JPH07239208A - 干渉応用測定装置 - Google Patents

干渉応用測定装置

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JPH07239208A
JPH07239208A JP6299786A JP29978694A JPH07239208A JP H07239208 A JPH07239208 A JP H07239208A JP 6299786 A JP6299786 A JP 6299786A JP 29978694 A JP29978694 A JP 29978694A JP H07239208 A JPH07239208 A JP H07239208A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空室や真空ポンプのような高価な付加装置
を必要としない測長干渉計と屈折計とを結合した干渉応
用測定装置を提供すること。 【構成】 ２つの光ビーム１８、２０からそれぞれ参照
成分ビーム３１，３５と、測定される対象上の反射面４
６Ａ，４２Ａに向けられる測定成分ビーム３０，３４と
を生成し、その反射面から測定成分ビームが反射した
後、それぞれの測定成分ビームと参照ビームとを再結合
して２つの出力結合ビーム３２，３６を生成するビーム
スプリッタ２６、及びその出力結合ビームの各々から出
力信号５８，６０を生成する検出器系５０，５２，カウ
ンタ／補間器５４，５６とを有する。既知の固定された
光路差が２つの参照成分ビーム間、または２つの測定成
分ビーム間のいずれかで確立される。２つの出力信号か
ら大気の屈折率の変化に関連がある信号６４と対象によ
り移動した距離に関連がある信号６８とが生成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、距離測定と屈折率測定
とを結合した、すなわち干渉計と屈折計とを結合した干
渉応用(interferometric) 測定装置に関する。
【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たる英国特許出願第9324926.6 号の明細書の記載
に基づくものであって、当該英国特許出願の番号を参照
することによって当該英国特許出願の明細書の記載内容
が本明細書の一部を構成するものとする。
【０００３】
【従来の技術】干渉計の測定ビームが通過する領域の大
気中の屈折率を測定するために屈折計を測長干渉計と一
緒に用いることは、米合衆国特許第4,813,783 号により
公知である。この従来方法により、測定操作期間に生じ
る可能性のある屈折率の変化に対して干渉計による測定
値を補正することが可能である。
【０００４】上記に引用した米合衆国特許に記載されて
いるシステムは、測定ビームと参照ビームのそれぞれが
通過する複数の排気可能室を使用し、かつ同一対象（ob
ject) について並行に測定をする２つの干渉装置を備え
ている。さまざまな距離測定が対象に対して異なる位置
で行われ、かつ排気可能室のいずれか一つを全部排気す
るか、あるいは大気に解放するかで行われる。これらの
測定値から大気中の屈折率が測定され、種種の距離測定
値が屈折率の変化に対して補正される。
【０００５】大気中の屈折率の絶対測定を提供する公知
のシステムが、本出願人の欧州特許公開公報第508,583
に記載されている。この公開公報において、測長干渉計
と関連して少なくとも１つの補助干渉計と、測長干渉計
のビーム部分をその補助干渉計に向けて通すこととが記
載されている。方向を変えられたそのビームは分割され
て、再結合前の固定の、既知の光路差を有する異なる経
路に沿って進む所謂参照および測定アームを形成してい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の装置は真空室や真空ポンプといったような
高価な付加装置を必要という問題があった。
【０００７】本発明の目的は、高価な付加装置を必要と
しない、既存のものとは全く別の構成の、測長干渉計と
