JPH07232501A - アルミニウム合金部材およびアルミホイール - Google Patents
アルミニウム合金部材およびアルミホイールInfo
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 32
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 208
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 143
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 30
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 45
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 23
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 20
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 17
- 239000002932 luster Substances 0.000 abstract description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 61
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 8
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 150000003657 tungsten Chemical class 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N (2,4,5-trichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N cyclopentene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCC1 PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 229940085605 saccharin sodium Drugs 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
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- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
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- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 鋳造欠陥やＣｒめっき層の欠陥、あるいはめ
っき膜厚が不十分で下地が露出した部分があった場合で
も、耐食性に優れるアルミニウム合金部材、特にアルミ
ホイールを提供する。 【構成】 表面に、Ｃｒめっき層と、クロメート層とを
順次積層してなるアルミホイール。
っき膜厚が不十分で下地が露出した部分があった場合で
も、耐食性に優れるアルミニウム合金部材、特にアルミ
ホイールを提供する。 【構成】 表面に、Ｃｒめっき層と、クロメート層とを
順次積層してなるアルミホイール。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルミニウム合金に表
面処理を施したアルミニウム合金部材、特にアルミホイ
ールに関する。
面処理を施したアルミニウム合金部材、特にアルミホイ
ールに関する。
【０００２】
【従来の技術】車両用ホイールは、従来からスチールで
形成されているが、最近になって車両の重量低減及び外
観や意匠性の向上を目的として、アルミニウム合金製ホ
イール（以下、アルミホイールと記す）を装着する割合
が増加してきている。アルミホイールは、耐候性や耐食
性などを改善するために、表面に塗膜を形成するのが一
般的である。
形成されているが、最近になって車両の重量低減及び外
観や意匠性の向上を目的として、アルミニウム合金製ホ
イール（以下、アルミホイールと記す）を装着する割合
が増加してきている。アルミホイールは、耐候性や耐食
性などを改善するために、表面に塗膜を形成するのが一
般的である。
【０００３】また、近年、デザイン面に金属光沢を有す
るＣｒめっき層を形成した装飾性が高いアルミホイール
の需要が増大してきている。Ｃｒめっき層は、大気中で
安定で変色せず、ビッカース硬度８００〜１１００と大
変硬いため耐摩耗性に優れ、傷が付きにくいという利点
を有する。
るＣｒめっき層を形成した装飾性が高いアルミホイール
の需要が増大してきている。Ｃｒめっき層は、大気中で
安定で変色せず、ビッカース硬度８００〜１１００と大
変硬いため耐摩耗性に優れ、傷が付きにくいという利点
を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする問題点】アルミホイールの素
材は、Ｓｉを６〜１３重量％程度含むＡｌ−Ｓｉ系合金
を用いて、低圧鋳造法やダイカスト法などによって製作
されることが多い。しかるにアルミニウム合金で鋳造し
た素材は、多寡の差はあれ鋳造欠陥（ピンホールなど）
を皆無にすることは難しい。素材表面にピンホールが存
在したアルミホイールにＣｒめっき処理を施すと、ピン
ホールの部分にフクレが生じ耐食性が悪い上に所望の美
観を得ることができない。
材は、Ｓｉを６〜１３重量％程度含むＡｌ−Ｓｉ系合金
を用いて、低圧鋳造法やダイカスト法などによって製作
されることが多い。しかるにアルミニウム合金で鋳造し
た素材は、多寡の差はあれ鋳造欠陥（ピンホールなど）
を皆無にすることは難しい。素材表面にピンホールが存
在したアルミホイールにＣｒめっき処理を施すと、ピン
ホールの部分にフクレが生じ耐食性が悪い上に所望の美
観を得ることができない。
【０００５】また、素材表面にピンホールが殆んどない
