JPH07225198A - ガラス基板のライン検査方法 - Google Patents
ガラス基板のライン検査方法Info
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- JPH07225198A JPH07225198A JP6017556A JP1755694A JPH07225198A JP H07225198 A JPH07225198 A JP H07225198A JP 6017556 A JP6017556 A JP 6017556A JP 1755694 A JP1755694 A JP 1755694A JP H07225198 A JPH07225198 A JP H07225198A
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Landscapes
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体或いは液晶表示板用のガラス基
板の品質を向上し、歩留りを向上させる。 【構成】 基板１に磁性膜等を成膜する前に、透過型自
動外観検査装置６によって基板１の外観検査を行う。即
ち、レーザー光源１２からのレーザー光をコリメータ１
３、ポリゴンミラー１４、フーリエレンズ１５を介して
基板１に照射し、透過した光をフーリエレンズ１６を介
してセンサ１７，１８で受光し、センサ１７，１８の検
出信号をコンパレータ等でしきい値処理した後、コンピ
ュータに取り込んで２次元画像化、画像処理をして欠陥
の有無を判別する。
板の品質を向上し、歩留りを向上させる。 【構成】 基板１に磁性膜等を成膜する前に、透過型自
動外観検査装置６によって基板１の外観検査を行う。即
ち、レーザー光源１２からのレーザー光をコリメータ１
３、ポリゴンミラー１４、フーリエレンズ１５を介して
基板１に照射し、透過した光をフーリエレンズ１６を介
してセンサ１７，１８で受光し、センサ１７，１８の検
出信号をコンパレータ等でしきい値処理した後、コンピ
ュータに取り込んで２次元画像化、画像処理をして欠陥
の有無を判別する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体用ガラス基
板、液晶表示板用ガラス基板等のガラス基板の生産ライ
ンで自動外観検査装置を用いて欠陥を検査するライン検
査方法に関する。
板、液晶表示板用ガラス基板等のガラス基板の生産ライ
ンで自動外観検査装置を用いて欠陥を検査するライン検
査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ディスク型の磁気記録媒体用基板を生産
する工程は、基板それ自体を製作する工程と基板に磁性
膜等を成膜する工程とに大きく分けることができるが、
従来使用されている基板はアルミ基板であり、このアル
ミ基板は光を反射するので、基板表面にキズ、異物付着
等の欠陥が存しないか否かを検査する外観検査として基
板の受入れ時及び成膜後の出荷時等に反射光を利用した
同じ外観検査方法が採られている。
する工程は、基板それ自体を製作する工程と基板に磁性
膜等を成膜する工程とに大きく分けることができるが、
従来使用されている基板はアルミ基板であり、このアル
ミ基板は光を反射するので、基板表面にキズ、異物付着
等の欠陥が存しないか否かを検査する外観検査として基
板の受入れ時及び成膜後の出荷時等に反射光を利用した
同じ外観検査方法が採られている。
【０００３】また外観検査方法としては、基板表面にハ
ロゲンランプ光などを照射して、表面上にある欠陥から
の反射・散乱光を目視によって検査する目視検査があ
る。この目視検査では、欠陥の種類によっては散乱光に
指向性を有するものがあるので、人が欠陥を見る際に
は、基板への照射角度を変えて欠陥が見やすい状態にな
るように人が操作している。
ロゲンランプ光などを照射して、表面上にある欠陥から
の反射・散乱光を目視によって検査する目視検査があ
る。この目視検査では、欠陥の種類によっては散乱光に
指向性を有するものがあるので、人が欠陥を見る際に
は、基板への照射角度を変えて欠陥が見やすい状態にな
るように人が操作している。
【０００４】また、基板表面に光を当てて、その反射・
散乱光をＣＣＤカメラ等で捕らえて、欠陥像の中から欠
陥を特徴抽出して欠陥の有無を判別したり、或いはレー
ザスポット光を基板表面に照射し、基板からの反射・散
乱光を受光素子で電気信号に変換後、それらの強度変化
によって欠陥かどうかを判断する自動外観検査装置があ
る。ここで、レーザスポットを用いる場合、基板表面を