屈折計とを結合した干渉応用測定装置を提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の干渉応用測定装置は、２つのコリメートさ
れた、コヒーレントな光ビームを生成する手段と、上記
２つの光ビームからそれぞれ参照成分ビームおよびその
動きが測定される対象上の反射面に向かって平行に向け
られる測定成分ビームを生成し、上記反射面からこの測
定成分ビームが反射した後、それぞれの測定成分ビーム
と参照ビームとを再結合して２つの出力結合ビームを生
成するビームスプリッタ手段と、上記出力結合ビームの
各々を受け取る検出器手段とを具備し、既知の固定され
た光路差が２つの上記参照成分ビーム間、または２つの
上記測定成分ビーム間のいずれかで確立され、また上記
検出器手段が上記２つの出力結合ビームから、この２つ
の出力結合ビームの相対位相差とこの２つの出力結合ビ
ームの少なくとも１つについての時間的位相変化の両方
を示す電気信号を供給する手段を包含することを特徴と
する。
【０００９】また、本発明は、その一形態として、上記
測定成分ビームの１つが移動する上記対象上の第１のリ
トロリフレクタの一反射面に向かって向けられ、上記測
定成分ビームの他の１つが移動する上記対象上の第２の
リトロリフレクタの一反射面に向かって向けられ、この
第１および第２のリトロリフレクタが上記２つの測定成
分ビーム間に固定の既知の光路差が存在するように、互
いに関して位置を定められていることを特徴とすること
ができる。
【００１０】また、本発明は、他の一形態として、上記
２つのリトロリフレクタの光軸が同一線上にあることを
特徴とすることができる。
【００１１】また、本発明は、他の一形態として、上記
リトロリフレクタの一つは、他のリトロリフレクタ上に
その反射面と平行して搭載された反射板からなることを
特徴とすることができる。
【００１２】また、本発明は、他の一形態として、上記
参照成分ビームの１つが第１の固定の参照リフレクタに
向かって向けられ、上記参照成分ビームの他の１つが第
２の固定の参照リフレクタに向かって向けられ、この参
照リフレクタが上記２つの参照成分ビーム間に固定の既
知の光路差が存在するように、互いに関して位置を定め
られていることを特徴とすることができる。
【００１３】また、本発明は、他の一形態として、上記
反射板が低い熱膨張係数を有する材料から造られている
ことを特徴とすることができる。
【００１４】また、本発明は、他の一形態として、上記
２つのコリメートされた、コヒーレントな光ビームは一
般的なレーザ光源から生成されることを特徴とすること
ができる。
【００１５】また、本発明の干渉応用測定装置の他の態
様は、２つのコリメートされた、コヒーレントな光ビー
ムを生成する手段と、上記２つの光ビームからそれぞれ
参照成分ビーム、およびその動きが測定される対象上の
反射面に向かって平行に向けられる測定成分ビームを生
成し、上記反射面からこの測定成分ビームが反射した
後、それぞれの測定成分ビームと参照ビームとを再結合
して２つの出力結合ビームを生成するビームスプリッタ
手段と、上記出力結合ビームの各々を受け取り、各々の
このビームから出力信号を生成する検出器手段とを具備
し、既知の固定された光路差が２つの上記参照成分ビー
ム間、または２つの上記測定成分ビーム間のいずれかで
確立され、また上記検出器手段が上記２つの出力信号か
らこの２つの出力信号の差に等しく且つ周囲の大気の屈
折率の変化に関連がある信号と、上記出力信号の少なく
とも一つの変化を示し且つ上記対象により移動した距離
に関連がある信号とを供給する手段を更に包含すること
を特徴とする。
【００１６】
【作用】本発明の好適な形態では、移動する対象（obje
ct) についての２つの測定成分ビーム間で固定の光路差
が成立し、かつこれにより大気の屈折率がその固定光路
差が成立する時の対象の位置で有効に測定される。従っ
て、対象のそれぞれの位置での屈折率の変化を測定ビー
ム経路に沿ってずっと追跡可能となる。ある期間にわた
り大気の状態が変化しない場合には、ビーム経路を換算
することが可能となる。
【００１７】本発明を構成する反射面としては、平坦な
