JPH07235378A - 電界発光素子の製造方法および電界発光素子 - Google Patents

電界発光素子の製造方法および電界発光素子

Info

Publication number
JPH07235378A
JPH07235378A JP6196057A JP19605794A JPH07235378A JP H07235378 A JPH07235378 A JP H07235378A JP 6196057 A JP6196057 A JP 6196057A JP 19605794 A JP19605794 A JP 19605794A JP H07235378 A JPH07235378 A JP H07235378A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
electroluminescent device
recombination region
manufacturing
transport layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6196057A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3463362B2 (ja
Inventor
Tomoyuki Shirasaki
友之 白嵜
Seizo Miyata
清蔵 宮田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP19605794A priority Critical patent/JP3463362B2/ja
Publication of JPH07235378A publication Critical patent/JPH07235378A/ja
Priority to US08/904,239 priority patent/US5895692A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3463362B2 publication Critical patent/JP3463362B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/125—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers specially adapted for multicolour light emission, e.g. for emitting white light

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 所望の蛍光色素の物性に依存することなく分
散媒となる膜材料を選択しさらにこれを成膜でき、かつ
分散媒となる電荷輸送膜（層）の物性に制約を受けるこ
となく蛍光色素を任意に選択し得る電界発光素子の製造
方法と、この製造方法によって得られるマトリックス表
示の有機電界発光素子を提供する。 【構成】 透明電極１２を有する透明基板１１の透明電
極側に、ホール輸送層１６と、必要に応じて設けられる
両性輸送層と、電子輸送層１４とを順次形成し、さらに
電子輸送層１４上に電子注入型電極となる背面電極１５
を設ける電界発光素子の製造方法である。各輸送層のう
ち電子とホールとの再結合領域となる層の形成後、再結
合領域層の上に蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂを塗布展開し、次い
で蛍光色素を加熱して再結合領域層中に拡散させ、発光
層１３とする。また、この製造方法によって得られた電
界発光素子。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機薄膜材料を用いた
電荷注入型の電界発光素子の製造方法と、この製造方法
によって得られた電界発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、表示装置の発光表示部や面光源等
への利用が期待され一部に実施されている電界発光素子
として、エレクトロルミッネセンス素子（ＥＬ素子）が
ある。このようなＥＬ素子としては、特に有機薄膜材料
を用いたものとして例えば図１０に示す構造のものが知
られている。
【０００３】図１０において符号１は有機ＥＬ素子であ
り、この有機ＥＬ素子１は、透明基板２上にＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）等からなる透明電極３が形成され、該
透明電極３上に薄膜状の発光層４が形成され、該発光層
４上に薄膜状の電子輸送層５が形成され、さらにその上
に電子注入電極として機能する背面電極６が形成された
ものである。
【０００４】発光層４はホール輸送層として機能するも
ので、その内部に予め発光体色素（蛍光色素）が分散せ
しめられて発光をなすものであり、電場印加により背面
電極６から注入された電子と透明電極３から注入された
ホールとが主にここで再結合し、これによって励起子が
生成し、さらに該励起子が移動して発光体色素がその種
類に応じた色に発光するものである。
【０００５】なお、このように電子とホールとが再結合
する領域を以後再結合領域層と称する。
【０００６】このような有機ＥＬ素子１を製造するにあ
たり、特に発光層４を形成するには、分散媒膜構成材料
と分散質色素とを共通溶媒中に溶解し、この溶液をディ
ップコートやスピンコートなどの湿式法によって透明電
極３上に塗布し、その後乾燥して分散質色素（蛍光色
素）を分散した分散媒膜（ホール輸送膜）を得ている。
そして、このようにして得られた有機ＥＬ素子１にあっ
ては、 （１）任意の蛍光色素を分散させることができることに
より、発光波長を任意に設定することができる。
【０００７】（２）共通溶媒を用いているため、膜形成
性の低い材料でも発光層形成用の膜材料として適用可能
になる。
【０００８】（３）分散膜にポリマー等結晶性の低いも
のを採用した場合の、発光材料の結晶化に起因する欠陥
発生を防止し、これにより欠陥発生によって生じる寿命
低下の問題を解決することができる。
【０００９】等の利点があるとされている。
【００１０】また、このような有機ＥＬ素子にあって
は、無機ＥＬ素子に比べ原理的に青色発光が容易である
ことから、開発当初よりＲＧＢ個別発光素子への応用が
期待されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
に示した有機ＥＬ素子では、その製造に際して発光層の
形成をディップコートやスピンコートなどの湿式法で行
っているため、共通溶媒の選定が発光層形成（成膜）に
おいてより重要となるが、有機ＥＬ素子においては通常
電子輸送層、ホール輸送層、さらには必要に応じこれら
の間に形成される両性輸送層からなる電荷輸送層を数百
〜数千Åの薄膜にしなければならないため、実際には湿
式法による成膜条件を満たす共通溶媒を用いた場合に
は、必ずしも分散媒膜となる材料に対して最適な成膜条
件を設定することができず、したがってその製造が困難
であるといった不都合がある。
【００１２】また、前記有機ＥＬ素子では、これまでＲ
ＧＢ（赤緑青）個別発光素子としての多くの報告がなさ
れていたにも関わらず、現在に至ってもマルチカラーお
よびフルカラーのマトリックス表示素子としての有機Ｅ
Ｌ素子の報告はない。これは、ＲＧＢそれぞれの画素を
構成する有機薄膜を、例えばリソグラフィー、スクリー
ン印刷等の技術で同一基板上に画素パターンとしてマト
リックス形成することが困難であることが主な原因であ
ると考えられている。
【００１３】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その第一の目的は、所望の分散色素（蛍光色素）の
物性に依存することなく分散媒（分散層）となる膜材料
を選択しさらにこれを成膜でき、かつ分散媒となる電荷
輸送膜（電荷輸送層）の物性に制約を受けることなく蛍
光色素を任意に選択し得る電界発光素子の製造方法と、
この製造方法によって得られるマトリックス表示の電界
発光素子を提供することにある。また、本発明の第二の
目的は、ＲＧＢ等の複数の発光色を有するマルチカラー
またはフルカラーの電界発光素子の製造方法と、この製
造方法によって得られるマトリックス表示の電界発光素
子を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明における請求項１
記載の電界発光素子の製造方法では、一方の面に透明電
極を有する透明基板の透明電極側に、ホール輸送層と、
必要に応じて設けられる両性輸送層と、電子輸送層とを
順次形成し、さらに該電子輸送層上に電子注入型電極と
なる背面電極を設ける電界発光素子の製造方法におい
て、前記各輸送層のうち電子とホールとの再結合領域と
なる層の形成後、該再結合領域層の上に蛍光色素を塗布
展開し、次いで該蛍光色素を加熱して前記再結合領域層
中に拡散せしめることを前記課題の解決手段とした。
【００１５】請求項２記載の電界発光素子の製造方法で
は、前記蛍光色素として異なる発光色を呈する複数種の
蛍光色素を用い、これら蛍光色素を相互に分離して前記
再結合領域層上に塗布展開し、次いで前記再結合領域層
を加熱して前記蛍光色素を同時に前記再結合領域層中に
拡散せしめることを前記課題の解決手段とした。
【００１６】請求項３記載の電界発光素子の製造方法で
は、前記蛍光色素として異なる発光色を呈する複数種の
蛍光色素を用い、これら蛍光色素を各色毎に相互に分離
されるよう前記再結合領域層上に塗布展開するととも
に、これら蛍光色素を各色毎に前記再結合領域層中に順
次拡散せしめることを前記課題の解決手段とした。
【００１７】請求項４記載の電界発光素子では、透明電
極と背面電極とからなるマトリックス電極と、透明電極
側に設けられたホール輸送層と、背面電極側に設けられ
た電子輸送層とを有し、さらに前記ホール電子輸送と電
子輸送層との間に両性輸送層を必要に応じて設けてな
り、前記各輸送層のうち、電子とホールとの再結合領域
となる層が、蛍光色素が拡散せしめられてなる発光層と
されたことを前記課題の解決手段とした。
【００１８】請求項５記載の電界発光素子では、前記発
