JPH07239930A - 画像読取装置 - Google Patents
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- JPH07239930A JPH07239930A JP6028186A JP2818694A JPH07239930A JP H07239930 A JPH07239930 A JP H07239930A JP 6028186 A JP6028186 A JP 6028186A JP 2818694 A JP2818694 A JP 2818694A JP H07239930 A JPH07239930 A JP H07239930A
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 バイアス電圧の切り替えによって極めて容易
にかつ実時間でマスク処理のなされた画像の取り込みを
行うことが可能となる。 【構成】 第1の導電型の半導体領域1の表面に、所定
の間隔を隔てて第2の導電型の第1および第2の半導体
層2a,2bを形成しその半導体層の表面にそれぞれ第
1および第2の電極3a,3bを形成することにより、
導電型の半導体領域と第1および第2の半導体層との間
に所定の間隔を隔てた2つのpn接合を構成し、第1お
よび第2の電極の間にバイアス電圧を印加し、光電流を
検出する光検出部を1画素とし、この1画素を多数個配
列し、同時に複数画素の光検出を行うように構成された
光検出手段であって、実行しようとする画像処理項目の
重み付け関数に応じたバイアス電圧を各光検出部に印加
し、前記複数の光検出部の出力に基づいて、所定画素の
特徴抽出を実時間で行う。
にかつ実時間でマスク処理のなされた画像の取り込みを
行うことが可能となる。 【構成】 第1の導電型の半導体領域1の表面に、所定
の間隔を隔てて第2の導電型の第1および第2の半導体
層2a,2bを形成しその半導体層の表面にそれぞれ第
1および第2の電極3a,3bを形成することにより、
導電型の半導体領域と第1および第2の半導体層との間
に所定の間隔を隔てた2つのpn接合を構成し、第1お
よび第2の電極の間にバイアス電圧を印加し、光電流を
検出する光検出部を1画素とし、この1画素を多数個配
列し、同時に複数画素の光検出を行うように構成された
光検出手段であって、実行しようとする画像処理項目の
重み付け関数に応じたバイアス電圧を各光検出部に印加
し、前記複数の光検出部の出力に基づいて、所定画素の
特徴抽出を実時間で行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、画像読取装置に係り、
特に複数の領域の読取り出力から画素の特徴抽出を実時
間で行い、これを当該画素の画情報として出力する画像
処理機能を備えた画像読取装置に関する。
特に複数の領域の読取り出力から画素の特徴抽出を実時
間で行い、これを当該画素の画情報として出力する画像
処理機能を備えた画像読取装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ホトダイオードアレイ等の光検出
手段を用いて画像の読取りを行い、特徴抽出を行うに際
し、ホトダイオードアレイ等の光検出手段の出力を一旦
メモリに蓄積した後情報を処理しやすい形に特徴抽出す
るための前処理を行い、その加工されたデータを認識ア
ルゴリズムにかけ必要な結果を得るようにしている。
手段を用いて画像の読取りを行い、特徴抽出を行うに際
し、ホトダイオードアレイ等の光検出手段の出力を一旦
メモリに蓄積した後情報を処理しやすい形に特徴抽出す
るための前処理を行い、その加工されたデータを認識ア
ルゴリズムにかけ必要な結果を得るようにしている。
【0003】すなわち、この従来の画像読取り方式を用
いた画像認識の一例を図17に示すように、CCDカメ
ラ、ホトダイオードアレイ等の光検出手段11を用いて
被写体を読取り、この読取り信号を一旦第1の画像メモ
リ12に入れ、画像メモリから所定の領域の読取り信号
を読みだし、ロビンソンオペレータ等を用いて処理を行
い(画像処理部13)、この画像処理部の出力を第2の
画像メモリ14に格納し、この格納された信号から画像
認識15を行うようになっている。
いた画像認識の一例を図17に示すように、CCDカメ
ラ、ホトダイオードアレイ等の光検出手段11を用いて
被写体を読取り、この読取り信号を一旦第1の画像メモ
リ12に入れ、画像メモリから所定の領域の読取り信号
を読みだし、ロビンソンオペレータ等を用いて処理を行
い(画像処理部13)、この画像処理部の出力を第2の
画像メモリ14に格納し、この格納された信号から画像
認識15を行うようになっている。
【0004】この画像処理による特徴抽出方法の1つで
あるロビンソンオペレータの動作について説明する。
あるロビンソンオペレータの動作について説明する。
【0005】これはイメージセンサやホトダイオードア
レイ等のラインセンサを用いて時間軸−座標軸平面のm