鏡面仕上げの面でも可能であるが、好ましくは中空のコ
ーナキューブ、あるいは屋根形のリトロリフレクタ（逆
反射体）で形成され、これにより、その反射面から反射
された後、ビームスプリッタへ戻る測定成分ビームが、
入射ビームから横方向にずらされてレーザとの干渉を避
ける。リトロリフレクタはそれ自身だけでも良いし、ま
た測定される対象と結合しても良い。
【００１８】２つの測定ビーム経路間の光路差は、好適
な形態において、必要な厚さと反射面を有する材料をリ
トロリフレクタ板の平坦面上へ固定することによって作
り出される。その材料は、好ましくは、材料の温度変化
による２つのビーム間の光路差の変動が無視できるよう
に、零に近い熱膨張係数有するものである。代わりの材
料として、より高い膨脹係数のものも用いることができ
るが、そのときは光路差への温度変化の影響を計算し、
適切な補正をするために材料の温度を測定する手段を必
要とする。
【００１９】この様に、本発明によれば、真空室や真空
ポンプといったような高価な付加装置を必要とせず、既
存のものとは全く別の構成で、測長干渉計と屈折計とを
結合した干渉応用測定装置を実現できる。
【００２０】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
詳細に説明する。
【００２１】図１は、電子部品の概略レイアウトを含む
本発明の一実施例の装置の構成を示す。図１を参照する
に、平行光線にコリメートされた光ビーム１２を発生す
る光源１０を含む干渉応用測定装置が示されている。こ
の光ビーム１２はビームスプリッタ１４で分割され、反
射された二次ビーム１８と透過された二次ビーム２０と
を生成する。透過された二次ビーム２０は反射ミラー１
６によって９０°曲げられ、それにより２つのビーム１
８と２０とが平行になり、本装置の縦軸２２に対して平
行に進む。
【００２２】本例に示す光源１０はレーザーであり、好
ましくは単一周波数円偏光ビームを発生するレーザーダ
イオードである。
【００２３】２つの二次ビームは普通の光学部品により
形成された２つの直線形（linear)干渉計の方向に進
む。
【００２４】第１光学成分（component)は縦軸２２に対
してそれぞれ４５°の状態にある上部直交板２６と底部
直交板２８とを有する中空屋根型プリズムである。上部
直交板２６はビームスプリッタであり、底部直交板２８
は反射ミラーである。板２６は偏光するものでも、偏光
しないものでも良いが、この例では偏光するビームスプ
リッタとして説明する。偏光ビームスプリッタ２６は円
偏光ビーム１８を透過された測定成分ビーム３０と、直
角に反射された参照成分ビーム３２とに分割し、かつビ
ーム２０を透過された測定成分ビーム３４と直角に反射
された参照成分ビーム３６とに分割する。各々の場合に
おいて、偏光ビームスプリッタは参照成分ビームと測定
成分ビームとが直交する偏光状態を有することを保証す
る。２つの測定成分ビーム３０，３４は縦軸２２に平行
な光路に沿って持続し、直線形干渉計の可動対象（obje
ct) である、またはこの可動対象と結合した第２光学成
分４０に突き当たる。
【００２５】光源１としては、干渉性のある、コリメー
トされた単一のあるいは複数の光ビームを発生するのに
相応しいものならどの様なタイプのものでも良い。例え
ば、光源１はデュアル周波数レーザーでも良く、この場
合は偏光ビームスプリッタ２６が周波数を分割するよう
に設けられ、その結果、一つの周波数が参照成分ビーム
を形成し、他の周波数が測定成分ビームを形成すること
となる。
【００２６】他の可能性としては、ビームスプリッタ１
４やミラー１６を必要とせずに、軸に平行に向かうこと
の可能な２つの分離したビームを産出する光源１０を有
することであるだろう。この事例の場合は、しかしなが
ら、２つのビームの周波数を共に固定することを保証す
るのに加重された複雑さとコストがかかることであろ
う。
【００２７】第２光学成分４０は２枚のガラス板４２，
４４から作られたリトロリフレクタであり、これらガラ
ス板は軸２２に対して４５°に両側に対称的に取り付け
られ、基台（ベース）４５に堅く結合されており、この