走査する必要があるので、通常、コンピュータ上で２次
元像に再合成後、ＣＣＤカメラと同じく画像処理を施し
て欠陥の有無を判断している。
散乱光をＣＣＤカメラ等で捕らえて、欠陥像の中から欠
陥を特徴抽出して欠陥の有無を判別したり、或いはレー
ザスポット光を基板表面に照射し、基板からの反射・散
乱光を受光素子で電気信号に変換後、それらの強度変化
によって欠陥かどうかを判断する自動外観検査装置があ
る。ここで、レーザスポットを用いる場合、基板表面を
走査する必要があるので、通常、コンピュータ上で２次
元像に再合成後、ＣＣＤカメラと同じく画像処理を施し
て欠陥の有無を判断している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気記録媒
体の高密度化、薄型化が進み、それに適応できる基板と
してガラス基板が用いられるようになっているが、ガラ
ス基板は可視光線での透明度がアルミ基板に比べて高い
ために、従来の自動外観検査装置では対応することがで
きなくなっている。
体の高密度化、薄型化が進み、それに適応できる基板と
してガラス基板が用いられるようになっているが、ガラ
ス基板は可視光線での透明度がアルミ基板に比べて高い
ために、従来の自動外観検査装置では対応することがで
きなくなっている。
【０００６】即ち、ガラス基板の反射率が低いために、
反射光の光量変化に依存した欠陥検出方法では、基板へ
の光の入射角に制限が出てしまうことになり、その結
果、欠陥検出に関して方向依存性が高まり、自動外観検
査では見落しが頻発する。一方、目視検査では、経験に
より上記の制限を補うことができるが、経験に依存した
検査を工程に含めると、品質にばらつきが生じる。
反射光の光量変化に依存した欠陥検出方法では、基板へ
の光の入射角に制限が出てしまうことになり、その結
果、欠陥検出に関して方向依存性が高まり、自動外観検
査では見落しが頻発する。一方、目視検査では、経験に
より上記の制限を補うことができるが、経験に依存した
検査を工程に含めると、品質にばらつきが生じる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明は、ガラス基板に磁性膜等を成膜する工程等の
付加価値を付ける工程前に透過型自動外観検査装置によ
ってガラス基板の外観検査を行うようにした。
め本発明は、ガラス基板に磁性膜等を成膜する工程等の
付加価値を付ける工程前に透過型自動外観検査装置によ
ってガラス基板の外観検査を行うようにした。
【０００８】
【作用】磁気記録媒体用のガラス基板等に用いられる薄
型のガラス基板では可視光のほとんどが透過するととも
に、透過光が基板上の欠陥によって変化する。したがっ
て、成膜工程等の付加価値を付ける工程の前に透過型自
動外観装置でその欠陥を検査することができ、しかも製
品段階で確実に不良になる基板や、ほこりなど洗浄によ
り再生が可能な基板に分類することができる。
型のガラス基板では可視光のほとんどが透過するととも
に、透過光が基板上の欠陥によって変化する。したがっ
て、成膜工程等の付加価値を付ける工程の前に透過型自
動外観装置でその欠陥を検査することができ、しかも製
品段階で確実に不良になる基板や、ほこりなど洗浄によ
り再生が可能な基板に分類することができる。
【０００９】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明を適用した磁気記録媒
体用基板のライン検査方法を実施した基板生産ラインの
ブロック工程図、図２は透過型自動外観検査装置の概念
構成図である。
説明する。ここで、図１は本発明を適用した磁気記録媒
体用基板のライン検査方法を実施した基板生産ラインの
ブロック工程図、図２は透過型自動外観検査装置の概念
構成図である。
【００１０】磁気記録媒体用のガラス基板の生産工程に
ついて説明すると、材料となる基板１はガラス切断工程
２を経て円形に切断され、このとき基板を保持するため
のクランプ部分も同時に加工されてドーナツ状となる。
この加工された基板１は面取加工工程３で切断部分を面
取加工された後、研磨工程４で表面が鏡面状態になるよ
うに研磨され、洗浄工程５を経て研磨後の砥粒等が洗い
落とされ、更に透過型自動外観検査装置６にて基板表面
の外観検査が行われる。
ついて説明すると、材料となる基板１はガラス切断工程
２を経て円形に切断され、このとき基板を保持するため
のクランプ部分も同時に加工されてドーナツ状となる。
この加工された基板１は面取加工工程３で切断部分を面
取加工された後、研磨工程４で表面が鏡面状態になるよ
うに研磨され、洗浄工程５を経て研磨後の砥粒等が洗い