×n配列のデータを第1の画像メモリ12にストック
し、順次読み出して3×3データのロビンソンオペレー
ティングを実行し、図18(a)乃至図18(c) に示すよ
うに濃度勾配とその方向を各座標ごとに決定していくよ
うになっている。
レイ等のラインセンサを用いて時間軸−座標軸平面のm
×n配列のデータを第1の画像メモリ12にストック
し、順次読み出して3×3データのロビンソンオペレー
ティングを実行し、図18(a)乃至図18(c) に示すよ
うに濃度勾配とその方向を各座標ごとに決定していくよ
うになっている。
【0006】図18(a) は第1の画像メモリ2の注目画
素のまわりの2次元データを示し、図18(b) に示すよ
うにこの注目画素のまわりの画素をabcdefghと
し、図18(c) に示すように重み付け演算処理を行い、
最も大きいベクトルを注目画素の濃度勾配データとして
採用するようにしている。このようにして濃度勾配とそ
の方向を決定し、エッジ抽出を行うことになる。
素のまわりの2次元データを示し、図18(b) に示すよ
うにこの注目画素のまわりの画素をabcdefghと
し、図18(c) に示すように重み付け演算処理を行い、
最も大きいベクトルを注目画素の濃度勾配データとして
採用するようにしている。このようにして濃度勾配とそ
の方向を決定し、エッジ抽出を行うことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
式では、センサの出力が認識アルゴリズムにかけられる
までに、メモリへの蓄積、読みだし等の前処理を必要と
するため、システムが複雑となり処理に時間がかかるう
え、多大なメモリ領域が必要となり装置が大型化すると
いう問題があった。
式では、センサの出力が認識アルゴリズムにかけられる
までに、メモリへの蓄積、読みだし等の前処理を必要と
するため、システムが複雑となり処理に時間がかかるう
え、多大なメモリ領域が必要となり装置が大型化すると
いう問題があった。
【0008】本発明は、前記実情に鑑みてなされたもの
で、小型で、かつ実時間で読取りおよび画像処理を行う
ことのできる画像読取装置を提供することを目的とす
る。
で、小型で、かつ実時間で読取りおよび画像処理を行う
ことのできる画像読取装置を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、第1の
導電型の半導体領域の表面に、所定の間隔を隔てて第2
の導電型の第1および第2の半導体層を形成するととも
に、前記第1および第2の半導体層の表面にそれぞれ第
1および第2の電極を形成することにより、前記第1の
導電型の半導体領域と前記第1および第2の半導体層と
の間に前記所定の間隔を隔てた2つのpn接合を構成
し、前記第1および第2の電極の間にバイアス電圧を印
加し、光電流を検出する光検出部を1画素とし、この1
画素を多数個配列し、同時に複数画素の光検出を行うよ
うに構成された光検出手段と、実行しようとする画像処
理項目に応じて必要とする重み付け関数を決定し、各画
素に対し、重み付け関数に応じたバイアス電圧を決定す
る決定手段と、前記決定手段によって決定された前記バ
イアス電圧を各光検出部に印加し、前記複数の光検出部
の出力に基づいて、所定画素の特徴抽出を実時間で行
い、これを当該画素の画情報として出力する駆動処理手
段とを具備したことにある。
導電型の半導体領域の表面に、所定の間隔を隔てて第2
の導電型の第1および第2の半導体層を形成するととも
に、前記第1および第2の半導体層の表面にそれぞれ第
1および第2の電極を形成することにより、前記第1の
導電型の半導体領域と前記第1および第2の半導体層と
の間に前記所定の間隔を隔てた2つのpn接合を構成
し、前記第1および第2の電極の間にバイアス電圧を印
加し、光電流を検出する光検出部を1画素とし、この1
画素を多数個配列し、同時に複数画素の光検出を行うよ
うに構成された光検出手段と、実行しようとする画像処
理項目に応じて必要とする重み付け関数を決定し、各画
素に対し、重み付け関数に応じたバイアス電圧を決定す
る決定手段と、前記決定手段によって決定された前記バ
イアス電圧を各光検出部に印加し、前記複数の光検出部
の出力に基づいて、所定画素の特徴抽出を実時間で行
い、これを当該画素の画情報として出力する駆動処理手
段とを具備したことにある。
【0010】
【作用】上記構成によれば、バイアス電圧を変化させる
ことにより、光検出部では実際の光情報に重み付けをし
たものを光出力として得ることが容易に可能となる。し
たがって、複数の光検出部において実際の光情報(光強
度)に重み付けした状態で加算して取り出すことによ
り、所定画素の特徴抽出を実時間で行い、これを当該画
素の画情報として出力するようにしているため、前処理
が不要でかつメモリを必要とせず、極めて容易にかつ実
時間で特徴抽出を行うことが可能となる。減算の場合は
バイアス電圧を−にすればよく、バイアス電圧を調整す
