JPH07233785A - 非蒸発型ゲッターポンプ - Google Patents
非蒸発型ゲッターポンプInfo
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- JPH07233785A JPH07233785A JP2521294A JP2521294A JPH07233785A JP H07233785 A JPH07233785 A JP H07233785A JP 2521294 A JP2521294 A JP 2521294A JP 2521294 A JP2521294 A JP 2521294A JP H07233785 A JPH07233785 A JP H07233785A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- chamber body
- terminal
- longitudinal direction
- pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 真空チェンバ本体13のポンプ室15の一端
及び他端に設けた端子27,28と、ポンプ室15の内
部に配置され且つ基端部が真空チェンバ本体13に対し
て固着された真空チェンバ本体13長手方向へ延びるベ
ースプレート20と、基端部が一方の端子27に固着さ
れ先端部が他方の端子28の直近まで延びるNEGスト
リップ17と、該NEGストリップ17の中間部位を支
持し且つベースプレート20に固定されたサポートアー
ム21とを備え、NEGストリップ17の先端部分と他
方の端子28とを真空チェンバ本体13長手方向に伸縮
し得る波形接続板29によって電気的に接続している。 【効果】 真空チェンバ本体13とベースプレート20
との間の伸縮差が、接続板29の真空チェンバ本体13
長手方向への伸縮により吸収され、NEGストリップ1
7に過大な応力が作用することがない。
及び他端に設けた端子27,28と、ポンプ室15の内
部に配置され且つ基端部が真空チェンバ本体13に対し
て固着された真空チェンバ本体13長手方向へ延びるベ
ースプレート20と、基端部が一方の端子27に固着さ
れ先端部が他方の端子28の直近まで延びるNEGスト
リップ17と、該NEGストリップ17の中間部位を支
持し且つベースプレート20に固定されたサポートアー
ム21とを備え、NEGストリップ17の先端部分と他
方の端子28とを真空チェンバ本体13長手方向に伸縮
し得る波形接続板29によって電気的に接続している。 【効果】 真空チェンバ本体13とベースプレート20
との間の伸縮差が、接続板29の真空チェンバ本体13
長手方向への伸縮により吸収され、NEGストリップ1
7に過大な応力が作用することがない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、非蒸発型ゲッターポン
プに関するものである。
プに関するものである。
【0002】
【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光と呼ばれる電磁波(光)を放出する。
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光と呼ばれる電磁波(光)を放出する。
【0003】図2は放射光を発生させる手段の一例を示
すもので、1は線形加速装置(粒子加速器)であり、該
線形加速器1は、電子(荷電粒子)eを移送させるため
の直管状の加速ダクト2を有している。
すもので、1は線形加速装置(粒子加速器)であり、該
線形加速器1は、電子(荷電粒子)eを移送させるため
の直管状の加速ダクト2を有している。
【0004】この加速ダクト2は、内部を超高真空に保
持できるように形成され、超高真空状態に保持された加
速ダクト2の内部を移動する電子eに高周波を付与して
電子eを加速する高周波加速装置3が設けられている。
持できるように形成され、超高真空状態に保持された加
速ダクト2の内部を移動する電子eに高周波を付与して
電子eを加速する高周波加速装置3が設けられている。
【0005】また、前記加速ダクト2の一端には、電子
銃などの電子発生装置4が設けられており、該電子発生
装置4により発生する電子eが加速ダクト2の中空部へ
向かって射出されるようになっている。
