JPH07207426A - プラズマ反応装置のガスラインへのガス漏れを検査する方法及び装置 - Google Patents
プラズマ反応装置のガスラインへのガス漏れを検査する方法及び装置Info
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- JPH07207426A JPH07207426A JP6130437A JP13043794A JPH07207426A JP H07207426 A JPH07207426 A JP H07207426A JP 6130437 A JP6130437 A JP 6130437A JP 13043794 A JP13043794 A JP 13043794A JP H07207426 A JPH07207426 A JP H07207426A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】プラズマ反応装置への窒素或いは空気の漏れを
測定する方法を提供すること。 【構成】プラズマ反応装置（１０）と反応装置へガスを
導入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法で
あって、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測
定し、反応装置（１０）への試験ガスの既知の増加分を
導入し、前記反応装置への検査ガスの既知の増加の各導
入後、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測定
し、導入ガスの増加に対する強度の読み取りから生じる
曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分析を行って、強度
がゼロに等しいガスの値であって、そのガスの値が反応
装置（１０）へ漏れているガスの量であることを決定す
るステップを有する方法。また装置についても開示され
ている。
測定する方法を提供すること。 【構成】プラズマ反応装置（１０）と反応装置へガスを
導入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法で
あって、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測
定し、反応装置（１０）への試験ガスの既知の増加分を
導入し、前記反応装置への検査ガスの既知の増加の各導
入後、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測定
し、導入ガスの増加に対する強度の読み取りから生じる
曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分析を行って、強度
がゼロに等しいガスの値であって、そのガスの値が反応
装置（１０）へ漏れているガスの量であることを決定す
るステップを有する方法。また装置についても開示され
ている。
Description
【０００１】
【発明の利用分野】本発明は、ガスラインにおけるガス
漏れの測定に関し、特に、プラズマ反応装置のガスライ
ンへの窒素或いは空気の漏れを測定する方法及び装置に
関する。
漏れの測定に関し、特に、プラズマ反応装置のガスライ
ンへの窒素或いは空気の漏れを測定する方法及び装置に
関する。
【０００２】
【発明の背景】プラズマ反応装置の本体へのガス漏れを
検出することは簡単である。「リークバック」検査は真
空プロセスチャンバーへのガス漏れを測定する。もし他
の全てのガス供給源が接続されないなら、漏れは空気に
よるものであることは明らかである。しかし、ラインが
反応チャンバーへプロセスガスを供給していると、ガス
ラインにおける窒素ガス或いは空気の漏れを診断及び測
定するのは大変困難な問題である。ガス漏れが有るので
はないかと思われると、適当なガスの供給が止められ、
ガスラインが排気され、「リークバック」測定が、装置
上で供給源へ戻る全ての通路でなされる。これに伴う問
題は、典型的なウエーハ製造工場においては、ガス供給
ラインが５０から１００フィートの長さに及んでいるこ
とである。このようなラインの完全な排気及びガス抜き
には多くの時間がかかる。排気ラインの特別なリークバ
ック値が実際のリークによるものか、或いはラインの連
続的なガズ抜きによる仮想のリークによるものであるか
を決定することは、しばしば困難である。
検出することは簡単である。「リークバック」検査は真
空プロセスチャンバーへのガス漏れを測定する。もし他
の全てのガス供給源が接続されないなら、漏れは空気に
よるものであることは明らかである。しかし、ラインが
反応チャンバーへプロセスガスを供給していると、ガス
ラインにおける窒素ガス或いは空気の漏れを診断及び測
定するのは大変困難な問題である。ガス漏れが有るので
はないかと思われると、適当なガスの供給が止められ、
