】
【発明の概要】本発明によれば、ラスタースキャナーに
おいてフィールドの反りを生成することによって、２本
の走査線間の示差的な彎曲が実質的に減少される。しか
しながら、フィールドの反りを減少させることが望まし
い。本発明のポリゴン後方の光学装置が、示差的な彎曲
とフィールドの反りの両方を実質的に減少させることが
可能な光学素子を利用する。本発明のポリゴン後方の光
学装置は、２つのレンズと１つのワブル補正ミラーを有
する。第１のレンズは、光ビームを受ける側において凹
表面を有し、光ビームがレンズを射出する側において、
副走査方向に垂直な軸を有する円筒形状（以下、副走査
方向に円筒形状という）の凸表面を有する。第２のレン
ズは、光ビームを受ける側において副走査方向に円筒形
状の凹表面を有し、光ビームがレンズを射出する側にお
いて凸表面を有する。ワブル補正ミラーは副走査方向に
円筒形状の凹表面を有する。
おいてフィールドの反りを生成することによって、２本
の走査線間の示差的な彎曲が実質的に減少される。しか
しながら、フィールドの反りを減少させることが望まし
い。本発明のポリゴン後方の光学装置が、示差的な彎曲
とフィールドの反りの両方を実質的に減少させることが
可能な光学素子を利用する。本発明のポリゴン後方の光
学装置は、２つのレンズと１つのワブル補正ミラーを有
する。第１のレンズは、光ビームを受ける側において凹
表面を有し、光ビームがレンズを射出する側において、
副走査方向に垂直な軸を有する円筒形状（以下、副走査
方向に円筒形状という）の凸表面を有する。第２のレン
ズは、光ビームを受ける側において副走査方向に円筒形
状の凹表面を有し、光ビームがレンズを射出する側にお
いて凸表面を有する。ワブル補正ミラーは副走査方向に
円筒形状の凹表面を有する。
【０００６】
【実施例】図５は、本発明によって提案された示差的な
彎曲を補正する方法を利用したラスタースキャナー４０
の副走査方向すなわち矢状方向の図を示している。ラス
タースキャニングシステム４０は、２本の光ビーム４８
及び５０を射出するための２つのレーザーダイオード４
４及び４６を有するレーザー光源４２を含む。２本の光
ビーム４８及び５０は視準されるためにコリメーター５
２を通過し、それから開口５４を通過する。開口５４は
２本の光ビーム４８と５０を望まれる直径に縮小する。
２本の縮小された光ビーム４８と５０は、回転ポリゴン
ミラーの面５８に入射する前に、ポリゴン前方の光学装
置５６を通過する。単純化するために、回転ポリゴンミ
ラーの面５８は線として示されており、ポリゴンから反
射された光ビームは折り重ねられていない。ポリゴン後
方の光学装置６０は面５８によって反射された２本の光
ビームを受け、ビームが出口孔６４を通過して、それら
の光ビームを光受容体上に写像する。本発明において、
副走査方向に影響を与えるフィールドの反りＦｃを生成
することによって、示差的な彎曲が実質的に減少される
ことが示される。本発明において提案されたフィールド
の反りは、ポリゴン後方の光学装置において使用される
光学素子の１つ、もしくはそれの組合せによって生成さ
れている。ポリゴン後方の光学装置の光学素子によるフ
ィールドの反りの生成は、以下に詳細に論じられる。し
かしながら、本発明を理解するために、示差的な彎曲に
おけるフィールドの反りの効果を学ぶ必要がある。
彎曲を補正する方法を利用したラスタースキャナー４０
の副走査方向すなわち矢状方向の図を示している。ラス
タースキャニングシステム４０は、２本の光ビーム４８
及び５０を射出するための２つのレーザーダイオード４
４及び４６を有するレーザー光源４２を含む。２本の光
ビーム４８及び５０は視準されるためにコリメーター５
２を通過し、それから開口５４を通過する。開口５４は
２本の光ビーム４８と５０を望まれる直径に縮小する。
２本の縮小された光ビーム４８と５０は、回転ポリゴン
ミラーの面５８に入射する前に、ポリゴン前方の光学装
置５６を通過する。単純化するために、回転ポリゴンミ
ラーの面５８は線として示されており、ポリゴンから反
射された光ビームは折り重ねられていない。ポリゴン後
方の光学装置６０は面５８によって反射された２本の光
ビームを受け、ビームが出口孔６４を通過して、それら
の光ビームを光受容体上に写像する。本発明において、
副走査方向に影響を与えるフィールドの反りＦｃを生成
することによって、示差的な彎曲が実質的に減少される