銃などの電子発生装置4が設けられており、該電子発生
装置4により発生する電子eが加速ダクト2の中空部へ
向かって射出されるようになっている。
【0006】さらに、前記加速ダクト2の他端には、湾
曲管状の偏向ダクト5の一端が接続されており、該偏向
ダクト5の湾曲部には、偏向電磁石6が設けられてい
る。
曲管状の偏向ダクト5の一端が接続されており、該偏向
ダクト5の湾曲部には、偏向電磁石6が設けられてい
る。
【0007】而して、加速ダクト2から偏向ダクト5に
入射する電子eは、その進行方向を偏向電磁石6の磁場
により偏向ダクト5に沿って曲げられるようになってい
る。
入射する電子eは、その進行方向を偏向電磁石6の磁場
により偏向ダクト5に沿って曲げられるようになってい
る。
【0008】7はシンクロトロンであり、該シンクロト
ロン7は前記の電子eに円軌道を形成させるための円形
ダクト8を有しており、該円形ダクト8の所要箇所に
は、前記の偏向ダクト5の他端が接続されている。
ロン7は前記の電子eに円軌道を形成させるための円形
ダクト8を有しており、該円形ダクト8の所要箇所に
は、前記の偏向ダクト5の他端が接続されている。
【0009】前記の円形ダクト8は、内部を超高真空に
保持できるようになっている。
保持できるようになっている。
【0010】円形ダクト8の湾曲部には、偏向電磁石9
が設けられており、偏向ダクト5から超高真空に保持さ
れた円形ダクト8に入射する電子eは、その進行方向を
偏向電磁石9の磁場により円形ダクト8に沿って曲げら
れて該円形ダクト8の内部を周回するようになってい
る。
が設けられており、偏向ダクト5から超高真空に保持さ
れた円形ダクト8に入射する電子eは、その進行方向を
偏向電磁石9の磁場により円形ダクト8に沿って曲げら
れて該円形ダクト8の内部を周回するようになってい
る。
【0011】一方、円形ダクト8の所要箇所には、高周
波加速装置10が設けられており、円形ダクト8の内部
を周回する電子eは、前記の高周波加速装置10から高
周波を付与されて、光速に近い速度まで加速されるよう
になっている。
波加速装置10が設けられており、円形ダクト8の内部
を周回する電子eは、前記の高周波加速装置10から高
周波を付与されて、光速に近い速度まで加速されるよう
になっている。
【0012】さらに、円形ダクト8の所要の湾曲部に
は、該湾曲部において光速に近い速度で移動する電子e
の進行方向が曲げられることにより放出される放射光ビ
ームSを円形ダクト8の外部へ導くための直管状の水平
なビームチャンネル11の一端が接続されている。
は、該湾曲部において光速に近い速度で移動する電子e
の進行方向が曲げられることにより放出される放射光ビ
ームSを円形ダクト8の外部へ導くための直管状の水平
なビームチャンネル11の一端が接続されている。
【0013】12は実験装置であり、該実験装置12
は、前記のビームチャンネル11の他端に接続されてい
る。
は、前記のビームチャンネル11の他端に接続されてい
る。
【0014】この実験装置12には、前記の円形ダクト
8からビームチャンネル11へ射出される放射光ビーム
Sが導かれるようになっている。
8からビームチャンネル11へ射出される放射光ビーム
Sが導かれるようになっている。
【0015】上記の円形ダクト8は、図3に示すような
断面を有する真空チェンバ本体13を複数連結するよう
に構成されている。
断面を有する真空チェンバ本体13を複数連結するよう
に構成されている。
【0016】この真空チェンバ本体13の内部には、電
子ビームの進行方向へ延びるビーム室14と、該ビーム
室14に沿って延びるポンプ室15と、前記のビーム室
14とポンプ室15とを連通するスロット部16とが設
けられており、前記のポンプ室15の内部には、ゲッタ
ーポンプを構成するNEG(Non Evaporab
le Getter)ストリップ17が真空チェンバ本
体13に対して電気的に絶縁された状態で支持されてい
る。
子ビームの進行方向へ延びるビーム室14と、該ビーム
室14に沿って延びるポンプ室15と、前記のビーム室
14とポンプ室15とを連通するスロット部16とが設
けられており、前記のポンプ室15の内部には、ゲッタ
ーポンプを構成するNEG(Non Evaporab
le Getter)ストリップ17が真空チェンバ本
体13に対して電気的に絶縁された状態で支持されてい