基台は板４２，４４（図２参照）と同一の、あるいは良
く似た線形の膨脹係数を有する材料からできているのが
好ましい。
【００２８】ガラス板４２，４４を基台４５に結合する
好ましい方法としては、それらの板の下面をオプチカル
コンタクト面仕上げになるまで研いで磨き、次にそれら
板を基台の側面から直立して立つように基台に張り付け
る。板４２，４４のそれぞれの露出上部面は２つの部分
に分割されており、各板の１つの部分は鏡面仕上げに磨
いてコーティングを施した反射面４２Ａ，４４Ａを備え
ており、他の部分はオプチカルコンタクト面仕上げの表
面４２Ｂ，４４Ｂになるように研いで磨いてある。低熱
膨張材料（例えば、 SchottGmbH （有限責任会社）によ
り商標名ZERODUR で販売されている材料）の板４６，４
８が面４２Ｂ，４４Ｂの各々に張り付けられており、ZE
RODUR 板の露出面は鏡面仕上げに磨かれて反射面４６
Ａ，４８Ａとなっている。低熱膨張材料を用いること
は、温度変化による測定成分ビームの物理的な経路差の
有意の変動を避けるのに好ましいことであり、さもない
と光学成分４０の温度を検知して、算出された屈折率測
定値を補正することになるであろう。
【００２９】第１光学成分２４により生成された２つの
測定成分ビーム３０，３４の横方向の間隔で、ビーム３
０がZERODUR （商標）板の一つの反射面４６Ａの方に向
かい、またビーム３４が鏡面４２Ａに向かうようにして
ある。板４２，４４と４６，４８は軸に対して４５°に
配置されているので、第２光学成分は一対の同一直線上
にあるリトロリフレクタとして作用し、ビーム３０，３
４は第１光学成分のミラー２８へ横方向にずれたそれぞ
れの光路に沿って反射される。ミラー２８はそれらビー
ムを９０°反射してビームスプリッタで参照成分ビーム
３２および３６と再結合させ、２つの結合出力ビームに
する。この配列で、これら参照成分ビームは有効にゼロ
レングス（zero length)を有している。
【００３０】上記のデュアル干渉計配列は第２光学成分
の移動のみならず測定成分ビームが通過する大気の屈折
率も探知することができる。
【００３１】第１の干渉計は測定成分ビーム３０と参照
成分ビーム３２とを用いて、第２光学成分上のZERODUR
反射体（リフレクタ）の反射面の動きを測定する。第２
の干渉計は測定成分ビーム３４と参照成分ビーム３６と
を用いて、第２光学成分の鏡面化部分により形成された
反射面の動きを測定する。第２光学成分の移動は、結合
ビームに存在する測定成分ビームと参照成分ビーム間の
時間的位相変化を生じさせることになる。
【００３２】結合ビームから使用できる情報を得るため
に、それら結合ビームはそれぞれのホトダイオード検出
器系（システム）５０，５２へ進み、これらホトダイオ
ード検出器系はビームの干渉により生じる（光の）強度
変化を周知の方法で検出し、正弦波の出力信号を生成す
る。検出器系からのこれら出力信号はそれぞれのカウン
タ／補間器５４，５６へ行き、これらカウンタ／補間器
は結合出力ビームの各々における時間的位相変化にかか
わる縞のカウントの端数（fractions)の分解能をもって
出力５８，６０を供給する。
【００３３】ZERODUR 板の厚さのために、２つの光学成
分間の２つの干渉計における２つの測定成分ビーム３
０，３４の巡回移動光路長に、ある固定量での差異が生
じる。このことは、２つのビームにより横切られた大気
の屈折率に変化がない時には、第２光学成分による移動
距離についての２つの干渉計によりなされた測定値に差
を引き起こさない。しかしながら、測定操作期間におい
て上記大気の屈折率に変化がある時には、２つの測定成
分ビームの光路長に変化がある。この変化は、実際に物
理的経路の長さの差が変化しないにも拘らず、測定成分
ビームの各々についての差となる。２つの干渉計の光路
長間の変動は２つの干渉計の結合出力ビームに位相差を
生じさせることになり、この位相差は屈折率の変化に直
接関係を有することになる。
【００３４】それ故、屈折率変化を測定するために、２
つのカウンタ／補間器の出力５８，６０が差動ユニット
６２へ行き、この差動ユニットが２つの結合出力ビーム