ことが示される。本発明において提案されたフィールド
の反りは、ポリゴン後方の光学装置において使用される
光学素子の１つ、もしくはそれの組合せによって生成さ
れている。ポリゴン後方の光学装置の光学素子によるフ
ィールドの反りの生成は、以下に詳細に論じられる。し
かしながら、本発明を理解するために、示差的な彎曲に
おけるフィールドの反りの効果を学ぶ必要がある。
【０００７】図６は、図５の右（下流）部の出口孔６４
の拡大された透視図である。単純化するために、２本の
光ビーム４８及び５０の中心光線のみが示されている。
フィールドの反りがないと仮定すると、２本の光ビーム
４８と５０が各々ライン７０と７２に沿って２本のライ
ンを走査する。光ビーム４８は、走査出発点ａから走査
終了点ｃまで、走査中間点ｂを通過してライン７０を走
査する。また、光ビーム５０は、走査出発点ｄから走査
終了点ｆまで、走査中間点ｅを通過してライン７２を走
査する。示されるように、点ａ，ｃ，ｄ及びｆから中心
線７４までの距離は、ｂ及びｅから中心線７４までの距
離と比べて短い。換言すると、もし走査線上の各点と中
心線７４の間の距離がその地点の高さと呼ばれるなら
ば、走査線の中央点における高さ７５は走査線の出発及
び終了点における高さ７３よりも大きく、ライン７０と
７２の間に示差的な彎曲がある。図７は、本発明による
ラスタースキャナー４０において使用される副走査方向
に影響を与えるフィールドの反りＦｃの透視図である。
本発明において、副走査平面においてフィールドの反り
Ｆｃを生成することによって、光ビームはフィールドの
反り上に集められる。論議のために、フィールドの反り
Ｆｃが、走査線の走査中央と一致する副走査平面上の光
受容体に共通のラインを有するように設計される。しか
しながら、いかなる示差的な彎曲に対しても要求される
補正に依存して、フィールドの反りＦｃは光受容体平面
を横切るように設計されることができ、または、光受容
体平面から離れるように設計されることができる。図７
において、光ビームはフィールドの反りに合焦し、走査
中央でフィールドの反りＦｃが光受容体平面６２に一致
するため、フィールドの反りＦｃは（図６における）点
ｂ及びｅのような種々の走査線の走査中央に影響を与え
ない。
の拡大された透視図である。単純化するために、２本の
光ビーム４８及び５０の中心光線のみが示されている。
フィールドの反りがないと仮定すると、２本の光ビーム
４８と５０が各々ライン７０と７２に沿って２本のライ
ンを走査する。光ビーム４８は、走査出発点ａから走査
終了点ｃまで、走査中間点ｂを通過してライン７０を走
査する。また、光ビーム５０は、走査出発点ｄから走査
終了点ｆまで、走査中間点ｅを通過してライン７２を走
査する。示されるように、点ａ，ｃ，ｄ及びｆから中心
線７４までの距離は、ｂ及びｅから中心線７４までの距
離と比べて短い。換言すると、もし走査線上の各点と中
心線７４の間の距離がその地点の高さと呼ばれるなら
ば、走査線の中央点における高さ７５は走査線の出発及
び終了点における高さ７３よりも大きく、ライン７０と
７２の間に示差的な彎曲がある。図７は、本発明による
ラスタースキャナー４０において使用される副走査方向
に影響を与えるフィールドの反りＦｃの透視図である。
本発明において、副走査平面においてフィールドの反り
Ｆｃを生成することによって、光ビームはフィールドの
反り上に集められる。論議のために、フィールドの反り
Ｆｃが、走査線の走査中央と一致する副走査平面上の光
受容体に共通のラインを有するように設計される。しか
しながら、いかなる示差的な彎曲に対しても要求される
補正に依存して、フィールドの反りＦｃは光受容体平面
を横切るように設計されることができ、または、光受容
体平面から離れるように設計されることができる。図７
において、光ビームはフィールドの反りに合焦し、走査
中央でフィールドの反りＦｃが光受容体平面６２に一致
するため、フィールドの反りＦｃは（図６における）点
ｂ及びｅのような種々の走査線の走査中央に影響を与え
ない。
【０００８】図８及び図９を参照すると、速い（主）走
査平面（図８）及び副走査平面（図９）における、図５
の右側（下流）部分の出口孔６４の拡大図が示されてい
る。図８及び図９の両方において、単純化するために、
光ビームの中心光線のみが示されている。走査中央点を
