JPH07247286A - 含窒素環状化合物の光学分割方法 - Google Patents
含窒素環状化合物の光学分割方法Info
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- JPH07247286A JPH07247286A JP7004732A JP473295A JPH07247286A JP H07247286 A JPH07247286 A JP H07247286A JP 7004732 A JP7004732 A JP 7004732A JP 473295 A JP473295 A JP 473295A JP H07247286 A JPH07247286 A JP H07247286A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有す
る環状化合物」の光学活性体混合物に、光学活性なジア
シル酒石酸を作用させ、光学活性体と、ジアシル酒石酸
とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶解度の差を利用
することを特徴とする、「不斉炭素及び塩基性の窒素原
子を環内に有する環状化合物」の光学分割方法。 【効果】本発明の光学分割法は、簡便かつ効率が良く、
工業的に使用できる優れた方法である。
る環状化合物」の光学活性体混合物に、光学活性なジア
シル酒石酸を作用させ、光学活性体と、ジアシル酒石酸
とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶解度の差を利用
することを特徴とする、「不斉炭素及び塩基性の窒素原
子を環内に有する環状化合物」の光学分割方法。 【効果】本発明の光学分割法は、簡便かつ効率が良く、
工業的に使用できる優れた方法である。
Description
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬品として利用でき
る化合物の合成中間体として有用な、「不斉炭素及び塩
基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の効率的な
光学分割方法に関し、好ましくは、抗アレルギー作用及
び抗喘息作用を有する化合物の合成中間体として有用
な、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有する環
状化合物」の効率的な光学分割方法に関し、更には、抗
アレルギー作用及び抗喘息作用を有する化合物の合成中
間体として有用な、1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンの光学分割方法に関する。
る化合物の合成中間体として有用な、「不斉炭素及び塩
基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の効率的な
光学分割方法に関し、好ましくは、抗アレルギー作用及
び抗喘息作用を有する化合物の合成中間体として有用
な、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有する環
状化合物」の効率的な光学分割方法に関し、更には、抗
アレルギー作用及び抗喘息作用を有する化合物の合成中
間体として有用な、1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンの光学分割方法に関する。
【0003】
【従来の技術】1 光学分割法について 例えば、特開平第3−279383号公報に開示されて
いるように、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」の光学分割方法としては、次の2つ
の方法が知られている。
いるように、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」の光学分割方法としては、次の2つ
の方法が知られている。
【0004】即ち、 [A法]:化合物を光学活性なアシル化剤を用いて、窒
素原子のアシル化を行った後、得られた異性体混合物を
分離し、脱アシル化を行い、単離する方法。
素原子のアシル化を行った後、得られた異性体混合物を
分離し、脱アシル化を行い、単離する方法。
【0005】[B法]:ラセミ体の化合物に対して、
0.5モル当量の光学活性なジアシル酒石酸を作用さ
せ、得られた塩を分離後、塩基でフリー化を行い、単離
する方法。
0.5モル当量の光学活性なジアシル酒石酸を作用さ
せ、得られた塩を分離後、塩基でフリー化を行い、単離
する方法。
【0006】しかしながら、[A法]では、高価なアシ
ル化剤を使用し、又、工程数も長くなり、一方、[B
法]では、1回の分割操作では光学収率が低く、同様の
操作を数回繰り返さなければならない等問題点があり、
これらの方法は工業的に利用できる方法ではなかった。
ル化剤を使用し、又、工程数も長くなり、一方、[B
法]では、1回の分割操作では光学収率が低く、同様の
操作を数回繰り返さなければならない等問題点があり、
これらの方法は工業的に利用できる方法ではなかった。
【0007】2 不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内
に有する環状化合物について 本発明の光学分割方法が適用できる「不斉炭素及び塩基
性の窒素原子を環内に有する環状化合物」は、不斉炭素
と塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性の複
素環基であれば特に限定はなく、そのような公知の化合
物は多数存在するが、例えば、1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピン誘導体、1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロ
ロ[2,1−c][1,4]ベンズアゼピン誘導体等が
公知であり、この化合物は、例えば、特開平第3−27
9383号公報に、極めて優れた抗ヒスタミン作用、抗
アレルギー作用及び抗喘息作用を有する化合物の合成中
間体として開示されている。
に有する環状化合物について 本発明の光学分割方法が適用できる「不斉炭素及び塩基
性の窒素原子を環内に有する環状化合物」は、不斉炭素
と塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性の複
素環基であれば特に限定はなく、そのような公知の化合
