JPH0722706A - 発光装置及びその視覚方法及びその駆動方法 - Google Patents
発光装置及びその視覚方法及びその駆動方法Info
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- JPH0722706A JPH0722706A JP5152277A JP15227793A JPH0722706A JP H0722706 A JPH0722706 A JP H0722706A JP 5152277 A JP5152277 A JP 5152277A JP 15227793 A JP15227793 A JP 15227793A JP H0722706 A JPH0722706 A JP H0722706A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 出力光の取り出し効率が良好で、また装置構
成の小型軽量化が可能であり、且つカラー表示を行う場
合にその各色光の色純度、解像度の良好な全く新規な立
体視の可能な発光装置を提供する。 【構成】 基板1の主面1Sに対し垂直な方向に発振す
るレーザ装置20を基板1の上に複数個集積し、複数の
レーザ装置20の各出射光Lの支配的な偏波方向を、矢
印a及びbで示すように2種以上の異なる方向として構
成する。
成の小型軽量化が可能であり、且つカラー表示を行う場
合にその各色光の色純度、解像度の良好な全く新規な立
体視の可能な発光装置を提供する。 【構成】 基板1の主面1Sに対し垂直な方向に発振す
るレーザ装置20を基板1の上に複数個集積し、複数の
レーザ装置20の各出射光Lの支配的な偏波方向を、矢
印a及びbで示すように2種以上の異なる方向として構
成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザ等の面発光
レーザ装置を集積して成る新規な発光装置とその視覚方
法、更にその駆動方法に係わる。
レーザ装置を集積して成る新規な発光装置とその視覚方
法、更にその駆動方法に係わる。
【0002】
【従来の技術】一般に、映像情報をスクリーンに投射し
て視覚するいわゆるプロジェクション(投射型)ディス
プレイでは、投入電力から出力光への変換効率が比較的
低く、エネルギー効率が劣るという問題がある。そのた
め、消費電力が大きくなり、小型化が難しい。特に液晶
透過型のプロジェクションディスプレイでは、出力光の
前面への取り出し効率が悪い。
て視覚するいわゆるプロジェクション(投射型)ディス
プレイでは、投入電力から出力光への変換効率が比較的
低く、エネルギー効率が劣るという問題がある。そのた
め、消費電力が大きくなり、小型化が難しい。特に液晶
透過型のプロジェクションディスプレイでは、出力光の
前面への取り出し効率が悪い。
【0003】またブラウン管式のプロジェクションディ
スプレイは重量が重く、小型軽量化に適さないこと、ま
た電子銃駆動のために大電圧を必要とし、また発光強度
をあげるために使われている高励起用の蛍光体(緑色及
び赤色)は色純度が良くないという問題がある。更に青
色蛍光体は電子線による高励起に適さず、輝度飽和や焼
き付き劣化を起こすため、一般に電子線をデフォーカス
で使用していることが多く、青色解像度は比較的低い。
スプレイは重量が重く、小型軽量化に適さないこと、ま
た電子銃駆動のために大電圧を必要とし、また発光強度
をあげるために使われている高励起用の蛍光体(緑色及
び赤色)は色純度が良くないという問題がある。更に青
色蛍光体は電子線による高励起に適さず、輝度飽和や焼
き付き劣化を起こすため、一般に電子線をデフォーカス
で使用していることが多く、青色解像度は比較的低い。
【0004】また近年、左右の透視部の偏波方向が異な
るいわゆる偏光眼鏡を用いた立体視ディスプレイが種々
提案されている。このような立体視ディスプレイでは、
出力光に対して更に偏光フィルタを介して視覚すること
から、出力光の取り出し効率が低く、充分な光量を得難
いという問題がある。
るいわゆる偏光眼鏡を用いた立体視ディスプレイが種々
提案されている。このような立体視ディスプレイでは、
出力光に対して更に偏光フィルタを介して視覚すること
から、出力光の取り出し効率が低く、充分な光量を得難
いという問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、出力光の取
り出し効率が良好で、また装置構成の小型軽量化が可能
であり、且つカラー表示を行う場合にその各色光の色純
度、解像度が良好で新規な構成の立体視可能な発光装置
を提供する。
り出し効率が良好で、また装置構成の小型軽量化が可能
であり、且つカラー表示を行う場合にその各色光の色純
度、解像度が良好で新規な構成の立体視可能な発光装置
を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、その一例の略
線的構成図を図1に示すように、基板1の主面1Sに対
しほぼ垂直な方向に光を出射するレーザ装置20を基板
1の上に複数個集積し、複数のレーザ装置20の各出射
光Lの支配的な偏波方向を、矢印a及びbで示すように
2種以上の異なる方向として構成する。
線的構成図を図1に示すように、基板1の主面1Sに対
しほぼ垂直な方向に光を出射するレーザ装置20を基板
1の上に複数個集積し、複数のレーザ装置20の各出射
光Lの支配的な偏波方向を、矢印a及びbで示すように
2種以上の異なる方向として構成する。
【0007】更にまた本発明は、上述の構成において、
図2にその一例の模式的な平面図を示すように、各レー
ザ装置の出射光の偏波方向a及びbを互いに垂直な方向
に選定して構成する。
図2にその一例の模式的な平面図を示すように、各レー
ザ装置の出射光の偏波方向a及びbを互いに垂直な方向
に選定して構成する。
【0008】また本発明は、上述の構成において、図3
A〜Eに各例の略線的拡大平面図を示すように、レーザ
装置20を基板1上に1次元配置して構成する。更に本
発明は、上述の構成において、レーザ装置を基板1上に
2次元配置して構成する。
A〜Eに各例の略線的拡大平面図を示すように、レーザ
装置20を基板1上に1次元配置して構成する。更に本
発明は、上述の構成において、レーザ装置を基板1上に
2次元配置して構成する。
【0009】更に本発明は、上述の構成において、図4
にその一例の略線的拡大斜視図を示すように、レーザ装
置20を、基板1の主面に沿う方向に共振器を有して成
り、この共振器の光出射端面に対向して反射鏡12A及
び12Bを設けて構成する。また本発明は、上述の構成
において、レーザ装置の反射鏡12A及び12Bを気相
成長により形成する。
にその一例の略線的拡大斜視図を示すように、レーザ装
置20を、基板1の主面に沿う方向に共振器を有して成
り、この共振器の光出射端面に対向して反射鏡12A及
び12Bを設けて構成する。また本発明は、上述の構成
において、レーザ装置の反射鏡12A及び12Bを気相
成長により形成する。
【0010】更に本発明は、上述の構成において、図5
にその一例の略線的拡大断面図を示すように、レーザ装
置20の上に、可視光に対し透過性を有する材料より成
るヒートシンク31を設ける構成とする。
にその一例の略線的拡大断面図を示すように、レーザ装
置20の上に、可視光に対し透過性を有する材料より成
るヒートシンク31を設ける構成とする。
【0011】また本発明は、図6にその一例の略線的構
成図を示すように、上述の構成において各レーザ装置か
