JPH07218916A

JPH07218916A - 液晶表示パネルおよびその製造方法およびその駆動方法

Info

Publication number: JPH07218916A
Application number: JP1432994A
Authority: JP
Inventors: Makoto Arai; 新井　　真
Original assignee: Citizen Watch Co Ltd
Current assignee: Citizen Watch Co Ltd
Priority date: 1994-02-08
Filing date: 1994-02-08
Publication date: 1995-08-18

Abstract

(57)【要約】【構成】第１の基板１１に設ける第１の配向膜１５
と、第２の基板１２に設ける第２の配向膜１６と、第１
の基板と第２の基板の間に設けるパネル内部スペーサー
１８と、第１の基板と第２の基板との間に液晶層１９を
封入するためのシール部７とを備え、第１の配向膜と第
２の配向膜とはその表面状態を異なるように構成し、第
１の基板と第２の基板とはイオン性不純物の吸着性が異
なる液晶表示パネルおよびその製造方法およびその駆動
方法。【効果】第１の基板に設けた配向膜が負イオンの吸着
性が少なく、第２の基板に設けた配向膜が正イオンの吸
着性が少ないことにより、直流成分を有する非対称な駆
動波形が印加されてもイオン吸着による画面表示の焼き
付きがない品質の高い液晶表示パネルを得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属−絶縁物−金属構
造をもつＭＩＭ素子や、薄膜トランジスタ素子（ＴＦ
Ｔ）などのスィッチング素子をもつ液晶表示パネル、あ
るいはこれらのスィッチング素子をもたない液晶表示パ
ネルの構成およびその製造方法およびその駆動方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示パネルは液晶を所定の方
向に並ばせるため、ラビング処理を施した配向膜を有す
る構造となっている。以下従来の液晶表示パネルの構造
について、図２の断面図を用いて説明する。

【０００３】第１の基板１１は、ガラスからなるの基板
上に、透明導電膜としてＩＴＯの第１のパターン電極１
３を形成するか、あるいは図２には図示しないが金属−
絶縁物−金属構造のＭＩＭ素子や、薄膜トランジスタ素
子（ＴＦＴ）などのスィッチング素子を有している。

【０００４】その第１のパターン電極１３上に第１の配
向膜１５を印刷法によって形成し、所定の温度で第１の
配向膜１５を焼成し、その後ラビングによる配向処理を
第１の配向膜１５に行っている。

【０００５】第２の基板１２は、ガラスからなる基板上
に、透明導電膜としてＩＴＯの第２のパターン電極１４
を設け、その上に第２の配向膜１６を印刷によって形成
し、所定の温度で第２の配向膜１６を焼成し、その後ラ
ビングによる配向処理を第２の配向膜１６に行ってい
る。

【０００６】液晶表示パネルを製造するには、第１の基
板１１と第２の基板１２との間に、パネル内部スペーサ
ー１８を介在させ、シール部１７によって、２枚の第１
の基板１１と第２の基板１２とを張り合わせている。

【０００７】そして第１の基板１１と第２の基板１２と
の隙間に液晶を注入し、液晶層１９を設ける。

【０００８】ここで、第１の基板１１に形成した第１の
配向膜１５と第２の基板１２に形成した第２の配向膜１
６とは、材料はいずれも脂肪族系ポリアミック酸である
ＬＱ−Ｔ１２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法
を用いて膜厚５０ｎｍで形成し、焼成条件はいずれも温
度２００℃で１時間を行った後、ラビング条件はいずれ
もレーヨン布を用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向
にラビング処理を行って形成している。

【０００９】すなわち第１の基板１１と第２の基板１２
とは、同一材料、同一条件で第１の配向膜１５と第２の
配向膜１６とを形成している。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前述のように作成した
液晶表示パネルでは、第１の基板１１と第２の基板１２
との第１のパターン電極１３と第２のパターン電極１４
間に直流成分を有する非対称な駆動波形が液晶層１９に
印加された場合、液晶層１９に含まれる正負のイオン性
不純物が偏り、直流成分の量に従って配向膜に吸着す
る。

【００１１】正の直流成分が印加される基板側の配向膜
には負のイオン性不純物が非常に多く吸着し、負の直流
成分が印加される基板側の配向膜には負のイオン性不純
物とほぼ同じ量の正のイオン性不純物が吸着する。

【００１２】これによって、液晶表示パネルは駆動した
際に、表示画面の焼きつきが発生するという課題を有す
る。この焼きつきとは、長時間にわたって固定パターン
を表示すると、表示を切り替えても前の表示がはっきり
と残っている現象のことであり、表示品質上、大きな問
題となっている。

