JPH07220221A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH07220221A JPH07220221A JP1096694A JP1096694A JPH07220221A JP H07220221 A JPH07220221 A JP H07220221A JP 1096694 A JP1096694 A JP 1096694A JP 1096694 A JP1096694 A JP 1096694A JP H07220221 A JPH07220221 A JP H07220221A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic core
- fine powder
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気コア3の金属系磁性層6、7の偏摩耗を
低減し、かつ磁気特性を維持することを可能とした磁気
ヘッドを提供する。 【構成】 磁気記録媒体Mとの摺動面3に臨んで金属系
磁性層6、7が形成された一対の磁気コア半体を組み合
わされてなる磁気コア3と、この磁気コア3に巻回され
るコイルを備えてなり、少なくともいずれか一方の磁気
コア半体には、高分子材料からなり磁気コア3と磁気記
録媒体Mの相対する摺動面に微粉末30を供給する微粉
末供給部9が形成されてなる。
低減し、かつ磁気特性を維持することを可能とした磁気
ヘッドを提供する。 【構成】 磁気記録媒体Mとの摺動面3に臨んで金属系
磁性層6、7が形成された一対の磁気コア半体を組み合
わされてなる磁気コア3と、この磁気コア3に巻回され
るコイルを備えてなり、少なくともいずれか一方の磁気
コア半体には、高分子材料からなり磁気コア3と磁気記
録媒体Mの相対する摺動面に微粉末30を供給する微粉
末供給部9が形成されてなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー(VTR)あるいはデジタルオーディオテープ
レコーダー(R−DAT)等において、音声信号や映像
信号を磁気テープ等の磁気記録媒体の記録トラック上に
磁気信号として高密度記録するために用いられる磁気ヘ
ッドに関する。
コーダー(VTR)あるいはデジタルオーディオテープ
レコーダー(R−DAT)等において、音声信号や映像
信号を磁気テープ等の磁気記録媒体の記録トラック上に
磁気信号として高密度記録するために用いられる磁気ヘ
ッドに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気記録テープ等を磁気記録媒体
に用いるVTRあるいはR−DAT等の磁気記録及び/
又は再生装置は、磁気記録テープに記録された情報信号
の読み取りを行い、あるいは磁気記録テープに記録を行
うため、磁気ヘッドのコイルによって磁気ギャップに発
生させた磁束により磁気記録テープの信号記録面からの
情報信号の読み取り再生及び磁気記録テープの信号記録
面への情報信号の書き込み記録を行う磁気ヘッドを備え
ている。
に用いるVTRあるいはR−DAT等の磁気記録及び/
又は再生装置は、磁気記録テープに記録された情報信号
の読み取りを行い、あるいは磁気記録テープに記録を行
うため、磁気ヘッドのコイルによって磁気ギャップに発
生させた磁束により磁気記録テープの信号記録面からの
情報信号の読み取り再生及び磁気記録テープの信号記録
面への情報信号の書き込み記録を行う磁気ヘッドを備え
ている。
【0003】そして、磁気ヘッドは、概略、磁気コア
と、この磁気コアに巻回されたコイル等の部材より構成
されており、前記磁気コアには、微小間隙である磁気ギ
ャップが形成されている。コイルは、記録又は再生のた
めの情報信号電流を、磁気コアへ磁束として伝達するは
たらきをする。また、磁気コアは、記録時にはコイルか
ら磁気記録媒体へ、再生時には磁気記録媒体からコイル
へ、磁束を磁気記録テープに伝達するための通路として
のはたらきをする。磁気ギャップは、磁気記録媒体に情
報信号を記録するために磁界の広がりの範囲を絞るはた
らきと、再生時には磁気記録媒体からの磁束の取入れ口
としてのはたらきをする。
と、この磁気コアに巻回されたコイル等の部材より構成
されており、前記磁気コアには、微小間隙である磁気ギ
ャップが形成されている。コイルは、記録又は再生のた
めの情報信号電流を、磁気コアへ磁束として伝達するは
たらきをする。また、磁気コアは、記録時にはコイルか
ら磁気記録媒体へ、再生時には磁気記録媒体からコイル
へ、磁束を磁気記録テープに伝達するための通路として
のはたらきをする。磁気ギャップは、磁気記録媒体に情
報信号を記録するために磁界の広がりの範囲を絞るはた
らきと、再生時には磁気記録媒体からの磁束の取入れ口
としてのはたらきをする。
【0004】ところで、近年、映像信号等の記録又は再
生の高画質化等を目的として、より多くの情報信号を記
録又は再生するため、映像情報信号等の短波長を記録又
は再生する方法がとられている。このため、磁気記録テ
ープの磁性層に用いられる磁性粉として強磁性金属粉末
をベースフィルム上に塗布したメタルテープや、強磁性
金属材料をベースフィルム上に直接蒸着させた蒸着テー
プ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されている。
生の高画質化等を目的として、より多くの情報信号を記
録又は再生するため、映像情報信号等の短波長を記録又
は再生する方法がとられている。このため、磁気記録テ
ープの磁性層に用いられる磁性粉として強磁性金属粉末
をベースフィルム上に塗布したメタルテープや、強磁性
金属材料をベースフィルム上に直接蒸着させた蒸着テー
プ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されている。