光層が、異なる発光色を呈する複数種の蛍光色素がそれ
ぞれ独立した領域に拡散せしめられて形成され、かつこ
れら独立した領域が、それぞれ前記マトリックス電極の
各交差位置に対応して配置されてなることを前記課題の
解決手段とした。請求項６記載の電界発光素子では、上
記再結合領域となる層として高分子ゲルを用いたことを
前記課題の解決手段とした。請求項７記載の電界発光素
子では、上記再結合領域となる層として多孔質シリコン
を用いたことを前記課題の解決手段とした。
【００１９】
【作用】請求項１記載の電界発光素子によれば、ホール
輸送層、必要に応じて設けられる両性輸送層、電子輸送
層のうち電子とホールとの再結合領域となる層の形成
後、該再結合領域層の上に蛍光色素を塗布展開し、次い
で該蛍光色素を加熱して前記再結合領域層中に拡散せし
めるので、再結合領域層の形成に際し、該層を先に独立
して形成することから、その形成材料を蛍光色素の物性
に制約されることなく選択することができる。また、蛍
光色素についても、再結合領域層形成後に該層中に拡散
せしめることから、再結合領域層の形成材料の物性に制
約されることなく任意のものを選択することができる。
【００２０】請求項２および３記載の電界発光素子の製
造方法によれば、前記蛍光色素として異なる発光色を呈
する複数種の蛍光色素を用いているので、蛍光色素の発
光色に応じた複数色の発光をなす電界発光素子の製造が
可能になる。
【００２１】請求項４記載の電界発光素子では、電子と
ホールとの再結合領域となる層が、蛍光色素が拡散せし
められてなる発光層とされているので、該発光層の形成
に際してリソグラフィー、スクリーン印刷等のパターン
加工が不要になる。
【００２２】請求項５記載の電界発光素子では、発光層
が、異なる発光色を呈する複数種の蛍光色素がそれぞれ
独立した領域に拡散せしめられて形成され、かつこれら
独立した領域が、それぞれ前記マトリックス電極の各交
差位置に対応して配置されてなるので、マトリックス電
極の駆動により複数色による表示が可能になる。請求項
６記載の電界発光素子では、再結合領域となる層、すな
わち発光層が高分子ゲルとされており、高分子ゲルにお
いては、蛍光色素の拡散が容易となる。また、高分子ゲ
ルにおいては、蛍光色素以外の材料の拡散も容易であ
り、電荷輸送性の向上や、ホールもしくは電子注入障壁
の低減などを目的としたドーパントの導入も容易とな
る。請求項７記載の電界発光素子では、再結合領域とな
る層、すなわち発光層が多孔質シリコンとされており、
多孔質シリコン膜は、その形成に際し、厚み及び電子物
性を均一にすることが可能であり、電界発光素子におけ
る輝度の均一化を図ることができる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を詳しく説明する。
【００２４】図１および図２は本発明における請求項５
記載の電界発光素子をカラーマトリックス表示用の有機
ＥＬ素子に適用した場合の一実施例を示す図であり、こ
れらの図において符号１０は有機ＥＬ素子である。
【００２５】この有機ＥＬ素子１０は、透明基板１１上
にＩＴＯ等からなる透明電極１２…をストライプ状に形
成し、これら透明電極１２…上に発光層１３…をドット
状に形成し、該発光層１３の上に電子輸送層１４を形成
し、さらにその上にストライプ状の金属電極１５…を前
記透明電極１２…と直交するようにして形成したもので
ある。なお、透明電極１２…と金属電極１５…とは、互
いに直交して形成配置されていることによってマトリッ
クス電極を構成するものとなっている。
【００２６】ここで、発光層１３…は、例えばポリＮビ
ニルカルバゾール（ＰＶＣz）等をホール輸送層として
機能する分散媒膜（分散媒層）とし、後述するようにこ
の分散媒膜中に蛍光色素（分散色素）を拡散により分散
させたものである。また、この例では、図１および図３
に示すように発光層１３中に異なる色、具体的には赤、
緑、青の三種の発光色をそれぞれ呈する蛍光色素が分散
（拡散）せしめられ、これにより赤色発光部１３ａ、緑
色発光部１３ｂ、青色発光部１３ｃが相互に分離し、す
なわちそれぞれ独立して発光層１３中に形成されてい
る。なお、蛍光色素としては、クマリン系（緑〜黄
色）、ペリレン系（赤色）、オキサゾール系（緑〜黄
色）、オキサジン系、ナフタレン系（青色）、キノロン
系等のものが適宜選択され用いられている。
【００２７】また、電子輸送層１４は、例えばアルミオ
キシ錯体等からなるものである。なお、上記発光層（ホ
ール輸送層）１３…、電子輸送層１４、または両性輸送
層としては、上述以外の導電性高分子化合物を用いるこ
ともできる。例えば、上記発光層１３…、すなわち、上
記再結合領域層としては、高分子ゲルを用いることがで
きる。すなわち、高分子ゲルをホール輸送層として機能
する分散媒膜（分散媒層）とすることができ、この場合
前者（ＰＶＣｚ等）に比較し色素の分散が容易となる。
さらに、この場合は色素以外の材料拡散もまた容易にな
るため、ホール輸送性の向上、アノードからのホール注
入障壁の低減などを目的としたドーパントの導入も容易
となる。従って、積極的な薄膜特性の改善が可能とな
る。また、上記発光層１３…、すなわち、上記再結合領
域層としては、例えば多孔質シリコンを用いることがで
きる。すなわち、多孔質シリコンをホール輸送層として
機能する分散媒層とすることができる。この多孔質シリ
コン層は、例えばＩＴＯ電極上にＣＶＤ（chemical vap
or deposition）法等によって堆積されたポリシリコン
膜を陽極酸化により多孔質化したものである。この多孔
質シリコン層は、ドライプロセスにより厚み、電子物性
共に均一な膜として得ることができるため、輝度の均一
化を実現することができる。
【００２８】また、金属電極１５…は背面電極となるも
ので、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃａ等の仕事関数の低い、すなわち
電子注入性の高い金属から形成されたものである。この
ような金属から金属電極１５…を形成することにより、
各電極（透明電極１２…、金属電極１５…）からのキャ
リア（ホール、電子）の注入および発光層１３…内での
再結合が効率よく行われ、結果として得られた電界発光
素子１０は発光性能の高いものとなる。
【００２９】なお、前記発光層１３…における各発光部
１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、それぞれ前記透明電極１２
…と金属電極１５…とからなるマトリックス電極の各交
差位置に対応して配置されたものとなっている。
【００３０】このような有機ＥＬ素子１０にあっては、
金属電極１５から注入される電子が電子輸送層１４を通
って発光層１３…内に至り、一方透明電極１２から注入
されるホールがホール輸送層としても機能する発光層１
３…内に至り、該発光層１３内で電子とホールとが再結
合することにより、蛍光色素の種類に応じた色に発光す
る。
【００３１】ここで、この有機ＥＬ素子１０においてそ
のホール輸送層が発光層となり得るための機構、すなわ
ち電子輸送層（ＥＴＬ）、ホール輸送層（ＨＴＬ）［発
光層］となり得る薄膜材料の電子物性について図４を利
用して説明する。図４はイオン化ポテンシャル及び電子
親和力の絶対値をそれぞれＩｐ、Ｅａとし、仕事関数
（Ｗｆ）の概念、すなわち電子を各薄膜層におけるクー
ロン力の束縛から無限遠に引き離すときの仕事量の形で
表現したキャリアのエネルギーダイヤグラムである。な
お、電子のポテンシャルはよりＷｆの大きな個体内部で
小さくなり、これに対してホールのポテンシャルはより
Ｗｆの小さな個体内部で小さくなる。
【００３２】電子注入については、カソード（金属電極
１５）ＷｆとＥＴＬ Ｅａ間の大きさをもったエネルギ
ー障壁が存在するものの、この障壁は外部電界に対して
十分に小さいことから、電子注入は容易に行われる。そ
して、ＥＴＬ内に注入された電子は、外部電界によりＨ
ＴＬとの界面まで移動する。また、ＥＴＬからＨＴＬへ
の電子の移動は、より電子のポテンシャルが小さくなる
方向にあるのでむしろ自発的に進行する。
【００３３】一方、ホール注入については、アノード
（透明電極１２）ＷｆとＨＴＬ Ｉｐ間の大きさをもっ
たエネルギー障壁が存在するものの、この障壁も外部電
界に対し十分に小さいことから、ホール注入は容易に行
われる。そして、ＨＴＬ内に注入されたホールは、外部
電界によりＥＴＬとの界面まで移動する。また、ＨＴＬ
からＥＴＬへのホールの注入は、ＥＴＬ ＩｐとＨＴＬ
Ｉｐ間のエネルギー障壁が外部電界に対し非常に大きい
ので困難になる。
【００３４】このため、アノードから注入されたホール
はＨＴＬに閉じ込められ、これに対して電子はＥＴＬか
らＨＴＬに流れ込み、したがってホールと電子の再結合
はＥＴＬ、ＨＴＬ界面のＨＴＬ側で生じる。このとき、
ＨＴＬが単一の物質であれば再結合によって生じた励起
子のエネルギーはＨＴＬ自身に遷移するが、より蛍光波
長が長く、かつ、あるいは、蛍光収率の大きな色素がこ
の再結合部位に共存している場合には、エネルギー遷移
がその蛍光色素分子に対して選択的に行われ、薄膜素子
は蛍光色素分子の蛍光に起因した発光をなす。
【００３５】なお、図４ではホール輸送層（ＨＴＬ）が
再結合領域層となり、したがってこの層中に蛍光色素が
共存せしめられることによって該層が発光層として機能
する例を示したが、電子輸送層（ＥＴＬ）、ホール輸送
層（ＨＴＬ）を形成する薄膜材料の選択によっては電子
輸送層を再結合領域層とし、したがってこの層を発光層
とすることも可能であり、さらに電子輸送層（ＥＴＬ）
とホール輸送層（ＨＴＬ）との間に両性輸送層を設けて
この層を再結合領域層とし、これにより該両性輸送層を
発光層とすることも可能である。
【００３６】次に、このような有機ＥＬ発光素子１０の
製造方法について説明する。
【００３７】まず、蒸着法やスパッタ法等によって予め
ＩＴＯ等の透明電極膜を形成した透明基板１１を用意
し、透明電極膜をエッチング等によりストライプ状にパ
ターン化して図５（ａ）、（ｂ）に示すように透明基板
１１上に透明電極１２…を形成する。
【００３８】次に、ポリＮビニルカルバゾール（ＰＶＣ
ｚ）等のホール輸送層を形成する材料を、図６（ａ）、
（ｂ）に示すようにスピンコートやディッピングコート