らの出射光により文字や画像、映像等の表示を行う。ま
た本発明は、上述の各構成において、レーザ装置20か
らの出射光を青色光LB 、赤色光LR 、緑色光LG の三
原色として構成する。
成図を示すように、上述の構成において各レーザ装置か
らの出射光により文字や画像、映像等の表示を行う。ま
た本発明は、上述の各構成において、レーザ装置20か
らの出射光を青色光LB 、赤色光LR 、緑色光LG の三
原色として構成する。
【0012】更に本発明は、上述の各構成において、基
板1の上に、レーザ装置の電極部を選択する駆動回路を
設ける構成とする。
板1の上に、レーザ装置の電極部を選択する駆動回路を
設ける構成とする。
【0013】更にまた本発明は、図7にその一例の略線
的拡大平面図を示すように、上述の各構成において、基
板1とは別体の基板41に、レーザ装置20の電極部2
2に対応する電極部42を選択する駆動回路43を設
け、これら両基板1及び41の各電極部22及び42が
対向するように貼り合わせて構成する。
的拡大平面図を示すように、上述の各構成において、基
板1とは別体の基板41に、レーザ装置20の電極部2
2に対応する電極部42を選択する駆動回路43を設
け、これら両基板1及び41の各電極部22及び42が
対向するように貼り合わせて構成する。
【0014】また本発明は、図8にその一例の略線的構
成図を示すように、基板の主面にほぼ垂直な方向に光を
出射するレーザ装置が基板上に複数個集積され、これら
複数のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有する構成と
された発光装置50に対し、偏波方向に対応する偏光手
段51を通して視覚する。
成図を示すように、基板の主面にほぼ垂直な方向に光を
出射するレーザ装置が基板上に複数個集積され、これら
複数のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有する構成と
された発光装置50に対し、偏波方向に対応する偏光手
段51を通して視覚する。
【0015】また更に本発明は、上述の視覚方法におい
て、矢印a及びbで示すように偏波方向が互いに垂直な
2種の偏波方向に選定された発光装置50を用いる。
て、矢印a及びbで示すように偏波方向が互いに垂直な
2種の偏波方向に選定された発光装置50を用いる。
【0016】また本発明は、基板の主面にほぼ垂直な方
向に光を出射するレーザ装置が基板上に複数個集積さ
れ、これら複数のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有
する構成とされた発光装置に対し、図9にその一例の駆
動動作を模式的に示すように、複数のレーザ装置20へ
の電流パルス幅を変調することにより輝度変調を行って
駆動する。
向に光を出射するレーザ装置が基板上に複数個集積さ
れ、これら複数のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有
する構成とされた発光装置に対し、図9にその一例の駆
動動作を模式的に示すように、複数のレーザ装置20へ
の電流パルス幅を変調することにより輝度変調を行って
駆動する。
【0017】
【作用】上述したように本発明においては、面発光型の
レーザ装置を用いて、このレーザ装置の出力光が特定の
偏波方向を有して成ることを利用し、その偏波方向が2
方向となるようにレーザ装置を基板上に配置することに
よって、レーザ光の指向性により出力光の前面への取り
出し効率が高く、且つ上述したようにレーザ光の偏波特
性を利用することから出力光利用効率の格段に高い立体
視が可能な発光装置を提供するものである。
レーザ装置を用いて、このレーザ装置の出力光が特定の
偏波方向を有して成ることを利用し、その偏波方向が2
方向となるようにレーザ装置を基板上に配置することに
よって、レーザ光の指向性により出力光の前面への取り
出し効率が高く、且つ上述したようにレーザ光の偏波特
性を利用することから出力光利用効率の格段に高い立体
視が可能な発光装置を提供するものである。
【0018】即ちこのような構成の発光装置に対し、上
述の偏波方向に対応する視覚部を有する偏光手段例えば
いわゆる偏光眼鏡を通して視覚することによって、左右
の視覚のずれを利用した立体視を行うことができる。そ
して上述の構成において、図2に示すように偏波方向を
互いに垂直な2方向に選定することによって、これらの
偏波方向に対応する偏光手段の各部の偏波方向の角度合
わせを簡単にし、その製造の簡易化をはかることができ
る。
述の偏波方向に対応する視覚部を有する偏光手段例えば
いわゆる偏光眼鏡を通して視覚することによって、左右
の視覚のずれを利用した立体視を行うことができる。そ
して上述の構成において、図2に示すように偏波方向を
互いに垂直な2方向に選定することによって、これらの
偏波方向に対応する偏光手段の各部の偏波方向の角度合
わせを簡単にし、その製造の簡易化をはかることができ
る。
【0019】また図3A〜Eに示すようにレーザ装置を
基板1上に1次元配置して構成し、、この光をガルバノ
ミラーやポリゴンミラー等によって走査することにより
2次元の情報を発光させることができ、且つその配線等
の構成を簡略化することができる。
基板1上に1次元配置して構成し、、この光をガルバノ
ミラーやポリゴンミラー等によって走査することにより
2次元の情報を発光させることができ、且つその配線等
の構成を簡略化することができる。
【0020】一方上述の構成においてレーザ装置を基板
1上に2次元配置することにより、2次元情報を簡単に
発光させることができる。
1上に2次元配置することにより、2次元情報を簡単に
発光させることができる。
【0021】また、図4に示すように、共振器が基板主
面と平行に設けられ、その光出射端面に対向して反射鏡
12A及び12Bが設けられるいわゆる外部反射鏡型の
面発光レーザ装置を用いることによって偏波方向の制御
が容易となり、またその反射鏡12A及び12Bを気相
成長により形成された構成とすることによって、その2
次元集積化を簡単化し、且つこの場合反射鏡面の角度制
御性が向上することから光出射方向を精度良く構成する
ことができて、収差やケラレのないレーザ光を発光させ
ることができる。
面と平行に設けられ、その光出射端面に対向して反射鏡
12A及び12Bが設けられるいわゆる外部反射鏡型の
面発光レーザ装置を用いることによって偏波方向の制御
が容易となり、またその反射鏡12A及び12Bを気相
成長により形成された構成とすることによって、その2
次元集積化を簡単化し、且つこの場合反射鏡面の角度制
御性が向上することから光出射方向を精度良く構成する
ことができて、収差やケラレのないレーザ光を発光させ
ることができる。
【0022】更に上述の構成において、図5に示すよう
に、レーザ装置の上に可視光に対し透過性を有する材料
より成るヒートシンクを設けることによって熱はけを良
好にし、信頼性の高い発光装置を構成することができ
る。また上述の発光装置によって、図6に示すように映
像、文字等の表示を行うことにより、小型で軽量且つ出
力光の取り出し効率が高く、充分な光量の得られる立体
視表示装置を提供することができる。
に、レーザ装置の上に可視光に対し透過性を有する材料
より成るヒートシンクを設けることによって熱はけを良
好にし、信頼性の高い発光装置を構成することができ
る。また上述の発光装置によって、図6に示すように映
像、文字等の表示を行うことにより、小型で軽量且つ出