【００１３】本発明の目的は、上記課題を解決して、焼
きつきが発生しない液晶表示パネルの構成と製造方法と
駆動方法とを提供することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の液晶表示パネルは下記記載の手段を採用す
る。

【００１５】本発明の液晶表示パネルは、第１の基板に
設ける第１の配向膜と、第２の基板に設ける第２の配向
膜と、第１の基板と第２の基板との間に設けるパネル内
部スペーサーと、第１の基板と第２の基板との間に液晶
層を封入するためのシール部とを備え、第１の配向膜と
第２の配向膜とはその表面状態を異なるように構成し
て、第１の基板と第２の基板とはイオン性不純物の吸着
性が異なることを特徴とする。

【００１６】本発明の第１の配向膜と第２の配向膜との
表面状態を異なるように構成し、第１の基板と第２の基
板とはイオン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネル
の製造方法は、第１の配向膜と第２の配向膜とを、異な
る材料で形成するか、あるいは異なる焼成条件で形成す
るか、あるいは異なるラビング条件で形成するか、異な
る材料および異なるラビング条件で形成するか、異なる
焼成条件および異なるラビング条件で形成するか、異な
る材料および異なる異なる焼成条件およびラビング条件
で形成することを特徴とする。

【００１７】本発明の第１の配向膜と第２の配向膜との
表面状態を異なるようにし、第１の基板と第２の基板と
はイオン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの駆
動方法は、負イオンの吸着性が少ない配向膜を設けた基
板に正のオフセット電圧を印加することを特徴とする。

【００１８】

【作用】本発明の液晶表示パネルでは、第１の基板に形
成する第１の配向膜と第２の基板に形成する第２の配向
膜とで、使用する材料の種類、焼成条件、あるいはラビ
ング条件のうち一つ以上が異なるように選択して、その
表面状態が異なるように構成して、イオン性不純物の吸
着性が異なるように形成する。

【００１９】このことにより、正の直流成分が印加され
る第１の基板に設けた配向膜は負イオンの吸着性を少な
くし、負の直流成分が印加される第２の基板に設けた配
向膜は正イオンの吸着性を少なくすることができる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明の実施例における液晶表示パネ
ルを、図１の断面図を用いて説明する。まずはじめに本
発明の液晶表示パネルの構成を説明する。

【００２１】第１の基板１１に設ける第１の配向膜１５
と、第２の基板１２に設ける第２の配向膜１６とを設け
る。さらに、第１の基板１１と第２の基板１２との間に
設けるパネル内部スペーサー１８を有し、第１の基板１
１と第２の基板１２との間に液晶層１９を封入するため
のシール部１７とを備える。

【００２２】そして第１の配向膜１５と第２の配向膜１
６との表面状態を異なるように構成して、第１の基板１
１と第２の基板１２とはイオン性不純物の吸着性が異な
るようにしている。

【００２３】つぎに図１を用いて説明した本発明におけ
る液晶表示パネルを得るための製造方法を、図１を用い
て説明する。

【００２４】ガラスからなる第１の基板１１に、透明導
電膜であるＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）を
スパッタリング法により膜厚２００ｎｍで形成する。

【００２５】その後、全面に感光性樹脂を形成し、フォ
トマスクを用いて露光現像処理を行い、この感光性樹脂
をパターニングし、さらにこのパターニングした感光性
樹脂をエッチングマスクに用いてＩＴＯをパターニング
するフォトエッチングによって、第１のパターン電極１
３をパターニングする。

【００２６】さらに、第１のパターン電極１３の上に芳
香族系ポリアミック酸であるＳＥ−３１４０（日産化学
製）を、フレキソ印刷法を用いて膜厚５０ｎｍで形成す
る。

【００２７】その後、温度２００℃で１時間の焼成を行
った後、レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定
方向にラビング処理を行い、第１の配向膜１５として設
けている。

【００２８】一方、ガラスからなる第２の基板１２は、
前述と同様な処理方法によって形成した透明導電膜から
なる第２のパターン電極１４上に脂肪族系ポリアミック
酸であるＬＱ−Ｔ１２０（日立化成工業製）を、フレキ
ソ印刷法により膜厚５０ｎｍで形成する。

【００２９】そして、温度２００℃で１時間の焼成を行
った後、レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定
方向にラビング処理を行い、第２の配向膜１６として設
けている。