【0005】また、これら高抗磁力磁気記録媒体に記録
又は再生することを可能とするために、磁気ヘッドの磁
気コア材料として高透磁率かつ高飽和磁束密度をもつ金
属系磁性層、例えばFe系合金、FeーNi系合金等を
用いた積層型磁気ヘッドあるいはMIG型磁気ヘッド等
が用いられる。積層型磁気ヘッドは、金属系磁性層を非
磁性材料からなる基板で挟み込んで磁気コア半体を構成
し、この磁気コア半体を互いに突き合わせてガラス融着
により接合一体化して構成した磁気ヘッドである。ま
た、上記MIG型磁気ヘッドは、フェライト材を磁気コ
ア材料として用いた磁気ヘッドであって、磁気ギャップ
の近傍に金属系磁性層を配設して構成した磁気ヘッドで
ある。
又は再生することを可能とするために、磁気ヘッドの磁
気コア材料として高透磁率かつ高飽和磁束密度をもつ金
属系磁性層、例えばFe系合金、FeーNi系合金等を
用いた積層型磁気ヘッドあるいはMIG型磁気ヘッド等
が用いられる。積層型磁気ヘッドは、金属系磁性層を非
磁性材料からなる基板で挟み込んで磁気コア半体を構成
し、この磁気コア半体を互いに突き合わせてガラス融着
により接合一体化して構成した磁気ヘッドである。ま
た、上記MIG型磁気ヘッドは、フェライト材を磁気コ
ア材料として用いた磁気ヘッドであって、磁気ギャップ
の近傍に金属系磁性層を配設して構成した磁気ヘッドで
ある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した高
密度磁気記録するために磁気コア材料に金属系磁性材料
を用いた積層型磁気ヘッドあるいはMIG型磁気ヘッド
においては、金属系磁性層の耐摩耗特性が磁気コアを構
成する他の部材であるガード材及びフェライト材よりも
劣るため、磁気コアの金属系磁性層の部分が、他の部分
よりも早く摩耗してしまい偏摩耗が発生する。このた
め、これら積層型磁気ヘッドあるいは、MIG型磁気ヘ
ッドは、この偏摩耗によって磁気ギャップと磁気記録媒
体間に空隙が生じるため、この磁気ギャップの磁気記録
媒体に対する磁界強度が弱くなり、特に高周波域での電
磁変換特性が低下してしまうといった問題があった。
密度磁気記録するために磁気コア材料に金属系磁性材料
を用いた積層型磁気ヘッドあるいはMIG型磁気ヘッド
においては、金属系磁性層の耐摩耗特性が磁気コアを構
成する他の部材であるガード材及びフェライト材よりも
劣るため、磁気コアの金属系磁性層の部分が、他の部分
よりも早く摩耗してしまい偏摩耗が発生する。このた
め、これら積層型磁気ヘッドあるいは、MIG型磁気ヘ
ッドは、この偏摩耗によって磁気ギャップと磁気記録媒
体間に空隙が生じるため、この磁気ギャップの磁気記録
媒体に対する磁界強度が弱くなり、特に高周波域での電
磁変換特性が低下してしまうといった問題があった。
【0007】かかる高密度磁気記録型磁気ヘッドにおい
て、磁気コアを構成する金属系磁性層部分の耐摩耗特性
を向上させようとする場合には、この金属系磁性層に耐
摩耗特性を有する材料を混入することが考慮される。し
かしながら、このように構成した磁気コアは、この金属
系磁性層の含有率が低下することになり、磁気特性が低
下してしまう。また、金属系磁性層の磁気特性を維持さ
せるために耐摩耗特性を有する材料を混入しない場合に
は、上述したように、耐摩耗特性が小さいことから金属
系磁性層部分に偏摩耗が発生するといった問題がある。
すなわち、上記磁気コアを構成する金属系磁性層におい
ては、耐摩耗特性と磁気特性との両特性を満足させる最
適な金属系磁性層は得られていない。
て、磁気コアを構成する金属系磁性層部分の耐摩耗特性
を向上させようとする場合には、この金属系磁性層に耐
摩耗特性を有する材料を混入することが考慮される。し
かしながら、このように構成した磁気コアは、この金属
系磁性層の含有率が低下することになり、磁気特性が低
下してしまう。また、金属系磁性層の磁気特性を維持さ
せるために耐摩耗特性を有する材料を混入しない場合に
は、上述したように、耐摩耗特性が小さいことから金属
系磁性層部分に偏摩耗が発生するといった問題がある。
すなわち、上記磁気コアを構成する金属系磁性層におい
ては、耐摩耗特性と磁気特性との両特性を満足させる最
適な金属系磁性層は得られていない。
【0008】そこで、本発明は、高密度磁気記録するた
め金属系磁性層を用いた磁気ヘッドにおいて、磁気コア
の金属系磁性層の見かけ上の耐摩耗特性を向上させて偏
摩耗を低減し、かつ磁気特性を維持することを可能とし
た磁気ヘッドを提供することを目的に提案されたもので
ある。
め金属系磁性層を用いた磁気ヘッドにおいて、磁気コア
の金属系磁性層の見かけ上の耐摩耗特性を向上させて偏
摩耗を低減し、かつ磁気特性を維持することを可能とし
た磁気ヘッドを提供することを目的に提案されたもので
ある。
【0009】
【課題を達成するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明に係る磁気ヘッドは、磁気記録媒体との摺
動面に臨んで金属系磁性材料からなる磁性層が形成され
た一対の磁気コア半体を組み合わせてなる磁気コアと、
この磁気コアに巻回されるコイルとを備えてなり、少な
くともいずれか一方の磁気コア半体には、高分子材料か
らなり磁気コアと磁気記録媒体の相対する摺動面に高分
子微粉末を供給する微粉末供給部が形成されたことを特
徴とする。
ため、本発明に係る磁気ヘッドは、磁気記録媒体との摺
動面に臨んで金属系磁性材料からなる磁性層が形成され
た一対の磁気コア半体を組み合わせてなる磁気コアと、
この磁気コアに巻回されるコイルとを備えてなり、少な
くともいずれか一方の磁気コア半体には、高分子材料か
らなり磁気コアと磁気記録媒体の相対する摺動面に高分
子微粉末を供給する微粉末供給部が形成されたことを特
徴とする。
【0010】また、本発明に係る磁気ヘッドは、微粉末