力光の取り出し効率が高く、充分な光量の得られる立体
視表示装置を提供することができる。
【0023】またこのような発光装置のレーザ装置への
電流パルス幅を変調することにより簡単且つ確実に輝度
変調を行うことができ、特にそのレーザダイオード素子
の非線形性に影響されない正確な輝度変調表示が可能と
なる。
電流パルス幅を変調することにより簡単且つ確実に輝度
変調を行うことができ、特にそのレーザダイオード素子
の非線形性に影響されない正確な輝度変調表示が可能と
なる。
【0024】
【実施例】以下本発明実施例を図面を参照して詳細に説
明する。本発明は、その一例の略線的構成図を図1に示
すように、基板1の主面1Sに対し垂直な方向に発振す
るレーザ装置20を同一基板上に複数個集積し、これら
複数のレーザ装置20の各出射光Lの支配的な偏波方向
が、矢印a,bで示すように2種以上の異なる方向とな
るように構成する。このレーザ装置の配置は、図1に示
すように偏波方向の異なるレーザ装置が上下左右に交互
に隣接するいわゆる市松状に設けても良く、図2に示す
ように、各行毎に交互に配置しても良い。
明する。本発明は、その一例の略線的構成図を図1に示
すように、基板1の主面1Sに対し垂直な方向に発振す
るレーザ装置20を同一基板上に複数個集積し、これら
複数のレーザ装置20の各出射光Lの支配的な偏波方向
が、矢印a,bで示すように2種以上の異なる方向とな
るように構成する。このレーザ装置の配置は、図1に示
すように偏波方向の異なるレーザ装置が上下左右に交互
に隣接するいわゆる市松状に設けても良く、図2に示す
ように、各行毎に交互に配置しても良い。
【0025】このような面発光型のレーザ装置として
は、図10A〜Dに示すように各種の構成が提案されて
いる。図10Aに示す垂直共振器型のレーザは、基板1
上に垂直方向に共振器11を積層形成し、その後例えば
基板1の裏面側から溝61を化学的エッチング等により
形成してここから光を基板1の主面に対し垂直な方向に
取り出すものである。この場合レーザ光の偏波方向の制
御が難しい。また構造上電流注入がしにくく端子間電圧
が高いので、エネルギー利用効率が低下する恐れがあ
る。
は、図10A〜Dに示すように各種の構成が提案されて
いる。図10Aに示す垂直共振器型のレーザは、基板1
上に垂直方向に共振器11を積層形成し、その後例えば
基板1の裏面側から溝61を化学的エッチング等により
形成してここから光を基板1の主面に対し垂直な方向に
取り出すものである。この場合レーザ光の偏波方向の制
御が難しい。また構造上電流注入がしにくく端子間電圧
が高いので、エネルギー利用効率が低下する恐れがあ
る。
【0026】一方図10B〜Dの例は、基板主面に対し
水平な方向に共振器を構成するいわゆる水平共振器型構
成のもので、図10Bは共振器端面11Aに対向して基
板主面に対しほぼ45°を成す反射鏡12が形成される
いわゆる外部45度反射鏡型、図10Cは基板主面に対
し45°を成す溝62をRIE(反応性イオンエッチン
グ)等の異方性エッチングにより掘り込み、その斜めに
形成された共振器端面を内部反射鏡12iとして設ける
内部45度反射鏡型、また図10Dは活性層3の一部に
近接してグレーティング(回折格子)63を形成し、こ
れにより基板主面に直交する方向に出射光を取り出すい
わる回折格子型のレーザ装置である。
水平な方向に共振器を構成するいわゆる水平共振器型構
成のもので、図10Bは共振器端面11Aに対向して基
板主面に対しほぼ45°を成す反射鏡12が形成される
いわゆる外部45度反射鏡型、図10Cは基板主面に対
し45°を成す溝62をRIE(反応性イオンエッチン
グ)等の異方性エッチングにより掘り込み、その斜めに
形成された共振器端面を内部反射鏡12iとして設ける
内部45度反射鏡型、また図10Dは活性層3の一部に
近接してグレーティング(回折格子)63を形成し、こ
れにより基板主面に直交する方向に出射光を取り出すい
わる回折格子型のレーザ装置である。
【0027】これら水平共振器型のレーザ装置は、基本
的に通常の半導体レーザと同様に素子設計による偏波方
向を揃えることが容易となり、活性層に平行ないわゆる
TE偏光を示し易い。また電流注入も行い易くなること
から、活性層以外の部分でのエネルギー損失が非常に少
なく、エネルギー利用効率が高い。特に、外部45度反
射鏡型の構成を採る場合は基板主面に水平な方向にレー
ザ光を取り出すいわゆるエッジエミッティング型のレー
ザ構造をそのまま利用することができる。
的に通常の半導体レーザと同様に素子設計による偏波方
向を揃えることが容易となり、活性層に平行ないわゆる
TE偏光を示し易い。また電流注入も行い易くなること
から、活性層以外の部分でのエネルギー損失が非常に少
なく、エネルギー利用効率が高い。特に、外部45度反
射鏡型の構成を採る場合は基板主面に水平な方向にレー
ザ光を取り出すいわゆるエッジエミッティング型のレー
ザ構造をそのまま利用することができる。
【0028】また、本出願人は先に特願平4−2305
48号出願において、集積配置化が容易な半導体レーザ
装置を提案した。この例を図4に示す。この場合、基板
1の主面に沿う方向に共振器を有する水平共振器型で、
この共振器の光出射端面に対向して反射鏡12A及び1
2Bを設ける。この外部45°反射鏡は、例えば共振器
上部を選択的にレジストマスク等により覆って、斜め方
向からのエッチング等により形成しても良いが、本出願
人は先に特願平4−230548号出願において、これ
ら外部反射鏡12A及び12Bを気相成長により、共振
器と共に1回の気相成長で形成し得る構成を提案した。
以下図4を参照してこの気相成長レーザ装置を説明す
る。
48号出願において、集積配置化が容易な半導体レーザ
装置を提案した。この例を図4に示す。この場合、基板
1の主面に沿う方向に共振器を有する水平共振器型で、
この共振器の光出射端面に対向して反射鏡12A及び1
2Bを設ける。この外部45°反射鏡は、例えば共振器
上部を選択的にレジストマスク等により覆って、斜め方
向からのエッチング等により形成しても良いが、本出願
人は先に特願平4−230548号出願において、これ
ら外部反射鏡12A及び12Bを気相成長により、共振
器と共に1回の気相成長で形成し得る構成を提案した。
以下図4を参照してこの気相成長レーザ装置を説明す
る。
【0029】図4において1は第1伝導型の例えばn型
のGaAsより成る基板で、1Sはその{100}結晶
面の例えば(100)結晶面より成る主面を示し、2は
例えばn型のAlGaAsより成る第1伝導型クラッド
層、3は例えば真性のGaAsより成る活性層、4及び
6は例えばp型のAlx Ga1-x As(x=0.4)等
より成る第2伝導型クラッド層、5は例えばn型のAl
y Ga1-y As(y=0.5)等より成る第1伝導型の
電流阻止層で、例えば活性層4の発光領域となる部分の
両側上部に矢印Aで示す共振器長方向に延長するパター
ンとして形成され、いわゆるSAN(リアルインデック
スガイド型)構造を構成する。また7はSiNX 等より
成る成長阻止層、8は再成長により形成した例えばp型
のGaAsより成り、基板1の主面1Sに対し45°の
角度を成して成長する第2伝導型の結晶成長層で、9は
結晶成長層7に対しオーミックに接触される電極を示
す。
のGaAsより成る基板で、1Sはその{100}結晶
面の例えば(100)結晶面より成る主面を示し、2は
例えばn型のAlGaAsより成る第1伝導型クラッド