る。
【0017】図3乃至図5に示す例では、真空チェンバ
本体13のポンプ室15内部の上下面に沿ってそれぞれ
1列のNEGストリップ17,17が設けられている。
本体13のポンプ室15内部の上下面に沿ってそれぞれ
1列のNEGストリップ17,17が設けられている。
【0018】18は、前記のポンプ室15の内部の上下
各面にそれぞれ設けられ且つ該ポンプ室15の長手方向
へ延びるアリ溝であり、該アリ溝18にはステンレスな
どの帯板で作られ、長手方向に所定の間隔を置いて穿設
された複数の小ねじ孔19を有するベースプレート20
がそれぞれ差し込まれ、該各ベースプレート20,20
の基端部(図5のA側)はポンプ室15の一端(図5に
示すA側)に固定され、先端部(図5のB側)は前記の
アリ溝18に沿って自由に伸縮し得るようになってい
る。
各面にそれぞれ設けられ且つ該ポンプ室15の長手方向
へ延びるアリ溝であり、該アリ溝18にはステンレスな
どの帯板で作られ、長手方向に所定の間隔を置いて穿設
された複数の小ねじ孔19を有するベースプレート20
がそれぞれ差し込まれ、該各ベースプレート20,20
の基端部(図5のA側)はポンプ室15の一端(図5に
示すA側)に固定され、先端部(図5のB側)は前記の
アリ溝18に沿って自由に伸縮し得るようになってい
る。
【0019】21はサポートアームであり、ステンレス
などの薄帯板によって、コの字形に折り曲げられ基部に
後述のセラミックフランジ23の軸部を挿通し得る孔を
有し、開き加減に形成された開放側の両端部でNEGス
トリップ17の幅方向の両側縁部を挟み込み、溶接する
ことによりNEGストリップ17を固定し支持し得るよ
うに形成されている。
などの薄帯板によって、コの字形に折り曲げられ基部に
後述のセラミックフランジ23の軸部を挿通し得る孔を
有し、開き加減に形成された開放側の両端部でNEGス
トリップ17の幅方向の両側縁部を挟み込み、溶接する
ことによりNEGストリップ17を固定し支持し得るよ
うに形成されている。
【0020】該サポートアーム21は平座金状のセラミ
ックリング22を介してベースプレート20面に配置さ
れ、サポートアーム21の孔と前記のセラミックリング
22に軸部を挿通したセラミックフランジ23を介し前
記のベースプレート20に設けられた各小ねじ孔19に
螺合し得る小ねじ24により、ベースプレート20に所
定の間隔を置いて取り付けられている(図4参照)。
ックリング22を介してベースプレート20面に配置さ
れ、サポートアーム21の孔と前記のセラミックリング
22に軸部を挿通したセラミックフランジ23を介し前
記のベースプレート20に設けられた各小ねじ孔19に
螺合し得る小ねじ24により、ベースプレート20に所
定の間隔を置いて取り付けられている(図4参照)。
【0021】25は真空チェンバ本体13のポンプ室1
5の一端(図5のA側)に設けられた一対の端子であ
り、該各端子25に基端部を接続され、ポンプ室15の
内部に前記のサポートアーム21に支持され張設された
2本のNEGストリップ17,17は、隣接するサポー
トアーム21の相互間で常温下においてポンプ室15の
内壁から離れる方向へ適宜の反りが付けられており、先
端部(図5のB側)において連結板26により互いに接
続されている。
5の一端(図5のA側)に設けられた一対の端子であ
り、該各端子25に基端部を接続され、ポンプ室15の
内部に前記のサポートアーム21に支持され張設された
2本のNEGストリップ17,17は、隣接するサポー
トアーム21の相互間で常温下においてポンプ室15の
内壁から離れる方向へ適宜の反りが付けられており、先
端部(図5のB側)において連結板26により互いに接
続されている。
【0022】前記のNEGストリップ17は、コンスタ
ンタンの薄板にジルコニウム、バナジウムなどのパウダ
ーを真空蒸着させた幅が30mm、厚さが0.2mm程
度のリボン状のものであり、このNEGストリップ17
を450℃程度に昇温させることによってジルコニウ
ム、バナジウムなどを活性化させると、該ジルコニウ
ム、バナジウムなどが気体分子を吸着するという性質を
有している。
ンタンの薄板にジルコニウム、バナジウムなどのパウダ
ーを真空蒸着させた幅が30mm、厚さが0.2mm程
度のリボン状のものであり、このNEGストリップ17