供給部が、磁気記録媒体の進入側の磁気コア半体に配さ
れていることを特徴とし、或いは、微粉末供給部が、磁
気コアの磁気記録媒体との摺動面の幅方向の両端縁に沿
って配されていることを特徴とする。
供給部が、磁気記録媒体の進入側の磁気コア半体に配さ
れていることを特徴とし、或いは、微粉末供給部が、磁
気コアの磁気記録媒体との摺動面の幅方向の両端縁に沿
って配されていることを特徴とする。
【0011】また、上記微粉末供給部を形成する高分子
材料は、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ウレタン樹脂から選ばれたいずれか1種、ま
たはこれらのうち2種以上の共重合体であることを特徴
とする。
材料は、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ウレタン樹脂から選ばれたいずれか1種、ま
たはこれらのうち2種以上の共重合体であることを特徴
とする。
【0012】
【作用】以上のように構成した本発明に係る磁気ヘッド
においては、磁気コアを構成する少なくともいずれか一
方の磁気コア半体の磁気記録媒体との摺動面に高分子材
料から形成された高分子供給部を設けたことで、磁気記
録テープ等の磁気記録媒体が走行されると、磁気コアと
磁気記録媒体との相対する摺動面に上記高分子材料の微
粉末が発生する。
においては、磁気コアを構成する少なくともいずれか一
方の磁気コア半体の磁気記録媒体との摺動面に高分子材
料から形成された高分子供給部を設けたことで、磁気記
録テープ等の磁気記録媒体が走行されると、磁気コアと
磁気記録媒体との相対する摺動面に上記高分子材料の微
粉末が発生する。
【0013】この高分子材料の微粉末は、磁気コア半体
と磁気記録媒体との相対摺動面に巻き込まれて、この摺
動面に臨む磁気コア半体の金属系磁性層の表面に極めて
薄い膜を形成する。この膜は、前記摺動面に臨む金属系
磁性層の摩耗に対する保護膜として機能し、金属系磁性
層の見かけの耐摩耗特性を向上させて、偏摩耗を低減さ
せる。
と磁気記録媒体との相対摺動面に巻き込まれて、この摺
動面に臨む磁気コア半体の金属系磁性層の表面に極めて
薄い膜を形成する。この膜は、前記摺動面に臨む金属系
磁性層の摩耗に対する保護膜として機能し、金属系磁性
層の見かけの耐摩耗特性を向上させて、偏摩耗を低減さ
せる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について図面
を参照して説明する。本発明に係る第1の実施例として
図1に示した積層型磁気ヘッド1は、閉回路を構成する
一対の磁気コア半体3A、3Bが互いに突き合わされて
接合されることによって構成された磁気コア3を有して
いる。また、磁気コア3を構成する前記磁気コア半体3
A、3Bの相対する側面間には、微小な間隙である磁気
ギャップGが構成されている。一方の磁気コア半体3A
の、磁気コア半体3Bとの対向側面部には幅方向の両側
面に開口され、図示しないコイル線が巻回されるための
略コ字状の巻き線窓8が凹設されている。
を参照して説明する。本発明に係る第1の実施例として
図1に示した積層型磁気ヘッド1は、閉回路を構成する
一対の磁気コア半体3A、3Bが互いに突き合わされて
接合されることによって構成された磁気コア3を有して
いる。また、磁気コア3を構成する前記磁気コア半体3
A、3Bの相対する側面間には、微小な間隙である磁気
ギャップGが構成されている。一方の磁気コア半体3A
の、磁気コア半体3Bとの対向側面部には幅方向の両側
面に開口され、図示しないコイル線が巻回されるための
略コ字状の巻き線窓8が凹設されている。
【0015】上記磁気コア半体3Aは、非磁性ガード材
11、12が金属系磁性層6を挟んだ状態で接合して形
成され、同様に磁気コア半体3Bは、非磁性ガード材1
3、14が金属系磁性層7を挟んだ状態で接合して形成
される。これらの非磁性ガード材11、12、13、1
4は、非磁性で適当な膨張係数を有し、磁気記録媒体に
対する耐摩耗特性がある材料であれば良い。この非磁性
ガード材には、一般的には、非磁性フェライト、酸化ジ
ルコニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄
系セラミック、チタン酸系セラミック等、或いは、その
接合材が用いられる。
11、12が金属系磁性層6を挟んだ状態で接合して形
成され、同様に磁気コア半体3Bは、非磁性ガード材1
3、14が金属系磁性層7を挟んだ状態で接合して形成
される。これらの非磁性ガード材11、12、13、1
4は、非磁性で適当な膨張係数を有し、磁気記録媒体に
対する耐摩耗特性がある材料であれば良い。この非磁性
ガード材には、一般的には、非磁性フェライト、酸化ジ
ルコニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄
系セラミック、チタン酸系セラミック等、或いは、その
接合材が用いられる。
【0016】金属系磁性層6、7を構成する材料は、F
e系合金、Co系合金、FeーNi系合金、FeーC系
合金、FeーAlーSi系合金、FeーGaーSi系合
金、FeーAlーGe系合金、FeーGaーGe系合
金、FeーSiーGe系合金、FeーCoーSi系合
金、Fe−Ru−Ga−Si系合金、FeーCo−Si
−Al系合金等の結晶質合金材料あるいは、Co−Zr
−Nb、Co−Zr−Nb−Ta等のアモルファス合金
等がある。
e系合金、Co系合金、FeーNi系合金、FeーC系
合金、FeーAlーSi系合金、FeーGaーSi系合
金、FeーAlーGe系合金、FeーGaーGe系合
金、FeーSiーGe系合金、FeーCoーSi系合
金、Fe−Ru−Ga−Si系合金、FeーCo−Si
−Al系合金等の結晶質合金材料あるいは、Co−Zr
−Nb、Co−Zr−Nb−Ta等のアモルファス合金
等がある。