るのみで重み付け演算が極めて容易に可能となり、所望
のフィルタを介した読取りを自在に行うことができる。
ことにより、光検出部では実際の光情報に重み付けをし
たものを光出力として得ることが容易に可能となる。し
たがって、複数の光検出部において実際の光情報(光強
度)に重み付けした状態で加算して取り出すことによ
り、所定画素の特徴抽出を実時間で行い、これを当該画
素の画情報として出力するようにしているため、前処理
が不要でかつメモリを必要とせず、極めて容易にかつ実
時間で特徴抽出を行うことが可能となる。減算の場合は
バイアス電圧を−にすればよく、バイアス電圧を調整す
るのみで重み付け演算が極めて容易に可能となり、所望
のフィルタを介した読取りを自在に行うことができる。
【0011】本発明の原理を説明する。まず図1,図2
(a) および(b) に示すように例えばn型のシリコン基板
1表面に、間隔Wを隔ててそれぞれ櫛形をなすようにp
型拡散層からなる第1および第2の半導体層2a,2b
を形成するとともに、この表面の一部にそれぞれ1つづ
つアルミニウム層などからなる第1および第2の電極3
a,3bを形成し、1画素を構成するようにしたもので
ある。この素子ではバイアス電圧をかけると図2(a) に
示すようにこのバイアス電圧に依存して空乏層4が生成
され、光照射により空乏層中に電子−正孔対が生成され
ることになり、これが電界によりドリフトして光電流が
流れる。また図2(b) に示すようにバイアスの極性を逆
にすると光電流の流れも逆になる。図3および図4にこ
の光電流と光強度およびバイアス電圧との関係を測定し
た結果を示す。この結果から明らかなように、光電流は
バイアス電圧に比例すると共に光強度にも比例する。
(a) および(b) に示すように例えばn型のシリコン基板
1表面に、間隔Wを隔ててそれぞれ櫛形をなすようにp
型拡散層からなる第1および第2の半導体層2a,2b
を形成するとともに、この表面の一部にそれぞれ1つづ
つアルミニウム層などからなる第1および第2の電極3
a,3bを形成し、1画素を構成するようにしたもので
ある。この素子ではバイアス電圧をかけると図2(a) に
示すようにこのバイアス電圧に依存して空乏層4が生成
され、光照射により空乏層中に電子−正孔対が生成され
ることになり、これが電界によりドリフトして光電流が
流れる。また図2(b) に示すようにバイアスの極性を逆
にすると光電流の流れも逆になる。図3および図4にこ
の光電流と光強度およびバイアス電圧との関係を測定し
た結果を示す。この結果から明らかなように、光電流は
バイアス電圧に比例すると共に光強度にも比例する。
【0012】本発明はこの点に着目してなされたもの
で、同じ強さの光に対してもバイアス電圧によって光電
流に重み付けを行うことが可能であることを利用し、ソ
ーベルフィルタやラプラシアンフィルタをかけたのと同
等の読取り出力を実時間で得ることができ、容易に所望
の画像の読取りを行うことが可能となる。ここで櫛形を
なすようにpn接合を形成したのは、占有面積当たりに
示す接合領域の割合をできるだけ大きくし、感度を上げ
るためである。
で、同じ強さの光に対してもバイアス電圧によって光電
流に重み付けを行うことが可能であることを利用し、ソ
ーベルフィルタやラプラシアンフィルタをかけたのと同
等の読取り出力を実時間で得ることができ、容易に所望
の画像の読取りを行うことが可能となる。ここで櫛形を
なすようにpn接合を形成したのは、占有面積当たりに
示す接合領域の割合をできるだけ大きくし、感度を上げ
るためである。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
つつ詳細に説明する。
つつ詳細に説明する。
【0014】図5は本発明の第1の実施例のエッジ検出
を行うことのできる画像読取装置のブロック図、図6は
同装置の光検出手段の2次元平面図である。
を行うことのできる画像読取装置のブロック図、図6は
同装置の光検出手段の2次元平面図である。
【0015】この装置は、図1および図2に示したよう
に、n型のシリコン基板1表面に、所定の間隔を隔てた
2つのpn接合を構成し、このpn接合の間にバイアス
電圧を印加し、光電流を検出する光検出部を1画素と
し、この1画素を多数個配列し、同時に複数画素の光検
出を行うように構成された光検出手段21と、重み付け
関数を決定し、各画素に対応する光検出部に対し、重み
付け関数に応じたバイアス電圧を決定する決定手段22
と、前記決定手段22によって決定された前記バイアス
電圧を各光検出部に印加し、前記複数の光検出部の出力
に基づいて、所定画素の特徴抽出を実時間で行い、これ
を当該画素の画情報としてソーベルオペレータマスクの
かけられた状態で出力する駆動処理手段23と、この光
検出手段21の出力を格納するメモリ24と、このメモ
リ24からとりだした画情報に基づき、X方向の出力の
絶対値の2乗とY方向の出力の絶対値の2乗との和の平
方根をとり、これをエッジ強度情報として出力する演算