ガスラインが排気され、「リークバック」測定が、装置
上で供給源へ戻る全ての通路でなされる。これに伴う問
題は、典型的なウエーハ製造工場においては、ガス供給
ラインが５０から１００フィートの長さに及んでいるこ
とである。このようなラインの完全な排気及びガス抜き
には多くの時間がかかる。排気ラインの特別なリークバ
ック値が実際のリークによるものか、或いはラインの連
続的なガズ抜きによる仮想のリークによるものであるか
を決定することは、しばしば困難である。
【０００３】この問題を分析する技術的方法がある。Ｒ
ＧＡ（Residual Gas Analyzer:残留ガス分析器）はあら
ゆるプロセスガス中の酸素或いは窒素ガスの濃度を検出
する。しかし、このような装置は高価であり、ウエーハ
製造工場においては、日常的には利用できないし、また
反応装置へ特別に取付けらけなければならない。分光測
光技術は検査する他の方法である。反応装置のプラズマ
によって励起されると、ガスのいろいろな種が特定の波
長で放射されることは知られている。原理的には、特定
波長の強度測定が種の量を決定するために用いられる。
実際に、測定には「終点検出器」が備えられているの
で、分光強度測定が殆どのプラズマ反応装置で容易に得
られる。これらは、分光器、或いは特定波長の強度を測
定するために適切に接続される単一波長のバンドバスフ
ィルターである。分光強度測定は容易に利用できるが、
Ｘの波長の強度Ｉ［Ｘ］から種「Ｘ」の濃度の決定は簡
単なことではない。問題は、「Ｘ」の濃度に加えて、あ
らゆる特別な時間でのＩ［Ｘ］の値が、検出器の利得設
定；Ｉ［Ｘ］測定が行われるウインドウの分光トランス
ミッタンス、これは反応器の状態（ウインドウ上に取り
付けられた残留物）と共に変化する；プラズマ中の他の
ガス、圧力及びＲＦ状態の関数であるので、「Ｘ」に対
するＩ［Ｘ］の標準測定曲線を得て、プロセスガスへの
ガスＸの漏れの大きさを決定する方法がない。
ＧＡ（Residual Gas Analyzer:残留ガス分析器）はあら
ゆるプロセスガス中の酸素或いは窒素ガスの濃度を検出
する。しかし、このような装置は高価であり、ウエーハ
製造工場においては、日常的には利用できないし、また
反応装置へ特別に取付けらけなければならない。分光測
光技術は検査する他の方法である。反応装置のプラズマ
によって励起されると、ガスのいろいろな種が特定の波
長で放射されることは知られている。原理的には、特定
波長の強度測定が種の量を決定するために用いられる。
実際に、測定には「終点検出器」が備えられているの
で、分光強度測定が殆どのプラズマ反応装置で容易に得
られる。これらは、分光器、或いは特定波長の強度を測
定するために適切に接続される単一波長のバンドバスフ
ィルターである。分光強度測定は容易に利用できるが、
Ｘの波長の強度Ｉ［Ｘ］から種「Ｘ」の濃度の決定は簡
単なことではない。問題は、「Ｘ」の濃度に加えて、あ
らゆる特別な時間でのＩ［Ｘ］の値が、検出器の利得設
定；Ｉ［Ｘ］測定が行われるウインドウの分光トランス
ミッタンス、これは反応器の状態（ウインドウ上に取り
付けられた残留物）と共に変化する；プラズマ中の他の
ガス、圧力及びＲＦ状態の関数であるので、「Ｘ」に対
するＩ［Ｘ］の標準測定曲線を得て、プロセスガスへの
ガスＸの漏れの大きさを決定する方法がない。
【０００４】
【発明の概要】本発明は、ガス漏れ、特にプラズマ反応
装置への空気及び窒素ガスの漏れを検査する方法に関す
る。不必要なガスの未知の量が反応装置へ漏れると、こ
の未知の量を決定する必要がある。本発明の検査装置に
おいて、空気や窒素ガスのガス漏れは、空気や窒素ガス
に対して測定されるマスフロー制御装置（MFC)を介して
導入された。プラズマ反応光放射の強度が測定された。
測定された信号は、３３４nmバンドバスフィルタを介し
て得られた（50cm He/100 He＋CF4 或いはCHF3)プラズ
マの３３４nm放射ライン(I334)及び特定の利得を有して
取り付けられた光ダオードの強度であった。窒素ガス
（或いは空気）の既知量の追加増量が反応装置と追加読
み取りに加えられた。読み取りによって得られた
［Ｎ2 ］曲線に対するI334に関する回帰分析が行われ
た。それにより生じた曲線は単調であり、I334＝ａ＋ｂ
［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 の２次式により表される。この
式の解がI334＝０に対して求められる。ここで［Ｎ2 ］
の絶対値は装置へ連続して漏れている窒素ガスの初期の
量である。プラズマ反応装置とその反応装置へガスを導
入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法は、
プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装置へ
の検査ガスの既知の増加分を導入し、前記反応装置への
検査ガスの既知の増加分の導入後、プラズマ反応の光放