物は多数存在するが、例えば、1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピン誘導体、1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロ
ロ[2,1−c][1,4]ベンズアゼピン誘導体等が
公知であり、この化合物は、例えば、特開平第3−27
9383号公報に、極めて優れた抗ヒスタミン作用、抗
アレルギー作用及び抗喘息作用を有する化合物の合成中
間体として開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、「不斉
炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」
の新規な光学分割法について、永年に亘り鋭意研究を行
なった結果、既知の方法とは異って、光学活性体と分割
剤のモル比が2:1からなる塩を、優先的に晶析させる
分割方法が、簡便かつ効率が良く、工業的に使用できる
優れた方法であることを見出し、本発明を完成した。
炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」
の新規な光学分割法について、永年に亘り鋭意研究を行
なった結果、既知の方法とは異って、光学活性体と分割
剤のモル比が2:1からなる塩を、優先的に晶析させる
分割方法が、簡便かつ効率が良く、工業的に使用できる
優れた方法であることを見出し、本発明を完成した。
【0009】
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、「不斉炭素及
び塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の光学
活性体混合物に、一般式(I)
び塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の光学
活性体混合物に、一般式(I)
【0011】
【化5】
【0012】[式中、R1 はアシル基を示し、(S)は
S配位を示す。]で表される光学活性なジアシル酒石
酸、又は、一般式(II)
S配位を示す。]で表される光学活性なジアシル酒石
酸、又は、一般式(II)
【0013】
【化6】
【0014】[式中、R2 はアシル基を示し、(R)は
R配位を示す。]で表される光学活性なジアシル酒石酸
を作用させ、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」の光学活性体と、化合物(I)又は
化合物(II)とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶
解度の差を利用することを特徴とする、「不斉炭素及び
塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の新規な
工業的光学分割方法であり、特に、「不斉炭素及び塩基
性の窒素原子を環内に有する環状化合物」が、1,2,
3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,
f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンである場合の光学
分割方法であり、更には、1,2,3,4,10,14
b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2
−a]アゼピンの光学活性体混合物に、上記一般式
(I)で表される光学活性なジアシル酒石酸を作用さ
せ、当該光学活性体と、化合物(I)とのモル比が2:
1の塩を形成させ、溶解度の差を利用することを特徴と
する、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサ
ヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]アゼ
ピンの新規な工業的光学分割方法であり、 又、1,
2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ
[c,f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンの光学活性
体混合物に、上記一般式(II)で表される光学活性な
ジアシル酒石酸を作用させ、当該光学活性体と、化合物
(II)とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶解度の
差を利用することを特徴とする、(S)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピ
ラジノ[1,2−a]アゼピンの新規な工業的光学分割
方法である。
R配位を示す。]で表される光学活性なジアシル酒石酸
を作用させ、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」の光学活性体と、化合物(I)又は
化合物(II)とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶
解度の差を利用することを特徴とする、「不斉炭素及び
塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合物」の新規な
工業的光学分割方法であり、特に、「不斉炭素及び塩基
性の窒素原子を環内に有する環状化合物」が、1,2,
3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,
f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンである場合の光学
分割方法であり、更には、1,2,3,4,10,14
b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2
−a]アゼピンの光学活性体混合物に、上記一般式
(I)で表される光学活性なジアシル酒石酸を作用さ
せ、当該光学活性体と、化合物(I)とのモル比が2:
1の塩を形成させ、溶解度の差を利用することを特徴と
する、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサ
ヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]アゼ
ピンの新規な工業的光学分割方法であり、 又、1,
2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ
[c,f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンの光学活性