層、3は例えば真性のGaAsより成る活性層、4及び
6は例えばp型のAlx Ga1-x As(x=0.4)等
より成る第2伝導型クラッド層、5は例えばn型のAl
y Ga1-y As(y=0.5)等より成る第1伝導型の
電流阻止層で、例えば活性層4の発光領域となる部分の
両側上部に矢印Aで示す共振器長方向に延長するパター
ンとして形成され、いわゆるSAN(リアルインデック
スガイド型)構造を構成する。また7はSiNX 等より
成る成長阻止層、8は再成長により形成した例えばp型
のGaAsより成り、基板1の主面1Sに対し45°の
角度を成して成長する第2伝導型の結晶成長層で、9は
結晶成長層7に対しオーミックに接触される電極を示
す。
【0030】この場合、図1において矢印Aで示す〈0
10〉結晶軸方向の例えば〔010〕結晶軸方向に共振
器が延長するように、その共振器端面11A及び11B
がRIE等の垂直エッチングにより形成されて成り、こ
れに対向する{110}結晶面の例えば(110)結晶
面より成る基板1の主面1Sに対し45°を成す結晶成
長面を反射鏡12A及び12Bとして構成する。10は
一方の反射鏡12Aに被着される金属または誘電体多層
膜より成る高反射膜である。
10〉結晶軸方向の例えば〔010〕結晶軸方向に共振
器が延長するように、その共振器端面11A及び11B
がRIE等の垂直エッチングにより形成されて成り、こ
れに対向する{110}結晶面の例えば(110)結晶
面より成る基板1の主面1Sに対し45°を成す結晶成
長面を反射鏡12A及び12Bとして構成する。10は
一方の反射鏡12Aに被着される金属または誘電体多層
膜より成る高反射膜である。
【0031】このレーザ装置に電流を注入すると、二つ
の垂直な端面11A及び11Bの間で共振器が構成され
てレーザ発振を起こし、一旦基板1の主面1Sに対し平
行に出射された光は、45°の反射鏡12A及び12B
により基板1に垂直な方向に反射されることになり、面
発光が実現される。
の垂直な端面11A及び11Bの間で共振器が構成され
てレーザ発振を起こし、一旦基板1の主面1Sに対し平
行に出射された光は、45°の反射鏡12A及び12B
により基板1に垂直な方向に反射されることになり、面
発光が実現される。
【0032】このような構成は、上述したように基板1
の主面を{100}結晶面とし、共振器長方向を〈01
0〉結晶軸方向に選定する構成において、MOCVD
(有機金属による化学的気相成長)法、MBE(分子線
エピタキシー)法、減圧MOCVD法等によりGaA
s、AlGaAs、InP、InAlGaP等の化合物
半導体層を結晶成長する場合、その共振器端面11A及
び11B上の縁部から{110}結晶面が一端成長する
とこの{110}結晶面上では成長速度が比較的遅いこ
とから、この基板主面1Sに対し45°を成す{11
0}結晶面が自然発生的に形成されることを利用したも
のである。
の主面を{100}結晶面とし、共振器長方向を〈01
0〉結晶軸方向に選定する構成において、MOCVD
(有機金属による化学的気相成長)法、MBE(分子線
エピタキシー)法、減圧MOCVD法等によりGaA
s、AlGaAs、InP、InAlGaP等の化合物
半導体層を結晶成長する場合、その共振器端面11A及
び11B上の縁部から{110}結晶面が一端成長する
とこの{110}結晶面上では成長速度が比較的遅いこ
とから、この基板主面1Sに対し45°を成す{11
0}結晶面が自然発生的に形成されることを利用したも
のである。
【0033】従って、図1に示すように、この{11
0}結晶面を反射鏡12A及び12Bとして構成するこ
とによって、活性層3から出射されるレーザ光を図1に
おいて矢印Bで示すように基板1にほぼ垂直な方向に取
り出すことができて、面発光レーザを気相成長により良
好な結晶性をもって構成することができる。
0}結晶面を反射鏡12A及び12Bとして構成するこ
とによって、活性層3から出射されるレーザ光を図1に
おいて矢印Bで示すように基板1にほぼ垂直な方向に取
り出すことができて、面発光レーザを気相成長により良
好な結晶性をもって構成することができる。
【0034】そしてこの場合外部反射鏡が結晶成長面で
あることから、RIBE(反応性イオンビームエッチン
グ)法等の従来のドライ又はウェットエッチングにより
反射鏡を形成する場合に比し、その表面の平坦性、角度
の制御性が格段に優れており、また通常の半導体レーザ
と同様の成長条件をもって形成し得るため極めて汎用性
及び簡便性が高い。
あることから、RIBE(反応性イオンビームエッチン
グ)法等の従来のドライ又はウェットエッチングにより
反射鏡を形成する場合に比し、その表面の平坦性、角度
の制御性が格段に優れており、また通常の半導体レーザ
と同様の成長条件をもって形成し得るため極めて汎用性
及び簡便性が高い。
【0035】更にこの場合上述したように例えばSAN
(リアルインデックスガイド型)構成を採っているた
め、電流狭窄と共に光の横方向の閉じ込めもなされ、低
閾値電流化をはかることができる等の利点を有するもの
である。
(リアルインデックスガイド型)構成を採っているた
め、電流狭窄と共に光の横方向の閉じ込めもなされ、低
閾値電流化をはかることができる等の利点を有するもの
である。
【0036】また、このように本発明においては半導体
レーザダイオードを用いることから、2次元アレイのウ
ェファ自体がそのまま発光素子となり、小型軽量化が極
めて簡単で、光学系も簡単な構成とすることができ、出
力光の取り出し効率を更に高いものとし得る。
レーザダイオードを用いることから、2次元アレイのウ
ェファ自体がそのまま発光素子となり、小型軽量化が極
めて簡単で、光学系も簡単な構成とすることができ、出
力光の取り出し効率を更に高いものとし得る。
【0037】そして更に、水平共振器型を応用した外部
45度反射鏡型の半導体レーザを利用することにより、
偏波制御を簡単且つ確実に行うことができる。
45度反射鏡型の半導体レーザを利用することにより、
偏波制御を簡単且つ確実に行うことができる。
【0038】上述の構成により形成された各レーザ装置
からの出射光により表示を行うことができる。この構成
例を図6に示す。この場合、赤色光LR 、緑色光LG 、
青色光LB を出射する各レーザ装置が集積された発光装
置R、G及びBを設ける三原色構成とするもので、図6
においては各色光を透過或いは反射するプリズム22を
介して、このプリズム22の側面に上述の各発光装置
R、G及びBを配置し、光学レンズ系23を通過した光
がスクリーン24に拡大投射される構成とする。
からの出射光により表示を行うことができる。この構成
例を図6に示す。この場合、赤色光LR 、緑色光LG 、
青色光LB を出射する各レーザ装置が集積された発光装
置R、G及びBを設ける三原色構成とするもので、図6
においては各色光を透過或いは反射するプリズム22を
介して、このプリズム22の側面に上述の各発光装置
R、G及びBを配置し、光学レンズ系23を通過した光
がスクリーン24に拡大投射される構成とする。
【0039】半導体レーザダイオードは発光素子の中で
も最も電気−光変換効率が高い素子であることから、従
来のプロジェクションディスプレイに比しエネルギー効
率の格段に高いディスプレイを得ることができることと
なる。このため、消費電力の低減化及び小型軽量化が可
能となる。
も最も電気−光変換効率が高い素子であることから、従
来のプロジェクションディスプレイに比しエネルギー効