場合でも、Ｃｒめっき層に欠陥（ピット、クラックな
ど）が発生したりあるいはめっき層の膜厚が均一になら
ないこともあり、そのような場合にも耐食性が悪く、所
望の美観を得ることができない。特にアルミホイールの
場合、形状が複雑であるためデザイン面の裏側や風穴の
奥、タイヤ面の裏側等の部位のめっき膜厚が不十分にな
り易いので、Ｃｒめっきの下地であるＡｌ母材そのもの
が露出することがあり、これを原因とした耐食性の低下
を避けることは困難である。
場合でも、Ｃｒめっき層に欠陥（ピット、クラックな
ど）が発生したりあるいはめっき層の膜厚が均一になら
ないこともあり、そのような場合にも耐食性が悪く、所
望の美観を得ることができない。特にアルミホイールの
場合、形状が複雑であるためデザイン面の裏側や風穴の
奥、タイヤ面の裏側等の部位のめっき膜厚が不十分にな
り易いので、Ｃｒめっきの下地であるＡｌ母材そのもの
が露出することがあり、これを原因とした耐食性の低下
を避けることは困難である。
【０００６】したがって、本発明の目的は、鋳造欠陥や
Ｃｒめっき層の欠陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下
地が露出した部分があった場合でも、耐食性に優れるア
ルミニウム合金部材、特にアルミホイールを提供するこ
とにある。
Ｃｒめっき層の欠陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下
地が露出した部分があった場合でも、耐食性に優れるア
ルミニウム合金部材、特にアルミホイールを提供するこ
とにある。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、上記目
的を達成するためＣｒめっき層について検討した。その
結果、Ｃｒめっき層は、膜厚が１μｍを越えるとクラッ
クが発生しやすく、これを防ぐには膜厚を１μｍ以下と
するのが望ましいが、このようなＣｒめっき層の膜厚で
はアルミニウム合金部材の耐食性と金属光沢が不十分と
なることを知見した。このような知見に基づき、さらに
鋭意検討を重ねた結果、Ｃｒめっき層表面に、クロメー
ト処理層を形成することにより、Ｃｒめっき層の膜厚に
依存せずに耐食性を向上させることができることを知見
した。
的を達成するためＣｒめっき層について検討した。その
結果、Ｃｒめっき層は、膜厚が１μｍを越えるとクラッ
クが発生しやすく、これを防ぐには膜厚を１μｍ以下と
するのが望ましいが、このようなＣｒめっき層の膜厚で
はアルミニウム合金部材の耐食性と金属光沢が不十分と
なることを知見した。このような知見に基づき、さらに
鋭意検討を重ねた結果、Ｃｒめっき層表面に、クロメー
ト処理層を形成することにより、Ｃｒめっき層の膜厚に
依存せずに耐食性を向上させることができることを知見
した。
【０００８】したがって、本発明は、表面に、Ｃｒめっ
き層と、クロメート処理層とを順次積層してなるアルミ
ニウム合金部材である。また、膜厚１μｍ以下のＣｒめ
っき層を形成し金属光沢が不足した場合、下地めっきと
して、Ｎｉめっき層等の電解めっき層を形成することに
より金属光沢を補うことができる。
き層と、クロメート処理層とを順次積層してなるアルミ
ニウム合金部材である。また、膜厚１μｍ以下のＣｒめ
っき層を形成し金属光沢が不足した場合、下地めっきと
して、Ｎｉめっき層等の電解めっき層を形成することに
より金属光沢を補うことができる。
【０００９】クロメート処理層の表面に塗膜層を形成す
ることにより、耐食性を向上させることができる。ま
た、無電解めっき層を形成する、ないしは電解めっき層
（Ｃｒめっき層を除く）形成することにより、耐食性を
より向上させることが可能である。さらに、電解めっき
層として、互いに電位差を有する２層以上の電解めっき
層（Ｃｒめっき層を除く）を形成することにより耐食性
が向上する。
ることにより、耐食性を向上させることができる。ま
た、無電解めっき層を形成する、ないしは電解めっき層
（Ｃｒめっき層を除く）形成することにより、耐食性を
より向上させることが可能である。さらに、電解めっき
層として、互いに電位差を有する２層以上の電解めっき
層（Ｃｒめっき層を除く）を形成することにより耐食性
が向上する。
【００１０】本発明において、耐食性および金属光沢の
点から望ましいのは、表面に、無電解めっき層と、電解
めっき層と、Ｃｒめっき層と、クロメート層と、塗膜層
とを順次積層してなるアルミニウム合金部材である。
点から望ましいのは、表面に、無電解めっき層と、電解
めっき層と、Ｃｒめっき層と、クロメート層と、塗膜層
とを順次積層してなるアルミニウム合金部材である。
【００１１】また、本発明者らの検討によると、アルミ
ニウム合金の表面に無電解めっき層、Ｃｒめっき層、塗
膜層を順次形成することにより、優れた耐食性が得られ
る。
ニウム合金の表面に無電解めっき層、Ｃｒめっき層、塗
膜層を順次形成することにより、優れた耐食性が得られ
る。
【００１２】したがって、本発明は、表面に、無電解め
っき層と、前記無電解めっき層の表面に形成されたＣｒ
めっき層と、前記Ｃｒめっき層の表面に形成された塗膜
層とを有することを特徴とするアルミニウム合金部材で
ある。より耐食性を向上させるために、適宜電解めっき
層を設けることができる。電解めっき層は、互いに電位
差を有し、２層以上形成するのが望ましい。
っき層と、前記無電解めっき層の表面に形成されたＣｒ
めっき層と、前記Ｃｒめっき層の表面に形成された塗膜
層とを有することを特徴とするアルミニウム合金部材で
ある。より耐食性を向上させるために、適宜電解めっき
層を設けることができる。電解めっき層は、互いに電位
差を有し、２層以上形成するのが望ましい。
【００１３】本発明のアルミニウム合金部材は、優れた
耐食性および金属光沢が得られるのでアルミホイールに
好適である。
耐食性および金属光沢が得られるのでアルミホイールに
好適である。
【００１４】したがって、本発明は表面に、Ｃｒめっき
層と、前記Ｃｒめっき層の表面に形成されたクロメート
処理層とを有するアルミホイールである。また、表面
に、無電解めっき層と、Ｃｒめっき層と、塗膜層とを順
次積層してなるアルミホイールである。さらに表面に、
無電解めっき層と、電気めっき層と、Ｃｒめっき層と、