等の湿式法、あるいは蒸着法等により前記透明電極１２
…上に成膜してホール輸送層１６を形成する。ここで、
該ホール輸送層１６を形成する材料の成膜については、
図２に示した金属電極１５…のうちの各３本ずつと透明
電極１２…のうちの各１本との交差部を一つの単位（画
素）とし、これら単位毎に成膜することによって全体が
ドット状となるように行う。なお、図５（ａ）、
（ｂ）、図６（ａ）、（ｂ）および後記する図７
（ａ）、（ｂ）〜図１０（ａ）、（ｂ）については、前
記単位（画素）についてのみの平面図および側断面図を
示したものである。
【００３９】次に、このようにして形成されたホール輸
送層１６の上に、図７（ａ）、（ｂ）に示すように赤色
の発光を呈する蛍光色素Ｒ、緑色の発光を呈する蛍光色
素Ｇ、青色の発光を呈する蛍光色素Ｂを、スクリーン印
刷法あるいはインクジェット法等によりそれぞれ相互に
分離されるようにして塗布展開する。
【００４０】次いで、図８（ａ）、（ｂ）に示すよう
に、赤外線ランプ１７を用いて前記蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂ
を展開した側に赤外線を照射し、該蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂ
およびホール輸送層１６を加熱することにより、該蛍光
色素Ｒ、Ｇ、Ｂをホール輸送層１６内に拡散せしめるこ
とによって赤色発光部１３ａ、緑色発光部１３ｂ、青色
発光部１３ｃを形成すると同時に、発光層１３を形成す
る。
【００４１】なお、蛍光色素の加熱拡散については、該
蛍光色素を展開した側からでなく、透明基板１１側から
加熱してもよく、また、その場合に赤外線加熱でなくホ
ットプレート等のヒータを用いて、熱伝導により加熱し
てもよい。このように透明基板１１側から加熱すると、
蛍光色素の展開面は透明基板１１より温度が低くなるた
め、用いた蛍光色素が昇華性の高い場合に、昇華に起因
した色素ロスを低減することができる。
【００４２】また、蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂの展開について
は、固体状のままで展開してもよく、適宜な溶媒に溶解
させて溶液状で展開させてもよい。
【００４３】次いで、アルミオキシ錯体等の電子輸送層
を形成する材料を、図９（ａ）、（ｂ）に示すように蒸
着法等によって発光層１３の上に成膜し、電子輸送層１
３を形成する。
【００４４】その後、透明電極１２…と直交し、かつ発
光層１３の各赤色発光部１３ａ…、緑色発光部１３ｂ
…、青色発光部１３ｃ…のそれぞれに対応させてこれら
の直上にスパッタ法等で金属電極１５…を形成し、図
１、図２に示した有機ＥＬ素子１０を得る。
【００４５】このような製造方法にあっては、再結合領
域層となるホール輸送層１６を先に形成した後、その上
に蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂを展開し、さらにこれを加熱して
ホール輸送層１６中に拡散し、発光層１３を形成するの
で、ホール輸送層１６を形成する材料を蛍光色素Ｒ、
Ｇ、Ｂの物性に制約されることなく選択することがで
き、また、蛍光色素Ｒ、Ｇ、Ｂについても、ホール輸送
層（再結合領域層）１６形成後に該層中に拡散せしめる
ことから、ホール輸送層１６の形成材料の物性に制約を
受けることなく任意のものを選択することができる。
【００４６】また、このようにして得られた有機ＥＬ素
子にあっては、発光層１３の形成にリソグラフィー、ス
クリーン印刷等のパターン加工が用いられていないた
め、その製造が容易になり、したがって歩留まりが高ま
るとともに製造コストも低減化されたものとなる。
【００４７】また、発光層１３が、それぞれ独立した領
域に拡散せしめられて形成された赤色発光部１３ａ、緑
色発光部１３ｂ、青色発光部１３ｃを有し、これら各発
光部がそれぞれ透明電極１２…と金属電極１５…との交
差位置に対応して配置されているので、これら透明電極
１２…と金属電極１５…（マトリックス電極）の駆動に
よりフルカラー表示が可能になる。
【００４８】なお、前記実施例では、蛍光色素Ｒ、Ｇ、
Ｂをそれぞれ塗布展開した後、これら蛍光色素Ｒ、Ｇ、
Ｂを同時に加熱し拡散せしめた場合で説明したが、本発
明はこの方法に限られるものではない。例えば、蛍光色
素Ｒのみを塗布展開してこれを乾燥し、次いで蛍光色素
Ｇを塗布展開してこれを乾燥し、その後蛍光色素Ｂを塗
布展開してこれを乾燥した上、上述した加熱によりＲＧ
Ｂの各蛍光色素を同時に再結合領域層中に拡散してもよ
い。また、蛍光色素Ｒを塗布展開してこれを加熱拡散
し、次いで蛍光色素Ｇを塗布展開してこれを加熱拡散
し、その後蛍光色素Ｂを塗布展開してこれを加熱拡散す
るといったように、各蛍光色素毎に塗布展開および加熱
拡散の工程を繰り返すようにしてもよい。
【００４９】また、蛍光色素として赤、緑、青の発光を
なす三種のものを用い、それぞれの発光部を発光層１３
に形成したが、いずれか一種あるいは二種の蛍光色素の
みを用いてもよく、さらには前記の色以外の色に発光す
る蛍光色素を用いてもよい。また、前記実施例では発光
層１３をドット状に形成したが、各発光部１３ａ、１３
ｂ、１３ｃをストライプ状に形成したり、あるいは発光
層１３全体を複数のストライプ状に形成してもよい。
【００５０】さらに、前記実施例ではホール輸送層１６
が再結合領域となるようにして該ホール輸送層中に蛍光
色素を拡散させ、発光層１３としたが、前述したごとく
電子輸送層、ホール輸送層を形成する薄膜材料の選択に
よっては電子輸送層を再結合領域層とし、したがってこ
の層を発光層とすることもでき、さらに電子輸送層とホ
ール輸送層との間に両性輸送層を設けてこの層を再結合
領域層とし、これにより該両性輸送層を発光層とするこ
ともできる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように本発明における請求
項１記載の電界発光素子の製造方法は、再結合領域層と
なる層の形成後、該再結合領域層の上に蛍光色素を塗布
展開し、次いで該蛍光色素を加熱して前記再結合領域層
中に拡散せしめるものであるから、再結合領域層の形成
に際し、該層を先に独立して形成することによりその形
成材料を蛍光色素の物性に制約されることなく選択する
ことができる。また、蛍光色素についても、再結合領域
層形成後に該層中に拡散せしめることから、再結合領域
層の形成材料の物性に制約されることなく任意のものを
選択することができる。したがって、材料選択上の自由
度が高まることによってその製造条件が緩和され、これ
により生産性を高めることができる。
【００５２】請求項２および３記載の電界発光素子の製
造方法は、前記蛍光色素として異なる発光色を呈する複
数種の蛍光色素を用いるものであるから、蛍光色素の発
光色に応じた複数色の発光をなす電界発光素子を製造す
ることができる。
【００５３】請求項４記載の電界発光素子は、電子とホ
ールとの再結合領域となる層が、蛍光色素が拡散せしめ
られてなる発光層とされたものであるから、該発光層の
形成に際してリソグラフィー、スクリーン印刷等のパタ
ーン加工が不要になるためその製造が容易になり、した
がって歩留まりが高まるとともに製造コストも低減化さ
れたものとなる。
【００５４】請求項５記載の電界発光素子は、発光層
が、異なる発光色を呈する複数種の蛍光色素がそれぞれ
独立した領域に拡散せしめられて形成され、かつこれら
独立した領域が、それぞれ前記マトリックス電極の各交
差位置に対応して配置されたものであるから、マトリッ
クス電極の駆動により複数色による表示を行うことがで
きる。
【００５５】請求項６記載の電界発光素子は、発光層と
なる再結合領域層を高分子ゲルとしたことにより、蛍光
色素の分散を容易なものとすることができる。さらに、
高分子ゲルは、色素以外の材料拡散もまた容易になるた
め、ホール輸送性の向上、アノードからのホール注入障
壁の低減などを目的としたドーパントの導入も容易とな
る。従って、ドーパントの導入による積極的な薄膜特性
の改善が可能となる。
【００５６】請求項７記載の電界発光素子は、発光層と
なる再結合領域層が多孔質シリコンとされており、多孔
質シリコン膜は、例えば、ＩＴＯ電極上にＣＶＤ法等に
よって堆積されたポリシリコン膜を陽極酸化により多孔
質化したものであり、そのドライプロセスにより厚み及
び電子物性が均質な膜として得ることが可能である。従
って、発光層として多孔質シリコンを用いることにより
輝度の均一化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電界発光素子を有機ＥＬ素子に適用し
た場合の一実施例を示す要部断面図。
【図２】図１に示した有機ＥＬ素子の平面図。
【図３】発光層の平面図。
【図４】キャリアのエネルギーダイヤグラムを示す図。
【図５】図１に示した有機ＥＬ素子の製造方法を説明す
るための図であり、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部
側断面図。
【図６】図５に示した次の工程を説明するための図であ
り、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部側断面図。
【図７】図６に示した次の工程を説明するための図であ
り、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部側断面図。
【図８】図７に示した次の工程を説明するための図であ
り、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部側断面図。
【図９】図８に示した次の工程を説明するための図であ
り、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部側断面図。
【図１０】従来の電解発光素子の一例を示す要部斜視
図。
【符号の説明】
１０ 有機ＥＬ素子（電界発光素子） １１ 透明基板 １２ 透明電極 １３ 発光層 １３ａ 赤色発光部 １３ｂ 緑色発光部 １３ｃ 青色発光部 １４ 電子輸送層 １５ 金属電極（背面電極） １６ ホール輸送層 １７ 赤外線ランプ Ｒ、Ｇ、Ｂ 蛍光色素