射の強度を測定し、導入ガスの増加分に対する強度の読
み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分
析を行って、強度がゼロに等しいガスの値の絶対値がガ
スラインを通して反応装置へ漏れ続けているガス量であ
ることを決定するステップを有する方法。
装置への空気及び窒素ガスの漏れを検査する方法に関す
る。不必要なガスの未知の量が反応装置へ漏れると、こ
の未知の量を決定する必要がある。本発明の検査装置に
おいて、空気や窒素ガスのガス漏れは、空気や窒素ガス
に対して測定されるマスフロー制御装置（MFC)を介して
導入された。プラズマ反応光放射の強度が測定された。
測定された信号は、３３４nmバンドバスフィルタを介し
て得られた（50cm He/100 He＋CF4 或いはCHF3)プラズ
マの３３４nm放射ライン(I334)及び特定の利得を有して
取り付けられた光ダオードの強度であった。窒素ガス
（或いは空気）の既知量の追加増量が反応装置と追加読
み取りに加えられた。読み取りによって得られた
［Ｎ2 ］曲線に対するI334に関する回帰分析が行われ
た。それにより生じた曲線は単調であり、I334＝ａ＋ｂ
［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 の２次式により表される。この
式の解がI334＝０に対して求められる。ここで［Ｎ2 ］
の絶対値は装置へ連続して漏れている窒素ガスの初期の
量である。プラズマ反応装置とその反応装置へガスを導
入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法は、
プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装置へ
の検査ガスの既知の増加分を導入し、前記反応装置への
検査ガスの既知の増加分の導入後、プラズマ反応の光放
射の強度を測定し、導入ガスの増加分に対する強度の読
み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分
析を行って、強度がゼロに等しいガスの値の絶対値がガ
スラインを通して反応装置へ漏れ続けているガス量であ
ることを決定するステップを有する方法。
【０００５】添付図面及び特許請求の範囲に記載された
新規な特徴に関連して考慮すれば、本発明の目的と共
に、発明により代表される技術的利点は以下の本発明の
好適な実施例の記載から明らかになるであろう。
新規な特徴に関連して考慮すれば、本発明の目的と共
に、発明により代表される技術的利点は以下の本発明の
好適な実施例の記載から明らかになるであろう。
【０００６】
【実施例】本発明は、プロセスチャンバー、ガスライン
への、特にプラズマ反応装置へのガス漏れを検知し、測
定する方法に関する。「標準的な追加」方法と呼ばれる
技術がある。この技術は、ガスＸの与えられた量を含ん
でいる検査装置へガスＸの「スパイク」の追加により、
「本来の場所」にキャリブレーション・カーブ（Calibr
ation curve)を発生することができるという、図１に示
された原理による。Ｉ［Ｘ］＝０への戻りを推測するこ
とによって、２点間の絶対値が検査装置のＸの初期の濃
度である。この技術に伴う問題は、キャリブレーション
・カーブが採用された濃度の範囲にわたってリニヤでな
ければならないことが必要であることである。これは、
本発明により解決される問題にとっては特に正しくな
い。図２は、I334と［Ｎ2 ］の関係が非直線性であるこ
とを示している。曲線Ａにおいて、反応装置は５０sccm
Ｏ2 ＋１００sccmＨｅを含んでいた。３０，６０，９
０，１５０及び２１０sccmの量の窒素の増加分が、導入
された。その結果は曲線Ａであった。窒素ガスの同量が
５０sccmＯ2 ＋１００sccmＨｅ＋１００sccmＣＦ4 を含
む反応装置に導入された。それにより生じた曲線Ｂは全
く相違している。I334と［Ｎ2 ］の非直線性の関係は古
典的な、そして使用形態における「標準的な追加」方法
の使用を妨げている。
への、特にプラズマ反応装置へのガス漏れを検知し、測
定する方法に関する。「標準的な追加」方法と呼ばれる
技術がある。この技術は、ガスＸの与えられた量を含ん
でいる検査装置へガスＸの「スパイク」の追加により、
「本来の場所」にキャリブレーション・カーブ（Calibr
ation curve)を発生することができるという、図１に示
された原理による。Ｉ［Ｘ］＝０への戻りを推測するこ
とによって、２点間の絶対値が検査装置のＸの初期の濃
度である。この技術に伴う問題は、キャリブレーション
・カーブが採用された濃度の範囲にわたってリニヤでな
ければならないことが必要であることである。これは、
本発明により解決される問題にとっては特に正しくな
い。図２は、I334と［Ｎ2 ］の関係が非直線性であるこ
とを示している。曲線Ａにおいて、反応装置は５０sccm