クロメート層と、塗膜層とを順次積層してなるアルミホ
イールである。
層と、前記Ｃｒめっき層の表面に形成されたクロメート
処理層とを有するアルミホイールである。また、表面
に、無電解めっき層と、Ｃｒめっき層と、塗膜層とを順
次積層してなるアルミホイールである。さらに表面に、
無電解めっき層と、電気めっき層と、Ｃｒめっき層と、
クロメート層と、塗膜層とを順次積層してなるアルミホ
イールである。
【００１５】
【作用】本発明アルミニウム合金部材およびアルミホイ
ールは、表面にＣｒめっき層と、クロメート処理層を順
次積層することにより、鋳造欠陥やＣｒめっき層の欠
陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下地が露出した部分
があった場合でも、優れた耐食性が得られる。
ールは、表面にＣｒめっき層と、クロメート処理層を順
次積層することにより、鋳造欠陥やＣｒめっき層の欠
陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下地が露出した部分
があった場合でも、優れた耐食性が得られる。
【００１６】クロメート処理層を形成することにより、
耐食性が向上するのは、欠陥部を含む表面全てを被覆す
ることが可能であるためと考えられる。クロメート処理
層の膜厚が厚いほど耐食性は良好であるが、膜厚の厚さ
にほぼ比例してクロメート処理層の黄金色が濃くなり、
Ｃｒめっき層の金属光沢が損なわれるので、Ｃｒめっき
層の金属光沢を阻害しない程度にクロメート処理層を形
成することが望ましい。クロメート処理層の膜厚は、ｐ
Ｈおよび電位に影響するめっき液組成、温度等のめっき
条件を制御することができる。なお、クロメート処理層
は薄膜であるので膜厚を測るのが困難であるため、膜厚
に対応するクロム付着量で制御するのが望ましい。Ｃｒ
めっき層の金属光沢を阻害しないためには、クロメート
処理層のクロム付着量は、２０ｍｇ／ｍ2以下とするの
が望ましく、さらに望ましいクロム付着量は１〜４ｍｇ
／ｍ2程度である。
耐食性が向上するのは、欠陥部を含む表面全てを被覆す
ることが可能であるためと考えられる。クロメート処理
層の膜厚が厚いほど耐食性は良好であるが、膜厚の厚さ
にほぼ比例してクロメート処理層の黄金色が濃くなり、
Ｃｒめっき層の金属光沢が損なわれるので、Ｃｒめっき
層の金属光沢を阻害しない程度にクロメート処理層を形
成することが望ましい。クロメート処理層の膜厚は、ｐ
Ｈおよび電位に影響するめっき液組成、温度等のめっき
条件を制御することができる。なお、クロメート処理層
は薄膜であるので膜厚を測るのが困難であるため、膜厚
に対応するクロム付着量で制御するのが望ましい。Ｃｒ
めっき層の金属光沢を阻害しないためには、クロメート
処理層のクロム付着量は、２０ｍｇ／ｍ2以下とするの
が望ましく、さらに望ましいクロム付着量は１〜４ｍｇ
／ｍ2程度である。
【００１７】また、理由は明かではないが、クロメート
処理層は、表面に凹凸があった場合でも、最終的には凹
凸のない滑らかな表面を形成する傾向があり、美観の点
からも望ましい。すなわち、クロメート処理層形成前
に、多少の鋳造欠陥やめっきによる欠陥があったとして
もクロメート処理を施すことにより表面の凹凸が埋めら
れ、凹凸のない表面が得られるのである。
処理層は、表面に凹凸があった場合でも、最終的には凹
凸のない滑らかな表面を形成する傾向があり、美観の点
からも望ましい。すなわち、クロメート処理層形成前
に、多少の鋳造欠陥やめっきによる欠陥があったとして
もクロメート処理を施すことにより表面の凹凸が埋めら
れ、凹凸のない表面が得られるのである。
【００１８】無電解めっき層は、ピンホールやピット等
の欠陥を埋め、電解めっき等後工程の表面処理が均一に
形成されるようにするために施されるので、電解めっき
層形成前に無電解めっき層を形成するのが望ましい。電
解めっき層は、めっき液に鋳造素材を浸漬し形成される
が、ピンホールやピット等の欠陥部には形成されにく
く、欠陥内部にはめっき層が形成されずに見かけ上その
欠陥の表面を被覆する。そのため、めっき液が欠陥内部
に残存し腐食の起点となる。
の欠陥を埋め、電解めっき等後工程の表面処理が均一に
形成されるようにするために施されるので、電解めっき
層形成前に無電解めっき層を形成するのが望ましい。電
解めっき層は、めっき液に鋳造素材を浸漬し形成される
が、ピンホールやピット等の欠陥部には形成されにく
く、欠陥内部にはめっき層が形成されずに見かけ上その
欠陥の表面を被覆する。そのため、めっき液が欠陥内部
に残存し腐食の起点となる。
【００１９】無電解めっき層の膜厚が５μｍ未満では、
欠陥を埋める効果が不十分であるので、５μｍ以上無電
解めっき層を形成するのがよい。また、無電解めっき層
を１０μｍ以上形成することにより、素材の表面を均一
に被覆することができ耐食性が向上するので、１０μｍ
以上とするのが望ましい。また、無電解めっき層の膜厚
が３０μｍを越えると圧縮応力により無電解めっき層が
剥がれる恐れがあるので、３０μｍ以下とするのが望ま
しい。無電解めっきとしては、Ｎｉ−Ｐめっき、Ｃｏ−
Ｐめっき、Ｃｕめっき等が望ましい。
欠陥を埋める効果が不十分であるので、５μｍ以上無電
解めっき層を形成するのがよい。また、無電解めっき層
を１０μｍ以上形成することにより、素材の表面を均一
に被覆することができ耐食性が向上するので、１０μｍ
以上とするのが望ましい。また、無電解めっき層の膜厚
が３０μｍを越えると圧縮応力により無電解めっき層が
剥がれる恐れがあるので、３０μｍ以下とするのが望ま
しい。無電解めっきとしては、Ｎｉ−Ｐめっき、Ｃｏ−
Ｐめっき、Ｃｕめっき等が望ましい。
【００２０】電解めっき層（Ｃｒめっき層を除く）は、
Ｃｒめっき層に存在するポアまたはクラックからの腐食
がＡｌ素材に達するまでの時間を長くして耐食性を向上
させるために施す。Ｃｒめっき層の表面にＣｒめっき層
以外の電解めっき層を形成することも可能であるが、ア
ルミホイールの場合、金属光沢が要求されるので、Ｃｒ
めっき層の下地として形成するのが望ましい。また、Ｎ
ｉめっき層、Ｃｕめっき層等の電解めっき層（Ｃｒめっ
き層を除く）をＣｒめっき層の下地として形成すれば、
Ｃｒめっき層の膜厚を１μｍ以下とした場合に不足する
金属光沢を補うことができる。