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一方の面に透明電極を有する透明基板の
    透明電極側に、ホール輸送層と、必要に応じて設けられ
    る両性輸送層と、電子輸送層とを順次形成し、さらに該
    電子輸送層上に電子注入型電極となる背面電極を設ける
    電界発光素子の製造方法において、前記各輸送層のうち
    電子とホールとの再結合領域となる層の形成後、該再結
    合領域層の上に蛍光色素を塗布展開し、次いで該蛍光色
    素を加熱して前記再結合領域層中に拡散せしめることを
    特徴とする電界発光素子の製造方法。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の電界発光素子の製造方法
    において、前記蛍光色素として異なる発光色を呈する複
    数種の蛍光色素を用い、これら蛍光色素を相互に分離し
    て前記再結合領域層上に塗布展開し、次いで前記再結合
    領域層を加熱して前記蛍光色素を同時に前記再結合領域
    層中に拡散せしめることを特徴とする電界発光素子の製
    造方法。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の電界発光素子の製造方法
    において、前記蛍光色素として異なる発光色を呈する複
    数種の蛍光色素を用い、これら蛍光色素を各色毎に相互
    に分離されるよう前記再結合領域層上に塗布展開すると
    ともに、これら蛍光色素を各色毎に前記再結合領域層中
    に順次拡散せしめることを特徴とする電界発光素子の製
    造方法。
  4. 【請求項４】 透明電極と背面電極とからなるマトリッ
    クス電極と、透明電極側に設けられたホール輸送層と、
    背面電極側に設けられた電子輸送層とを有し、さらに前
    記ホール電子輸送と電子輸送層との間に両性輸送層を必
    要に応じて設けてなり、前記各輸送層のうち、電子とホ
    ールとの再結合領域となる層が、蛍光色素が拡散せしめ
    られてなる発光層とされたことを特徴とする電界発光素
    子。
  5. 【請求項５】 請求項４記載の電界発光素子において、
    前記発光層が、異なる発光色を呈する複数種の蛍光色素
    がそれぞれ独立した領域に拡散せしめられて形成され、
    かつこれら独立した領域が、それぞれ前記マトリックス
    電極の各交差位置に対応して配置されてなることを特徴
    とする電界発光素子。
  6. 【請求項６】 上記再結合領域となる層として高分子ゲ
    ルを用いたことを特徴とする請求項４または請求項５に
    記載の電界発光素子。
  7. 【請求項７】 上記再結合領域となる層として多孔質シ
    リコンを用いたことを特徴とする請求項４または請求項
    ５に記載の電界発光素子。
JP19605794A 1993-12-28 1994-07-27 電界発光素子の製造方法および電界発光素子 Expired - Lifetime JP3463362B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19605794A JP3463362B2 (ja) 1993-12-28 1994-07-27 電界発光素子の製造方法および電界発光素子
US08/904,239 US5895692A (en) 1993-12-28 1997-07-31 Manufacturing of organic electroluminescent device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5-352520 1993-12-28
JP35252093 1993-12-28
JP19605794A JP3463362B2 (ja) 1993-12-28 1994-07-27 電界発光素子の製造方法および電界発光素子