処理手段25とを具備したことを特徴とする。
に、n型のシリコン基板1表面に、所定の間隔を隔てた
2つのpn接合を構成し、このpn接合の間にバイアス
電圧を印加し、光電流を検出する光検出部を1画素と
し、この1画素を多数個配列し、同時に複数画素の光検
出を行うように構成された光検出手段21と、重み付け
関数を決定し、各画素に対応する光検出部に対し、重み
付け関数に応じたバイアス電圧を決定する決定手段22
と、前記決定手段22によって決定された前記バイアス
電圧を各光検出部に印加し、前記複数の光検出部の出力
に基づいて、所定画素の特徴抽出を実時間で行い、これ
を当該画素の画情報としてソーベルオペレータマスクの
かけられた状態で出力する駆動処理手段23と、この光
検出手段21の出力を格納するメモリ24と、このメモ
リ24からとりだした画情報に基づき、X方向の出力の
絶対値の2乗とY方向の出力の絶対値の2乗との和の平
方根をとり、これをエッジ強度情報として出力する演算
処理手段25とを具備したことを特徴とする。
【0016】ここでは、光検出手段21は、2つのpn
接合から構成された感度可変受光素子PD(1,1)〜
PD(5,5)10を5×5個配列してアレイを構成し
たもので、図7はその要部拡大図である。各素子は図1
および2に示したのと同様にn型シリコン基板1表面に
p型拡散層からなる第1および第2の半導体層2a,2
bを形成するとともに、さらにこの第1および第2の半
導体層2a,2b表面に第1および第2の電極3a,3
bを形成したものから構成されている。そしてこれらは
スイッチSWY1〜SWY5,SWX1〜SWX5を介して出力
端子TO ,接地端子TG ,それぞれ1V,−1V,2
V,−2Vのバイアス端子TB に切り替え可能なように
構成されている。
接合から構成された感度可変受光素子PD(1,1)〜
PD(5,5)10を5×5個配列してアレイを構成し
たもので、図7はその要部拡大図である。各素子は図1
および2に示したのと同様にn型シリコン基板1表面に
p型拡散層からなる第1および第2の半導体層2a,2
bを形成するとともに、さらにこの第1および第2の半
導体層2a,2b表面に第1および第2の電極3a,3
bを形成したものから構成されている。そしてこれらは
スイッチSWY1〜SWY5,SWX1〜SWX5を介して出力
端子TO ,接地端子TG ,それぞれ1V,−1V,2
V,−2Vのバイアス端子TB に切り替え可能なように
構成されている。
【0017】次に、この画像読取装置を用いた画像の読
取り動作について説明する。
取り動作について説明する。
【0018】まず、スイッチSWX1およびSWY1を図8
に示すように設定することにより、画素PD(1,1)
の画像の取り込みを行う。
に示すように設定することにより、画素PD(1,1)
の画像の取り込みを行う。
【0019】続いて、スイッチSWX2およびSWY1を図
9に示すように設定することにより、取り込む画素を画
素PD(2,1)に進める。
9に示すように設定することにより、取り込む画素を画
素PD(2,1)に進める。
【0020】このようにして順次画素PD(1,1)〜
画素PD(5,5)の通常画像の取り込みを行う。
画素PD(5,5)の通常画像の取り込みを行う。
【0021】次にY方向3×3のソーベルオペレータマ
スクのかけられた画像を取り込む方法について説明す
る。図10に示すように、スイッチSWY1を1Vおよび
2Vのバイアス電圧端子に接続することにより、画素P
D(1,1),画素PD(3,1)に1Vの重みバイア
スを印加するとともに、画素PD(2,1)に2Vの重
みバイアスを印加する。またスイッチSWY3を−1V,
−2Vのバイアス端子に接続することにより、画素PD
(1,3),画素PD(3,3)に−1Vの重みバイア
スを印加し画素PD(2,3)に−2Vの重みバイアス
を印加する。このときのそれぞれの出力電流はSWX1,
SWX2,SWX3を出力端子TO に接続することにより加
算され、3×3のソーベルオペレータマスクのかかった
読取り出力を得ることができる。
スクのかけられた画像を取り込む方法について説明す
る。図10に示すように、スイッチSWY1を1Vおよび
2Vのバイアス電圧端子に接続することにより、画素P
D(1,1),画素PD(3,1)に1Vの重みバイア
スを印加するとともに、画素PD(2,1)に2Vの重
みバイアスを印加する。またスイッチSWY3を−1V,
−2Vのバイアス端子に接続することにより、画素PD
(1,3),画素PD(3,3)に−1Vの重みバイア
スを印加し画素PD(2,3)に−2Vの重みバイアス
を印加する。このときのそれぞれの出力電流はSWX1,
SWX2,SWX3を出力端子TO に接続することにより加
算され、3×3のソーベルオペレータマスクのかかった
読取り出力を得ることができる。
【0022】さらに図11および図12に示すようにス
イッチSWY1,SWY3を切り替え、SWX1,SWX2,S