Ｃｒめっき層に存在するポアまたはクラックからの腐食
がＡｌ素材に達するまでの時間を長くして耐食性を向上
させるために施す。Ｃｒめっき層の表面にＣｒめっき層
以外の電解めっき層を形成することも可能であるが、ア
ルミホイールの場合、金属光沢が要求されるので、Ｃｒ
めっき層の下地として形成するのが望ましい。また、Ｎ
ｉめっき層、Ｃｕめっき層等の電解めっき層（Ｃｒめっ
き層を除く）をＣｒめっき層の下地として形成すれば、
Ｃｒめっき層の膜厚を１μｍ以下とした場合に不足する
金属光沢を補うことができる。
【００２１】電解めっき層（Ｃｒめっきを除く）の膜厚
は５〜６０μｍであるのが望ましい。５μｍ未満である
と、電解めっき層（Ｃｒめっきを除く）により均一に表
面を覆うことが困難であり、未被覆の部分と電解めっき
層との電位差が生じ局部電池が形成され、かえって耐食
性が低下する。また、工業生産上安定して生産するため
には１０μｍ以上形成するのが望ましい。６０μｍを越
えて電解めっき層を形成しても耐食性の効果は飽和する
とともに、めっきに時間がかかり、またコストも高くな
るので工業生産上望ましくない。
は５〜６０μｍであるのが望ましい。５μｍ未満である
と、電解めっき層（Ｃｒめっきを除く）により均一に表
面を覆うことが困難であり、未被覆の部分と電解めっき
層との電位差が生じ局部電池が形成され、かえって耐食
性が低下する。また、工業生産上安定して生産するため
には１０μｍ以上形成するのが望ましい。６０μｍを越
えて電解めっき層を形成しても耐食性の効果は飽和する
とともに、めっきに時間がかかり、またコストも高くな
るので工業生産上望ましくない。
【００２２】また、更に高い耐食性を得るためには、単
層電解めっきの変わりに互いに電位差を有する多層電解
めっきを施すことが有効である。その一例として、Ｃｒ
めっきの下に光沢Ｎｉめっき、そしてその下に半光沢Ｎ
ｉめっきを施す二層Ｎｉめっきがある。これら二種類の
Ｎｉめっきの特徴は硫黄含有の有無にある。一般に、光
沢Ｎｉめっきは硫黄を０．０５％含み、半光沢Ｎｉめっ
きは硫黄を含有しない。耐食性を最大限に高めるため、
光沢Ｎｉめっき層と半光沢Ｎｉめっき層の膜厚の比は
６：４とするのが望ましく、合計厚さは少なくとも１０
μｍ以上であるのが望ましい。
層電解めっきの変わりに互いに電位差を有する多層電解
めっきを施すことが有効である。その一例として、Ｃｒ
めっきの下に光沢Ｎｉめっき、そしてその下に半光沢Ｎ
ｉめっきを施す二層Ｎｉめっきがある。これら二種類の
Ｎｉめっきの特徴は硫黄含有の有無にある。一般に、光
沢Ｎｉめっきは硫黄を０．０５％含み、半光沢Ｎｉめっ
きは硫黄を含有しない。耐食性を最大限に高めるため、
光沢Ｎｉめっき層と半光沢Ｎｉめっき層の膜厚の比は
６：４とするのが望ましく、合計厚さは少なくとも１０
μｍ以上であるのが望ましい。
【００２３】この二層Ｎｉめっきの防食機構は次の通り
である。Ｃｒめっきのポアーまたはクラックに起因する
腐食孔が光沢Ｎｉ層を貫通して半光沢Ｎｉ層に達する
と、硫黄を含有する光沢Ｎｉ層は硫黄を含有しない半光
沢Ｎｉめっき層に対して自然電位が半光沢Ｎｉ＞光沢Ｎ
ｉとなるので、光沢Ｎｉめっき層がアノード化して優先
的に融けることによって半光沢Ｎｉめっき層を防食す
る。したがって、アルミニウム合金表面に腐食が進行す
るのを妨げることができるのである。
である。Ｃｒめっきのポアーまたはクラックに起因する
腐食孔が光沢Ｎｉ層を貫通して半光沢Ｎｉ層に達する
と、硫黄を含有する光沢Ｎｉ層は硫黄を含有しない半光
沢Ｎｉめっき層に対して自然電位が半光沢Ｎｉ＞光沢Ｎ
ｉとなるので、光沢Ｎｉめっき層がアノード化して優先
的に融けることによって半光沢Ｎｉめっき層を防食す
る。したがって、アルミニウム合金表面に腐食が進行す
るのを妨げることができるのである。
【００２４】塗膜層は、非導電性物質であり、素地との
間に腐食の原因となる電位差を生じにくいので耐食性を
向上させる効果がある。アルミホイールに塗膜層を形成
する場合、Ｃｒめっき層の金属光沢を生かすためには、
クリアー塗装が望ましい。クリアー塗装は、アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂等の水溶性又は溶
媒型樹脂塗料を用いることができる。塗膜層の膜厚は、
８〜３０μｍが望ましい。８μｍ未満であると耐食性改
善の効果があまり得られず、３０μｍを越えると耐食性
改善の効果が飽和するので３０μｍ以下形成すれば十分
である。
間に腐食の原因となる電位差を生じにくいので耐食性を
向上させる効果がある。アルミホイールに塗膜層を形成
する場合、Ｃｒめっき層の金属光沢を生かすためには、
クリアー塗装が望ましい。クリアー塗装は、アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂等の水溶性又は溶
媒型樹脂塗料を用いることができる。塗膜層の膜厚は、
８〜３０μｍが望ましい。８μｍ未満であると耐食性改
善の効果があまり得られず、３０μｍを越えると耐食性
改善の効果が飽和するので３０μｍ以下形成すれば十分
である。
【００２５】本発明アルミニウム合金部材およびアルミ
ホイールの表面処理層は次のように形成することができ
る。Ｃｒめっき層は、無水クロム酸をクロムイオン源と
し、これに硫酸などの触媒根を添加した浴を用い、浴温
４０〜６０℃、電流密度１０〜６０Ａ／ｄｍ2の条件下
で形成する。
ホイールの表面処理層は次のように形成することができ
る。Ｃｒめっき層は、無水クロム酸をクロムイオン源と
し、これに硫酸などの触媒根を添加した浴を用い、浴温
４０〜６０℃、電流密度１０〜６０Ａ／ｄｍ2の条件下
で形成する。
【００２６】クロメート処理層は、クロム酸クロメート
の化成液に２分以上浸漬後８０〜１２０℃で１０分、続
いて１５０〜２２０℃で１０分間乾燥して形成すること
ができる。クロム酸クロメートの化成液はクロム酸と、
硫酸、硝酸、フッ化水素酸、りん酸等の無機酸とが主成
分であり、促進剤としてタングステン塩等が添加され、
ｐＨ１．５〜３．８に調整し、用いる。
の化成液に２分以上浸漬後８０〜１２０℃で１０分、続
いて１５０〜２２０℃で１０分間乾燥して形成すること
ができる。クロム酸クロメートの化成液はクロム酸と、
硫酸、硝酸、フッ化水素酸、りん酸等の無機酸とが主成