【0017】さらに、一般に使用されるアモルファス合
金等も使用できる。例えば、Fe、Ni、Coのうち1
種以上の元素とP、C、B、Siのうち1種以上の元素
とからなる合金、またはこれを主成分としてAl、B
e、Sn、In、Mo、W、Ti、Mu、Cr、Zr、
Hf、Nb等を含む合金等のメタルーメタロイド系アモ
ルファス合金、あるいは、CoーZr、Co−Hf等の
遷移元素を主成分とする合金、またはこれらに希土類元
素を添加した合金等のメタルーメタル系アモルファス合
金も使用できる。
金等も使用できる。例えば、Fe、Ni、Coのうち1
種以上の元素とP、C、B、Siのうち1種以上の元素
とからなる合金、またはこれを主成分としてAl、B
e、Sn、In、Mo、W、Ti、Mu、Cr、Zr、
Hf、Nb等を含む合金等のメタルーメタロイド系アモ
ルファス合金、あるいは、CoーZr、Co−Hf等の
遷移元素を主成分とする合金、またはこれらに希土類元
素を添加した合金等のメタルーメタル系アモルファス合
金も使用できる。
【0018】なお、金属系磁性層6、7は、高出力化並
びに高周波帯域での渦電流損失を回避するために、単層
に限らず金属系磁性層と絶縁材料とを交互に何層にも積
層した多層構造でも可能である。これら金属系磁性層及
び絶縁層の成膜方法としては、上述したスパッタリング
法の他、真空蒸着法、イオンプレーティング法、クラス
ター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術
が用いられている。
びに高周波帯域での渦電流損失を回避するために、単層
に限らず金属系磁性層と絶縁材料とを交互に何層にも積
層した多層構造でも可能である。これら金属系磁性層及
び絶縁層の成膜方法としては、上述したスパッタリング
法の他、真空蒸着法、イオンプレーティング法、クラス
ター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術
が用いられている。
【0019】また、磁気記録媒体Mの走行方向、すなわ
ち図1における矢印Aから矢印B方向の走行側に配設さ
れる磁気コア3を構成する一方の磁気コア半体3Aに
は、磁気記録媒体Mが摺擦する摺動面16に臨んで磁気
コア3の幅方向に複数条の微粉末供給部9が形成されて
いる。これら微粉末供給部9は、後述する製造方法によ
り、高分子材料を充填形成してなる。
ち図1における矢印Aから矢印B方向の走行側に配設さ
れる磁気コア3を構成する一方の磁気コア半体3Aに
は、磁気記録媒体Mが摺擦する摺動面16に臨んで磁気
コア3の幅方向に複数条の微粉末供給部9が形成されて
いる。これら微粉末供給部9は、後述する製造方法によ
り、高分子材料を充填形成してなる。
【0020】微粉末供給部9を形成する高分子材料は、
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、あるいはウレタン樹脂等の高分子樹脂材料か
ら選ばれたいずれか1種、またはこれら高分子樹脂材料
のうちの2種以上の共重合体を用いる。
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、あるいはウレタン樹脂等の高分子樹脂材料か
ら選ばれたいずれか1種、またはこれら高分子樹脂材料
のうちの2種以上の共重合体を用いる。
【0021】以上のように構成された磁気ヘッド1にお
いて、磁気コア3の摺動面16上を磁気記録媒体Mが摺
擦走行すると、この摺動面16が次第に摩耗して微粉末
供給部9からの微粉末30が発生する。この高分子材料
の微粉末30は、磁気コア3と磁気記録媒体Mと相対す
るこの摺動面16に巻き込まれて、金属系磁性層6、7
の表面に極薄い膜を形成する。この膜は、前記摺動面1
6に臨む金属系磁性層6、7の摩耗に対する保護膜とし
て機能し、これら金属系磁性層6、7部分の見かけの耐
摩耗特性を向上させ、偏摩耗を低減させる。
いて、磁気コア3の摺動面16上を磁気記録媒体Mが摺
擦走行すると、この摺動面16が次第に摩耗して微粉末
供給部9からの微粉末30が発生する。この高分子材料
の微粉末30は、磁気コア3と磁気記録媒体Mと相対す
るこの摺動面16に巻き込まれて、金属系磁性層6、7
の表面に極薄い膜を形成する。この膜は、前記摺動面1
6に臨む金属系磁性層6、7の摩耗に対する保護膜とし
て機能し、これら金属系磁性層6、7部分の見かけの耐
摩耗特性を向上させ、偏摩耗を低減させる。
【0022】次に、上述した実施例積層型磁気ヘッド1
の製造方法について図2乃至図9に示す各工程図を参照
して説明する。磁気ヘッドには、磁気コア半体の両方に
コイルの巻き線窓を設けた両窓型と、片方のみにコイル
の巻き線窓を設けた片窓型の2種類があるが、実施例積
層型磁気ヘッド1においては、比較的製作が容易な片窓
型が採用されている。
の製造方法について図2乃至図9に示す各工程図を参照
して説明する。磁気ヘッドには、磁気コア半体の両方に
コイルの巻き線窓を設けた両窓型と、片方のみにコイル
の巻き線窓を設けた片窓型の2種類があるが、実施例積
層型磁気ヘッド1においては、比較的製作が容易な片窓
型が採用されている。
【0023】実施例積層型磁気ヘッド1の製造は、第1
の工程である図2に示した成膜工程から始められる。こ
の成膜工程は、短冊状に形成した非磁性ガード材基板2
0の片面に所定の厚みの金属系磁性層6を形成する工程
である。すなわち、非磁性ガード基板20の片面にスッ
パタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜成
形技術により、上述した金属系磁性材料あるいは強磁性
金属材料を所定の厚み寸法に成膜して、成膜基板21を
製作する。
の工程である図2に示した成膜工程から始められる。こ
の成膜工程は、短冊状に形成した非磁性ガード材基板2
0の片面に所定の厚みの金属系磁性層6を形成する工程