落とされ、更に透過型自動外観検査装置６にて基板表面
の外観検査が行われる。
【００１１】そして、外観検査にて基板表面が正常であ
ることを確認された基板は、その後成膜工程７で磁性膜
等が成膜され、潤滑剤塗布工程８で潤滑油が塗布され、
この後バーニッシュ工程９で磁性膜表面の異物などが取
り除かれた後、評価工程１０で媒体としての性能評価が
行われて、最後に目視検査によりチェックが行われて製
品１１として出荷される。
ることを確認された基板は、その後成膜工程７で磁性膜
等が成膜され、潤滑剤塗布工程８で潤滑油が塗布され、
この後バーニッシュ工程９で磁性膜表面の異物などが取
り除かれた後、評価工程１０で媒体としての性能評価が
行われて、最後に目視検査によりチェックが行われて製
品１１として出荷される。
【００１２】ここで、自動外観検査装置６による外観検
査について説明すると、この外観検査では、基板成形
したとき或いは研磨中に発生する基板内外周エッジ部分
の欠けや割れ、基板研磨中に発生する基板表面のキ
ズ、基板洗浄時に発生する洗浄跡などの汚れ、その
他、ライン移動中に付着した汚れ、取扱キズなどの欠陥
を検出する。
査について説明すると、この外観検査では、基板成形
したとき或いは研磨中に発生する基板内外周エッジ部分
の欠けや割れ、基板研磨中に発生する基板表面のキ
ズ、基板洗浄時に発生する洗浄跡などの汚れ、その
他、ライン移動中に付着した汚れ、取扱キズなどの欠陥
を検出する。
【００１３】この自動外観検査装置６は、図２に示すよ
うに研磨洗浄工程後の基板１にレーザー光源１２からの
レーザー光をコリメータ１３、ポリゴンミラー１４、フ
ーリエレンズ１５を介して集光して照射し、基板１を透
過した光をフーリエレンズ１６を介してフォトマルチプ
ライヤーやフォトダイオード等のセンサ１７で受光する
とともに、センサ１７で受光する明視野像の近傍にセン
サ１８を設け、センサ１７，１８の検出信号をコンパレ
ータ等でしきい値処理した後、コンピュータに取り込ん
で２次元画像化、画像処理をして欠陥の有無を判別す
る。
うに研磨洗浄工程後の基板１にレーザー光源１２からの
レーザー光をコリメータ１３、ポリゴンミラー１４、フ
ーリエレンズ１５を介して集光して照射し、基板１を透
過した光をフーリエレンズ１６を介してフォトマルチプ
ライヤーやフォトダイオード等のセンサ１７で受光する
とともに、センサ１７で受光する明視野像の近傍にセン
サ１８を設け、センサ１７，１８の検出信号をコンパレ
ータ等でしきい値処理した後、コンピュータに取り込ん
で２次元画像化、画像処理をして欠陥の有無を判別す
る。
【００１４】また、基板１の内周及び外周のエッジ部分
を検査するために、ハロゲンランプを用いたファイバ光
源２１と、内周用のＣＣＤカメラ２２，２３及び外周用
のＣＣＤカメラ２４，２５を配置し、これらＣＣＤカメ
ラ２２〜２５の検出信号に画像処理を施してエッジ部分
の欠陥を検査するようにしている。
を検査するために、ハロゲンランプを用いたファイバ光
源２１と、内周用のＣＣＤカメラ２２，２３及び外周用
のＣＣＤカメラ２４，２５を配置し、これらＣＣＤカメ
ラ２２〜２５の検出信号に画像処理を施してエッジ部分
の欠陥を検査するようにしている。
【００１５】この自動検査装置６の作用を説明すると、
レーザー光源１２からのレーザー光をこりメータ１２
ａ、レンズ１３を介してポリゴンミラー１４でスキャン
し、同時に基板１を回転させて、基板１の表面全体をス
キャンする。このとき、基板１表面に照射されたレーザ
ー光のスポット中に異物或いはキズ等の欠陥があれば、
基板１を透過したレーザー光の光強度が変化するので、
その変化量の大きなものを欠陥と判別することができ
る。
レーザー光源１２からのレーザー光をこりメータ１２
ａ、レンズ１３を介してポリゴンミラー１４でスキャン
し、同時に基板１を回転させて、基板１の表面全体をス
キャンする。このとき、基板１表面に照射されたレーザ
ー光のスポット中に異物或いはキズ等の欠陥があれば、
基板１を透過したレーザー光の光強度が変化するので、
その変化量の大きなものを欠陥と判別することができ
る。
【００１６】また、基板１を透過した光が直接入射され
るセンサ１７は、異物や汚れなどの光を吸収する欠陥に
対して敏感に反応するのに対して、光路から外れた位置
に配設されたセンサ１８には、基板１表面に光を回析・
散乱させる欠陥があるときに、レーザー光は図２に点線
で示すような光路を通って入射され、これに対して敏感
に反応する。
るセンサ１７は、異物や汚れなどの光を吸収する欠陥に
対して敏感に反応するのに対して、光路から外れた位置
に配設されたセンサ１８には、基板１表面に光を回析・