体混合物に、上記一般式(II)で表される光学活性な
ジアシル酒石酸を作用させ、当該光学活性体と、化合物
(II)とのモル比が2:1の塩を形成させ、溶解度の
差を利用することを特徴とする、(S)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピ
ラジノ[1,2−a]アゼピンの新規な工業的光学分割
方法である。
【0015】「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」とは、1以上の不斉炭素と1以上の
塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性の複素
環基であればよく、そのような基は、多数存在し、例え
ば、モルヒネ、コデインのようなモルヒネ誘導体;アト
ロピンのようなトロピン誘導体;1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピン、1,2,3,4,10,14
b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロロ[2,
1−c][1,4]ベンズアゼピンのようなアゼピン誘
導体を挙げることができ、好適には、1の不斉炭素と1
以上の塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性
の複素環基であり、更に好適には、1の不斉炭素と1の
「塩を形成しうる塩基性の窒素原子」が環内に存在する
2乃至5環性の複素環基であり、より更に好適には、ア
ゼピン誘導体であり、最も好適には、1,2,3,4,
10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジ
ノ[1,2−a]アゼピン及び1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロロ
[2,1−c][1,4]ベンズアゼピンである。
有する環状化合物」とは、1以上の不斉炭素と1以上の
塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性の複素
環基であればよく、そのような基は、多数存在し、例え
ば、モルヒネ、コデインのようなモルヒネ誘導体;アト
ロピンのようなトロピン誘導体;1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピン、1,2,3,4,10,14
b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロロ[2,
1−c][1,4]ベンズアゼピンのようなアゼピン誘
導体を挙げることができ、好適には、1の不斉炭素と1
以上の塩基性の窒素原子が環内に存在する2乃至5環性
の複素環基であり、更に好適には、1の不斉炭素と1の
「塩を形成しうる塩基性の窒素原子」が環内に存在する
2乃至5環性の複素環基であり、より更に好適には、ア
ゼピン誘導体であり、最も好適には、1,2,3,4,
10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジ
ノ[1,2−a]アゼピン及び1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロピラジノ[1,2−a]ピロロ
[2,1−c][1,4]ベンズアゼピンである。
【0016】R1 及びR2 の定義における「アシル基」
とは、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バ
レリル、イソバレリル、オクタノイル、ノニルカルボニ
ル、デシルカルボニル、3−メチルノニルカルボニル、
8−メチルノニルカルボニル、3−エチルオクチルカル
ボニル、3,7−ジメチルオクチルカルボニル、ウンデ
シルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカル
ボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボ
ニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メチルペンタデシ
ルカルボニル、14−メチルペンタデシルカルボニル、
13,13−ジメチルテトラデシルカルボニル、ヘプタ
デシルカルボニル、15−メチルヘキサデシルカルボニ
ル、オクタデシルカルボニル、1−メチルヘプタデシル
カルボニル、ノナデシルカルボニル、アイコシルカルボ
ニル、ヘナイコシルカルボニルのようなアルキルカルボ
ニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化
アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級
アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−メチル
−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基
等の「脂肪族アシル基」;ベンゾイル、α−ナフトイ
ル、β−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル基、
2,4,6−トリメチルベンゾイル、2−トルオイル、
4−トルオイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボ
ニル基、4−アニソイル、2−メトキシベンゾイル、
2,4−ジメトキシベンゾイルのような低級アルコキシ
化アリ−ルカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2−
ニトロベンゾイル、2,4−ジニトロベンゾイルのよう
なニトロ化アリ−ルカルボニル基、2−(メトキシカル
ボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル
化アリ−ルカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのよ
うなアリ−ル化アリ−ルカルボニル基、4−ブロモベン
ゾイル、2−ブロモベンゾイル、2,4−ジブロモベン
ゾイル、4−クロロベンゾイル、2−クロロベンゾイ
ル、2,4−ジクロロベンゾイルのようなハロゲン化ア
リ−ルカルボニル基等の「芳香族アシル基」;メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシ
カルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのよう
なハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された
低級アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニ
ル基」;ビニルカルボニル、アリルカルボニルのような
「アルケニルカルボニル基」;ベンジルカルボニル、4
−メトキシベンジルカルボニル、3,4−ジメトキシベ
ンジルカルボニル、2−ニトロベンジルカルボニル、4
−ニトロベンジルカルボニルのような、1乃至2個の低
級アルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環が置換されてい
てもよい「アラルキルカルボニル基」を挙げることがで
き、好適には、「脂肪族アシル基」及び「芳香族アシル
基」であり、更に好適には、「芳香族アシル基」であ
り、最も好適には、アリ−ルカルボニル基、低級アルキ
ル化アリ−ルカルボニル基、低級アルコキシ化アリ−ル
カルボニル基及びハロゲン化アリ−ルカルボニルであ
り、より好適には、アリ−ルカルボニル基及び低級アル
キル化アリ−ルカルボニル基であり、最も好適には、ベ
ンゾイル基及び4−トルオイル基である。
とは、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バ
レリル、イソバレリル、オクタノイル、ノニルカルボニ
ル、デシルカルボニル、3−メチルノニルカルボニル、
8−メチルノニルカルボニル、3−エチルオクチルカル
ボニル、3,7−ジメチルオクチルカルボニル、ウンデ
シルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカル
ボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボ
ニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メチルペンタデシ
ルカルボニル、14−メチルペンタデシルカルボニル、
13,13−ジメチルテトラデシルカルボニル、ヘプタ
デシルカルボニル、15−メチルヘキサデシルカルボニ
ル、オクタデシルカルボニル、1−メチルヘプタデシル
カルボニル、ノナデシルカルボニル、アイコシルカルボ
ニル、ヘナイコシルカルボニルのようなアルキルカルボ
ニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化
アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級
アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−メチル
−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基
等の「脂肪族アシル基」;ベンゾイル、α−ナフトイ
ル、β−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル基、
2,4,6−トリメチルベンゾイル、2−トルオイル、
4−トルオイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボ
ニル基、4−アニソイル、2−メトキシベンゾイル、
2,4−ジメトキシベンゾイルのような低級アルコキシ
化アリ−ルカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2−
ニトロベンゾイル、2,4−ジニトロベンゾイルのよう
なニトロ化アリ−ルカルボニル基、2−(メトキシカル
ボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル
化アリ−ルカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのよ
うなアリ−ル化アリ−ルカルボニル基、4−ブロモベン
ゾイル、2−ブロモベンゾイル、2,4−ジブロモベン
ゾイル、4−クロロベンゾイル、2−クロロベンゾイ
ル、2,4−ジクロロベンゾイルのようなハロゲン化ア
リ−ルカルボニル基等の「芳香族アシル基」;メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシ
カルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのよう
なハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された
低級アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニ
ル基」;ビニルカルボニル、アリルカルボニルのような
「アルケニルカルボニル基」;ベンジルカルボニル、4
−メトキシベンジルカルボニル、3,4−ジメトキシベ
ンジルカルボニル、2−ニトロベンジルカルボニル、4
−ニトロベンジルカルボニルのような、1乃至2個の低
級アルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環が置換されてい
てもよい「アラルキルカルボニル基」を挙げることがで
き、好適には、「脂肪族アシル基」及び「芳香族アシル
基」であり、更に好適には、「芳香族アシル基」であ
り、最も好適には、アリ−ルカルボニル基、低級アルキ
ル化アリ−ルカルボニル基、低級アルコキシ化アリ−ル
カルボニル基及びハロゲン化アリ−ルカルボニルであ
り、より好適には、アリ−ルカルボニル基及び低級アル
キル化アリ−ルカルボニル基であり、最も好適には、ベ
ンゾイル基及び4−トルオイル基である。
【0017】「光学分割方法」は、塩の形成工程と、塩
から光学活性体を分離するフリー化工程からなる。塩の
形成工程において、光学分割剤の使用量は、光学活性体
と化合物(I)又は化合物(II)との比が2:1でな
ければならないので、光学活性体の混合比及び化合物
(I)又は化合物(II)のアシル基の種類(実際の使
用重量の場合)に依存することになり、容易にその使用
量を計算で算出することができ、その計算量の前後の一
定の範囲を使用することができる。例えば、光学活性体
が2種存在する場合、光学分割剤の好適な使用量は以下
のようになる。即ち、(R)体と(S)体の存在比を、
m:n(但し、m+n=1、1>m,n>0)とする
と、最適な使用量は0.5×mモル当量及び(0.5×
m+n)モル当量であり、各々の前後1割程度を含む範
囲を好適な使用量として挙げることができる。従って、
ラセミ体の場合の使用量は、0.25モル当量及び0.