除くいかなる点に対しても、光ビームは、それが光受容
体平面６２に到達する前に、フィールドの反り上に合焦
される。例えば、光ビーム４８は、走査出発点におい
て、点ａに合焦する代わりにフィールドの反りＦｃ上の
点７６に合焦し、走査終了点において、点ｃに合焦する
代わりにフィールドの反りＦｃ上の点７８に合焦する。
また、光ビーム５０は、走査出発点において、点ｄに合
焦する代わりにフィールドの反りＦｃ上の点８０に合焦
し、走査終了点において、点ｆに合焦する代わりにフィ
ールドの反りＦｃ上の点８２に合焦する。点７６，７
８，８０及び８２は（図９において）中心線７４に関し
て、各々点ａ，ｃ，ｄ及びｆと同じ高さにある。そのた
め、点７６，７８，８０，８２に合焦する光ビームが光
受容体平面６２に到達するとき、それらの点は、中心線
７４に関して（図９の）点ａ，ｃ，ｄ及びｆと比較する
と、より高い位置に位置するスポットａ’，ｃ’，ｄ’
及びｆ’を生成する。
査平面（図８）及び副走査平面（図９）における、図５
の右側（下流）部分の出口孔６４の拡大図が示されてい
る。図８及び図９の両方において、単純化するために、
光ビームの中心光線のみが示されている。走査中央点を
除くいかなる点に対しても、光ビームは、それが光受容
体平面６２に到達する前に、フィールドの反り上に合焦
される。例えば、光ビーム４８は、走査出発点におい
て、点ａに合焦する代わりにフィールドの反りＦｃ上の
点７６に合焦し、走査終了点において、点ｃに合焦する
代わりにフィールドの反りＦｃ上の点７８に合焦する。
また、光ビーム５０は、走査出発点において、点ｄに合
焦する代わりにフィールドの反りＦｃ上の点８０に合焦
し、走査終了点において、点ｆに合焦する代わりにフィ
ールドの反りＦｃ上の点８２に合焦する。点７６，７
８，８０及び８２は（図９において）中心線７４に関し
て、各々点ａ，ｃ，ｄ及びｆと同じ高さにある。そのた
め、点７６，７８，８０，８２に合焦する光ビームが光
受容体平面６２に到達するとき、それらの点は、中心線
７４に関して（図９の）点ａ，ｃ，ｄ及びｆと比較する
と、より高い位置に位置するスポットａ’，ｃ’，ｄ’
及びｆ’を生成する。
【０００９】光ビームが走査線に沿って走査し、光ビー
ムが走査中央に近づくと、フィールドの反りはスポット
の高さをわずかだけ変化させる。結果として、大きな彎
曲補正を必要としない走査中央近くのスポットは、高さ
においてわずかしか変化しない。光ビームが走査中央か
ら離れるように移動すると、フィールドの反りＦｃと光
受容体平面６２の間の距離は大きくなる。大きな補正を
必要としない走査中央近くのスポットは、高さにおいて
わずかしか変化せず、光ビームが走査中央から離れるよ
うに移動するに従って、より大きな補正を必要とする走
査終了点近くのスポットは、高さにおいてより大きな変
化をうける。そのため、フィールドの反りＦｃを創造す
ることによって、ポイントの高さは必要に応じて増加さ
れることができる。図１０を参照すると、走査の中央ｂ
及びｆの高さ７５が変化されないため、走査出発点ａ’
及びｅ’の高さ７３’もしくは走査終了点ｃ’及びｄ’
の高さ７３’と比較すると、走査中央点ｂ及びｆ間の高
さ７５との違いが減少され、従って、示差的な彎曲が減
少する。そのため、フィールドの反りの適切な設計によ
って、示差的な彎曲が実質的に減少されることが可能で
ある。図１０は、フィールドの反りを有する同じラスタ
ースキャニングシステムにおけるライン３８’及び３
９’の間の減少された示差的な彎曲を示す。
ムが走査中央に近づくと、フィールドの反りはスポット
の高さをわずかだけ変化させる。結果として、大きな彎
曲補正を必要としない走査中央近くのスポットは、高さ
においてわずかしか変化しない。光ビームが走査中央か
ら離れるように移動すると、フィールドの反りＦｃと光
受容体平面６２の間の距離は大きくなる。大きな補正を
必要としない走査中央近くのスポットは、高さにおいて
わずかしか変化せず、光ビームが走査中央から離れるよ
うに移動するに従って、より大きな補正を必要とする走
査終了点近くのスポットは、高さにおいてより大きな変
化をうける。そのため、フィールドの反りＦｃを創造す
ることによって、ポイントの高さは必要に応じて増加さ
れることができる。図１０を参照すると、走査の中央ｂ
及びｆの高さ７５が変化されないため、走査出発点ａ’
及びｅ’の高さ７３’もしくは走査終了点ｃ’及びｄ’