分であり、促進剤としてタングステン塩等が添加され、
ｐＨ１．５〜３．８に調整し、用いる。
【００２７】無電解めっき層としてＮｉ−Ｐめっき層を
形成する場合は、硫酸ニッケルあるいは塩化ニッケル等
によりＮｉ濃度を４〜６ｇ／ｌとし、次亜りん酸塩、錯
化剤、ｐＨ緩衝剤、反応促進剤等を用い、浴温８０〜９
５℃、ｐＨ４〜１２の条件下で浸漬して形成する。電解
めっき層として光沢Ｎｉめっき層を形成する場合は、硫
酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を４０〜
１２０ｇ／ｌとし、ほう酸を３０〜４０ｇ／ｌ、スルホ
ン酸を２〜１５ｇ／ｌ添加した浴を用い、ｐＨ３〜５、
浴温４０〜７０℃、電流密度２〜１０Ａ／ｄｍ2の条件
下で形成する。
形成する場合は、硫酸ニッケルあるいは塩化ニッケル等
によりＮｉ濃度を４〜６ｇ／ｌとし、次亜りん酸塩、錯
化剤、ｐＨ緩衝剤、反応促進剤等を用い、浴温８０〜９
５℃、ｐＨ４〜１２の条件下で浸漬して形成する。電解
めっき層として光沢Ｎｉめっき層を形成する場合は、硫
酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を４０〜
１２０ｇ／ｌとし、ほう酸を３０〜４０ｇ／ｌ、スルホ
ン酸を２〜１５ｇ／ｌ添加した浴を用い、ｐＨ３〜５、
浴温４０〜７０℃、電流密度２〜１０Ａ／ｄｍ2の条件
下で形成する。
【００２８】また、光沢Ｎｉめっき層の下地めっき層と
して半光沢Ｎｉめっき層を形成すれば、電位差を有する
多層電解めっき層が形成される。その場合は、硫酸ニッ
ケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を４０〜１２０
ｇ／ｌとし、ほう酸を３０〜４０ｇ／ｌ添加した浴を用
い、ｐＨ３〜５、浴温４５〜６０℃、電流密度２〜１０
Ａ／ｄｍ2の条件下で形成する。塗膜層としては、アク
リル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂等の水溶性
または溶媒型樹脂塗料を用いるが、例えばアクリル樹脂
の場合、スプレーにより厚さ１０〜３０μｍの塗膜を形
成し、１３０〜１７０℃で２０〜３０分間加熱して焼付
処理を行う。
して半光沢Ｎｉめっき層を形成すれば、電位差を有する
多層電解めっき層が形成される。その場合は、硫酸ニッ
ケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を４０〜１２０
ｇ／ｌとし、ほう酸を３０〜４０ｇ／ｌ添加した浴を用
い、ｐＨ３〜５、浴温４５〜６０℃、電流密度２〜１０
Ａ／ｄｍ2の条件下で形成する。塗膜層としては、アク
リル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂等の水溶性
または溶媒型樹脂塗料を用いるが、例えばアクリル樹脂
の場合、スプレーにより厚さ１０〜３０μｍの塗膜を形
成し、１３０〜１７０℃で２０〜３０分間加熱して焼付
処理を行う。
【００２９】（実施例１）本発明の一実施例を図面によ
り説明する。図１は本発明の一実施例にかかるアルミホ
イールの縦断面図である。図２は、図１に示す鋳造素材
２の表面２ａに形成された表面処理層の膜構成を示す拡
大模式図である。図１に示すアルミホイール１は、図２
に示すように鋳造素材２とその表面２ａに順次形成され
たＮｉ−Ｐめっき層３、半光沢Ｎｉめっき層４ａ、光沢
Ｎｉめっき層４ｂ、Ｃｒめっき層５、クロメート処理層
６、クリアー塗装層７を有する。なお、Ｎｉ−Ｐめっき
層は無電解めっき層、半光沢Ｎｉめっき層および光沢Ｎ
ｉめっき層は電解めっき層（Ｃｒめっき層を除く）、ク
リアー塗装層は塗膜層である。
り説明する。図１は本発明の一実施例にかかるアルミホ
イールの縦断面図である。図２は、図１に示す鋳造素材
２の表面２ａに形成された表面処理層の膜構成を示す拡
大模式図である。図１に示すアルミホイール１は、図２
に示すように鋳造素材２とその表面２ａに順次形成され
たＮｉ−Ｐめっき層３、半光沢Ｎｉめっき層４ａ、光沢
Ｎｉめっき層４ｂ、Ｃｒめっき層５、クロメート処理層
６、クリアー塗装層７を有する。なお、Ｎｉ−Ｐめっき
層は無電解めっき層、半光沢Ｎｉめっき層および光沢Ｎ
ｉめっき層は電解めっき層（Ｃｒめっき層を除く）、ク
リアー塗装層は塗膜層である。
【００３０】このアルミホイール１は、例えば次のよう
な工程により製造することができる。アルミニウム合金
（例えばＡＣ４ＣＨ材）により製作した鋳造素材２にア
ルカリ脱脂、及び化成処理を施す。化成処理としては、
例えばダブルジンケート処理を施すことができる。
な工程により製造することができる。アルミニウム合金
（例えばＡＣ４ＣＨ材）により製作した鋳造素材２にア
ルカリ脱脂、及び化成処理を施す。化成処理としては、
例えばダブルジンケート処理を施すことができる。
【００３１】次にこのように前処理した鋳造素材２の表
面２ａに順にＮｉ−Ｐめっき層３、半光沢Ｎｉめっき４
ａ、光沢Ｎｉめっき層４ｂ及びＣｒめっき層５を形成し
た。Ｎｉ−Ｐめっき層３は、硫酸ニッケルおよび塩化ニ
ッケルによりＮｉ濃度６．８ｇ／ｌとし、浴温８５℃、
ｐＨ５、機械攪拌の条件下で、１０μｍ形成した。
面２ａに順にＮｉ−Ｐめっき層３、半光沢Ｎｉめっき４
ａ、光沢Ｎｉめっき層４ｂ及びＣｒめっき層５を形成し
た。Ｎｉ−Ｐめっき層３は、硫酸ニッケルおよび塩化ニ
ッケルによりＮｉ濃度６．８ｇ／ｌとし、浴温８５℃、
ｐＨ５、機械攪拌の条件下で、１０μｍ形成した。
【００３２】半光沢Ｎｉめっき層４ａは、硫酸ニッケル
および塩化ニッケルによりＮｉ濃度を８０ｇ／ｌとし、
ほう酸３５ｇ／ｌ、ブチンジオール０．２ｇ／ｌを添加
し、浴温５０℃、ｐＨ４、電流密度２Ａ／ｄｍ2の条件
下で３０μｍ形成した。光沢Ｎｉめっきは層４ｂは、硫
酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を８０ｇ
／ｌとし、ほう酸３５ｇ／ｌ、サッカリンナトリウム８
ｇ／ｌ、ブチンジオール０．２ｇ／ｌを添加し、浴温２
０℃、ｐＨ４、電流密度２Ａ／ｄｍ2、エアー攪拌の条
件下で、２０μｍ形成した。Ｃｒめっき層５は、無水ク
ロム酸２５０ｇ／ｌ、硫酸２．５ｇ／ｌの浴を用い、浴
温５０℃、電流密度２５Ａ／ｄｍ2の条件下で０．３μ