である。すなわち、非磁性ガード基板20の片面にスッ
パタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜成
形技術により、上述した金属系磁性材料あるいは強磁性
金属材料を所定の厚み寸法に成膜して、成膜基板21を
製作する。
【0024】次に、第2の工程である図3に示す接合工
程を行う。この接合工程は、上述した成膜工程において
製作された成膜基板21を複数枚接合する工程である。
すなわち、成膜基板21は、例えば、それぞれの接合面
に設けられた貴金属同士の熱拡散によって接合する低温
熱拡散接合あるいは、ガラス融着、熱圧着等による接合
方法により、複数枚接合した接合基板22を製作する。
程を行う。この接合工程は、上述した成膜工程において
製作された成膜基板21を複数枚接合する工程である。
すなわち、成膜基板21は、例えば、それぞれの接合面
に設けられた貴金属同士の熱拡散によって接合する低温
熱拡散接合あるいは、ガラス融着、熱圧着等による接合
方法により、複数枚接合した接合基板22を製作する。
【0025】さらに、第3の工程である図4に示した切
断工程を行う。この切断工程は、上述した接合工程にお
いて製作された接合基板22を個々に切断する工程であ
る。すなわち、接合基板22の接合面に対して所定の角
度Xをなす向きでこの接合基板22を個々に切断して、
それら切断した個々の磁気コア半体ブロック23を作製
する。また、図4に示す実施例の切断工程は、接合基板
22の接合面に対する角度Xを90度とした場合を示
す。
断工程を行う。この切断工程は、上述した接合工程にお
いて製作された接合基板22を個々に切断する工程であ
る。すなわち、接合基板22の接合面に対して所定の角
度Xをなす向きでこの接合基板22を個々に切断して、
それら切断した個々の磁気コア半体ブロック23を作製
する。また、図4に示す実施例の切断工程は、接合基板
22の接合面に対する角度Xを90度とした場合を示
す。
【0026】そして、第4の工程である図5に示した削
成工程を行う。この削成工程は、上述した切断工程にお
いて製作された磁気コア半体ブロック24に、図示しな
いコイルが巻回される巻き線溝8を形成する工程であ
る。すなわち、磁気コア半体ブロック24の、図6に示
す一方の磁気コア半体23との互いに対向する側面部
に、幅方向の両側面に開口する略コ字状に削成すること
で、図示しないコイルが巻回される巻き線溝8を凹設し
た磁気コア半体ブロック24を作製する。
成工程を行う。この削成工程は、上述した切断工程にお
いて製作された磁気コア半体ブロック24に、図示しな
いコイルが巻回される巻き線溝8を形成する工程であ
る。すなわち、磁気コア半体ブロック24の、図6に示
す一方の磁気コア半体23との互いに対向する側面部
に、幅方向の両側面に開口する略コ字状に削成すること
で、図示しないコイルが巻回される巻き線溝8を凹設し
た磁気コア半体ブロック24を作製する。
【0027】次に、第5の工程である図6に示した突き
合わせ工程を行う。この突き合わせ工程は、上述した削
成工程において作製された磁気コア半体ブロック24と
前記第3の工程で製作された磁気コア半体ブロック23
とを突き合わせる工程である。すなわち、磁気コア半体
ブロック23と磁気コア半体ブロック24との互いに突
き合わせられる接合面に鏡面仕上げを施す。その後に、
これら磁気コア半体ブロック23、24は、それぞれの
金属系磁性層6、7を位置基準として突き合わして、上
述した低温熱拡散接合、ガラス融着あるいは熱圧着等に
よる接合等の接合方法によって接合一体化されて、磁気
コアブロック25を作製する。そして、磁気コア半体ブ
ロック23、24により突き合わされた金属系磁性層
6、7間に微小な間隙として磁気ギャップGが形成され
る。
合わせ工程を行う。この突き合わせ工程は、上述した削
成工程において作製された磁気コア半体ブロック24と
前記第3の工程で製作された磁気コア半体ブロック23
とを突き合わせる工程である。すなわち、磁気コア半体
ブロック23と磁気コア半体ブロック24との互いに突
き合わせられる接合面に鏡面仕上げを施す。その後に、
これら磁気コア半体ブロック23、24は、それぞれの
金属系磁性層6、7を位置基準として突き合わして、上
述した低温熱拡散接合、ガラス融着あるいは熱圧着等に
よる接合等の接合方法によって接合一体化されて、磁気
コアブロック25を作製する。そして、磁気コア半体ブ
ロック23、24により突き合わされた金属系磁性層
6、7間に微小な間隙として磁気ギャップGが形成され
る。
【0028】さらに、第6の工程である図7に示した削
成工程を行う。この削成工程は、上述した突き合わせ工
程において作製された磁気コアブロック25に高分子材
料の微粉末供給部9を形成する工程である。すなわち、
磁気コアブロック25は、磁気記録媒体の進入側である
磁気コア半体ブロック24の磁気記録媒体が摺擦する摺
動面上に、磁気コア半体ブロック23、24の突き合わ
せ面に平行な方向で複数条の微粉末供給部9がそれぞれ
彫り込まれる。そして、高分子材料は、これらの微粉末
供給部9に充填され硬化することで配設される。
成工程を行う。この削成工程は、上述した突き合わせ工
程において作製された磁気コアブロック25に高分子材
料の微粉末供給部9を形成する工程である。すなわち、
磁気コアブロック25は、磁気記録媒体の進入側である
磁気コア半体ブロック24の磁気記録媒体が摺擦する摺
動面上に、磁気コア半体ブロック23、24の突き合わ
せ面に平行な方向で複数条の微粉末供給部9がそれぞれ
彫り込まれる。そして、高分子材料は、これらの微粉末
供給部9に充填され硬化することで配設される。
【0029】次に、第7の工程である図8に示した研削
工程を行う。この研削工程は、上述した第6の工程にお
いて作製された磁気コアブロック25に円筒な摺動面を