率の格段に高いディスプレイを得ることができることと
なる。このため、消費電力の低減化及び小型軽量化が可
能となる。
【0040】上述の三原色光を発光するためには、上述
のレーザ装置の構成において活性層の組成をそれぞれ、
赤色の場合は(InAlGa)PやCd(Se,T
e)、青色の場合はZnSSe、緑色の場合は(Zn,
Cd)(Se,Te)とすることにより達成できる。
のレーザ装置の構成において活性層の組成をそれぞれ、
赤色の場合は(InAlGa)PやCd(Se,T
e)、青色の場合はZnSSe、緑色の場合は(Zn,
Cd)(Se,Te)とすることにより達成できる。
【0041】また半導体レーザダイオードは出力光が単
色性の高いシャープなラインスペクトルであり、このよ
うに活性層の組成により各色光を簡単に出射させること
ができ、またある場合は組成を変調することによって発
光色を連続的に変化させられるので、非常に純度の高い
理想的な色調を出すことが可能となる。
色性の高いシャープなラインスペクトルであり、このよ
うに活性層の組成により各色光を簡単に出射させること
ができ、またある場合は組成を変調することによって発
光色を連続的に変化させられるので、非常に純度の高い
理想的な色調を出すことが可能となる。
【0042】このように表示されたスクリーン24上の
各光の偏波方向を単純化して単色のディスプレイとした
場合、図8に示すように、各レーザからの出射光の偏波
方向が矢印a及びbで示すように縦1列毎に交互に変わ
るように配置すれば、それぞれの偏波に平行な光を透過
させる偏光板が例えば左右に配置された偏光手段51い
わゆる偏光眼鏡を用いることによって、容易に立体視デ
ィスプレイを提供することができる。
各光の偏波方向を単純化して単色のディスプレイとした
場合、図8に示すように、各レーザからの出射光の偏波
方向が矢印a及びbで示すように縦1列毎に交互に変わ
るように配置すれば、それぞれの偏波に平行な光を透過
させる偏光板が例えば左右に配置された偏光手段51い
わゆる偏光眼鏡を用いることによって、容易に立体視デ
ィスプレイを提供することができる。
【0043】この偏波方向の配置はこのように1列毎に
交互に配置するのみならず、前述したように市松型、ま
た1行毎に交互に配置してもよい。また1次元配置とし
て、これをガルバノミラーやポリゴンミラー等を用いて
スクリーン24上に走査照射することによって、2次元
映像表示が可能となる。1次元配置の各例を図3A〜E
に示す。
交互に配置するのみならず、前述したように市松型、ま
た1行毎に交互に配置してもよい。また1次元配置とし
て、これをガルバノミラーやポリゴンミラー等を用いて
スクリーン24上に走査照射することによって、2次元
映像表示が可能となる。1次元配置の各例を図3A〜E
に示す。
【0044】図3Aにおいては、基板1の上にレーザ光
の偏波方向が矢印a及びbで示すように図3の紙面にお
いて左右及び上下方向となるように、各レーザ装置20
が横方向に交互に配列された例、図3Bにおいては、矢
印c及びdで示すように互いに直交する斜め方向の偏波
方向を有するレーザ装置20が横方向に交互に配列され
た例を示す。
の偏波方向が矢印a及びbで示すように図3の紙面にお
いて左右及び上下方向となるように、各レーザ装置20
が横方向に交互に配列された例、図3Bにおいては、矢
印c及びdで示すように互いに直交する斜め方向の偏波
方向を有するレーザ装置20が横方向に交互に配列され
た例を示す。
【0045】また図3C、図3Dにおいては、各基板1
A、1B上においてそれぞれ一様な偏波方向を有するレ
ーザ装置20が横方向に一列に配置され、これら基板1
A及び1Bが横方向に延長するように隣接して設けられ
て、各基板間で偏波方向が異なるように、即ち縦横方
向、又は斜め2方向に配置された例を示す。また更に図
3Eにおいては、基板1A、1Bにそれぞれ同一の偏波
方向を有するレーザ装置20を一列に配置し、この基板
1Aと1Bの延長方向が直交するように配置して、得ら
れるレーザ光の偏波方向が直交するようにした例を示
す。この場合、各基板1A及び1B上で全く同じプロセ
ス即ち同じマスクを用いての製造が可能となる。
A、1B上においてそれぞれ一様な偏波方向を有するレ
ーザ装置20が横方向に一列に配置され、これら基板1
A及び1Bが横方向に延長するように隣接して設けられ
て、各基板間で偏波方向が異なるように、即ち縦横方
向、又は斜め2方向に配置された例を示す。また更に図
3Eにおいては、基板1A、1Bにそれぞれ同一の偏波
方向を有するレーザ装置20を一列に配置し、この基板
1Aと1Bの延長方向が直交するように配置して、得ら
れるレーザ光の偏波方向が直交するようにした例を示
す。この場合、各基板1A及び1B上で全く同じプロセ
ス即ち同じマスクを用いての製造が可能となる。
【0046】このように2枚の基板1A及び1Bに異な
る偏波方向のレーザ装置20を配列する場合、図11に
示すように例えばここから得られる出射光がスクリーン
24上において重なるように投射し、上述の偏光手段5
1を用いてこの投射された像を視覚することによって立
体視が可能となる。
る偏波方向のレーザ装置20を配列する場合、図11に
示すように例えばここから得られる出射光がスクリーン
24上において重なるように投射し、上述の偏光手段5
1を用いてこの投射された像を視覚することによって立
体視が可能となる。
【0047】また同様にレーザ装置20を基板上に2次
元配置する場合にも、例えば図12に示すように、同一
の偏波方向のレーザ装置を同一基板上に2次元配置した
2枚の基板1A及び1Bを並置配列し、ここから得られ
る出射光を図11に示すようにスクリーン24に重なる
ように投射して偏光手段により視覚することによって立
体視が可能となる。
元配置する場合にも、例えば図12に示すように、同一
の偏波方向のレーザ装置を同一基板上に2次元配置した
2枚の基板1A及び1Bを並置配列し、ここから得られ
る出射光を図11に示すようにスクリーン24に重なる
ように投射して偏光手段により視覚することによって立
体視が可能となる。
【0048】一方、半導体レーザは比較的エネルギー変
換効率が高い素子であるが、上述したように高密度に基
板上に配置する場合、実際に使用する際にはヒートシン
クを設けることが必要となる。例えば上述の図4におい
て説明したように外部45度反射鏡型の半導体レーザを
用いる場合、図5に示すように、そのレーザ装置20の
共振器と反射鏡の上面に接するように、光透過性のヒー
トシンク31を設けることによって充分な熱放散を行う
ことができる。このヒートシンク31の材料としては、
サファイヤやダイヤモンド等の可視光領域で透明で且つ
熱伝導の比較的高い各種材料を用いることができる。
換効率が高い素子であるが、上述したように高密度に基
板上に配置する場合、実際に使用する際にはヒートシン
クを設けることが必要となる。例えば上述の図4におい
て説明したように外部45度反射鏡型の半導体レーザを
用いる場合、図5に示すように、そのレーザ装置20の
共振器と反射鏡の上面に接するように、光透過性のヒー
トシンク31を設けることによって充分な熱放散を行う
ことができる。このヒートシンク31の材料としては、
サファイヤやダイヤモンド等の可視光領域で透明で且つ
熱伝導の比較的高い各種材料を用いることができる。
【0049】更に、このヒートシンク31を板状とし、
その光出射部上に例えばマイクロレンズ32を設けるこ
とによって、より効率良くレーザ光を取り出すことがで