【００３０】すなわちこの実施例においては、第１の配
向膜１５と第２の配向膜１６とは、その材料を変えてい
る。

【００３１】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を印刷法により形成し、
さらに他方の基板にパネル内部スペーサー１８を散布し
た後、第１の基板１１と第２の基板１２とを重ね合わせ
る。

【００３２】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部１７を硬化させる。

【００３３】そして、第１の基板１１と第２の基板１２
との隙間に、液晶としてフッ素系の液晶ＭＪ９２６６５
（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００３４】このようにして作成した液晶表示パネルに
おけるイオン性不純物の吸着性を、残留する直流電圧量
で評価を行った。

【００３５】第１の基板１１側に正の直流成分が印加さ
れるように直流電圧を２Ｖ、時間を１０分間印加した。
その後、第１の基板１１と第２の基板１２とを１秒間短
絡した後、開放にして１２０秒間放置した。

【００３６】このときに、第１の基板１１と第２の基板
１２との間に、イオン性不純物の吸着量に相当した量の
残留直流電圧を、エレクトロメーターＫＴ６１７（ケス
レー製）にて測定すると、２１ｍＶであった。

【００３７】この結果は、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ない状態になったことを示してい
る。

【００３８】この負イオンの吸着性が少ない理由は、第
１の配向膜１５の表面形状や表面粗さが原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、第２の配向膜１６
の表面形状や表面粗さと異なっていたことによるものと
考えている。

【００３９】また、この液晶表示パネルを実際に直流成
分を有する非対称な駆動波形で駆動したところ、画面表
示の焼きつきは認められなかった。

【００４０】ここで、従来例によって作成した液晶表示
パネルは同じ条件で残留する直流電圧を測定すると２９
４ｍＶであり、実際に直流成分を有する非対称な駆動波
形で駆動したところ、画面表示の焼きつきが起こった。

【００４１】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００４２】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２５０℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００４３】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００４４】すなわち第１の配向膜１５と第２の配向膜
１６とでは、その焼成条件を変えている。

【００４５】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００４６】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部１７を硬化させる。そして、第１の基板
１１と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶である
ＭＪ９２６６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設
ける。

【００４７】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と２５ｍＶであった。

【００４８】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００４９】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００５０】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．１ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００５１】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００５２】すなわちこの実施例においては第１の配向
膜１５と第２の配向膜１６とでは、そのラビング条件を
変えている。

【００５３】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００５４】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部１７を硬化させる。そして、第１の基板
１１と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶ＭＪ９
２６６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００５５】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と３６ｍＶであった。

【００５６】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００５７】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００５８】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に芳香族系ポリアミック酸であるＳＥ−３１
４０（日産化学製）を、フレキソ印刷法により膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２５０℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００５９】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００６０】すなわちこの実施例においては第１の配向
膜１５と第２の配向膜１６とでは、その材料と焼成条件
とを変えている。

【００６１】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００６２】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部を硬化させる。そして、第１の基板１１
と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶ＭＪ９２６
６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００６３】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と１０ｍＶであった。

【００６４】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００６５】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００６６】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に脂肪族系ポリアミク酸であるＳＥ−３１４
０（日産化学製）を、フレキソ印刷法によって膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．１ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００６７】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００６８】すなわちこの実施例においては第１の配向
膜１５と第２の配向膜１６とでは、その材料とラビング
条件とを変えている。

【００６９】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００７０】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部を硬化させる。そして、第１の基板１１
と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶ＭＪ９２６
６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００７１】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と１４ｍＶであった。

【００７２】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００７３】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００７４】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２５０℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．１ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００７５】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００７６】すなわちこの実施例においては第１の配向
膜１５と第２の配向膜１６とでは、その焼成条件とラビ
ング条件とを変えている。

【００７７】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００７８】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部を硬化させる。そして、第１の基板１１
と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶ＭＪ９２６
６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００７９】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と３８ｍＶであった。

【００８０】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００８１】つづいて、本発明における液晶表示パネル
を得るための別の製造方法について説明する。

【００８２】ガラスからなる第１の基板１１のパターン
電極１３上に脂肪族系ポリアミック酸であるＬＱ−Ｔ１
２０（日立化成工業製）を、フレキソ印刷法で膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２５０℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．１ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第１の配向膜１５として設けてい
る。

【００８３】ガラスからなる第２の基板１２のパターン
電極１４上に脂肪族系ポリアミック酸であるＲＮ−７７
５（日産化学製）を、フレキソ印刷法を用いて膜厚５０
ｎｍ形成し、温度２００℃で１時間の焼成を行った後、
レーヨンを用いて切り込み量０．４ｍｍで一定方向にラ
ビング処理を行い、第２の配向膜１６として設けてい
る。