Ｏ2 ＋１００sccmＨｅを含んでいた。３０，６０，９
０，１５０及び２１０sccmの量の窒素の増加分が、導入
された。その結果は曲線Ａであった。窒素ガスの同量が
５０sccmＯ2 ＋１００sccmＨｅ＋１００sccmＣＦ4 を含
む反応装置に導入された。それにより生じた曲線Ｂは全
く相違している。I334と［Ｎ2 ］の非直線性の関係は古
典的な、そして使用形態における「標準的な追加」方法
の使用を妨げている。
【０００７】読み取りにより生じた［Ｎ2 ］に対するI
334の回帰分析、即ち 図２の曲線ＡとＢは単調であ
り、I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 の２次式の関
係により表すことができる。I334＝０に対して、この式
の解が求められる。ここで−１が乗じられた［Ｎ2 ］の
値が、装置へ漏れる窒素ガスの量である。検査結果の正
確性と解釈に関する２つのファクターがある。第１の基
本的な考察は、検査結果がデータポイントのない領域へ
のデータの外挿に基づいていることである。増加のステ
ップの大きさに関連して、考慮されるべき可能性のある
誤り源は、検査の場合に加えられるべき関係する窒素ガ
スの量である。もし、反応装置へ挿入される検査ガスの
増加分が初期の量に較べて小さいならば（図３ａ）、回
帰作業は簡単であるが、I334＝０での２点間の外挿は回
帰の係数に極めて依存する。もし、挿入されるガスの増
加分が初期の量に較べて大きいならば（図３ｂ）、回帰
はより不正確になる。増加分のステップが「漏れ」の値
に近似していると、正確性は絶対値の約５〜１０％で最
大となる。例えば、漏れ値が３０sccmＮ2 ならば、１
０，２０及び３０sccmの追加が最も正確性を与える。実
際の漏れの場合のように、全漏れ量が知られていない場
合、任意の量の追加が先ず行われなければならない。そ
れにより生じた外挿が［Ｎ2 ］に対する値を与える場
合、処理は、より適切に間隔をあけた挿入ガスを追加し
て再び行われる。
334の回帰分析、即ち 図２の曲線ＡとＢは単調であ
り、I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 の２次式の関
係により表すことができる。I334＝０に対して、この式
の解が求められる。ここで−１が乗じられた［Ｎ2 ］の
値が、装置へ漏れる窒素ガスの量である。検査結果の正
確性と解釈に関する２つのファクターがある。第１の基
本的な考察は、検査結果がデータポイントのない領域へ
のデータの外挿に基づいていることである。増加のステ
ップの大きさに関連して、考慮されるべき可能性のある
誤り源は、検査の場合に加えられるべき関係する窒素ガ
スの量である。もし、反応装置へ挿入される検査ガスの
増加分が初期の量に較べて小さいならば（図３ａ）、回
帰作業は簡単であるが、I334＝０での２点間の外挿は回
帰の係数に極めて依存する。もし、挿入されるガスの増
加分が初期の量に較べて大きいならば（図３ｂ）、回帰
はより不正確になる。増加分のステップが「漏れ」の値
に近似していると、正確性は絶対値の約５〜１０％で最
大となる。例えば、漏れ値が３０sccmＮ2 ならば、１
０，２０及び３０sccmの追加が最も正確性を与える。実
際の漏れの場合のように、全漏れ量が知られていない場
合、任意の量の追加が先ず行われなければならない。そ
れにより生じた外挿が［Ｎ2 ］に対する値を与える場
合、処理は、より適切に間隔をあけた挿入ガスを追加し
て再び行われる。
【０００８】第２の考察は、空気或いは窒素ガスが標準
追加ステップのために用いられるかどうかである。それ
により生じた値が「窒素ガスと同等」な漏れに換算して
検討されるべきである。これは、処理は、漏れの源とし
ての空気（７８パーセントの窒素）と純粋の窒素ガスの
間では区別することができないという事実から生じる。
その結果が与えられた窒素ガスの漏れ率に換算して検討
されるかぎり、この率（Ｒ）が純粋の窒素ガスからか、
或いは空気の漏れのＲ／0.78からであるかどうかの判断
がなされる。図４に実験結果が示されている。図４は、
基本Ｏ2/Ｈｅのプラズマ（３００ＷＲＦ，2.0 トール）
の流れ、Ｎ2 （或いは空気）漏れが出ているプロセスガ
ス、強制的に漏らしたガスの割合と性質、測定された漏
れの割合と型（既知の形式の漏れガスに一致した）、回
帰のＲ2 値、及び用いられた検査ガスの型の表である。
図４の作表データは、処理が試験ガスとして空気か窒素
ガスで、１０％よりよい正確性で行われることができる
ことを示している。実証されたＬＯＤ（Limitof Detect
ion:検出の限界）は２％であるが、これは最終的なＬＯ
Ｄではない。
追加ステップのために用いられるかどうかである。それ
により生じた値が「窒素ガスと同等」な漏れに換算して
検討されるべきである。これは、処理は、漏れの源とし
ての空気（７８パーセントの窒素）と純粋の窒素ガスの
間では区別することができないという事実から生じる。