きる。このマイクロレンズ32は例えば図13A及びB
に製造工程を示すように、ヒートシンク31の上にレジ
スト32rをフォトリソグラフィ等の適用によってレー
ザ装置の各光出射位置に対応する位置に配置されるよう
にパターン形成した後、加熱溶融等によりその角部を滑
らかにして半球状とすることによって簡単に形成するこ
とができる。
その光出射部上に例えばマイクロレンズ32を設けるこ
とによって、より効率良くレーザ光を取り出すことがで
きる。このマイクロレンズ32は例えば図13A及びB
に製造工程を示すように、ヒートシンク31の上にレジ
スト32rをフォトリソグラフィ等の適用によってレー
ザ装置の各光出射位置に対応する位置に配置されるよう
にパターン形成した後、加熱溶融等によりその角部を滑
らかにして半球状とすることによって簡単に形成するこ
とができる。
【0050】次に、このようなレーザ装置を駆動する方
法及び構成を詳細に説明する。図1及び2に示すよう
に、レーザ装置20を基板1の上に2次元配置する場
合、その電極配線は例えば図14にその一例の略線的拡
大斜視図を示すように、例えば絶縁材料より成る基板1
の上にn型GaAs等の半導体層16を形成してこの上
に上述の構成のレーザ装置20及び反射鏡12を気相成
長により形成し、各レーザ装置20が例えば1列毎に基
板側で絶縁分離されるようにストライプ状の溝17をR
IE等の異方性エッチングにより形成し、これら溝17
に分離された各列の半導体層16上にAu等の金属層を
被着して基板側の電極19をストライプ状にパターニン
グ形成する。また例えばエアブリッジ構造を利用して、
Au等より成る共振器上の電極9を、基板側の電極19
とは直交する方向に延長するストライプ状にパターニン
グ形成していわゆる単純マトリクスによるラインアドレ
ス方式の電極を構成することができる。
法及び構成を詳細に説明する。図1及び2に示すよう
に、レーザ装置20を基板1の上に2次元配置する場
合、その電極配線は例えば図14にその一例の略線的拡
大斜視図を示すように、例えば絶縁材料より成る基板1
の上にn型GaAs等の半導体層16を形成してこの上
に上述の構成のレーザ装置20及び反射鏡12を気相成
長により形成し、各レーザ装置20が例えば1列毎に基
板側で絶縁分離されるようにストライプ状の溝17をR
IE等の異方性エッチングにより形成し、これら溝17
に分離された各列の半導体層16上にAu等の金属層を
被着して基板側の電極19をストライプ状にパターニン
グ形成する。また例えばエアブリッジ構造を利用して、
Au等より成る共振器上の電極9を、基板側の電極19
とは直交する方向に延長するストライプ状にパターニン
グ形成していわゆる単純マトリクスによるラインアドレ
ス方式の電極を構成することができる。
【0051】このような構成において、特に半導体レー
ザは低電圧駆動が可能なことから、従来の電子回路で駆
動部を構成することができ、モノリシックに即ち同一の
基板1の上にレーザ装置の電極部を選択する駆動回路を
設ける構成とすることもでき、また図7に示すように、
レーザ装置20を設ける基板1とは別体のSi等より成
る基板41の上に、レーザ装置20の電極部22に対応
する電極42及びこれを選択する駆動回路43を破線図
示の如く設け、これらを各電極部22及び42が接する
ように貼り合わせ、いわゆるハイブリット式構成とする
こともできる。このような構成とすることによって、電
極パッド数を減少させてシステムへの組み込みを容易に
し、更には高密度高精細度化をはかることができる。
ザは低電圧駆動が可能なことから、従来の電子回路で駆
動部を構成することができ、モノリシックに即ち同一の
基板1の上にレーザ装置の電極部を選択する駆動回路を
設ける構成とすることもでき、また図7に示すように、
レーザ装置20を設ける基板1とは別体のSi等より成
る基板41の上に、レーザ装置20の電極部22に対応
する電極42及びこれを選択する駆動回路43を破線図
示の如く設け、これらを各電極部22及び42が接する
ように貼り合わせ、いわゆるハイブリット式構成とする
こともできる。このような構成とすることによって、電
極パッド数を減少させてシステムへの組み込みを容易に
し、更には高密度高精細度化をはかることができる。
【0052】例えばレーザ装置20を50μmピッチで
2次元配列形成し、これに対し例えば1行(又は1列)
毎に1つの電極部22を設けることによって、電極部2
2を例えば150〜300μm角ピッチとし、通常のフ
ォトリソグラフィ等の適用によって歩留り良く形成する
ことができる。
2次元配列形成し、これに対し例えば1行(又は1列)
毎に1つの電極部22を設けることによって、電極部2
2を例えば150〜300μm角ピッチとし、通常のフ
ォトリソグラフィ等の適用によって歩留り良く形成する
ことができる。
【0053】このように、単純マトリックス(2層配
線)によるラインアドレス方式を利用することで、簡潔
な形でディスプレイを構成することができる。この場
合、画面の解像度は素子数で決定されるので、全ての色
でシャープな解像度を実現することができる。
線)によるラインアドレス方式を利用することで、簡潔
な形でディスプレイを構成することができる。この場
合、画面の解像度は素子数で決定されるので、全ての色
でシャープな解像度を実現することができる。
【0054】次に、このように配置形成した発光装置に
対する輝度変調方法を以下に説明する。一般に半導体レ
ーザダイオードは、図15にその一例の模式的な電流−
光出力特性を示すように、閾値以下の電流では光出力が
得られない。従って電流値変調でアナログ信号の変調を
行う場合には、閾値分の電流を付加して制御を行うこと
によって輝度変調を行うことができる。
対する輝度変調方法を以下に説明する。一般に半導体レ
ーザダイオードは、図15にその一例の模式的な電流−
光出力特性を示すように、閾値以下の電流では光出力が
得られない。従って電流値変調でアナログ信号の変調を
行う場合には、閾値分の電流を付加して制御を行うこと
によって輝度変調を行うことができる。
【0055】一方例えば各レーザ装置に供給する電流値
を一定とし、そのパルス幅を変調することによって輝度
変調を行うこともできる。このときの単純マトリクスの
駆動を行う場合を図9を参照して、簡単のため配線抵抗
を無視して電圧値で説明する。この例では、図において
駆動する横方向ラインY1 の電位を0、それ以外の横方
向ラインY2 〜Y5 の電位をE〔V〕とし、縦方向ライ
ンX1 〜X5 にそれぞれパルス幅t1 〜t5 の異なるE
〔V〕のパルス電圧を入力する。Y1 以外の横方向ライ
ンの素子に接続されているレーザ装置には全て逆バイア
スが印加されることとなり、Y1 のラインのレーザ装置
だけが発光する。また、電流値変調の場合は、縦方向ラ
インX1 〜X5 に光出力強度に対応する電流値が得られ
る電圧を印加する。
を一定とし、そのパルス幅を変調することによって輝度
変調を行うこともできる。このときの単純マトリクスの
駆動を行う場合を図9を参照して、簡単のため配線抵抗
を無視して電圧値で説明する。この例では、図において
駆動する横方向ラインY1 の電位を0、それ以外の横方
向ラインY2 〜Y5 の電位をE〔V〕とし、縦方向ライ
ンX1 〜X5 にそれぞれパルス幅t1 〜t5 の異なるE
〔V〕のパルス電圧を入力する。Y1 以外の横方向ライ
ンの素子に接続されているレーザ装置には全て逆バイア
スが印加されることとなり、Y1 のラインのレーザ装置