形成する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
の磁気記録媒体が摺擦する摺動面を確保するためにこの
摺動面に円筒研磨を施す。
工程を行う。この研削工程は、上述した第6の工程にお
いて作製された磁気コアブロック25に円筒な摺動面を
形成する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
の磁気記録媒体が摺擦する摺動面を確保するためにこの
摺動面に円筒研磨を施す。
【0030】そして、第8の工程である図9に示した切
断工程を行う。この切断工程は、磁気コアブロック25
をそれぞれ切断して個々の実施例積層型磁気ヘッド1を
作製する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
は、磁気記録媒体が摺擦する摺動面上に非磁性ガード材
基板20の層の間に沿って、磁気コアブロック23、2
4の突き合わせ面に直交する方向に幅規制溝10が、そ
れぞれ彫り込まれる。そして、この幅規制溝10の中央
に沿ってそれぞれ切断されて個々の図1に示した実施例
積層型磁気ヘッド1を作製する。
断工程を行う。この切断工程は、磁気コアブロック25
をそれぞれ切断して個々の実施例積層型磁気ヘッド1を
作製する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
は、磁気記録媒体が摺擦する摺動面上に非磁性ガード材
基板20の層の間に沿って、磁気コアブロック23、2
4の突き合わせ面に直交する方向に幅規制溝10が、そ
れぞれ彫り込まれる。そして、この幅規制溝10の中央
に沿ってそれぞれ切断されて個々の図1に示した実施例
積層型磁気ヘッド1を作製する。
【0031】本発明に係る第2の実施例として図10に
示した積層型磁気ヘッド2は、前記図1の例と同様に、
閉回路を構成する一対の磁気コア半体4A、4Bが互い
に突き合わされて接合されることによって構成された磁
気コア4を有している。また、この磁気コア4を構成す
る前記磁気コア半体4A、4Bの対向側面間には、微小
な間隙である磁気ギャップGを構成されている。一方の
磁気コア半体4Aの、磁気コア半体4Bとの対向側面部
には、幅方向の両側面に開口され、図示しないコイル線
が巻回されるための略コ字状の巻き線窓8が凹設されて
いる。
示した積層型磁気ヘッド2は、前記図1の例と同様に、
閉回路を構成する一対の磁気コア半体4A、4Bが互い
に突き合わされて接合されることによって構成された磁
気コア4を有している。また、この磁気コア4を構成す
る前記磁気コア半体4A、4Bの対向側面間には、微小
な間隙である磁気ギャップGを構成されている。一方の
磁気コア半体4Aの、磁気コア半体4Bとの対向側面部
には、幅方向の両側面に開口され、図示しないコイル線
が巻回されるための略コ字状の巻き線窓8が凹設されて
いる。
【0032】上記磁気コア半体4Aは、非磁性ガード材
11、12が金属系磁性層6を挟んだ状態で接合して形
成され、同様に磁気コア半体4Bは、非磁性ガード材1
3、14が金属系磁性層7を挟んだ状態で接合して形成
される。これらの非磁性ガード材11、12、13、1
4は非磁性で適当な熱膨張係数を有し、磁気記録媒体に
対する耐摩耗特性がある材質であれば良い。この非磁性
ガード材には、一般的には非磁性フェライト、酸化ジル
コニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系
セラミック、チタン酸系セラミック等、あるいはその接
合材が用いられる。
11、12が金属系磁性層6を挟んだ状態で接合して形
成され、同様に磁気コア半体4Bは、非磁性ガード材1
3、14が金属系磁性層7を挟んだ状態で接合して形成
される。これらの非磁性ガード材11、12、13、1
4は非磁性で適当な熱膨張係数を有し、磁気記録媒体に
対する耐摩耗特性がある材質であれば良い。この非磁性
ガード材には、一般的には非磁性フェライト、酸化ジル
コニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系
セラミック、チタン酸系セラミック等、あるいはその接
合材が用いられる。
【0033】また、この磁気ヘッド2においては、微粉
末供給部9が、磁気コアの磁気記録媒体との摺動面の幅
方向の両端縁に沿って設けられた微粉末供給部9に配さ
れている。これら微粉末供給部9は、後述する製造方法
により、磁気コア半体4A、4Bの摺動面の幅方向の両
端縁に連なって設けられたそれぞれの微粉末供給部9か
ら構成される。そして、高分子材料は、この微粉末供給
部9に充填して配される。また、この高分子材料は、前
述した高分子樹脂材料から選ばれるが、磁気ヘッドの製
造上、熱硬化型の高分子樹脂材料が好ましい。
末供給部9が、磁気コアの磁気記録媒体との摺動面の幅
方向の両端縁に沿って設けられた微粉末供給部9に配さ
れている。これら微粉末供給部9は、後述する製造方法
により、磁気コア半体4A、4Bの摺動面の幅方向の両
端縁に連なって設けられたそれぞれの微粉末供給部9か
ら構成される。そして、高分子材料は、この微粉末供給
部9に充填して配される。また、この高分子材料は、前
述した高分子樹脂材料から選ばれるが、磁気ヘッドの製
造上、熱硬化型の高分子樹脂材料が好ましい。
【0034】そして、上記微粉末供給部9を形成する高
分子材料は、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニ
トリル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニト
ロセルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ウレタン樹脂等の高分子樹脂材料から選
ばれたいずれか1種、または、これら高分子樹脂材料の