を450℃程度に昇温させることによってジルコニウ
ム、バナジウムなどを活性化させると、該ジルコニウ
ム、バナジウムなどが気体分子を吸着するという性質を
有している。
【0023】上記の真空チェンバ本体13において、図
示していないターボポンプなどの機械的ポンプによって
ポンプ室15とスロット部16とビーム室14の内部を
減圧したうえ、端子25に電圧を印加すると、NEGス
トリップ17,17に電流(70〜90A程度)が流れ
る。
示していないターボポンプなどの機械的ポンプによって
ポンプ室15とスロット部16とビーム室14の内部を
減圧したうえ、端子25に電圧を印加すると、NEGス
トリップ17,17に電流(70〜90A程度)が流れ
る。
【0024】これにより、NEGストリップ17,17
がジュール熱により450℃程度に加熱される。
がジュール熱により450℃程度に加熱される。
【0025】NEGストリップ17,17を450℃程
度まで加熱し昇温させることによってジルコニウム、バ
ナジウムなどを活性化させると、該ジルコニウム、バナ
ジウムなどが気体分子を吸着して真空チェンバ本体13
の内部を10-9〜10-10 Torr程度の超高真空状態
とする。
度まで加熱し昇温させることによってジルコニウム、バ
ナジウムなどを活性化させると、該ジルコニウム、バナ
ジウムなどが気体分子を吸着して真空チェンバ本体13
の内部を10-9〜10-10 Torr程度の超高真空状態
とする。
【0026】前記の非蒸発型ゲッターポンプでは、基端
部(図5のA側)が真空チェンバ本体13のポンプ室1
5の一端(図5のA側)に固定されている上下の各ベー
スプレート20,20は、その先端部(図5のB側)は
自由に伸縮し得るようになっており、該ベースプレート
20上にサポートアーム21を介して支持されている上
下の各NEGストリップ17,17は、基端部(図5の
A側)が真空チェンバ本体13のポンプ室15の一端
(図5のA側)に設けられた一対の端子25,25にそ
れぞれ接続され、先端部(図5のB側)は連結板26を
介して互いに接続されているので、NEGストリップ1
7が放射する輻射熱によって昇温する真空チェンバ本体
13とベースプレート20との間に熱膨張による伸張差
が生じてもNEGストリップ17には何らの影響もな
い。
部(図5のA側)が真空チェンバ本体13のポンプ室1
5の一端(図5のA側)に固定されている上下の各ベー
スプレート20,20は、その先端部(図5のB側)は
自由に伸縮し得るようになっており、該ベースプレート
20上にサポートアーム21を介して支持されている上
下の各NEGストリップ17,17は、基端部(図5の
A側)が真空チェンバ本体13のポンプ室15の一端
(図5のA側)に設けられた一対の端子25,25にそ
れぞれ接続され、先端部(図5のB側)は連結板26を
介して互いに接続されているので、NEGストリップ1
7が放射する輻射熱によって昇温する真空チェンバ本体
13とベースプレート20との間に熱膨張による伸張差
が生じてもNEGストリップ17には何らの影響もな
い。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図6に
示すように、端子25を真空チェンバ本体13のポンプ
室15の長手方向の一端(図6のA側)及び他端(図6
のB側)に設け、NEGストリップ17の基端部をポン
プ室15の一端(図6のA側)に設けた端子25へ接続
し、先端部をポンプ室15の他端(図6のB側)に設け
た端子25に接続した非蒸発型ゲッターポンプの場合、
真空チェンバ本体13とベースプレート20との間に熱
膨張による伸張差が生じると、基端部を真空チェンバ本
体のポンプ室の一端(図6のA側)に基端部を固定され
たベースプレート20の先端部自由端側(図6のB側)
のNEGストリップ17の端末を支持するサポートアー
ム21と前記先端部側の端子25との間のNEGストリ
ップ17に過大な応力が作用するという問題があった。
示すように、端子25を真空チェンバ本体13のポンプ
室15の長手方向の一端(図6のA側)及び他端(図6
のB側)に設け、NEGストリップ17の基端部をポン
プ室15の一端(図6のA側)に設けた端子25へ接続
し、先端部をポンプ室15の他端(図6のB側)に設け
た端子25に接続した非蒸発型ゲッターポンプの場合、
真空チェンバ本体13とベースプレート20との間に熱