だけが発光する。また、電流値変調の場合は、縦方向ラ
インX1 〜X5 に光出力強度に対応する電流値が得られ
る電圧を印加する。
【0056】上述したように電流パルス幅変調で輝度制
御を行うことによってレーザダイオードのもつ電流−光
出力の非線形性を考慮することなく利用することが可能
となる。
御を行うことによってレーザダイオードのもつ電流−光
出力の非線形性を考慮することなく利用することが可能
となる。
【0057】以上述べたように、本発明は面発光レーザ
を用いるもので、これを利用して表示を行うディスプレ
イは、従来のディスプレイのようなブラウン管やハロゲ
ンランプ等を必要とせず、光学系も簡単で非常に単純な
構成で投射型のディスプレイを構成することができる。
また発光部を半導体ウェファで構成することができ、ブ
ラウン管等に比し格段に小型・軽量化が可能となる。更
に半導体レーザダイオードは発光素子の中でも最も電気
−光変換効率が高く、従来の投射型ディスプレイに比し
エネルギー効率が格段に高いディスプレイを提供するこ
とができ、消費電力の低減化をはかることができる。
を用いるもので、これを利用して表示を行うディスプレ
イは、従来のディスプレイのようなブラウン管やハロゲ
ンランプ等を必要とせず、光学系も簡単で非常に単純な
構成で投射型のディスプレイを構成することができる。
また発光部を半導体ウェファで構成することができ、ブ
ラウン管等に比し格段に小型・軽量化が可能となる。更
に半導体レーザダイオードは発光素子の中でも最も電気
−光変換効率が高く、従来の投射型ディスプレイに比し
エネルギー効率が格段に高いディスプレイを提供するこ
とができ、消費電力の低減化をはかることができる。
【0058】尚、本発明は上述の各実施例に限定される
ことなく、本発明構成を逸脱しない範囲で各種の変形変
更が可能であり、その視覚方法、駆動方法においても上
述の例に限定されることなく種々の態様を採り得ること
はいうまでもない。
ことなく、本発明構成を逸脱しない範囲で各種の変形変
更が可能であり、その視覚方法、駆動方法においても上
述の例に限定されることなく種々の態様を採り得ること
はいうまでもない。
【0059】
【発明の効果】上述したように本発明においては、面発
光レーザを用いることによってレーザ光の指向性により
出力光の前面への取り出しを効率良く行い得る発光装置
を提供し、且つレーザ光の偏波特性を利用することから
偏光フィルタを用いることによる出力光利用効率の低下
を回避して、偏光手段による立体視ディスプレイを構成
することができる。
光レーザを用いることによってレーザ光の指向性により
出力光の前面への取り出しを効率良く行い得る発光装置
を提供し、且つレーザ光の偏波特性を利用することから
偏光フィルタを用いることによる出力光利用効率の低下
を回避して、偏光手段による立体視ディスプレイを構成
することができる。
【0060】また従来の投射型ディスプレイのようなブ
ラウン管やハロゲンランプ等を必要とせず、光学系も簡
単で非常に単純な構成で投射型のディスプレイを構成す
ることができる。また発光部を半導体ウェファで構成す
ることができ、ブラウン管等に比し格段に小型・軽量化
が可能となる。更に半導体レーザダイオードは発光素子
の中でも最も電気−光変換効率が高く、従来の投射型デ
ィスプレイに比しエネルギー効率が格段に高いディスプ
レイを提供することができ、消費電力の低減化をはかる
ことができる。
ラウン管やハロゲンランプ等を必要とせず、光学系も簡
単で非常に単純な構成で投射型のディスプレイを構成す
ることができる。また発光部を半導体ウェファで構成す
ることができ、ブラウン管等に比し格段に小型・軽量化
が可能となる。更に半導体レーザダイオードは発光素子
の中でも最も電気−光変換効率が高く、従来の投射型デ
ィスプレイに比しエネルギー効率が格段に高いディスプ
レイを提供することができ、消費電力の低減化をはかる
ことができる。
【0061】また半導体レーザダイオードを用いること
によって、2次元アレイのウェファ自体がそのまま発光
素子となり、小型軽量化が極めて簡単で、光学系も簡単
な構成とすることができ、出力光の取り出し効率を更に
高いものとし得る。
によって、2次元アレイのウェファ自体がそのまま発光
素子となり、小型軽量化が極めて簡単で、光学系も簡単
な構成とすることができ、出力光の取り出し効率を更に
高いものとし得る。
【0062】そして更に、水平共振器型を応用した、外
部45度反射鏡型の半導体レーザを利用することによ
り、偏波制御を簡単且つ確実に行うことができる。更
に、水平共振器型の半導体レーザでは垂直共振器型レー
ザに比し電流注入がし易く、これを用いることにより低
電圧駆動、高エネルギー変換効率の発光装置、ディスプ
レイを構成することができる。
部45度反射鏡型の半導体レーザを利用することによ
り、偏波制御を簡単且つ確実に行うことができる。更
に、水平共振器型の半導体レーザでは垂直共振器型レー
ザに比し電流注入がし易く、これを用いることにより低
電圧駆動、高エネルギー変換効率の発光装置、ディスプ
レイを構成することができる。
【0063】また半導体レーザダイオードは発光素子の
中でも最も電気−光変換効率が高い素子であることか
ら、従来のプロジェクションディスプレイに比しエネル
ギー効率の格段に高いディスプレイを得ることができる
こととなる。このため、消費電力の低減化及び小型軽量
化が可能となる。
中でも最も電気−光変換効率が高い素子であることか
ら、従来のプロジェクションディスプレイに比しエネル
ギー効率の格段に高いディスプレイを得ることができる
こととなる。このため、消費電力の低減化及び小型軽量
化が可能となる。
【0064】更に、半導体レーザダイオードは出力光が
単色性の高いシャープなラインスペクトルであり、上述
したように活性層の組成による発光色を連続的に変化さ
せられるので、非常に純度の高い理想的な色調を出すこ
とが可能となる。
単色性の高いシャープなラインスペクトルであり、上述
したように活性層の組成による発光色を連続的に変化さ
せられるので、非常に純度の高い理想的な色調を出すこ
とが可能となる。
【0065】そして、このような発光装置を用いて表示
を行う場合、上述したように単純マトリックス(2層配
線)によるラインアドレス方式を利用することで、簡潔
な形でディスプレイを構成することができる。この場
合、画面の解像度は素子数で決定されるので、全ての色
でシャープな解像度を実現することができる。
を行う場合、上述したように単純マトリックス(2層配
線)によるラインアドレス方式を利用することで、簡潔
な形でディスプレイを構成することができる。この場
合、画面の解像度は素子数で決定されるので、全ての色
でシャープな解像度を実現することができる。
【0066】またレーザ装置と共に駆動回路を例えばG
aAs系の半導体基板に設けてモノリシックに形成する
こともでき、またSi電子回路によって駆動回路基板を
別体に構成する等、種々の回路構成が可能となる。
aAs系の半導体基板に設けてモノリシックに形成する
こともでき、またSi電子回路によって駆動回路基板を
別体に構成する等、種々の回路構成が可能となる。
【0067】特にSi電子回路によって構成された駆動
回路基板を2次元面発光レーザの電極部に貼り合わせる
ことによって、ワイヤボンドの必要な電極パッド数を減
らし、表示装置等のシステムへの組み込みを容易とし
て、装置全体の製造の簡易化をはかることができる。
回路基板を2次元面発光レーザの電極部に貼り合わせる
ことによって、ワイヤボンドの必要な電極パッド数を減