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000330664A Division JP3533496B2 (ja) 1993-12-28 2000-10-30 電界発光素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07235378A true JPH07235378A (ja) 1995-09-05
JP3463362B2 JP3463362B2 (ja) 2003-11-05

Family

ID=26509503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19605794A Expired - Lifetime JP3463362B2 (ja) 1993-12-28 1994-07-27 電界発光素子の製造方法および電界発光素子

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5895692A (ja)
JP (1) JP3463362B2 (ja)

Cited By (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998024271A1 (en) * 1996-11-25 1998-06-04 Seiko Epson Corporation Method of producing organic el elements, organic el elements and organic el display device
JPH10214044A (ja) * 1997-01-31 1998-08-11 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
JPH10214042A (ja) * 1996-11-29 1998-08-11 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
JPH10268798A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
WO1999012396A1 (fr) * 1997-09-01 1999-03-11 Seiko Epson Corporation Element electroluminescent et procede de production
WO1999012395A1 (en) * 1997-09-02 1999-03-11 Seiko Epson Corporation Method of producing organic el element and organic el element
WO1999012150A1 (en) * 1997-08-28 1999-03-11 Seiko Epson Corproration Display device
JPH1187063A (ja) * 1997-09-01 1999-03-30 Seiko Epson Corp 電界発光素子
EP0931435A1 (en) 1997-07-29 1999-07-28 Cambridge Consultants Limited Electroluminescent device production process
JP2000029404A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法
WO2000013470A1 (fr) * 1998-09-01 2000-03-09 Daicel Chemical Industries, Ltd. Materiaux pour dispositif a electroluminescence organique et son procede de production
JP2000106278A (ja) * 1997-09-02 2000-04-11 Seiko Epson Corp 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子
JP2000164359A (ja) * 1998-11-25 2000-06-16 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
KR20000048257A (ko) * 1998-12-21 2000-07-25 로버트 디. 크루그 전색 유기성 발광 디스플레이 제조방법
WO2001026425A1 (en) * 1999-10-05 2001-04-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Luminescent device and method for manufacturing the same, and display and illuminator comprising the same
US6366016B1 (en) 1998-01-22 2002-04-02 Nec Corporation Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof
EP1209744A2 (en) 2000-11-27 2002-05-29 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
JP2002518803A (ja) * 1998-06-19 2002-06-25 ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド バックライトディスプレイ
JP2003086366A (ja) * 2001-09-07 2003-03-20 Brother Ind Ltd 表示装置の製造方法
US6566153B1 (en) 1998-10-14 2003-05-20 The Regents Of The University Of California Process for fabricating organic semiconductor devices using ink-jet printing technology and device and system employing same
JP2003234195A (ja) * 1996-09-19 2003-08-22 Seiko Epson Corp 表示素子
US6623097B2 (en) 2000-03-31 2003-09-23 Seiko Epson Corporation Thin film formation method by ink jet method, ink jet apparatus, production method of organic EL device, and organic EL device
JP2004031363A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031361A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031360A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031362A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
US6690109B2 (en) 2001-08-13 2004-02-10 Victor Company Of Japan, Ltd. Organic electroluminescence element and manufacturing method thereof
JP2004047494A (ja) * 1997-02-17 2004-02-12 Seiko Epson Corp 発光表示装置
JP2004055555A (ja) * 1997-09-02 2004-02-19 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
WO2004028216A1 (ja) * 2002-09-17 2004-04-01 International Business Machines Corporation 有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置および有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置の製造方法
JP2004111367A (ja) * 1997-09-02 2004-04-08 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004146388A (ja) * 1997-08-21 2004-05-20 Seiko Epson Corp 有機半導体膜の形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法
JP2004171007A (ja) * 1997-08-21 2004-06-17 Seiko Epson Corp アクティブマトリクス基板、及び表示装置
JP2004177972A (ja) * 1997-08-21 2004-06-24 Seiko Epson Corp アクティブマトリクス基板、及び表示装置
US6787063B2 (en) 2001-03-12 2004-09-07 Seiko Epson Corporation Compositions, methods for producing films, functional elements, methods for producing functional elements, methods for producing electro-optical devices and methods for producing electronic apparatus
JP2004356108A (ja) * 1997-08-21 2004-12-16 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置
US6852994B2 (en) 2000-03-31 2005-02-08 Seiko Epson Corporation Organic EL device and method of manufacturing organic EL device
EP1505648A2 (en) * 1997-08-21 2005-02-09 Seiko Epson Corporation Active matrix display device
JP2006012552A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Dainippon Printing Co Ltd 有機光電変換素子の製造方法
JP2006086128A (ja) * 1998-03-17 2006-03-30 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法
US7067337B2 (en) 1996-05-15 2006-06-27 Seiko Epson Corporation Thin film device provided with coating film, liquid crystal panel and electronic device, and method for making the thin film device
US7180483B2 (en) 1997-02-17 2007-02-20 Seiko Epson Corporation Current-driven light-emitting display apparatus and method of producing the same
KR100713032B1 (ko) * 1999-10-12 2007-05-02 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 전기광학장치
JP2007123865A (ja) * 2005-09-30 2007-05-17 Fujifilm Corp 有機電界発光素子
US7221339B2 (en) 1997-02-17 2007-05-22 Seiko Epson Corporation Display apparatus
US7300686B2 (en) 2000-11-28 2007-11-27 Seiko Epson Corporation Organic electro-luminescent device, manufacturing method for the same, and electronic equipment
US7333167B2 (en) 2001-08-29 2008-02-19 Seiko Epson Corporation Electrooptical device and electronic equipment having resin film in light emitting region and sealing region
US7345141B2 (en) 2001-11-22 2008-03-18 Sharp Kabushiki Kaisha Polymer material having carrier transport property, and organic thin film element, electronic device, and conductor line which use same
US7397451B2 (en) 1997-07-02 2008-07-08 Seiko Epson Corporation Display apparatus
JP2008204961A (ja) * 1999-10-12 2008-09-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置の作製方法
CN100424586C (zh) * 2001-09-14 2008-10-08 精工爱普生株式会社 图案形成方法、电敏感元件及滤色器的制造方法
EP1986472A2 (en) 2001-09-12 2008-10-29 Seiko Epson Corporation Method for patterning, method for forming film, patterning apparatus, film formation apparatus, electro-optic apparatus and method for manufacturing the same, electronic equipment, and electronic apparatus and method for manufacturing the same
US9537119B2 (en) 2012-12-27 2017-01-03 Kateeva, Inc. Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances
US9700908B2 (en) 2012-12-27 2017-07-11 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US9832428B2 (en) 2012-12-27 2017-11-28 Kateeva, Inc. Fast measurement of droplet parameters in industrial printing system
US11088035B2 (en) 2013-12-12 2021-08-10 Kateeva, Inc. Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device
US11141752B2 (en) 2012-12-27 2021-10-12 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US11673155B2 (en) 2012-12-27 2023-06-13 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US12330178B2 (en) 2012-12-27 2025-06-17 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy

Families Citing this family (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0736892B1 (en) * 1995-04-03 2003-09-10 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method for electron-emitting device, electron source, and image forming apparatus
CN1173315C (zh) * 1996-09-19 2004-10-27 精工爱普生株式会社 矩阵式显示元件及其制造方法
US20020075422A1 (en) * 1996-09-19 2002-06-20 Seiko Epson Corporation Matrix type display device and manufacturing method thereof
US6013982A (en) * 1996-12-23 2000-01-11 The Trustees Of Princeton University Multicolor display devices
US7090890B1 (en) * 1998-04-13 2006-08-15 The Trustees Of Princeton University Modification of polymer optoelectronic properties after film formation by impurity addition or removal
GB2347013A (en) * 1999-02-16 2000-08-23 Sharp Kk Charge-transport structures
TWI249363B (en) * 2000-02-25 2006-02-11 Seiko Epson Corp Organic electroluminescence device and manufacturing method therefor
US6882102B2 (en) * 2000-02-29 2005-04-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and manufacturing method thereof
US6641859B1 (en) * 2000-06-08 2003-11-04 Eastman Kodak Company Method of making an emissive layer for an organic light-emitting device
TW577813B (en) * 2000-07-10 2004-03-01 Semiconductor Energy Lab Film forming apparatus and method of manufacturing light emitting device
DE10038895B4 (de) * 2000-08-09 2006-04-06 Advanced Photonics Technologies Ag Verfahren und Verwendung einer Vorrichtung zur Herstellung eines halbleitenden und/oder Elektrolumineszenz zeigenden organischen Schichtaufbaus
US7221088B2 (en) * 2000-11-29 2007-05-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Universal host for RG or RGB emission in organic light emitting devices
TW518909B (en) * 2001-01-17 2003-01-21 Semiconductor Energy Lab Luminescent device and method of manufacturing same
WO2002063700A1 (de) * 2001-02-06 2002-08-15 Schott Glas VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER LICHT-EMITTIERENDEN eINRICHTUNG SOWIE LICHT-EMITTIERENDE EINRICHTUNG
KR100496420B1 (ko) * 2001-03-02 2005-06-17 삼성에스디아이 주식회사 2층구조의 소오스/드레인 전극을 갖는 박막 트랜지스터 및그의 제조방법과 이를 이용한 액티브 매트릭스형 표시소자및 그의 제조방법
US6933673B2 (en) * 2001-04-27 2005-08-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Luminescent device and process of manufacturing the same
JP3969698B2 (ja) * 2001-05-21 2007-09-05 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法
US7199515B2 (en) * 2001-06-01 2007-04-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organic light emitting element and light emitting device using the element
US20020197393A1 (en) * 2001-06-08 2002-12-26 Hideaki Kuwabara Process of manufacturing luminescent device
DE10145492B4 (de) * 2001-09-14 2004-11-11 Novaled Gmbh Elektrolumineszente Lichtemissionseinrichtung, insbesondere als Weißlichtquelle
US7378125B2 (en) * 2001-10-31 2008-05-27 Canon Kabushiki Kaisha Method for screen printed lacquer deposition for a display device
JP4017441B2 (ja) * 2002-04-26 2007-12-05 三洋電機株式会社 有機ｅｌパネル及びその製造方法
US7011529B2 (en) * 2004-03-01 2006-03-14 Anritsu Company Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation
US20050255253A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 White John M Apparatus and methods for curing ink on a substrate using an electron beam
US20050253917A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 Quanyuan Shang Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting
JP4616596B2 (ja) * 2004-08-27 2011-01-19 株式会社 日立ディスプレイズ 電子装置の製造方法
US7413272B2 (en) * 2004-11-04 2008-08-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for precision control of print head assemblies
US20060109296A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-25 Bassam Shamoun Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays
US20070042113A1 (en) * 2004-11-04 2007-02-22 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays using pattern data
US20060092218A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing
US7556334B2 (en) * 2004-11-04 2009-07-07 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for aligning print heads
US20060093751A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. System and methods for inkjet printing for flat panel displays
US20060159843A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Applied Materials, Inc. Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems
TWI256855B (en) * 2005-02-16 2006-06-11 Au Optronics Corp Silane compound, organic electroluminescent device and displaying panel using the same
US20060185587A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing
GB2426376B (en) * 2005-05-19 2008-12-03 Cdt Oxford Ltd Light-emitting device
US7733017B2 (en) * 2005-07-08 2010-06-08 Peysakh Shapiro Display apparatus with replaceable electroluminescent element
US7460267B2 (en) * 2005-07-15 2008-12-02 Applied Materials, Inc. Green printing ink for color filter applications
US20070015847A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Applied Materials, Inc. Red printing ink for color filter applications
US7544723B2 (en) * 2005-07-15 2009-06-09 Applied Materials, Inc. Blue printing ink for color filter applications
TWI318685B (en) * 2005-07-28 2009-12-21 Applied Materials Inc Methods and apparatus for concurrent inkjet printing and defect inspection
US20070070132A1 (en) * 2005-09-27 2007-03-29 Fan-Cheung Sze Inkjet delivery module
US20080018677A1 (en) * 2005-09-29 2008-01-24 White John M Methods and apparatus for inkjet print head cleaning using an inflatable bladder
US20070070109A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 White John M Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning
US7611217B2 (en) * 2005-09-29 2009-11-03 Applied Materials, Inc. Methods and systems for inkjet drop positioning
US20070076040A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet nozzle calibration
US20070075636A1 (en) * 2005-09-30 2007-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Organic electroluminescent element
TWI328520B (en) * 2006-02-07 2010-08-11 Applied Materials Inc Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters
US20070256709A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-08 Quanyuan Shang Methods and apparatus for operating an inkjet printing system
US20070263026A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-15 Quanyuan Shang Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures
US20070252863A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-01 Lizhong Sun Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures with spray mechanisms
US7992956B2 (en) * 2006-06-07 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Systems and methods for calibrating inkjet print head nozzles using light transmittance measured through deposited ink
US20080024532A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Si-Kyoung Kim Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance
US20080024548A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for purging a substrate during inkjet printing
WO2008013902A2 (en) * 2006-07-28 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for improved manufacturing of color filters
US20080204501A1 (en) * 2006-12-01 2008-08-28 Shinichi Kurita Inkjet print head pressure regulator
US7857413B2 (en) 2007-03-01 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads
US7637587B2 (en) * 2007-08-29 2009-12-29 Applied Materials, Inc. System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers
WO2009076248A1 (en) * 2007-12-06 2009-06-18 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improving measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate
WO2009076249A2 (en) * 2007-12-06 2009-06-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for measuring deposited ink in pixel wells on a substrate using a line scan camera
US20090251504A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-08 Applied Materials, Inc. Systems and methods for wet in-situ calibration using measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate
JP5231909B2 (ja) 2008-09-17 2013-07-10 独立行政法人科学技術振興機構 任意の分布形状と分布密度を有する分子または粒子の集団を同時に多種大量生成する方法とその方法に使用するマスク材
US20110014739A1 (en) * 2009-07-16 2011-01-20 Kondakov Denis Y Making an emissive layer for multicolored oleds
KR101966998B1 (ko) 2010-07-02 2019-04-08 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 정공 수송 조성물 및 관련 소자 및 방법 （ｉｉ）
US8546617B1 (en) 2012-03-23 2013-10-01 Empire Technology Development Llc Dioxaborinanes and uses thereof
US9290598B2 (en) 2012-03-29 2016-03-22 Empire Technology Development Llc Dioxaborinane co-polymers and uses thereof
WO2013173396A2 (en) 2012-05-15 2013-11-21 Plextronics, Inc. Hole transport materials including oled applications
US9095141B2 (en) 2012-07-31 2015-08-04 Empire Technology Development Llc Antifouling compositions including dioxaborinanes and uses thereof
US9352561B2 (en) 2012-12-27 2016-05-31 Kateeva, Inc. Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances
CN104157797B (zh) * 2014-08-07 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种制备有机发光器件的方法
KR102537438B1 (ko) 2015-11-24 2023-05-30 삼성디스플레이 주식회사 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
KR102552273B1 (ko) 2015-11-26 2023-07-07 삼성디스플레이 주식회사 축합환 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자
KR102546673B1 (ko) * 2015-12-03 2023-06-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 소자 및 이를 포함하는 표시 장치