の相対位相差に関連ずけられた信号６４を出力する。
【００３５】第２光学成分によって動いた距離の測定値
は、カウンタ／補間器からの２つの読み値を一緒に加わ
え、それを２で割ることで得られることができる。従っ
て、この測定値を得るため、２つの干渉計の出力がユニ
ット６６にも行き、このユニットがその加算と割算とを
実行して、その演算結果を正確な距離測定値を指示する
出力６８をして提供する。信号６４を用いて、測定期間
の大気の屈折率の変化に対する距離測定値の補正のため
に補正係数を計算することができる。
【００３６】実際には、両干渉計が第２光学成分の同じ
動きを測定するので、それら干渉計はそれぞれの測定成
分ビームにおける時間的位相変化を共に指すこととな
り、また上記動きの測定値がカウンタ／補間器の一つの
みから与えられることができる。
【００３７】このように、本発明は、従来技術のシステ
ムの例えば真空室や真空ポンプのような高価な付加装置
なしに、屈折計と干渉計とを組み合わしたシステムを提
供する。
【００３８】さらに、屈折計のビームと干渉計の測定ビ
ームは全ての測定において同じ大気を用いているという
ことが理解できる。それ故、本発明の好適な実施例のシ
ステムでは２つの測定成分ビーム間に光路差が成立する
場合は第２光学成分の近くの大気の屈折率を測定するの
で、第２光学成分の移動経路に沿うリフレクタのいずれ
の位置での大気の屈折率を決定することができる。従っ
て、大気が一つの測定から他の測定まで変わらなけれ
ば、平均屈折率の変化について完全な測定経路を換算す
ることが可能である。
【００３９】図３は本発明の一実施例の他の構成を示
し、本実施例では２つの干渉計の２つの参照ビーム間に
固定の光路差が成立する。
【００４０】キュービックビームスプリッタ１００は前
述のビームスプリッタ２６に置き換えて使用されてい
る。２本のビーム２０，１８がそのビームスプリッタ１
００に向けられ、その透過した部分１０２，１０４が一
般的なリトロリフレクタ１０６に向けられて、平行だが
横にずれた光路でそのビームスプリッタ１００へ反射す
る。反射した部分１１２，１１４は２つの別個のリトロ
リフレクタ１１６，１１８へ向けられ、これらリトロリ
フレクタ１１６，１１８の軸は同一線上にあるがそれら
の反射面は必要な固定光路差を与えるために軸方向にず
れている。
【００４１】リトロリフレクタ１０６，１１６，１１８
のは反射面から戻ったビームは、ビームスプリッタ１０
０で再結合されて、２つの出力結合ビーム３２，３６が
生成され、これら出力結合ビームは図１を参照して既述
したように、検出器システムに渡り、必要な出力信号を
生成する。
【００４２】２つの干渉計間の物理的光路差の方が、屈
折計が屈折率を完全に測定するときの配列におけるあら
がじめ定めた長さよりも短いということを保証すること
は、上記した両方の実施例において可能である。例え
ば、本出願人の欧州特許公開公報第508,583 号は、この
点で参照することによってこの記述に合体させられるも
のであるが、２つの干渉計間に６ｍｍ以下の固定の物理
的光路差を作り出すことによって、測定の間に１００万
分の１００以上変化しない大気状態で屈折計が使用され
るという条件であれば、ビームが通る大気の屈折率を完
全に測定できるということを詳述している。
【００４３】従って、本発明の一実施例ではZERODUR 板
の厚さを固定の物理的光路差であるように６ｍｍ以下に
し、屈折率の測定のため１００万分の１００の絶対範囲
を与えている。
【００４４】更にまた、光源の一つとして、“チャープ
レ−ダ”（chirpedradar; 掃引周波数信号を送信する方
式のレーダ）の技術を使用することによって、あるいは
周波数チューナブル（tunable)レーザダイオードを使用
することによって、ビームスプリッタから対象までの距
離を完全に測定することが、また可能（米合衆国特許第
3,970,389 号で公知である）である。
【００４５】広い絶対範囲に亘って要求される細かな補
間を達成することは高価につく。補間の必要性を減らす
ため、比較的長い例えば１２ｍｍの固定の光路差を与