らし、表示装置等のシステムへの組み込みを容易とし
て、装置全体の製造の簡易化をはかることができる。
【0068】また電流パルス幅変調で輝度制御を行うこ
とによってレーザダイオードのもつ電流−光出力の非線
形性を考慮することなく利用することが可能となる。
とによってレーザダイオードのもつ電流−光出力の非線
形性を考慮することなく利用することが可能となる。
【0069】また可視光領域で透明で且つ熱伝導の比較
的高い基板をヒートシンクとして用いることにより、基
板の表側、即ち気相成長を行う側に出力光を取り出す構
成の面発光レーザを利用する場合の熱はけを良好にし、
マイクロレンズ等の組み込みも容易となる。
的高い基板をヒートシンクとして用いることにより、基
板の表側、即ち気相成長を行う側に出力光を取り出す構
成の面発光レーザを利用する場合の熱はけを良好にし、
マイクロレンズ等の組み込みも容易となる。
【図1】本発明の1実施例の略線的拡大構成図である。
【図2】本発明の他の実施例の略線的拡大平面図であ
る。
る。
【図3】本発明の他の実施例の要部の略線的拡大平面図
である。
である。
【図4】本発明の一実施例の要部の略線的拡大斜視図で
ある。
ある。
【図5】本発明の一実施例の要部の略線的拡大断面図で
ある。
ある。
【図6】本発明の一実施例の略線的構成図である。
【図7】本発明の一実施例の要部の略線的拡大平面図で
ある。
ある。
【図8】本発明の一実施例の説明図である。
【図9】パルス変調方法の説明図である。
【図10】レーザ装置の各例の説明図である。
【図11】本発明の他の実施例の略線的構成図である。
【図12】本発明の他の実施例の要部の略線的拡大平面
図である。
図である。
【図13】マイクロレンズの製造工程図である。
【図14】本発明の一実施例の要部の略線的拡大斜視図
である。
である。
【図15】半導体レーザの電流−光出力特性を示す図で
ある。
ある。
1 基板 1S 主面 12 反射鏡 20 レーザ装置 22 ビームスプリッタ 23 光学レンズ系 24 スクリーン 31 ヒートシンク 32 マイクロレンズ 41 基板 42 電極部 43 駆動回路 50 発光装置 51 偏光手段
Claims (14)
- 【請求項1】 基板の主面に対しほぼ垂直な方向に光を
出射するレーザ装置を基板上に複数個集積し、 複数の上記レーザ装置の各出射光の支配的な偏波方向
が、2種以上の異なる方向とされて成ることを特徴とす
る発光装置。 - 【請求項2】 上記各レーザ装置の出射光の偏波方向
が、互いに垂直な方向に選定されて成ることを特徴とす
る上記請求項1に記載の発光装置。 - 【請求項3】 上記レーザ装置が上記基板上に1次元配
置されて成ることを特徴とする上記請求項1又は2に記
載の発光装置。 - 【請求項4】 上記レーザ装置が上記基板上に2次元配
置されて成ることを特徴とする上記請求項1又は2に記
載の発光装置。 - 【請求項5】 上記レーザ装置が、上記基板の主面に沿
う方向に共振器を有して成り、上記共振器の光出射端面
に対向して反射鏡が設けられて構成されることを特徴と
する上記請求項1又は2又は3又は4に記載の発光装
置。 - 【請求項6】 上記レーザ装置の上記反射鏡が、気相成
長により形成されて成ることを特徴とする上記請求項5
に記載の発光装置。 - 【請求項7】 上記レーザ装置の上に、可視光に対し透
過性を有する材料より成るヒートシンクが設けられて成
ることを特徴とする上記請求項1又は2又は3又は4又
は5又は6に記載の発光装置。 - 【請求項8】 上記各レーザ装置からの出射光により表
示を行うことを特徴とする上記請求項1又は2又は3又
は4又は5又は6又は7に記載の発光装置。 - 【請求項9】 上記各レーザ装置からの出射光が青色
光、赤色光、緑色光の三原色より構成されることを特徴
とする上記請求項8に記載の発光装置。 - 【請求項10】 上記基板上に、上記レーザ装置の電極
部を選択する駆動回路が設けられて成ることを特徴とす
る上記請求項1又は2又は3又は4又は5又は6又は7
又は8又は9に記載の発光装置。 - 【請求項11】 上記基板とは別体の基板に上記レーザ
装置の電極部に対応する電極部を選択する駆動回路が設
けられ、上記基板と上記別体の基板の上記各電極部が対
向するように貼り合わされて成ることを特徴とする上記
請求項1又は2又は3又は4又は5又は6又は7又は8
又は9に記載の発光装置。 - 【請求項12】 基板の主面にほぼ垂直な方向に光を出
射するレーザ装置が基板上に複数個集積され、上記複数
のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有する構成とされ
た発光装置に対し、 上記偏波方向に対応する偏光手段を通して視覚すること
を特徴とする発光装置の視覚方法。 - 【請求項13】 上記偏波方向が、互いに垂直な2種の
偏波方向に選定されることを特徴とする上記請求項12
に記載の発光装置の視覚方法。 - 【請求項14】 基板の主面にほぼ垂直な方向に光を出
射するレーザ装置が基板上に複数個集積され、上記複数
のレーザ装置が2種以上の偏波方向を有する構成とされ
た発光装置に対し、 上記複数のレーザ装置への電流パルス幅を変調すること
により輝度変調を行うことを特徴とする発光装置の駆動
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15227793A JP3477744B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 発光装置及びこれを用いた立体視覚装置及びその視覚方法及びその駆動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15227793A JP3477744B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 発光装置及びこれを用いた立体視覚装置及びその視覚方法及びその駆動方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0722706A true JPH0722706A (ja) | 1995-01-24 |
| JP3477744B2 JP3477744B2 (ja) | 2003-12-10 |
Family
ID=15536997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15227793A Expired - Fee Related JP3477744B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 発光装置及びこれを用いた立体視覚装置及びその視覚方法及びその駆動方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3477744B2 (ja) |
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-
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- 1993-06-23 JP JP15227793A patent/JP3477744B2/ja not_active Expired - Fee Related
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