その結果が与えられた窒素ガスの漏れ率に換算して検討
されるかぎり、この率（Ｒ）が純粋の窒素ガスからか、
或いは空気の漏れのＲ／0.78からであるかどうかの判断
がなされる。図４に実験結果が示されている。図４は、
基本Ｏ2/Ｈｅのプラズマ（３００ＷＲＦ，2.0 トール）
の流れ、Ｎ2 （或いは空気）漏れが出ているプロセスガ
ス、強制的に漏らしたガスの割合と性質、測定された漏
れの割合と型（既知の形式の漏れガスに一致した）、回
帰のＲ2 値、及び用いられた検査ガスの型の表である。
図４の作表データは、処理が試験ガスとして空気か窒素
ガスで、１０％よりよい正確性で行われることができる
ことを示している。実証されたＬＯＤ（Limitof Detect
ion:検出の限界）は２％であるが、これは最終的なＬＯ
Ｄではない。
【０００９】最終的なＬＯＤに関していえば、ベースラ
インの修正が考慮されなければならない。これは、Ｎ2
放射ラインが広帯域プラズマ放出スペクトラムの頂にあ
るという問題を提起している。図１に示されるように、
これは、［Ｎ2 ］のあらゆるレベルで、I334の値がＩ
baselineによって増加されるであろうこと意味してい
る。従って、装置内にＮ2 のぜんぜん存在していない場
合でさえ、初期のキャリブレーションは「ベースライン
等価窒素フロー」を生じるであろう。もし広帯域フィル
ターの代わりに、分光計がこの処理に用いられるなら、
この誤り源は除くことができる。従って、I334の測定に
加えて、Ｉbaselineの値は、例えば３２０及び３４０nm
で計測され得る。追加された［Ｎ2 ］に対して（I334−
Ｉbaseline）の値で発生された初期のキャリブレーショ
ンで、ＬＯＤは意味のある減少が得られる。本発明の方
法は、ガスが放出状態に励起されるあらゆるプラズマ反
応装置に用いられる（エッチャー、堆積、ｕＷ、ＥＣ
Ｒ．．．）。他の非プラズマ処理装置においては、本方
法は「インライン」検査セルを用いることによって実施
され得る。この検査セルはそれ自身のＲＦ励起と分光計
測能力を与えなければならない。この処理は、よく起こ
る危険を伴わないテストをするために完全に自動化され
得る。
インの修正が考慮されなければならない。これは、Ｎ2
放射ラインが広帯域プラズマ放出スペクトラムの頂にあ
るという問題を提起している。図１に示されるように、
これは、［Ｎ2 ］のあらゆるレベルで、I334の値がＩ
baselineによって増加されるであろうこと意味してい
る。従って、装置内にＮ2 のぜんぜん存在していない場
合でさえ、初期のキャリブレーションは「ベースライン
等価窒素フロー」を生じるであろう。もし広帯域フィル
ターの代わりに、分光計がこの処理に用いられるなら、
この誤り源は除くことができる。従って、I334の測定に
加えて、Ｉbaselineの値は、例えば３２０及び３４０nm
で計測され得る。追加された［Ｎ2 ］に対して（I334−
Ｉbaseline）の値で発生された初期のキャリブレーショ
ンで、ＬＯＤは意味のある減少が得られる。本発明の方
法は、ガスが放出状態に励起されるあらゆるプラズマ反
応装置に用いられる（エッチャー、堆積、ｕＷ、ＥＣ
Ｒ．．．）。他の非プラズマ処理装置においては、本方
法は「インライン」検査セルを用いることによって実施
され得る。この検査セルはそれ自身のＲＦ励起と分光計
測能力を与えなければならない。この処理は、よく起こ
る危険を伴わないテストをするために完全に自動化され
得る。
【００１０】図５は、基本的な反応装置と放射検出装置
を示している。反応装置１０は、多ポートガスマニフォ
ールド１２に接続されたガスライン入力ポート１１を有
している。マニフォールド１２は反応装置に用いられる
種々のガスを入力することができる。バルブ１３はポー
ト１１を閉めるために用いられる。第２のポート１４
は、反応装置を排気するために用いられる真空装置に接
続されている。バルブ１５はポート１４を閉めるために
用いられる。のぞき窓１６が反応装置１０の側面にあ
る。放射強度検出器／分光器１７が反応装置１０のプラ
ズマ強度を監視し、強度情報を検査装置に送る。検査装
置は強度データを利用し、反応装置内のガス漏れを検出
するために用いられる回帰分析を作成する。
を示している。反応装置１０は、多ポートガスマニフォ
ールド１２に接続されたガスライン入力ポート１１を有
している。マニフォールド１２は反応装置に用いられる
種々のガスを入力することができる。バルブ１３はポー
ト１１を閉めるために用いられる。第２のポート１４
は、反応装置を排気するために用いられる真空装置に接
続されている。バルブ１５はポート１４を閉めるために
用いられる。のぞき窓１６が反応装置１０の側面にあ
る。放射強度検出器／分光器１７が反応装置１０のプラ
ズマ強度を監視し、強度情報を検査装置に送る。検査装
置は強度データを利用し、反応装置内のガス漏れを検出
するために用いられる回帰分析を作成する。