膨張による伸張差が生じると、基端部を真空チェンバ本
体のポンプ室の一端(図6のA側)に基端部を固定され
たベースプレート20の先端部自由端側(図6のB側)
のNEGストリップ17の端末を支持するサポートアー
ム21と前記先端部側の端子25との間のNEGストリ
ップ17に過大な応力が作用するという問題があった。
【0028】本発明は、前述の実情に鑑み、NEGスト
リップの両端をポンプ室の真空チェンバ本体の長手方向
の一端及び他端に設けた端子にそれぞれ接続した構成の
非蒸発型ゲッターポンプにおいて、真空チェンバ本体と
ベースプレートとの間に熱膨張差が生じた場合にもNE
Gストリップに過大な応力が作用することを防止できる
非蒸発型ゲッターポンプを提供することを目的としてな
したものである。
リップの両端をポンプ室の真空チェンバ本体の長手方向
の一端及び他端に設けた端子にそれぞれ接続した構成の
非蒸発型ゲッターポンプにおいて、真空チェンバ本体と
ベースプレートとの間に熱膨張差が生じた場合にもNE
Gストリップに過大な応力が作用することを防止できる
非蒸発型ゲッターポンプを提供することを目的としてな
したものである。
【0029】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の非蒸発型ゲッターポンプにおいては、真空チ
ェンバ本体13の内部に形成したポンプ室15の真空チ
ェンバ本体13長手方向の一端及び他端に設けた端子2
7,28と、ポンプ室15の内部に配置され且つ基端部
が真空チェンバ本体13に対して固着された真空チェン
バ本体13長手方向へ延びるベースプレート20と、基
端部が一方の端子27に固着され先端部が他方の端子2
8の直近まで延びるNEGストリップ17と、該NEG
ストリップ17の長手方向中間部の所定部位を支持し且
つ前記のベースプレート20に固定されたサポートアー
ム21とを備え、NEGストリップ17の先端部分と前
記他方の端子28とを真空チャンバ本体13長手方向に
伸縮し得る接続板29によって電気的に接続している。
に本発明の非蒸発型ゲッターポンプにおいては、真空チ
ェンバ本体13の内部に形成したポンプ室15の真空チ
ェンバ本体13長手方向の一端及び他端に設けた端子2
7,28と、ポンプ室15の内部に配置され且つ基端部
が真空チェンバ本体13に対して固着された真空チェン
バ本体13長手方向へ延びるベースプレート20と、基
端部が一方の端子27に固着され先端部が他方の端子2
8の直近まで延びるNEGストリップ17と、該NEG
ストリップ17の長手方向中間部の所定部位を支持し且
つ前記のベースプレート20に固定されたサポートアー
ム21とを備え、NEGストリップ17の先端部分と前
記他方の端子28とを真空チャンバ本体13長手方向に
伸縮し得る接続板29によって電気的に接続している。
【0030】上記の接続板29は、その形状を波形形状
にすることが好ましい。
にすることが好ましい。
【0031】
【作用】本発明の非蒸発型ゲッターポンプでは、温度上
昇によりNEGストリップ17が伸張すると、真空チェ
ンバ本体13長手方向に対して接続板29が縮小し、ま
た、温度下降によりNEGストリップ17が縮小する
と、真空チェンバ本体13長手方向に対して接続板29
が伸張する。
昇によりNEGストリップ17が伸張すると、真空チェ
ンバ本体13長手方向に対して接続板29が縮小し、ま
た、温度下降によりNEGストリップ17が縮小する
と、真空チェンバ本体13長手方向に対して接続板29
が伸張する。
【0032】従って、温度変化に起因する真空チェンバ
本体13とベースプレート20との間の伸縮差が、前記
接続板29の真空チェンバ本体13長手方向への縮小或
いは伸張により吸収される。
本体13とベースプレート20との間の伸縮差が、前記
接続板29の真空チェンバ本体13長手方向への縮小或
いは伸張により吸収される。
【0033】また、接続板29を波形形状とした場合に
は、接続板29それ自体に座屈が発生しにくくなり、温
度変化に起因する真空チェンバ本体13とベースプレー
ト20との間の伸縮差をより確実に吸収することができ
る。
は、接続板29それ自体に座屈が発生しにくくなり、温
度変化に起因する真空チェンバ本体13とベースプレー
ト20との間の伸縮差をより確実に吸収することができ
る。