ｍ形成した。
および塩化ニッケルによりＮｉ濃度を８０ｇ／ｌとし、
ほう酸３５ｇ／ｌ、ブチンジオール０．２ｇ／ｌを添加
し、浴温５０℃、ｐＨ４、電流密度２Ａ／ｄｍ2の条件
下で３０μｍ形成した。光沢Ｎｉめっきは層４ｂは、硫
酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりＮｉ濃度を８０ｇ
／ｌとし、ほう酸３５ｇ／ｌ、サッカリンナトリウム８
ｇ／ｌ、ブチンジオール０．２ｇ／ｌを添加し、浴温２
０℃、ｐＨ４、電流密度２Ａ／ｄｍ2、エアー攪拌の条
件下で、２０μｍ形成した。Ｃｒめっき層５は、無水ク
ロム酸２５０ｇ／ｌ、硫酸２．５ｇ／ｌの浴を用い、浴
温５０℃、電流密度２５Ａ／ｄｍ2の条件下で０．３μ
ｍ形成した。
【００３３】クロメート処理層は、クロム酸と、フッ化
水素酸、タングステン塩からなるｐＨ１．８に調整した
クロム酸クロメート化成液に、２分間浸漬した後１００
℃で１０分、続いて１８０℃で１０分間乾燥し、クロム
付着量が２ｍｇ／ｍ2となるよう形成した。クリアー塗
装は、アクリル樹脂塗料を用い、この塗料を約２０μｍ
の厚さに塗布し次いで１５０℃程度の温度で２０〜３０
分間加熱して焼付処理を行い、塗膜層を形成した。上記
クロメート処理の条件によれば、クロメート処理層によ
る着色は見られず、Ｃｒめっきによる金属光沢は維持さ
れていた。得られたアルミホイールの耐食性評価をＪＩ
Ｓ Ｈ ８６１７に示されるキャス試験方法に従って行
った。その結果、キャス試験８０時間で無欠陥であり、
非常に優れた耐食性を示した。
水素酸、タングステン塩からなるｐＨ１．８に調整した
クロム酸クロメート化成液に、２分間浸漬した後１００
℃で１０分、続いて１８０℃で１０分間乾燥し、クロム
付着量が２ｍｇ／ｍ2となるよう形成した。クリアー塗
装は、アクリル樹脂塗料を用い、この塗料を約２０μｍ
の厚さに塗布し次いで１５０℃程度の温度で２０〜３０
分間加熱して焼付処理を行い、塗膜層を形成した。上記
クロメート処理の条件によれば、クロメート処理層によ
る着色は見られず、Ｃｒめっきによる金属光沢は維持さ
れていた。得られたアルミホイールの耐食性評価をＪＩ
Ｓ Ｈ ８６１７に示されるキャス試験方法に従って行
った。その結果、キャス試験８０時間で無欠陥であり、
非常に優れた耐食性を示した。
【００３４】また、比較のためアルミホイールを用い、
同様の方法でキャス試験を行った。用いたアルミホイー
ルは、アルミニウム合金表面に膜厚６μｍのＮｉ−Ｐめ
っき層、膜厚３０μｍの半光沢Ｎｉめっき層、膜厚２０
μｍの光沢Ｎｉめっき層、膜厚０．３μｍのＣｒめっき
層とが順次積層されている。キャス試験の結果、５０時
間でフクレ等の欠陥を生じた。
同様の方法でキャス試験を行った。用いたアルミホイー
ルは、アルミニウム合金表面に膜厚６μｍのＮｉ−Ｐめ
っき層、膜厚３０μｍの半光沢Ｎｉめっき層、膜厚２０
μｍの光沢Ｎｉめっき層、膜厚０．３μｍのＣｒめっき
層とが順次積層されている。キャス試験の結果、５０時
間でフクレ等の欠陥を生じた。
【００３５】（実施例２）１５ｍｍ×１５ｍｍ×７ｍｍ
のアルミニウム合金の表面に、実施例１と同様の表面処
理を施して試料Ｎｏ．１〜３を作成し、孔食電位により
耐食性を評価し、表１に示す。なお、表中に示すNiーP
は、無電解めっきであるＮｉ−Ｐめっき層を表す。半光
沢Niおよび光沢Niは、２層電解めっき層である半光沢Ｎ
ｉめっき層、光沢Ｎｉめっき層を表す。CrはＣｒめっき
層を、クロメートはクロメート処理層を、クリア塗装は塗装膜で
あるクリア塗装層を表す。また、表面処理層の膜厚は、
Ｎｉ−Ｐめっき層１０μｍ、半光沢ニッケルめっき層３
０μｍ、光沢ニッケルめっき層２０μｍ、Ｃｒめっき層
０．４μｍ、クリア塗装層２０μｍである。
のアルミニウム合金の表面に、実施例１と同様の表面処
理を施して試料Ｎｏ．１〜３を作成し、孔食電位により
耐食性を評価し、表１に示す。なお、表中に示すNiーP
は、無電解めっきであるＮｉ−Ｐめっき層を表す。半光
沢Niおよび光沢Niは、２層電解めっき層である半光沢Ｎ
ｉめっき層、光沢Ｎｉめっき層を表す。CrはＣｒめっき
層を、クロメートはクロメート処理層を、クリア塗装は塗装膜で
あるクリア塗装層を表す。また、表面処理層の膜厚は、
Ｎｉ−Ｐめっき層１０μｍ、半光沢ニッケルめっき層３
０μｍ、光沢ニッケルめっき層２０μｍ、Ｃｒめっき層
０．４μｍ、クリア塗装層２０μｍである。
【００３６】また、比較のため、表面処理を施さない母
材であるアルミニウム合金（試料Ｎｏ．４）、クロメー
ト処理層、クリア塗装層なし（試料Ｎｏ．５）について
も耐食性を評価した。耐食性の評価方法は、ＪＩＳ Ｇ
００５７による孔食電位測定法に従って行った。な
お、表中のＶｃ’１０、Ｖｃ’１００は、それぞれ電流
密度１０μＡ／ｃｍ2、１００μＡ／ｃｍ2のときの孔食
電位（ｍＶ）を示す。
材であるアルミニウム合金（試料Ｎｏ．４）、クロメー
ト処理層、クリア塗装層なし（試料Ｎｏ．５）について
も耐食性を評価した。耐食性の評価方法は、ＪＩＳ Ｇ
００５７による孔食電位測定法に従って行った。な
お、表中のＶｃ’１０、Ｖｃ’１００は、それぞれ電流
密度１０μＡ／ｃｍ2、１００μＡ／ｃｍ2のときの孔食
電位（ｍＶ）を示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】表１より、Ｃｒめっき層の表面にクロメー
ト処理および／またはクリアー塗装を施すことにより、
孔食電位（Ｖｃ’１００のとき）はＣｒめっきのみ（N
o.5）と比較してＣｒめっき＋クロメート（No.1）で約
２倍、Ｃｒめっき＋クロメート＋クリア塗装（No.2）で
約１０倍と、Ｃｒめっき＋クリア塗装（No.3）で約７倍
となり、クロメート処理および／またはクリアー塗装は
耐食性の向上に大きい効果を与えることがわかる。
ト処理および／またはクリアー塗装を施すことにより、
孔食電位（Ｖｃ’１００のとき）はＣｒめっきのみ（N
o.5）と比較してＣｒめっき＋クロメート（No.1）で約
２倍、Ｃｒめっき＋クロメート＋クリア塗装（No.2）で
約１０倍と、Ｃｒめっき＋クリア塗装（No.3）で約７倍
となり、クロメート処理および／またはクリアー塗装は
耐食性の向上に大きい効果を与えることがわかる。