【００１１】以上の記載に関連して、以下の各項を開示
する。 （１）プラズマ反応装置及び前記反応装置へガスを導入
するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法であっ
て、プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装
置への検査ガスの既知の増加を導入し、前記反応装置へ
の検査ガスの既知の増加の各導入後、プラズマ反応の光
放射の強度を測定し、導入ガスの増加に対する強度の読
み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分
析を行って、強度がゼロに等しいガスの値に−１を乗じ
た値が反応装置へ漏れているガスの量であることを決定
する、ステップを有する方法。 （２）反応装置に導入される前記検査ガスは窒素ガスで
あることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （３）反応装置に導入される前記検査ガスは空気である
ことを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （４）プラズマ放出光の強度が３３４nm放射ラインで測
定されることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （５）導入ガスの増加に対して強度読み取りから生じる
曲線は式I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 により表
されることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （６）まず挿入されたガスの固定増分を用いて反応装置
へ漏れたガスの量を決定すし、反応装置へ漏れたガスの
最初の量を決定し、且つ反応装置へ漏れたガスの第１の
決定量とほぼ同じ量のガスの挿入された増加分で再び検
査する、ステップを有することを特徴とする前記（１）
項に記載の方法。 （７）検査ガスの既知の増加分が全て同じであることを
特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （８）プラズマ反応装置におけるガス漏れ及びその反応
装置へガスを導入するガスラインを検査する方法であっ
て、プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装
置への窒素検査ガスの既知の増加分を導入し、前記反応
装置への検査ガスの増加分の各導入後、プラズマ反応の
光放射の強度を測定し、導入ガスの増加に対する強度の
読み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰
分析を行って、強度がゼロに等しいガスの値に−１を乗
じた値が反応装置へ漏れているガスの量であることを決
定する、ステップを有する方法。 （９）反応装置へ導入される検査ガスが空気であること
を特徴とする前記（８）に記載の方法。 （１０）プラズマ放出光の強度が３３４nm放射ラインで
測定されることを特徴とする前記（８）項に記載の方
法。 （１１）導入ガスの増加に対して強度読み取りから生じ
る曲線は式I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 により
表されることを特徴とする前記（８）項に記載の方法。 （１２）まず挿入されたガスの固定増分を用いて反応装
置へ漏れたガスの量を決定すし、反応装置へ漏れたガス
の最初の量を決定し、且つ反応装置へ漏れたガスの第１
の決定量とほぼ同じ量のガスの挿入された増加分で再び
検査する、ステップを有することを特徴とする前記
（８）項に記載の方法。 （１３）検査ガスの既知の増加分は段階的増加分である
ことを特徴とする前記（８）項に記載の方法。 （１４）プラズマ放射光を用いてプラズマ反応装置と前
記反応装置へガスを導入するガスラインのガス漏れの量
を検査し、決定するための装置であって、プラズマ反応
装置と、プラズマ放射光の強度を測定する検出器と、プ
ラズマ反応装置へ既知量の検査ガスを挿入する手段と、
及び検査ガス量がプラズマ反応装置へ挿入される前と挿
入された各時のプラズマ放射光の測定強度を記録し、且
つ回帰分析を行って反応装置のガス漏れ量を決定するた
めの検査装置、を有する装置。 （１５）プラズマ反応装置（１０）と反応装置へガスを
導入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法で
あって、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測
定し、反応装置（１０）への試験ガスの既知の増加分を
導入し、前記反応装置への検査ガスの既知の増加の各導
入後、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測定