散乱させる欠陥があるときに、レーザー光は図２に点線
で示すような光路を通って入射され、これに対して敏感
に反応する。
【００１７】そこで、センサ１７，１８の信号強度によ
って、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の信号強
度変化より大きいときには、光吸収性の欠陥と識別する
ことができ、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の
信号強度変化よりも小さいときには、光回析・散乱性の
欠陥と識別することができる。
って、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の信号強
度変化より大きいときには、光吸収性の欠陥と識別する
ことができ、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の
信号強度変化よりも小さいときには、光回析・散乱性の
欠陥と識別することができる。
【００１８】更に、ＣＣＤカメラ２２〜２５の受光信号
を画像処理することによって、ガラス基板と異なって、
基板１自身の強度に大きな影響を及ぼす内外周部分の欠
けや割れなどの欠陥を検査することができる。
を画像処理することによって、ガラス基板と異なって、
基板１自身の強度に大きな影響を及ぼす内外周部分の欠
けや割れなどの欠陥を検査することができる。
【００１９】このように、基板の生産ライン中で、成膜
工程の前で外観検査を行うことにより、ガラス基板に起
因する欠陥品を成膜という付加価値の高い後工程に流す
ことなくラインから除去することができる。また、基板
生産工程での歩留り発生状況を監視することにより、例
えば内外周エッジ部分での不良が多く発生したり、基板
全体を欠陥が多く発生することなどの各種の情報をオン
ラインで把握することにより、その情報を元にして前工
程でどのようなことが発生しているかを早急に探索した
り、過去の事例に照らして速やかに対策を打つことがで
きるようになる。
工程の前で外観検査を行うことにより、ガラス基板に起
因する欠陥品を成膜という付加価値の高い後工程に流す
ことなくラインから除去することができる。また、基板
生産工程での歩留り発生状況を監視することにより、例
えば内外周エッジ部分での不良が多く発生したり、基板
全体を欠陥が多く発生することなどの各種の情報をオン
ラインで把握することにより、その情報を元にして前工
程でどのようなことが発生しているかを早急に探索した
り、過去の事例に照らして速やかに対策を打つことがで
きるようになる。
【００２０】尚、上記実施例では本発明を磁気記録媒体
用ガラス基板の生産ラインに適用した例について説明し
たが、これに限らず、例えば液晶用ガラス基板やＣＦＰ
（Color Ｆlat Ｐanel）用の透明ガラス基板上に存在
する傷や異物を全数検査する場合などにも適用すること
ができる。
用ガラス基板の生産ラインに適用した例について説明し
たが、これに限らず、例えば液晶用ガラス基板やＣＦＰ
（Color Ｆlat Ｐanel）用の透明ガラス基板上に存在
する傷や異物を全数検査する場合などにも適用すること
ができる。
【００２１】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
ガラス基板に磁性膜等を成膜する工程等の付加価値を付
ける工程前に透過型自動外観検査装置によってガラス基
板の外観検査を行うようにしたので、欠陥のあるガラス
基板を早期に除去することができて、製品の品質が向上
するとともに、歩留りが向上し、更に生産ラインへの不
良発生に対するフィードバックを迅速に行うことができ
る。
ガラス基板に磁性膜等を成膜する工程等の付加価値を付
ける工程前に透過型自動外観検査装置によってガラス基
板の外観検査を行うようにしたので、欠陥のあるガラス
基板を早期に除去することができて、製品の品質が向上
するとともに、歩留りが向上し、更に生産ラインへの不
良発生に対するフィードバックを迅速に行うことができ
る。
【図１】本発明を適用した磁気記録媒体用基板のライン
検査方法を実施した基板生産ラインのブロック工程図
検査方法を実施した基板生産ラインのブロック工程図
【図２】透過型自動外観検査装置の概念構成図
１…基板、２…切断工程、３…面取工程、４…研磨工
程、５…洗浄工程、６…自動外観検査装置、７…成膜工
程、８…潤滑剤塗布工程、９…バーニッシュ工程、１０
…評価工程、１１…製品、１２…レーザー光源、１４…
ポリゴンミラー、１７，１８…センサ。
程、５…洗浄工程、６…自動外観検査装置、７…成膜工