【００３９】（実験例）本発明アルミニウム合金部材お
よびアルミホイールは、Ｃｒめっきの下地めっき層を形
成する場合があるので、下地めっき層へのクロメート処
理層の耐食性の効果を評価した。１５ｍｍ×１５ｍｍ×
７ｍｍのアルミニウム合金母材に無電解Ｎｉ−Ｐめっき
または半光沢Ｎｉめっきそれぞれにさらにクロメート処
理を施し、１Ｍ塩酸に１２分間に浸漬したときのアルミ
ニウム溶出量をＩＣＰ発光分析法により測定し、その結
果を表２、表３に示す。表中の膜厚は、無電解Ｎｉ−Ｐ
めっき層または半光沢Ｎｉめっき層の膜厚を示す。
よびアルミホイールは、Ｃｒめっきの下地めっき層を形
成する場合があるので、下地めっき層へのクロメート処
理層の耐食性の効果を評価した。１５ｍｍ×１５ｍｍ×
７ｍｍのアルミニウム合金母材に無電解Ｎｉ−Ｐめっき
または半光沢Ｎｉめっきそれぞれにさらにクロメート処
理を施し、１Ｍ塩酸に１２分間に浸漬したときのアルミ
ニウム溶出量をＩＣＰ発光分析法により測定し、その結
果を表２、表３に示す。表中の膜厚は、無電解Ｎｉ−Ｐ
めっき層または半光沢Ｎｉめっき層の膜厚を示す。
【００４０】
【表２】
【００４１】
【表３】
【００４２】なお、表面処理条件は次の通りである。無
電解Ｎｉ−Ｐめっきは、硫酸ニッケルおよび塩化ニッケ
ルによりニッケル濃度６．８ｇ／ｌとし、浴温８５℃、
ｐＨ５、機械攪拌により形成した。半光沢Ｎｉめっき
は、硫酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりニッケル濃
度８０ｇ／ｌとし、ほう酸３５ｇ／ｌ、ブチンジオール
０．２ｇ／ｌを添加し、浴温５０℃、ｐＨ４、電流密度
２Ａ／ｄｍ2の条件下で形成した。クロメート処理層
は、クロム酸とフッ化水素酸、タングステン塩からなる
ｐＨ１．８に調整したクロム酸クロメート化成液に３分
間浸漬した後、１００℃で１０分、続いて１８０℃で１
０分乾燥し、クロム付着量３ｍｇ／ｍ2となるよう形成
した。
電解Ｎｉ−Ｐめっきは、硫酸ニッケルおよび塩化ニッケ
ルによりニッケル濃度６．８ｇ／ｌとし、浴温８５℃、
ｐＨ５、機械攪拌により形成した。半光沢Ｎｉめっき
は、硫酸ニッケルおよび塩化ニッケルによりニッケル濃
度８０ｇ／ｌとし、ほう酸３５ｇ／ｌ、ブチンジオール
０．２ｇ／ｌを添加し、浴温５０℃、ｐＨ４、電流密度
２Ａ／ｄｍ2の条件下で形成した。クロメート処理層
は、クロム酸とフッ化水素酸、タングステン塩からなる
ｐＨ１．８に調整したクロム酸クロメート化成液に３分
間浸漬した後、１００℃で１０分、続いて１８０℃で１
０分乾燥し、クロム付着量３ｍｇ／ｍ2となるよう形成
した。
【００４３】無電解Ｎｉ−Ｐめっき層、Ｎｉめっき層の
膜厚６μｍでクロメート処理の有無をそれぞれ比較する
と、クロメート処理後のＡｌ溶出量はクロメート処理前
に比べてＮｉ−Ｐめっきで１／２０、半光沢Ｎｉめっき
で１／３に減少しており、ともに耐食性が向上している
ことがわかる。特にＮｉ−Ｐめっきの耐食性向上が大変
著しい。この結果から、クロメート処理を施すことによ
り、アルミホイール表面全体をクロメート皮膜で覆うこ
とができ、電気めっきのつき回りが悪いために膜厚不足
となり耐食性が不十分な部分、例えばリム裏側、風穴下
部等に露出した、半光沢Ｎｉめっき層、光沢Ｎｉめっき
層、無電解Ｎｉめっき層及びアルミニウム合金表面がク
ロメート処理層により被覆されるので、めっき膜厚の不
十分な部分があった場合、めっきによってふさぎ切れて
いないピンホールがクロメート層によりふさがれ、フク
レを防止できる、めっき層の腐食が抑制できる等、耐食
性向上に顕著な効果が得られる。
膜厚６μｍでクロメート処理の有無をそれぞれ比較する
と、クロメート処理後のＡｌ溶出量はクロメート処理前
に比べてＮｉ−Ｐめっきで１／２０、半光沢Ｎｉめっき
で１／３に減少しており、ともに耐食性が向上している
ことがわかる。特にＮｉ−Ｐめっきの耐食性向上が大変
著しい。この結果から、クロメート処理を施すことによ
り、アルミホイール表面全体をクロメート皮膜で覆うこ
とができ、電気めっきのつき回りが悪いために膜厚不足
となり耐食性が不十分な部分、例えばリム裏側、風穴下
部等に露出した、半光沢Ｎｉめっき層、光沢Ｎｉめっき
層、無電解Ｎｉめっき層及びアルミニウム合金表面がク
ロメート処理層により被覆されるので、めっき膜厚の不
十分な部分があった場合、めっきによってふさぎ切れて
いないピンホールがクロメート層によりふさがれ、フク
レを防止できる、めっき層の腐食が抑制できる等、耐食
性向上に顕著な効果が得られる。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば、鋳造欠陥やＣｒめっき
層の欠陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下地が露出し
た部分があった場合でも、耐食性に優れるアルミニウム
合金部材およびアルミホイールを提供することにある。
また、所望の金属光沢を有する表面を容易に得ることが
できる。
層の欠陥、あるいはめっき膜厚が不十分で下地が露出し
た部分があった場合でも、耐食性に優れるアルミニウム
合金部材およびアルミホイールを提供することにある。
また、所望の金属光沢を有する表面を容易に得ることが
できる。
【図１】本発明の一実施例を示すアルミホイールの縦断
面図である。
面図である。
【図２】図１における鋳造素材２の表面２ａの拡大模式
図である。
図である。
１ アルミホイール、２ 鋳造素材、３ Ｎｉ−Ｐめっ
き層、４ａ 半光沢Ｎｉめっき層、４ｂ 光沢Ｎｉめっ
き層、５ Ｃｒめっき層、６ クロメート処理層、７
クリア塗装層
き層、４ａ 半光沢Ｎｉめっき層、４ｂ 光沢Ｎｉめっ
き層、５ Ｃｒめっき層、６ クロメート処理層、７
クリア塗装層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 3/12 １０１
Claims (11)
- 【請求項１】 表面に、Ｃｒめっき層と、クロメート処
理層とを順次積層してなることを特徴とするアルミニウ
ム合金部材。 - 【請求項２】 クロメート処理層の表面に塗膜層を有す
る請求項１に記載のアルミニウム合金部材。 - 【請求項３】 無電解めっき層を有する請求項１または