【００８４】すなわちこの実施例においては第１の配向
膜１５と第２の配向膜１６とでは、その材料と焼成条件
とラビング条件とを変えている。

【００８５】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板にエポ
キシ樹脂からなるシール部１７を設け、さらに他方の基
板にパネル内部スペーサー１８を散布した後、第１の基
板１１と第２の基板１２とを重ね合わせる。

【００８６】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
とを加圧しながら温度１５０℃で時間２時間の熱処理を
行い、シール部を硬化させる。そして、第１の基板１１
と第２の基板１２との隙間にフッ素系の液晶ＭＪ９２６
６５（メルク製）を注入し、液晶層１９を設ける。

【００８７】このようにして作成した液晶表示パネル
は、上述と同一の条件で残留する直流電圧量を測定する
と１８ｍＶであった。

【００８８】この結果も、第１の基板１１側への負イオ
ンの吸着性が非常に少ないことを示している。この液晶
表示パネルを実際に直流成分を有する非対称な駆動波形
で駆動したところ、画面表示の焼きつきは認められなか
った。

【００８９】つぎに、本発明における液晶表示パネルの
駆動方法を、図１と図３とを用いて説明する。なお図３
の波形図においては、横軸は時間（Ｔ）を示し、縦軸は
電圧（Ｖ）を示す。

【００９０】第１の基板１１に設ける第１の配向膜１５
と、第２の基板１２に設ける第２の配向膜１６と、第１
の基板１１と第２の基板１２との間に設けるパネル内部
スペーサー１８と、第１の基板１１と第２の基板１２と
の間に液晶層１９を封入するためのシール部１７とを備
え、第１の基板１１と第２の基板１２とはイオン性不純
物の吸着性が異なる液晶表示パネルの駆動方法は、負イ
オンの吸着性が少ない配向膜を設けた基板に、図３に示
したような正のオフセット電圧２０を有する非対称な駆
動波形を意図的に印加して画面表示を行っている。

【００９１】この正のオフセット電圧２０を有する非対
称な駆動波形を印加する理由としては、オフセット電圧
を持たない対称な駆動波形で駆動した場合、イオン性不
純物の偏り方向は規制できない。

【００９２】すなわち正イオンの移動方向および負イオ
ンの移動方向が表示する画面情報によって異なってしま
うため本発明の液晶表示パネルには適していない。

【００９３】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
液晶表示パネルは、第１の基板に設けた配向膜が負イオ
ンの吸着性が少なく、第２の基板に設けた配向膜が正イ
オンの吸着性が少ない。このことにより、直流成分を有
する非対称な駆動波形が印加されてもイオン吸着による
画面表示の焼きつきがない、表示品質の高い液晶表示パ
ネルを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例における液晶表示パネルの構造
およびその製造方法を示す断面図である。

【図２】従来例における液晶表示パネルの構造を示す断
面図である。

【図３】本発明の実施例における液晶表示パネルを駆動
するための駆動波形を示す波形図である。

【符号の説明】

１１第１の基板１２第２の基板１５第１の配向膜１６第２の配向膜１７シール部２０正のオフセット電圧

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜とはその表面状
態を異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とは
イオン性不純物の吸着性が異なることを特徴とする液晶
表示パネル。
【請求項２】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる材料で形
成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる焼成条件
で形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方
法。
【請求項４】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なるラビング
条件で形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造
方法。
【請求項５】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる材料およ
び異なる焼成条件で形成することを特徴とする液晶表示
パネルの製造方法。
【請求項６】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる材料およ
び異なるラビング条件で形成することを特徴とする液晶
表示パネルの製造方法。
【請求項７】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる焼成条件
および異なるラビング条件で形成することを特徴とする
液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの製造方法
は、第１の配向膜と第２の配向膜とは、異なる材料およ
び異なる焼成条件および異なるラビング条件で形成する
ことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項９】第１の基板に設ける第１の配向膜と、第
２の基板に設ける第２の配向膜と、第１の基板と第２の
基板の間に設けるパネル内部スペーサーと、第１の基板
と第２の基板との間に液晶層を封入するためのシール部
とを備え、第１の配向膜と第２の配向膜との表面状態を
異なるように構成し、第１の基板と第２の基板とはイオ
ン性不純物の吸着性が異なる液晶表示パネルの駆動方法
は、負イオンの吸着性が少ない配向膜を設けた基板に正
のオフセット電圧を印加することを特徴とする液晶表示
パネルの駆動方法。