程、８…潤滑剤塗布工程、９…バーニッシュ工程、１０
…評価工程、１１…製品、１２…レーザー光源、１４…
ポリゴンミラー、１７，１８…センサ。
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板の生産ラインで欠陥を検査す
るライン検査方法において、前記ガラス基板に付加価値
を付ける工程前に透過型自動外観検査装置によって前記
ガラス基板の外観検査を行うことを特徴とするガラス基
板のライン検査方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載のガラス基板のライン検
査方法において、前記ガラス基板は磁気記録媒体用また
は液晶用のガラス基板であり、また前記付加価値を付け
る工程はガラス基板に成膜する工程であることを特徴と
するガラス基板のライン検査方法。 - 【請求項３】 請求項１に記載のガラス基板のライン検
査方法において、前記透過型自動外観検査装置は透過光
を検出するセンサ装置を備え、このセンサ装置は光路上
に配置されるセンサと、光路から外れた位置に配設され
るセンサとからなり、これらセンサの検出信号に基づい
て欠陥を検出することを特徴とするガラス基板のライン
検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6017556A JPH07225198A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | ガラス基板のライン検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6017556A JPH07225198A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | ガラス基板のライン検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225198A true JPH07225198A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11947197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6017556A Pending JPH07225198A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | ガラス基板のライン検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07225198A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6184977B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-02-06 | Minolta Co., Ltd. | Inspection method and inspection device |
| JP2009014361A (ja) * | 2007-06-30 | 2009-01-22 | Hoya Corp | 円板状基板の内径測定装置、内径測定方法、円板状基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 |
| JP2009014362A (ja) * | 2007-06-30 | 2009-01-22 | Hoya Corp | 円板状基板の内径測定装置、内径測定方法、円板状基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 |
| JP2012141192A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の欠陥検査方法、ガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法 |
| CN113649361A (zh) * | 2021-08-18 | 2021-11-16 | 沈阳工业大学 | 一种基于热通量的激光清洗质量在线检测系统及方法 |
-
1994
- 1994-02-14 JP JP6017556A patent/JPH07225198A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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