２に記載のアルミニウム合金部材。 - 【請求項４】 電解めっき層（Ｃｒめっき層を除く）を
有する請求項１ないし３のいづれかに記載のアルミニウ
ム合金部材。 - 【請求項５】 互いに電位差を有する２層以上の電解め
っき層（Ｃｒめっき層を除く）を有する請求項１ないし
４のいづれかに記載のアルミニウム合金部材。 - 【請求項６】 表面に、無電解めっき層と、Ｃｒめっき
層と、塗膜層とを順次積層してなることを特徴とするア
ルミニウム合金部材。 - 【請求項７】 電解めっき層（Ｃｒめっき層を除く）を
有する請求項６に記載のアルミニウム合金部材。 - 【請求項８】 互いに電位差を有する２層以上の電解め
っき層（Ｃｒめっき層を除く）を有する請求項６または
７に記載のアルミニウム合金部材。 - 【請求項９】 表面に、Ｃｒめっき層と、クロメート処
理層とを順次積層してなることを特徴とするアルミホイ
ール。 - 【請求項１０】 表面に、無電解めっき層と、Ｃｒめっ
き層と、塗膜層とを順次積層してなることを特徴とする
アルミホイール。 - 【請求項１１】 表面に、無電解めっき層と、電気めっ
き層と、Ｃｒめっき層と、クロメート処理層と、塗膜層
とを順次積層してなることを特徴とするアルミホイー
ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2642894A JPH07232501A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | アルミニウム合金部材およびアルミホイール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2642894A JPH07232501A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | アルミニウム合金部材およびアルミホイール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07232501A true JPH07232501A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12193250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2642894A Pending JPH07232501A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | アルミニウム合金部材およびアルミホイール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07232501A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001234361A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Ibiden Co Ltd | 高耐食ニッケル−金めっき |
| JP2006143205A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hayes Lemmers Internatl Inc | 車両ホイール表面へ銅フリークロムめっきを施す方法 |
| JP2009519453A (ja) * | 2005-12-16 | 2009-05-14 | アレヴァ エヌペ | 加圧水型原子炉の一次冷却系統における加圧装置のための加熱ロッド |
| JP2009149931A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Honda Motor Co Ltd | アルミニウム系部品及びそれの製造方法 |
| JP2012143798A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Hikari Keikinzoku Kogyo Kk | めっきが施されたアルミニウム合金鋳物及びその製造方法 |
| JP2018176998A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | トヨタ自動車株式会社 | 車両の除電装置 |
-
1994
- 1994-02-24 JP JP2642894A patent/JPH07232501A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001234361A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Ibiden Co Ltd | 高耐食ニッケル−金めっき |
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| JP2009519453A (ja) * | 2005-12-16 | 2009-05-14 | アレヴァ エヌペ | 加圧水型原子炉の一次冷却系統における加圧装置のための加熱ロッド |
| US9730277B2 (en) | 2005-12-16 | 2017-08-08 | Areva Np | Pressurizer heater for the primary cooling system of a pressurized-water nuclear reactor |
| JP2009149931A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Honda Motor Co Ltd | アルミニウム系部品及びそれの製造方法 |
| JP2012143798A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Hikari Keikinzoku Kogyo Kk | めっきが施されたアルミニウム合金鋳物及びその製造方法 |
| JP2018176998A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | トヨタ自動車株式会社 | 車両の除電装置 |
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