の高さ７３’と比較すると、走査中央点ｂ及びｆ間の高
さ７５との違いが減少され、従って、示差的な彎曲が減
少する。そのため、フィールドの反りの適切な設計によ
って、示差的な彎曲が実質的に減少されることが可能で
ある。図１０は、フィールドの反りを有する同じラスタ
ースキャニングシステムにおけるライン３８’及び３
９’の間の減少された示差的な彎曲を示す。
【００１０】しかしながら、光ビームがフィールドの反
り上に焦点を合わせるとき、光ビームが光受容体平面に
到達する時までに、光受容体平面上に生成されたスポッ
トは焦点がぼかされるが、フィールドの反りが光受容体
平面に非常に近いと、焦点ぼけはごく僅かであることは
注意すべきである。副走査方向に影響を与えるフィール
ドの反りが主走査平面において光ビームに影響を与え
ず、そのために主走査平面における走査出発および走査
終了が影響を受けないことも注意すべきである。もし２
本の走査線が同じ形の彎曲を有するとすれば、本発明の
フィールドの反りは、示差的な彎曲を減少することを可
能にする。もし両方の走査線がフラウンもしくはスマイ
ルの彎曲を有すれば、両光ビームが光軸の一方にあり、
そのため、２本の走査線間の示差的な彎曲を減少させる
方向に光ビームが補正されることを意味する。図５に戻
って、フィールドの反りはポリゴン後方の光学装置６０
の光学素子によって生成される。従来技術のレンズ３０
及びワブル補正ミラー３２（図１）をレンズ９０及びワ
ブル補正ミラー９２に置き換えることによって、副走査
方向に影響を与えるフィールドの反りが生成されること
が可能である。ワブル補正ミラー３２及びワブル補正ミ
ラー９２間の差異のみが、２つのミラーの半径である。
レンズ９０と関連するワブル補正ミラー９２に対する適
切な半径を選択することによって、適切なフィールドの
反りが生成されることが可能となる。光ビームを受ける
レンズ９０の側面９４が、副走査平面において円筒形で
あり、主走査平面において平面であって、光ビームがレ
ンズを射出する側面９６は球面状である。副走査方向に
円筒形の表面９４は凹面であり、球面状表面９６は凸面
である。ワブル補正ミラー９２は副走査方向に円筒形の
凹面ミラーである。レンズ９０とワブル補正ミラー９２
の組合せは副走査方向に影響を与えるフィールドの反り
の望ましい量を生成する。
り上に焦点を合わせるとき、光ビームが光受容体平面に
到達する時までに、光受容体平面上に生成されたスポッ
トは焦点がぼかされるが、フィールドの反りが光受容体
平面に非常に近いと、焦点ぼけはごく僅かであることは
注意すべきである。副走査方向に影響を与えるフィール
ドの反りが主走査平面において光ビームに影響を与え
ず、そのために主走査平面における走査出発および走査
終了が影響を受けないことも注意すべきである。もし２
本の走査線が同じ形の彎曲を有するとすれば、本発明の
フィールドの反りは、示差的な彎曲を減少することを可
能にする。もし両方の走査線がフラウンもしくはスマイ
ルの彎曲を有すれば、両光ビームが光軸の一方にあり、
そのため、２本の走査線間の示差的な彎曲を減少させる
方向に光ビームが補正されることを意味する。図５に戻
って、フィールドの反りはポリゴン後方の光学装置６０
の光学素子によって生成される。従来技術のレンズ３０
及びワブル補正ミラー３２（図１）をレンズ９０及びワ
ブル補正ミラー９２に置き換えることによって、副走査
方向に影響を与えるフィールドの反りが生成されること
が可能である。ワブル補正ミラー３２及びワブル補正ミ
ラー９２間の差異のみが、２つのミラーの半径である。
レンズ９０と関連するワブル補正ミラー９２に対する適
切な半径を選択することによって、適切なフィールドの
反りが生成されることが可能となる。光ビームを受ける
レンズ９０の側面９４が、副走査平面において円筒形で
あり、主走査平面において平面であって、光ビームがレ
ンズを射出する側面９６は球面状である。副走査方向に
円筒形の表面９４は凹面であり、球面状表面９６は凸面
である。ワブル補正ミラー９２は副走査方向に円筒形の
凹面ミラーである。レンズ９０とワブル補正ミラー９２
の組合せは副走査方向に影響を与えるフィールドの反り
の望ましい量を生成する。
【００１１】しかしながら、もしフィールドの反り上の
半径がより小さくなれば、より大きなスポット焦点ぼけ
を犠牲にして示差的な彎曲を補正することができる。ス