し、導入ガスの増加に対する強度の読み取りから生じる
曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分析を行って、強度
がゼロに等しいガスの値であって、そのガスの値が反応
装置（１０）へ漏れているガスの量であることを決定す
るステップを有する方法。
する。 （１）プラズマ反応装置及び前記反応装置へガスを導入
するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法であっ
て、プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装
置への検査ガスの既知の増加を導入し、前記反応装置へ
の検査ガスの既知の増加の各導入後、プラズマ反応の光
放射の強度を測定し、導入ガスの増加に対する強度の読
み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分
析を行って、強度がゼロに等しいガスの値に−１を乗じ
た値が反応装置へ漏れているガスの量であることを決定
する、ステップを有する方法。 （２）反応装置に導入される前記検査ガスは窒素ガスで
あることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （３）反応装置に導入される前記検査ガスは空気である
ことを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （４）プラズマ放出光の強度が３３４nm放射ラインで測
定されることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （５）導入ガスの増加に対して強度読み取りから生じる
曲線は式I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 により表
されることを特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （６）まず挿入されたガスの固定増分を用いて反応装置
へ漏れたガスの量を決定すし、反応装置へ漏れたガスの
最初の量を決定し、且つ反応装置へ漏れたガスの第１の
決定量とほぼ同じ量のガスの挿入された増加分で再び検
査する、ステップを有することを特徴とする前記（１）
項に記載の方法。 （７）検査ガスの既知の増加分が全て同じであることを
特徴とする前記（１）項に記載の方法。 （８）プラズマ反応装置におけるガス漏れ及びその反応
装置へガスを導入するガスラインを検査する方法であっ
て、プラズマ反応の光放射の強度を測定し、前記反応装
置への窒素検査ガスの既知の増加分を導入し、前記反応
装置への検査ガスの増加分の各導入後、プラズマ反応の
光放射の強度を測定し、導入ガスの増加に対する強度の
読み取りから生じる曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰
分析を行って、強度がゼロに等しいガスの値に−１を乗
じた値が反応装置へ漏れているガスの量であることを決
定する、ステップを有する方法。 （９）反応装置へ導入される検査ガスが空気であること
を特徴とする前記（８）に記載の方法。 （１０）プラズマ放出光の強度が３３４nm放射ラインで
測定されることを特徴とする前記（８）項に記載の方
法。 （１１）導入ガスの増加に対して強度読み取りから生じ
る曲線は式I334＝ａ＋ｂ［Ｎ2 ］＋ｃ［Ｎ2 ］2 により
表されることを特徴とする前記（８）項に記載の方法。 （１２）まず挿入されたガスの固定増分を用いて反応装
置へ漏れたガスの量を決定すし、反応装置へ漏れたガス
の最初の量を決定し、且つ反応装置へ漏れたガスの第１
の決定量とほぼ同じ量のガスの挿入された増加分で再び
検査する、ステップを有することを特徴とする前記
（８）項に記載の方法。 （１３）検査ガスの既知の増加分は段階的増加分である
ことを特徴とする前記（８）項に記載の方法。 （１４）プラズマ放射光を用いてプラズマ反応装置と前
記反応装置へガスを導入するガスラインのガス漏れの量
を検査し、決定するための装置であって、プラズマ反応
装置と、プラズマ放射光の強度を測定する検出器と、プ
ラズマ反応装置へ既知量の検査ガスを挿入する手段と、
及び検査ガス量がプラズマ反応装置へ挿入される前と挿
入された各時のプラズマ放射光の測定強度を記録し、且
つ回帰分析を行って反応装置のガス漏れ量を決定するた
めの検査装置、を有する装置。 （１５）プラズマ反応装置（１０）と反応装置へガスを
導入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方法で
あって、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測
定し、反応装置（１０）への試験ガスの既知の増加分を
導入し、前記反応装置への検査ガスの既知の増加の各導
入後、プラズマ反応装置（１０）の光放射の強度を測定