WX3,SWX4,SWX5を切り替えることにより、3×3
のマスクを走査することができる。
イッチSWY1,SWY3を切り替え、SWX1,SWX2,S
WX3,SWX4,SWX5を切り替えることにより、3×3
のマスクを走査することができる。
【0023】またX方向3×3のソーベルオペレータマ
スクのかけられた画像を取り込む場合についても同様に
図13乃至図15に示すようにスイッチを切り替えるこ
とにより容易に形成可能である。
スクのかけられた画像を取り込む場合についても同様に
図13乃至図15に示すようにスイッチを切り替えるこ
とにより容易に形成可能である。
【0024】このようにして被写体を読取り、この信号
を25画素の読取り出力から、X方向の出力の絶対値の
2乗とY方向の出力の絶対値の2乗との和の平方根をと
り、これをエッジ強度情報として出力するようになって
いる。
を25画素の読取り出力から、X方向の出力の絶対値の
2乗とY方向の出力の絶対値の2乗との和の平方根をと
り、これをエッジ強度情報として出力するようになって
いる。
【0025】かかる装置によれば、読取りおよび特徴抽
出が実時間で行われ、極めて容易に短時間で画像認識を
行うことができる。
出が実時間で行われ、極めて容易に短時間で画像認識を
行うことができる。
【0026】また、画像処理に際して、一旦メモリにい
れておく必要があるのは、25画素の読取り出力から、
X方向の出力の絶対値の2乗とY方向の出力の絶対値の
2乗との和の平方根をとる演算を行う間のみであり、メ
モリ領域が小さくて済み、装置の小型化をはかることが
可能である。この装置は静止画像例えば印鑑の照合に有
効である。
れておく必要があるのは、25画素の読取り出力から、
X方向の出力の絶対値の2乗とY方向の出力の絶対値の
2乗との和の平方根をとる演算を行う間のみであり、メ
モリ領域が小さくて済み、装置の小型化をはかることが
可能である。この装置は静止画像例えば印鑑の照合に有
効である。
【0027】なお、ロビンソンオペレータマスクにより
濃度勾配や濃度方向を得る場合には、一旦メモリに入れ
ておく必要はなく、図5における光検出手段21の出力
がそのまま重み付け演算の出力であり、ロビンソンオペ
レータマスクに相当するバイアスを決定手段22によっ
て決定し駆動処理手段23によってこれを印加すること
により、自動的に重み付け演算を行うことができる。
濃度勾配や濃度方向を得る場合には、一旦メモリに入れ
ておく必要はなく、図5における光検出手段21の出力
がそのまま重み付け演算の出力であり、ロビンソンオペ
レータマスクに相当するバイアスを決定手段22によっ
て決定し駆動処理手段23によってこれを印加すること
により、自動的に重み付け演算を行うことができる。
【0028】前記実施例ではソーベルフィルタマスクに
ついて説明したが、ラプラシアンフィルタマスクをかけ
て微分画像の取り込みを行う場合にもバイアス電圧の切
り替えによって極めて容易に処理を行うことができる。
この一例として3×3のラプラシアンフィルタマスクを
かけた場合の端子接続例を図16に示す。マスク走査
は、スイッチSWY1,SWY2,SWY3を切り替え、SW
X1,SWX2,SWX3,SWX4,SWX5を切り替えること
により、容易に実行可能である。
ついて説明したが、ラプラシアンフィルタマスクをかけ
て微分画像の取り込みを行う場合にもバイアス電圧の切
り替えによって極めて容易に処理を行うことができる。
この一例として3×3のラプラシアンフィルタマスクを
かけた場合の端子接続例を図16に示す。マスク走査
は、スイッチSWY1,SWY2,SWY3を切り替え、SW
X1,SWX2,SWX3,SWX4,SWX5を切り替えること
により、容易に実行可能である。
【0029】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、バイアス電圧の切り替えによって極めて容易にかつ
実時間でマスク処理のなされた画像の取り込みを行うこ
とが可能となる。
ば、バイアス電圧の切り替えによって極めて容易にかつ
実時間でマスク処理のなされた画像の取り込みを行うこ
とが可能となる。
【図1】本発明の画像読取装置の原理説明図
【図2】本発明の画像読取装置の原理説明図
【図3】同装置における光電流と照射光強度との関係を
示す図
示す図
【図4】同装置における光電流とバイアス電圧との関係
を示す図
を示す図
【図5】本発明実施例の画像読取装置を示すブロック図
【図6】本発明実施例の画像読取装置を示す説明図
【図7】同装置の要部拡大図
【図8】同装置を用いた通常画像の取り込み状態を示す
図
図
【図9】同装置を用いた通常画像の取り込み状態を示す
図
図