え、１００万分の５０の対応絶対範囲を与える比較的厚
いZERODUR 板を用いることができる。明らかに、ZERODU
R 板の厚さは、遭遇すると予想された大気の状態の範囲
と、本装置の受入れ可能なコストとによって厚さの全範
囲から選択することができる。
【００４６】もし、１００万分の１よりも良い精度が要
求され、１００万の１００の屈折率の変動範囲を取り、
さらに６３３ナノメータの周波数で発光するレーザを使
用する場合は、２つの検出器信号の差分の信号に対して
要求された精度を与えるため、補間は３ナノメータより
良い精度を有することを必要することとなる。
【００４７】この様な精度を持つように造ることのでき
る検出器としては、本出願人の欧州特許第326603号に記
述されている。
【００４８】上記の好適な実施例では中空屋根型リトロ
リフレクタを使用するようにしているけれども、固体ガ
ラス部品のものも代わりに用いることができ得る。他の
リトロリフレクタ、例えば、中空、あるいは固体のコー
ナキューブリフレクタまたは平面鏡も、他の問題を持ち
出すことがあるけれども、また代わりに用いることがで
き得る。
【００４９】例えば、固体ガラス部品は、これらがわず
かな熱係数を有する場合を除いては、相対変位による誤
差を最小にするために同一直線上に配置し、非常に正確
に整列して、かつ互いに機械的に固定する必要があり、
ビーム経路は熱膨張による誤差を最小にするために共通
のモード（形態）であるべきであろう。
【００５０】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、真空室や真空ポンプのような高価な付加装置を必要
としない、既存のものとは全く別の構成の、測長干渉計
と屈折計とを結合した干渉応用測定装置を提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子部品の概略線図配置を含む本発明の一実施
例の装置の部品構成を示す平面図である。
【図２】図１の矢印Ａ方向の軸に沿て見た図１のリトロ
レフレクタの正面図である。
【図３】参照アーム間に設置した固定の光路差を示す１
実施例の光学部品の概略線図配置の平面図である。
【符号の説明】
１０ 光源 １２ コリメート（平行光線化）された光ビーム １４ ビームスプリッタ １６ ミラー １８ 反射された二次ビーム ２０ 透過された二次ビーム（分離ビーム） ２２ 縦軸 ２４ 第１光学成分（中空屋根型プリズム） ２６ 上部直交板（偏光ビームスプリッタ） ２８ 底部直交板（ミラー） ３０，３４ 測定成分ビーム ３１，３５，１１２，１１４ 反射された部分 ３２，３６ 参照成分ビーム（参照ビーム） ４０ 第２光学成分（中空屋根型プリズム） ４２，４４ ガラス板 ４２Ａ，４６Ａ 反射面 ４５ 基台（べ−ス） ４６，４８ 板 ５０，５２ ホトダイオード検出器系 ５４，５６ カウンタ／補間器 ６２，６６ 差動ユニット ５８，６０，６４ 出力（信号） １００ キュービックビームスプリッタ １０２，１０４ 透過部分 １０６，１１６，１１８ 一般的なリトロリフレクタ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ２つのコリメートされた、コヒーレント
    な光ビーム（１８，２０）を生成する手段（１０，１
    ４，１６）と、 前記２つの光ビーム（１８，２０）からそれぞれ参照成
    分ビーム（３１，３５；１１２，１１４）、およびその
    動きが測定される対象上の反射面（４６Ａ，４２Ａ）に
    向かって平行に向けられる測定成分ビーム（３０，３
    ４；１０２，１０４）を生成し、前記反射面から該測定
    成分ビームが反射した後、それぞれの測定成分ビームと
    参照ビームとを再結合して２つの出力結合ビーム（３
    ２，３６）を生成するビームスプリッタ手段（２６；１
    ００）と、 前記出力結合ビームの各々を受け取る検出器手段（５
    ２，５０）とを具備し、 既知の固定された光路差が２つの前記参照成分ビーム
    （３１，３５；１１２，１１４）間、または２つの前記
    測定成分ビーム（３０，３４；１０２，１０４）間のい