【0034】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
明する。
【0035】図1は本発明の非蒸発型ゲッターポンプの
一実施例の概略を表すものである。図3乃至図6と同じ
ものには同じ符号を付して説明を省略する。
一実施例の概略を表すものである。図3乃至図6と同じ
ものには同じ符号を付して説明を省略する。
【0036】本実施例では、真空チェンバ本体13の内
部に形成したポンプ室15と、該ポンプ室15の内部に
配置され、且つ基端部が真空チェンバ本体13に対して
固着され、且つ真空チェンバ本体13長手方向へ延びる
ベースプレート20と、該ベースプレート20面にセラ
ミックリング22を介して電気的に絶縁状態に固定され
た複数のサポートアーム21と、該サポートアーム21
によって長手方向の中間部位を所定の間隔をおいて支持
され、且つ真空チェンバ本体13長手方向に伸びるNE
Gストリップ17とを有し、前記のポンプ室15の真空
チェンバ本体13長手方向の一端(図1のA側)及び他
端(図1のB側)に端子27,28を配置した真空チェ
ンバにおいて、前記のNEGストリップ17の基端部を
前記の一方の端子27に固着し、前記他方の端子28に
隣接するサポートアーム21から突出しているNEGス
トリップ17の先端部と他方の端子28との間を波形接
続板29により連結する。
部に形成したポンプ室15と、該ポンプ室15の内部に
配置され、且つ基端部が真空チェンバ本体13に対して
固着され、且つ真空チェンバ本体13長手方向へ延びる
ベースプレート20と、該ベースプレート20面にセラ
ミックリング22を介して電気的に絶縁状態に固定され
た複数のサポートアーム21と、該サポートアーム21
によって長手方向の中間部位を所定の間隔をおいて支持
され、且つ真空チェンバ本体13長手方向に伸びるNE
Gストリップ17とを有し、前記のポンプ室15の真空
チェンバ本体13長手方向の一端(図1のA側)及び他
端(図1のB側)に端子27,28を配置した真空チェ
ンバにおいて、前記のNEGストリップ17の基端部を
前記の一方の端子27に固着し、前記他方の端子28に
隣接するサポートアーム21から突出しているNEGス
トリップ17の先端部と他方の端子28との間を波形接
続板29により連結する。
【0037】前記の波形接続板29は、NEGストリッ
プ延設方向に伸縮し得るように、長手方向に所定のピッ
チを有し上下方向の所定の高さを有して屈曲する波形に
形成され、その両端部に前記のNEGストリップ17の
先端部及び他方の端子28に連結し得る接続ピース30
を備えている。
プ延設方向に伸縮し得るように、長手方向に所定のピッ
チを有し上下方向の所定の高さを有して屈曲する波形に
形成され、その両端部に前記のNEGストリップ17の
先端部及び他方の端子28に連結し得る接続ピース30
を備えている。
【0038】上記の真空チェンバ本体13において、図
示していないターボポンプなどの機械的ポンプによって
ポンプ室15とスロット部16とビーム室14の内部を
減圧したうえ、前記の端子27,28に電圧を印加する
と、NEGストリップ17に電流(70〜90A程度)
が流れNEGストリップ17がジュール熱により450
℃程度に加熱される。
示していないターボポンプなどの機械的ポンプによって
ポンプ室15とスロット部16とビーム室14の内部を
減圧したうえ、前記の端子27,28に電圧を印加する
と、NEGストリップ17に電流(70〜90A程度)
が流れNEGストリップ17がジュール熱により450
℃程度に加熱される。
【0039】このとき、加熱された該NEGストリップ
17から放射される輻射熱を受けて昇温し熱膨張する前
記の真空チェンバ本体13とベースプレート20との間
に該熱膨張による伸張差が生じるため、他方の端子28
と該端子28に隣接するサポートアーム21との間隔が
変化するが、この変化に対応して前記の波形接続板29
が容易に長手方向に変形し、前記の他方の端子28と該
端子28に隣接するサポートアーム21との間隔の変化
を吸収する。
17から放射される輻射熱を受けて昇温し熱膨張する前
記の真空チェンバ本体13とベースプレート20との間
に該熱膨張による伸張差が生じるため、他方の端子28
と該端子28に隣接するサポートアーム21との間隔が
変化するが、この変化に対応して前記の波形接続板29
が容易に長手方向に変形し、前記の他方の端子28と該