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4684353A (en) * 1985-08-19 1987-08-04 Dunmore Corporation Flexible electroluminescent film laminate
US4720432A (en) * 1987-02-11 1988-01-19 Eastman Kodak Company Electroluminescent device with organic luminescent medium
US4769292A (en) * 1987-03-02 1988-09-06 Eastman Kodak Company Electroluminescent device with modified thin film luminescent zone
US5024791A (en) * 1987-05-06 1991-06-18 General Electric Company Method of producing a photostimulable x-ray image convertor
GB8727326D0 (en) * 1987-11-21 1987-12-23 Emi Plc Thorn Display device
US5194290A (en) * 1987-12-31 1993-03-16 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method of making a single layer multi-color luminescent display
JP2998268B2 (ja) * 1991-04-19 2000-01-11 三菱化学株式会社 有機電界発光素子
EP0553950A3 (en) * 1992-01-07 1994-11-23 Toshiba Kk Organic electroluminescent device
US5260163A (en) * 1992-05-07 1993-11-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoenhanced diffusion patterning for organic polymer films
US5360694A (en) * 1993-10-18 1994-11-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal dye transfer

Cited By (112)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7229859B2 (en) 1996-05-15 2007-06-12 Seiko Epson Corporation Thin film device provided with coating film, liquid crystal panel and electronic device, and method for making the thin film device
US7067337B2 (en) 1996-05-15 2006-06-27 Seiko Epson Corporation Thin film device provided with coating film, liquid crystal panel and electronic device, and method for making the thin film device
JP2003234195A (ja) * 1996-09-19 2003-08-22 Seiko Epson Corp 表示素子
US6833156B2 (en) 1996-11-25 2004-12-21 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing organic EL element, organic EL element, and organic EL display device
US6838192B2 (en) 1996-11-25 2005-01-04 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing organic EL element, organic EL element, and organic EL display device
WO1998024271A1 (en) * 1996-11-25 1998-06-04 Seiko Epson Corporation Method of producing organic el elements, organic el elements and organic el display device
US6863961B2 (en) 1996-11-25 2005-03-08 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing organic EL element, organic EL element, and organic EL display device
EP0880303B1 (en) * 1996-11-25 2004-01-14 Seiko Epson Corporation Method of producing organic el elements, organic el elements and organic el display device
KR100498847B1 (ko) * 1996-11-25 2005-10-04 세이코 엡슨 가부시키가이샤 유기el소자의제조방법,유기el소자및유기el표시장치
CN100392891C (zh) * 1996-11-25 2008-06-04 精工爱普生株式会社 有机电致发光元件及其制造方法和有机电致发光显示装置
EP1211916B1 (en) * 1996-11-25 2006-08-09 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing organic EL element, organic EL element, and organic EL display device
JPH10214042A (ja) * 1996-11-29 1998-08-11 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
JPH10214044A (ja) * 1997-01-31 1998-08-11 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
US7880696B2 (en) 1997-02-17 2011-02-01 Seiko Epson Corporation Display apparatus
US7180483B2 (en) 1997-02-17 2007-02-20 Seiko Epson Corporation Current-driven light-emitting display apparatus and method of producing the same
US7253793B2 (en) 1997-02-17 2007-08-07 Seiko Epson Corporation Electro-luminiscent apparatus
JP2004047494A (ja) * 1997-02-17 2004-02-12 Seiko Epson Corp 発光表示装置
US7710364B2 (en) 1997-02-17 2010-05-04 Seiko Epson Corporation Display apparatus
US7221339B2 (en) 1997-02-17 2007-05-22 Seiko Epson Corporation Display apparatus
JPH10268798A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
US7460094B2 (en) 1997-07-02 2008-12-02 Seiko Epson Corporation Display apparatus
US7397451B2 (en) 1997-07-02 2008-07-08 Seiko Epson Corporation Display apparatus
US8803773B2 (en) 1997-07-02 2014-08-12 Intellectual Keystone Technology Llc Display apparatus
EP0931435A1 (en) 1997-07-29 1999-07-28 Cambridge Consultants Limited Electroluminescent device production process
US7364939B2 (en) 1997-08-21 2008-04-29 Seiko Epson Corporation Active matrix display device
JP2004356108A (ja) * 1997-08-21 2004-12-16 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置
EP1505648A3 (en) * 1997-08-21 2005-08-10 Seiko Epson Corporation Active matrix display device
JP2004171007A (ja) * 1997-08-21 2004-06-17 Seiko Epson Corp アクティブマトリクス基板、及び表示装置
JP2004177972A (ja) * 1997-08-21 2004-06-24 Seiko Epson Corp アクティブマトリクス基板、及び表示装置
JP2004146388A (ja) * 1997-08-21 2004-05-20 Seiko Epson Corp 有機半導体膜の形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法
EP1505648A2 (en) * 1997-08-21 2005-02-09 Seiko Epson Corporation Active matrix display device
US7236164B2 (en) 1997-08-28 2007-06-26 Seiko Epson Corporation Display device
US6518941B1 (en) 1997-08-28 2003-02-11 Seiko Epson Corporation Display device
WO1999012150A1 (en) * 1997-08-28 1999-03-11 Seiko Epson Corproration Display device
WO1999012396A1 (fr) * 1997-09-01 1999-03-11 Seiko Epson Corporation Element electroluminescent et procede de production
US6575800B1 (en) 1997-09-01 2003-06-10 Seiko Epson Corporation Electroluminescent element and method of producing the same
US6825611B2 (en) 1997-09-01 2004-11-30 Seiko Epson Corporation Electroluminescent elements with light-emitting layer containing first and second compounds
JPH1187063A (ja) * 1997-09-01 1999-03-30 Seiko Epson Corp 電界発光素子
JP2004031363A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031360A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2000106278A (ja) * 1997-09-02 2000-04-11 Seiko Epson Corp 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子
WO1999012395A1 (en) * 1997-09-02 1999-03-11 Seiko Epson Corporation Method of producing organic el element and organic el element
JP2004111367A (ja) * 1997-09-02 2004-04-08 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004055555A (ja) * 1997-09-02 2004-02-19 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031361A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
JP2004031362A (ja) * 1997-09-02 2004-01-29 Seiko Epson Corp 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法
US6656519B2 (en) 1998-01-22 2003-12-02 Nec Corporation Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof
US6366016B1 (en) 1998-01-22 2002-04-02 Nec Corporation Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof
JP2006086128A (ja) * 1998-03-17 2006-03-30 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法
JP2002518803A (ja) * 1998-06-19 2002-06-25 ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド バックライトディスプレイ
JP2000029404A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法
WO2000013470A1 (fr) * 1998-09-01 2000-03-09 Daicel Chemical Industries, Ltd. Materiaux pour dispositif a electroluminescence organique et son procede de production
US6399226B1 (en) 1998-09-01 2002-06-04 Daicel Chemical Industries, Ltd. Material for organic electroluminescence device and method for producing the same
US6566153B1 (en) 1998-10-14 2003-05-20 The Regents Of The University Of California Process for fabricating organic semiconductor devices using ink-jet printing technology and device and system employing same
JP2000164359A (ja) * 1998-11-25 2000-06-16 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
EP1014458A3 (en) * 1998-12-21 2004-01-28 Eastman Kodak Company Methods of making a full-color organic light-emitting display
KR20000048257A (ko) * 1998-12-21 2000-07-25 로버트 디. 크루그 전색 유기성 발광 디스플레이 제조방법
WO2001026425A1 (en) * 1999-10-05 2001-04-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Luminescent device and method for manufacturing the same, and display and illuminator comprising the same
JP2008204961A (ja) * 1999-10-12 2008-09-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置の作製方法
KR100713032B1 (ko) * 1999-10-12 2007-05-02 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 전기광학장치
US8884301B2 (en) 1999-10-12 2014-11-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. EL display device and a method of manufacturing the same
KR100736416B1 (ko) * 1999-10-12 2007-07-09 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 전기광학장치 제작방법
US6852994B2 (en) 2000-03-31 2005-02-08 Seiko Epson Corporation Organic EL device and method of manufacturing organic EL device
US7303274B2 (en) 2000-03-31 2007-12-04 Seiko Epson Corporation Thin film formation method by ink jet method, ink jet apparatus, production method of organic EL device, and organic EL device