【図10】同装置を用いてY方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図11】同装置を用いてY方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図12】同装置を用いてY方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図13】同装置を用いてX方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図14】同装置を用いてX方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図15】同装置を用いてX方向の3×3ソーベルオペ
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
レータマスクをかけたときの画像の取り込み状態を示す
図
【図16】同装置でラプラシアンオペレータマスクをか
けたときの画像の取り込み状態を示す図
けたときの画像の取り込み状態を示す図
【図17】従来例の画像認識装置を示す図
【図18】従来例のロビンソンオペレータを用いた画像
認識の説明図
認識の説明図
1 n型シリコン基板 2a,2b 半導体層(p型拡散層) 3a,3b 電極 11 光検出手段 12 第1の画像メモリ 13 画像処理部 14 第2の画像メモリ 15 画像認識 21 光検出手段 22 決定手段 23 駆動処理手段 24 メモリ 25 演算処理手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 1/40 101 D
Claims (1)
- 【請求項1】 第1の導電型の半導体領域の表面に、所
定の間隔を隔てて第2の導電型の第1および第2の半導
体層を形成するとともに、前記第1および第2の半導体
層の表面にそれぞれ第1および第2の電極を形成するこ
とにより、前記第1の導電型の半導体領域と前記第1お
よび第2の半導体層との間に前記所定の間隔を隔てた2
つのpn接合を構成し、前記第1および第2の電極の間
にバイアス電圧を印加し、光電流を検出する光検出部を
1画素とし、この1画素を多数個配列し、同時に複数画
素の光検出を行うように構成された光検出手段と、 実行しようとする画像処理項目に応じて必要とする重み
付け関数を決定し、各画素に対し、重み付け関数に応じ
たバイアス電圧を決定する決定手段と、 前記決定手段によって決定された前記バイアス電圧を各
光検出部に印加し、前記複数の光検出部の出力に基づい
て、所定画素の特徴抽出を実時間で行い、これを当該画
素の画情報として出力する駆動処理手段とを具備したこ
とを特徴とする画像読取装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6028186A JPH07239930A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 画像読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6028186A JPH07239930A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 画像読取装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07239930A true JPH07239930A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=12241675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6028186A Pending JPH07239930A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 画像読取装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07239930A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005517219A (ja) * | 2002-02-02 | 2005-06-09 | キネティック リミテッド | 焦点面検出器 |
-
1994
- 1994-02-25 JP JP6028186A patent/JPH07239930A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005517219A (ja) * | 2002-02-02 | 2005-06-09 | キネティック リミテッド | 焦点面検出器 |
| US7795569B2 (en) | 2002-02-02 | 2010-09-14 | Qinetiq Limited | Focal plane detector with integral processor for object edge determination |
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