うちの2種以上の共重合体を用いる。
分子材料は、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニ
トリル、ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニト
ロセルロース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ウレタン樹脂等の高分子樹脂材料から選
ばれたいずれか1種、または、これら高分子樹脂材料の
うちの2種以上の共重合体を用いる。
【0035】以上のように構成された磁気ヘッド2にお
いて、磁気コア4の摺動面16上を磁気記録媒体Mが走
行すると、この摺動面16での摩耗に伴い上記高分子材
料の微粉末30が発生する。この高分子材料の微粉末3
0は、この摺動面16に巻き込まれることで、金属系磁
性層6、7の表面に極薄い膜を形成する。この膜は、前
記摺動面16に臨む金属系磁性層6、7の摩耗に対する
保護膜として機能し、これら金属系磁性層6、7部分の
見かけの耐摩耗特性を向上させ、偏摩耗を低減させる。
いて、磁気コア4の摺動面16上を磁気記録媒体Mが走
行すると、この摺動面16での摩耗に伴い上記高分子材
料の微粉末30が発生する。この高分子材料の微粉末3
0は、この摺動面16に巻き込まれることで、金属系磁
性層6、7の表面に極薄い膜を形成する。この膜は、前
記摺動面16に臨む金属系磁性層6、7の摩耗に対する
保護膜として機能し、これら金属系磁性層6、7部分の
見かけの耐摩耗特性を向上させ、偏摩耗を低減させる。
【0036】次に、上述した実施例積層型磁気ヘッド2
の製造方法について図11乃至図13に示す各工程図を
参照して説明する。上述の実施例において、第1の工程
である図2に示した成膜工程から図6に示した第5の工
程である突き合わせ工程までは同一であるため、説明は
省略する。
の製造方法について図11乃至図13に示す各工程図を
参照して説明する。上述の実施例において、第1の工程
である図2に示した成膜工程から図6に示した第5の工
程である突き合わせ工程までは同一であるため、説明は
省略する。
【0037】したがって、第5の工程において磁気コア
ブロック25の作製後に、第6の工程である図11に示
す削成工程を行う。この削成工程は、上記磁気コアブロ
ック25に高分子材料の微粉末供給部9を形成する工程
である。すなわち、磁気コアブロック25は、磁気記録
媒体が摺擦する摺動面上に、磁気コア半体ブロック2
3、24の突き合わせ面に直交する方向に微粉末供給部
9が、それぞれの金属磁性層の間に彫り込まれる。そし
て、高分子材料は、これらの微粉末供給部9に充填され
硬化することで配設される。
ブロック25の作製後に、第6の工程である図11に示
す削成工程を行う。この削成工程は、上記磁気コアブロ
ック25に高分子材料の微粉末供給部9を形成する工程
である。すなわち、磁気コアブロック25は、磁気記録
媒体が摺擦する摺動面上に、磁気コア半体ブロック2
3、24の突き合わせ面に直交する方向に微粉末供給部
9が、それぞれの金属磁性層の間に彫り込まれる。そし
て、高分子材料は、これらの微粉末供給部9に充填され
硬化することで配設される。
【0038】次に、第7の工程である図12に示す研削
工程を行う。この研削工程は、上述した第6の工程にお
いて作製された磁気コアブロック25に円筒な摺動面を
形成する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
の磁気記録媒体が摺擦する摺動面を確保するためにこの
摺動面に円筒研磨を施す。
工程を行う。この研削工程は、上述した第6の工程にお
いて作製された磁気コアブロック25に円筒な摺動面を
形成する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
の磁気記録媒体が摺擦する摺動面を確保するためにこの
摺動面に円筒研磨を施す。
【0039】そして、第8の工程である図13に示す切
断工程を行う。この切断工程は、磁気コアブロック25
をそれぞれ切断して個々の実施例積層型磁気ヘッド2を
作製する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
は、摺動面の幅規制溝10を微粉末供給部9の幅より狭
い幅で、この微粉末供給部9の溝幅の内側に彫り込まれ
る。そして、摺動面の幅の規制溝10の中央をこの溝に
沿って切断されることで、摺動面の幅方向の両端縁に沿
って微粉末供給部9に配された高分子材料が残存するこ
ととなり、個々の図10に示した実施例積層型磁気ヘッ
ド2を作製する。
断工程を行う。この切断工程は、磁気コアブロック25
をそれぞれ切断して個々の実施例積層型磁気ヘッド2を
作製する工程である。すなわち、磁気コアブロック25
は、摺動面の幅規制溝10を微粉末供給部9の幅より狭
い幅で、この微粉末供給部9の溝幅の内側に彫り込まれ
る。そして、摺動面の幅の規制溝10の中央をこの溝に
沿って切断されることで、摺動面の幅方向の両端縁に沿
って微粉末供給部9に配された高分子材料が残存するこ
ととなり、個々の図10に示した実施例積層型磁気ヘッ
ド2を作製する。
【0040】
【発明の効果】上述したように本発明に係る磁気ヘッド
によれば、磁気ヘッドに高分子材料を配した微粉末供給
部を設けることにより、磁気記録テープ等の磁気記録媒
体に情報信号の高密度磁気記録するため金属系磁性層を
用いた磁気ヘッドにおいて、磁気コアの金属系磁性層の
見かけ上の耐摩耗特性を向上させることで偏摩耗を低減
し、かつ磁気特性を維持することを可能とする磁気ヘッ
ドを提供することができる。これによって、磁気ヘッド
の寿命を伸ばし、磁気記録及び/又は再生装置における
高画質映像又は高音質音声の情報信号の記録又は再生の
安定化が図られる。
によれば、磁気ヘッドに高分子材料を配した微粉末供給