    ずれかで確立され、また前記検出器手段が前記２つの出
    力結合ビームから、該２つの出力結合ビームの相対位相
    差と該２つの出力結合ビームの少なくとも１つについて
    の時間的位相変化の両方を示す電気信号（６４，５８，
    ６０）を供給する手段（５４，５６，６２，６６）を包
    含することを特徴とする干渉応用測定装置。
  2. 【請求項２】 前記測定成分ビームの１つ（３０）が移
    動する前記対象上の第１のリトロリフレクタ（４６，４
    ８）の一反射面（４６Ａ）に向かって向けられ、前記測
    定成分ビームの他の１つ（３４）が移動する前記対象上
    の第２のリトロリフレクタ（４２，４４）の一反射面
    （４２Ａ）に向かって向けられ、該第１および第２のリ
    トロリフレクタが前記２つの測定成分ビーム間に固定の
    既知の光路差が存在するように、互いに関して位置を定
    められていることを特徴とする請求項１に記載の干渉応
    用測定装置。
  3. 【請求項３】 前記２つのリトロリフレクタの光軸が同
    一線上にあることを特徴とする請求項２に記載の干渉応
    用測定装置。
  4. 【請求項４】 前記リトロリフレクタの一つは、他のリ
    トロリフレクタ上にその反射面（４２Ａ，４４Ａ）と平
    行して搭載された反射板（４６，４８）からなることを
    特徴とする請求項３に記載の干渉応用測定装置。
  5. 【請求項５】 前記参照成分ビームの１つ（１１２）が
    第１の固定の参照リフレクタ（１１６）に向かって向け
    られ、前記参照成分ビームの他の１つ（１１４）が第２
    の固定の参照リフレクタ（１１８）に向かって向けら
    れ、該参照リフレクタが前記２つの参照成分ビーム間に
    固定の既知の光路差が存在するように、互いに関して位
    置を定められていることを特徴とする請求項１に記載の
    干渉応用測定装置。
  6. 【請求項６】 前記反射板（４６，４８）が低い熱膨張
    係数を有する材料から造られていることを特徴とする請
    求項４に記載の干渉応用測定装置。
  7. 【請求項７】 前記２つのコリメートされた、コヒーレ
    ントな光ビームは一般的なレーザ光源から生成されるこ
    とを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の干
    渉応用測定装置。
  8. 【請求項８】 ２つのコリメートされた、コヒーレント
    な光ビーム（１８，２０）を生成する手段（１０，１
    ４，１６）と、 前記２つの光ビーム（１８，２０）からそれぞれ参照成
    分ビーム（３１，３５；１１２，１１４）、およびその
    動きが測定される対象上の反射面（４６Ａ，４２Ａ）に
    向かって平行に向けられる測定成分ビーム（３０，３
    ４；１０２，１０４）を生成し、前記反射面から該測定
    成分ビームが反射した後、それぞれの測定成分ビームと
    参照ビームとを再結合して２つの出力結合ビーム（３
    ２，３６）を生成するビームスプリッタ手段（２６；１
    ００）と、 前記出力結合ビームの各々を受け取り、各々の該ビーム
    から出力信号（５８，６０）を生成する検出器手段（５
    ０，５４；５２，５６）とを具備し、 既知の固定された光路差が２つの前記参照成分ビーム
    （３１，３５；１１２，１１４）間、または２つの前記
    測定成分ビーム（３０，３４；１０２，１０４）間のい
    ずれかで確立され、また前記検出器手段が前記２つの出
    力信号から該２つの出力信号の差に等しく且つ周囲の大
    気の屈折率の変化に関連がある信号（６４）と、前記出
    力信号の少なくとも一つの変化を示し且つ前記対象によ
    り移動した距離に関連がある信号（６８）とを供給する
    手段（６２，６６）を更に包含することを特徴とする干
    渉応用測定装置。
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