端子28に隣接するサポートアーム21との間隔の変化
を吸収する。
【0040】前記によれば、真空チェンバ本体13とベ
ースプレート20との熱膨張差によって間隔が変化する
他方の端子28と該端子28に隣接するサポートアーム
21との間に位置するNEGストリップ17の先端部と
前記の端子28とを長手方向に伸縮自在な波形接続板2
9によって接続したので、該波形接続板29が前記の端
子28と該端子28に隣接するサポートアーム21との
間隔の変化を吸収するため、前記のNEGストリップ1
7に過大な応力が作用することがない。
ースプレート20との熱膨張差によって間隔が変化する
他方の端子28と該端子28に隣接するサポートアーム
21との間に位置するNEGストリップ17の先端部と
前記の端子28とを長手方向に伸縮自在な波形接続板2
9によって接続したので、該波形接続板29が前記の端
子28と該端子28に隣接するサポートアーム21との
間隔の変化を吸収するため、前記のNEGストリップ1
7に過大な応力が作用することがない。
【0041】なお、本発明の非蒸発型ゲッターポンプは
上述した実施例にのみ限定されるものではなく、接続板
29を波形形状に形成する以外の構成によって真空チェ
ンバ本体13長手方向に対して伸縮し得るようにしても
よく、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲内におい
て種々変更を加え得ることは勿論である。
上述した実施例にのみ限定されるものではなく、接続板
29を波形形状に形成する以外の構成によって真空チェ
ンバ本体13長手方向に対して伸縮し得るようにしても
よく、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲内におい
て種々変更を加え得ることは勿論である。
【0042】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の非蒸発型ゲ
ッターポンプによれば、下記のような種々の優れた効果
を奏し得る。
ッターポンプによれば、下記のような種々の優れた効果
を奏し得る。
【0043】(1)本発明の請求項1及び請求項2に記
載した非蒸発型ゲッターポンプのいずれにおいても、温
度変化に起因する真空チェンバ本体13とベースプレー
ト20との間の伸縮差が、接続板29の真空チェンバ本
体13長手方向への縮小或いは伸張により吸収されるの
で、NEGストリップ17に過大な応力が作用すること
がなくなる。
載した非蒸発型ゲッターポンプのいずれにおいても、温
度変化に起因する真空チェンバ本体13とベースプレー
ト20との間の伸縮差が、接続板29の真空チェンバ本
体13長手方向への縮小或いは伸張により吸収されるの
で、NEGストリップ17に過大な応力が作用すること
がなくなる。
【0044】(2)本発明の請求項2に記載した非蒸発
型ゲッターポンプにおいては、接続板29を波形形状に
形成しているので、接続板29それ自体に座屈が発生し
にくくなり、温度変化に起因する真空チェンバ本体13
とベースプレート20との間の伸縮差をより確実に吸収
することができる。
型ゲッターポンプにおいては、接続板29を波形形状に
形成しているので、接続板29それ自体に座屈が発生し
にくくなり、温度変化に起因する真空チェンバ本体13
とベースプレート20との間の伸縮差をより確実に吸収
することができる。
【図1】本発明の非蒸発型ゲッターポンプの一実施例の
概略を表す断面図である。
概略を表す断面図である。
【図2】放射光を発生させる手段の一例の概略を表す構
成図である。
成図である。
【図3】図2に関連する従来の粒子加速器の真空チャン
バの一例の概略を表す断面図である。
バの一例の概略を表す断面図である。
【図4】図3に関連するサポートアームの部分組立図で
ある。
ある。
【図5】図3のV−V矢視図である。
【図6】図3に関連する真空チェンバの内部に形成した
非蒸発型ゲッターポンプの他の一例の断面図である。
非蒸発型ゲッターポンプの他の一例の断面図である。
13 真空チェンバ本体 15 ポンプ室 17 NEGストリップ 20 ベースプレート 21 サポートアーム 27 端子 28 端子 29 波形接続板(接続板)
Claims (2)
- 【請求項1】 真空チェンバ本体(13)の内部に形成