US7303781B2 (en) 2000-03-31 2007-12-04 Seiko Epson Corporation Thin film formation method by ink jet method, ink jet apparatus, production method of organic EL device, and organic EL device
US6623097B2 (en) 2000-03-31 2003-09-23 Seiko Epson Corporation Thin film formation method by ink jet method, ink jet apparatus, production method of organic EL device, and organic EL device
US8698136B2 (en) 2000-11-27 2014-04-15 Seiko Epson Corporation Methods of manufacturing an organic electroluminescent device
US8128448B2 (en) 2000-11-27 2012-03-06 Seiko Epson Corporation Methods of manufacturing an organic electroluminescent device
US6784459B2 (en) 2000-11-27 2004-08-31 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US7990052B2 (en) 2000-11-27 2011-08-02 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device
EP2760049A1 (en) 2000-11-27 2014-07-30 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
EP2270857A2 (en) 2000-11-27 2011-01-05 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US7755277B2 (en) 2000-11-27 2010-07-13 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US6924593B2 (en) 2000-11-27 2005-08-02 Seiko Epson Corporation Manufacturing method for organic electroluminescent device including an effectively optical area and an organic electroluminescent layer, organic electroluminescent device, and electronic devices therewith
US7186581B2 (en) 2000-11-27 2007-03-06 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US7521709B2 (en) 2000-11-27 2009-04-21 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US7470976B2 (en) 2000-11-27 2008-12-30 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US8454403B2 (en) 2000-11-27 2013-06-04 Seiko Epson Corporation Methods of manufacturing an organic electroluminescent device
EP1209744A2 (en) 2000-11-27 2002-05-29 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith
US7488506B2 (en) 2000-11-28 2009-02-10 Seiko Epson Corporation Organic electro-luminescent device, manufacturing method for the same, and electronic equipment
US7300686B2 (en) 2000-11-28 2007-11-27 Seiko Epson Corporation Organic electro-luminescent device, manufacturing method for the same, and electronic equipment
US6787063B2 (en) 2001-03-12 2004-09-07 Seiko Epson Corporation Compositions, methods for producing films, functional elements, methods for producing functional elements, methods for producing electro-optical devices and methods for producing electronic apparatus
US7198814B2 (en) 2001-03-12 2007-04-03 Seiko Epson Corporation Compositions, methods for producing films, functional elements, methods for producing functional elements, method for producing electro-optical devices and methods for producing electronic apparatus
US6576975B2 (en) 2001-03-19 2003-06-10 The Regents Of The University Of California Organic semiconductor devices using ink-jet printing technology and device and system employing same
US6690109B2 (en) 2001-08-13 2004-02-10 Victor Company Of Japan, Ltd. Organic electroluminescence element and manufacturing method thereof
US8093656B2 (en) 2001-08-29 2012-01-10 Seiko Epson Corporation Electrooptical device and electronic equipment having resin film in light emitting region and sealing region
US7333167B2 (en) 2001-08-29 2008-02-19 Seiko Epson Corporation Electrooptical device and electronic equipment having resin film in light emitting region and sealing region
JP2003086366A (ja) * 2001-09-07 2003-03-20 Brother Ind Ltd 表示装置の製造方法
EP1986472A2 (en) 2001-09-12 2008-10-29 Seiko Epson Corporation Method for patterning, method for forming film, patterning apparatus, film formation apparatus, electro-optic apparatus and method for manufacturing the same, electronic equipment, and electronic apparatus and method for manufacturing the same
CN100424586C (zh) * 2001-09-14 2008-10-08 精工爱普生株式会社 图案形成方法、电敏感元件及滤色器的制造方法
US7345141B2 (en) 2001-11-22 2008-03-18 Sharp Kabushiki Kaisha Polymer material having carrier transport property, and organic thin film element, electronic device, and conductor line which use same
JPWO2004028216A1 (ja) * 2002-09-17 2006-01-19 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｕｓｉｎｅｓｓ Ｍａｓｃｈｉｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ 有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置および有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置の製造方法
KR100754309B1 (ko) * 2002-09-17 2007-09-03 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 유기 전자발광 표시 장치 및 유기 전자발광 표시 장치의제조 방법
WO2004028216A1 (ja) * 2002-09-17 2004-04-01 International Business Machines Corporation 有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置および有機エレクトロ・ルミネッセンス表示装置の製造方法
JP2006012552A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Dainippon Printing Co Ltd 有機光電変換素子の製造方法
JP2007123865A (ja) * 2005-09-30 2007-05-17 Fujifilm Corp 有機電界発光素子
US11489146B2 (en) 2012-12-27 2022-11-01 Kateeva, Inc. Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances
US11678561B2 (en) 2012-12-27 2023-06-13 Kateeva, Inc. Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances
US9832428B2 (en) 2012-12-27 2017-11-28 Kateeva, Inc. Fast measurement of droplet parameters in industrial printing system
US10950826B2 (en) 2012-12-27 2021-03-16 Kateeva, Inc. Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances
US9700908B2 (en) 2012-12-27 2017-07-11 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US11141752B2 (en) 2012-12-27 2021-10-12 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US11167303B2 (en) 2012-12-27 2021-11-09 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US11233226B2 (en) 2012-12-27 2022-01-25 Kateeva, Inc. Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances
US12330178B2 (en) 2012-12-27 2025-06-17 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US9537119B2 (en) 2012-12-27 2017-01-03 Kateeva, Inc. Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances
US12256626B2 (en) 2012-12-27 2025-03-18 Kateeva, Inc. Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances
US11673155B2 (en) 2012-12-27 2023-06-13 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US11088035B2 (en) 2013-12-12 2021-08-10 Kateeva, Inc. Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device
US11551982B2 (en) 2013-12-12 2023-01-10 Kateeva, Inc. Fabrication of thin-film encapsulation layer for light-emitting device
US11456220B2 (en) 2013-12-12 2022-09-27 Kateeva, Inc. Techniques for layer fencing to improve edge linearity
US12334402B2 (en) 2013-12-12 2025-06-17 Kateeva, Inc. Fabrication of thin-film encapsulation layer for light-emitting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3463362B2 (ja) 2003-11-05
US5895692A (en) 1999-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3463362B2 (ja) 電界発光素子の製造方法および電界発光素子
TWI355862B (en) Methods for producing full-color organic electrolu
US7189466B2 (en) Organic light-emitting element and display device
US6066357A (en) Methods of making a full-color organic light-emitting display
KR100903918B1 (ko) 유기 전계발광 소자 및 표시 장치
US7180089B2 (en) Reconfigurable organic light-emitting device and display apparatus employing the same
JP5264085B2 (ja) 単一発光素子内においてエリア定義形の多色発光を行うｏｌｅｄ
US8063553B2 (en) Organic electroluminescence display device and method of manufacturing the same
WO2003001569A2 (en) Organic light-emitting devices with blocking and transport layers
JP2000235891A (ja) 有機電界発光装置
JP2002252088A (ja) 発光体、発光素子部、およびそれを用いた発光表示装置
CN1575072B (zh) 有机发光器件
JP2012533852A (ja) 多色ｏｌｅｄのための発光層の作製
US6884140B2 (en) Organic light emitting device and method of manufacturing the same
JPH10289785A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
CN101120460A (zh) 具有图案化的层厚度的oled器件
JP3533496B2 (ja) 電界発光素子の製造方法
JPH11191491A (ja) 有機電界発光装置
JP2001196166A (ja) エレクトロルミネッセント基板およびエレクトロルミネッセント素子の製造方法
JPH07228865A (ja) 有機薄膜発光素子
JP2004022434A (ja) 有機エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法
JP4440413B2 (ja) Ｅｌ素子の製造方法
US20240215294A1 (en) Display device and method of manufacturing the same
KR100696591B1 (ko) 유기 전계 발광 소자
JP2000106276A (ja) フルカラー発光デバイス

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090822

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100822

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100822

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120822

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120822

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130822

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term