ポット焦点ぼけが許容範囲内にある限り、フィールドの
反りが用いられることができる。しかしながら、もしス
ポット焦点ぼけが許容範囲外になると、フィールドの反
りの半径は、フィールドの反りと光受容体平面の間の距
離ｄ（図７）を減少するために、増加されるべきであ
る。再び図５を参照すると、示差的な彎曲を補正し、フ
ィールドの反りを減少するための１つのアプローチは、
レンズ２８（図１）をレンズ９８に置き換えることであ
る。レンズ９８は、（図１の）レンズ２８の平面側に、
副走査方向に円筒形の凸面１００を付け加えたレンズで
ある。レンズ９８は、光ビームを受ける側に球面状凹面
１０２を有し、且つ、光ビームがレンズを射出する側に
副走査方向に円筒形の凸面１００を有する。レンズ９８
の球面状表面１０２及びレンズ９０の球面状表面９６
も、円筒形状に設計されることができることは注意すべ
きことである。レンズ９０及びワブル補正ミラー９２
は、副走査方向に影響を与えるフィールドの反りを加え
ることによって、示差的な彎曲を補正するよう設計され
ることが可能である。しかしながら、レンズ９８の副走
査方向に円筒形の凹面１００は、示差的な彎曲と副走査
方向に影響を与えるフィールドの反りの同時になされる
補正を許容するラスタースキャナーの設計において冗長
な自由度を提供する。
半径がより小さくなれば、より大きなスポット焦点ぼけ
を犠牲にして示差的な彎曲を補正することができる。ス
ポット焦点ぼけが許容範囲内にある限り、フィールドの
反りが用いられることができる。しかしながら、もしス
ポット焦点ぼけが許容範囲外になると、フィールドの反
りの半径は、フィールドの反りと光受容体平面の間の距
離ｄ（図７）を減少するために、増加されるべきであ
る。再び図５を参照すると、示差的な彎曲を補正し、フ
ィールドの反りを減少するための１つのアプローチは、
レンズ２８（図１）をレンズ９８に置き換えることであ
る。レンズ９８は、（図１の）レンズ２８の平面側に、
副走査方向に円筒形の凸面１００を付け加えたレンズで
ある。レンズ９８は、光ビームを受ける側に球面状凹面
１０２を有し、且つ、光ビームがレンズを射出する側に
副走査方向に円筒形の凸面１００を有する。レンズ９８
の球面状表面１０２及びレンズ９０の球面状表面９６
も、円筒形状に設計されることができることは注意すべ
きことである。レンズ９０及びワブル補正ミラー９２
は、副走査方向に影響を与えるフィールドの反りを加え
ることによって、示差的な彎曲を補正するよう設計され
ることが可能である。しかしながら、レンズ９８の副走
査方向に円筒形の凹面１００は、示差的な彎曲と副走査
方向に影響を与えるフィールドの反りの同時になされる
補正を許容するラスタースキャナーの設計において冗長
な自由度を提供する。
【図１】従来技術のラスター出力スキャナーの上面図。
【図２】フラウンと呼ばれる上に凸の走査彎曲線。
【図３】スマイルと呼ばれる下に凸の走査彎曲線。
【図４】２本の走査線間の示差的な彎曲。
【図５】本発明によるラスター出力スキャナーの副走査
方向すなわち矢状方向図。
方向すなわち矢状方向図。
【図６】図５の右側（下流）出口孔６４部分における拡
大された透視図。
大された透視図。
【図７】本発明のラスタースキャナーにおいて使用され
る主走査方向に影響を与えるフィールドの反りの透視
図。
る主走査方向に影響を与えるフィールドの反りの透視
図。
【図８】図５の右側（下流）出口孔６４部分の主走査平
面における拡大図。
面における拡大図。
【図９】図５の右側（下流）出口孔６４部分の副走査平
面における拡大図。
面における拡大図。
【図１０】フィールドの反りにより減少された２本の走
査線間の示差的な彎曲。
査線間の示差的な彎曲。
４０ ラスタースキャニングシステム ４２ レーザー光源 ５２ コリメーター ５４ 開口 ５６ ポリゴン前方の光学装置 ６０ ポリゴン後方の光学装置 ６４ 出口孔 ９０ レンズ ９２ ワブル補正ミラー ９８ レンズ
Claims (1)
- 【請求項１】 ラスタースキャニングシステムにおい
て、 各光源が経路に沿って光ビームを放出する少なくとも２
つの光源；媒体；前記少なくとも２つの光源からの光ビ
ームの経路に配置され、前記媒体を横切る接平面におい
て光ビームを走査するよう構築され配置されているスキ
ャニング手段；前記スキャニング手段からの光ビームの