し、導入ガスの増加に対する強度の読み取りから生じる
曲線を作り、且つ前記曲線上の回帰分析を行って、強度
がゼロに等しいガスの値であって、そのガスの値が反応
装置（１０）へ漏れているガスの量であることを決定す
るステップを有する方法。
【図１】窒素ガスを含むプラズマに対して、波長に対す
る典型的な分光強度である。
る典型的な分光強度である。
【図２】I334と［Ｎ2 ］の関係が非直線性であることを
示している。
示している。
【図３】（ａ）は加えられた窒素の少ない増加量に対し
て、窒素の漏れに対するI334の回帰分析を示す。（ｂ）
は加えられた窒素の大きな増加量に対して、窒素の漏れ
に対するI334の回帰分析を示す。
て、窒素の漏れに対するI334の回帰分析を示す。（ｂ）
は加えられた窒素の大きな増加量に対して、窒素の漏れ
に対するI334の回帰分析を示す。
【図４】漏れ検査測定の作表データである。
【図５】検査装置を示す。
１１ ガスライン入力ポート １２ 多ポートガスマニフォールド １６ のぞき窓 １７ 放射強度検出器／分光器
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/302
Claims (2)
- 【請求項１】 プラズマ反応装置及び前記反応装置へガ
スを導入するガスラインにおけるガス漏れを検査する方
法であって、 プラズマ反応の光放射の強度を測定し、 前記反応装置への検査ガスの既知の増加を導入し、 前記反応装置への検査ガスの既知の増加の各導入後、プ
ラズマ反応の光放射の強度を測定し、 導入ガスの増加に対する強度の読み取りから生じる曲線
を作り、且つ前記曲線上の回帰分析を行って、強度がゼ
ロに等しいガスの値に−１を乗じた値が反応装置へ漏れ
ているガスの量であることを決定する、ステップを有す
る方法。 - 【請求項２】 プラズマ放射光を用いてプラズマ反応装
置と前記反応装置へガスを導入するガスラインのガス漏
れの量を検査し、決定するための装置であって、 プラズマ反応装置と、 プラズマ放射光の強度を測定する検出器と、 プラズマ反応装置へ既知量の検査ガスを注入する手段
と、及び検査ガス量がプラズマ反応装置へ挿入される前
と挿入された各時のプラズマ放射光の測定強度を記録
し、且つ回帰分析を行って反応装置のガス漏れ量を決定
するための検査装置、を有する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/076,031 US5326975A (en) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | Measurement of gas leaks into gas lines of a plasma reactor |
| US08/076031 | 1993-06-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07207426A true JPH07207426A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=22129503
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6130437A Pending JPH07207426A (ja) | 1993-06-15 | 1994-06-13 | プラズマ反応装置のガスラインへのガス漏れを検査する方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPH07207426A (ja) |
| KR (1) | KR100299636B1 (ja) |
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- 1993-06-15 US US08/076,031 patent/US5326975A/en not_active Expired - Lifetime
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1994
- 1994-06-13 JP JP6130437A patent/JPH07207426A/ja active Pending
- 1994-06-14 KR KR1019940013314A patent/KR100299636B1/ko not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| KR950001282A (ko) | 1995-01-03 |
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| US5326975A (en) | 1994-07-05 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040105 |