部を設けることにより、磁気記録テープ等の磁気記録媒
体に情報信号の高密度磁気記録するため金属系磁性層を
用いた磁気ヘッドにおいて、磁気コアの金属系磁性層の
見かけ上の耐摩耗特性を向上させることで偏摩耗を低減
し、かつ磁気特性を維持することを可能とする磁気ヘッ
ドを提供することができる。これによって、磁気ヘッド
の寿命を伸ばし、磁気記録及び/又は再生装置における
高画質映像又は高音質音声の情報信号の記録又は再生の
安定化が図られる。
【図1】本発明における磁気ヘッドの実施例を示す斜視
図である。
図である。
【図2】非磁性ガード材基板に金属系磁性層を成膜する
工程を示す概念図である。
工程を示す概念図である。
【図3】成膜基板を接合する工程を示す概念図である。
【図4】接合基板を切断する工程を示す概略図である。
【図5】磁気コア半体ブロックに巻き線溝を削成する工
程を示す概念図である。
程を示す概念図である。
【図6】磁気コア半体ブロック同士を突き合わせる工程
を示す概念図である。
を示す概念図である。
【図7】磁気コアブロックに微粉末供給部を彫り込み、
高分子材料を配する工程を示す概念図である。
高分子材料を配する工程を示す概念図である。
【図8】磁気コアブロックを円筒研削する工程を示す概
念図である。
念図である。
【図9】磁気コアブロックに摺動面の幅規制溝を彫り込
み、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
み、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
【図10】本発明における磁気ヘッドの実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図11】磁気コアブロックに微粉末供給部を彫り込
み、高分子材料を配する工程を示す概念図である。
み、高分子材料を配する工程を示す概念図である。
【図12】磁気コアブロックを円筒研削する工程を示す
概念図である。
概念図である。
【図13】磁気コアブロックに摺動面の幅規制溝を彫り
込み、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
込み、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
1 積層型磁気ヘッド 2 積層型磁気ヘッド 3、4 磁気コア 3A、3B、4A、4B 磁気コア半体 6、7 金属系磁性層 8 巻き線窓 9 微粉末供給部 10 摺動面の幅の規制溝 11、12、13、14 非磁性ガード材 16 摺動面 20 非磁性ガード材基板 21 成膜基板 22 接合基板 23、24 磁気コア半体ブロック 25 磁気コアブロック 30 微粉末 G 磁気ギャップ M 磁気記録媒体
Claims (4)
- 【請求項1】 磁気記録媒体との摺動面に臨んで金属系
磁性材料からなる磁性層が形成された一対の磁気コア半
体を組み合わされてなる磁気コアと、この磁気コアに巻
回されるコイルとを備えてなり、 少なくともいずれか一方の磁気コア半体には、高分子材
料からなり磁気コアと磁気記録媒体の相対する摺動面に
高分子微粉末を供給する微粉末供給部が形成されたこと
を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 微粉末供給部が、磁気記録媒体の進入側
の磁気コア半体に配されていることを特徴とする請求項
1記載の磁気ヘッド。 - 【請求項3】 微粉末供給部が、磁気コアの磁気記録媒
体との摺動面の幅方向の両端縁に沿って配されているこ
と特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。 - 【請求項4】 上記微粉末供給部を形成する高分子材料
は、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアル
コール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、
ポリブタジェン、ポリビニルブチラール、ニトロセルロ
ース、アセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノキシ
樹脂、ウレタン樹脂から選ばれたいずれか1種、または
これらのうち2種以上の共重合体であることを特徴とす
る請求項1記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096694A JPH07220221A (ja) | 1994-02-02 | 1994-02-02 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096694A JPH07220221A (ja) | 1994-02-02 | 1994-02-02 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220221A true JPH07220221A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=11764919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1096694A Withdrawn JPH07220221A (ja) | 1994-02-02 | 1994-02-02 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07220221A (ja) |
-
1994
- 1994-02-02 JP JP1096694A patent/JPH07220221A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010403 |