経路に配置され、副走査方向に円筒形の凹面及び球面状
凸面を有している光学手段；前記光学手段からの光ビー
ムの経路において配置され、光ビームを前記媒体上に反
射するための、副走査方向に円筒形の凹面を有している
ワブル補正ミラー；前記副走査方向に円筒形の凹面が前
記スキャニング手段から光ビームを受け、光ビームが前
記球面状凸面から前記ワブル補正ミラーへ射出するよう
に配置されている前記光学手段；及び光ビーム間の示差
的な彎曲を実質的に減少するためのフィールドの反りを
生成するために、相関的に構築され配置されている前記
光学手段及び前記ワブル補正ミラー、を有することを特
徴とするラスタースキャニングシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13564193A | 1993-10-14 | 1993-10-14 | |
| US08/135641 | 1993-10-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07199109A true JPH07199109A (ja) | 1995-08-04 |
Family
ID=22468981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6240924A Ceased JPH07199109A (ja) | 1993-10-14 | 1994-10-05 | ラスタースキャニングシステム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5517330A (ja) |
| EP (1) | EP0649043B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07199109A (ja) |
| DE (1) | DE69419689T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6833939B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-12-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning method and light scanning device |
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| US10634271B2 (en) | 2016-02-04 | 2020-04-28 | Felix Sorkin | Bayonet duct coupler assembly for post-tensioned concrete member |
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-
1994
- 1994-10-05 JP JP6240924A patent/JPH07199109A/ja not_active Ceased
- 1994-10-14 EP EP94307574A patent/EP0649043B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-14 DE DE69419689T patent/DE69419689T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-25 US US08/329,011 patent/US5517330A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5517330A (en) | 1996-05-14 |
| DE69419689T2 (de) | 1999-12-23 |
| EP0649043A1 (en) | 1995-04-19 |
| DE69419689D1 (de) | 1999-09-02 |
| EP0649043B1 (en) | 1999-07-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031222 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20040426 |