したポンプ室(15)の真空チェンバ本体(13)長手
方向の一端及び他端に設けた端子(27)(28)と、
ポンプ室(15)の内部に配置され且つ基端部が真空チ
ェンバ本体(13)に対して固着された真空チェンバ本
体(13)長手方向へ延びるベースプレート(20)
と、基端部が一方の端子(27)に固着され先端部が他
方の端子(28)の直近まで延びるNEGストリップ
(17)と、該NEGストリップ(17)の長手方向中
間部の所定部位を支持し且つ前記のベースプレート(2
0)に固定されたサポートアーム(21)とを備え、N
EGストリップ(17)の先端部分と前記他方の端子
(28)とを真空チャンバ本体(13)長手方向に伸縮
し得る接続板(29)によって電気的に接続したことを
特徴とする非蒸発型ゲッターポンプ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の非蒸発型ゲッターポン
プにおいて、接続板(29)を波形形状に形成したこと
を特徴とする非蒸発型ゲッターポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2521294A JPH07233785A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 非蒸発型ゲッターポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2521294A JPH07233785A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 非蒸発型ゲッターポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07233785A true JPH07233785A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12159661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2521294A Pending JPH07233785A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 非蒸発型ゲッターポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07233785A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997017542A1 (en) * | 1995-11-08 | 1997-05-15 | Mitel Corporation | Substrate processing apparatus with neg pump |
| JP2001503830A (ja) * | 1996-06-19 | 2001-03-21 | オルガニザーション ユーロペーヌ プール ラ ルシェルシュ ニュークレール | 非蒸発性ゲッターによるポンプ装置およびこのゲッターの使用法 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP2521294A patent/JPH07233785A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997017542A1 (en) * | 1995-11-08 | 1997-05-15 | Mitel Corporation | Substrate processing apparatus with neg pump |
| US5935395A (en) * | 1995-11-08 | 1999-08-10 | Mitel Corporation | Substrate processing apparatus with non-evaporable getter pump |
| JP2001503830A (ja) * | 1996-06-19 | 2001-03-21 | オルガニザーション ユーロペーヌ プール ラ ルシェルシュ ニュークレール | 非蒸発性ゲッターによるポンプ装置およびこのゲッターの使用法 |
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