75モル当量となる。
から光学活性体を分離するフリー化工程からなる。塩の
形成工程において、光学分割剤の使用量は、光学活性体
と化合物(I)又は化合物(II)との比が2:1でな
ければならないので、光学活性体の混合比及び化合物
(I)又は化合物(II)のアシル基の種類(実際の使
用重量の場合)に依存することになり、容易にその使用
量を計算で算出することができ、その計算量の前後の一
定の範囲を使用することができる。例えば、光学活性体
が2種存在する場合、光学分割剤の好適な使用量は以下
のようになる。即ち、(R)体と(S)体の存在比を、
m:n(但し、m+n=1、1>m,n>0)とする
と、最適な使用量は0.5×mモル当量及び(0.5×
m+n)モル当量であり、各々の前後1割程度を含む範
囲を好適な使用量として挙げることができる。従って、
ラセミ体の場合の使用量は、0.25モル当量及び0.
75モル当量となる。
【0018】特に、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を
環内に有する環状化合物」が、1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピンである場合、化合物(I)を作
用させて2:1の塩を生成させると、(S)−1,2,
3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,
f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンと化合物(I)と
の塩の方が溶解度が大きいため、(R)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピ
ラジノ[1,2−a]アゼピンを選択的に光学分割する
ことができ、化合物(II)を作用させて2:1の塩を
生成させると、(R)−1,2,3,4,10,14b
−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−
a]アゼピンと化合物(II)との塩の方が溶解度が大
きいため、(S)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンを選択的に光学分割することができる。尚、こ
の場合、化合物(I)又は化合物(II)のアシル基
が、ベンゾイル基である化合物が分割剤として特に好ま
しく、光学活性体がラセミ体の場合、通常、光学活性体
の混合物に対して、0.2〜0.3モル当量又は0.7
〜0.8モル当量を使用することによって行われる。
環内に有する環状化合物」が、1,2,3,4,10,
14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ
[1,2−a]アゼピンである場合、化合物(I)を作
用させて2:1の塩を生成させると、(S)−1,2,
3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,
f]ピラジノ[1,2−a]アゼピンと化合物(I)と
の塩の方が溶解度が大きいため、(R)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピ
ラジノ[1,2−a]アゼピンを選択的に光学分割する
ことができ、化合物(II)を作用させて2:1の塩を
生成させると、(R)−1,2,3,4,10,14b
−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−
a]アゼピンと化合物(II)との塩の方が溶解度が大
きいため、(S)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンを選択的に光学分割することができる。尚、こ
の場合、化合物(I)又は化合物(II)のアシル基
が、ベンゾイル基である化合物が分割剤として特に好ま
しく、光学活性体がラセミ体の場合、通常、光学活性体
の混合物に対して、0.2〜0.3モル当量又は0.7
〜0.8モル当量を使用することによって行われる。
【0019】塩の形成工程は、通常、光学活性体の混合
物と溶媒の混合物へ、予め少量の溶媒で溶かした化合物
(I)又は化合物(II)の溶液を滴下することにより
行う。塩の形成反応に用いる溶媒としては、通常、溶媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には、水、水溶性有機溶媒、又は水と水溶性有機溶媒の
混合溶媒が使用され、斯かる水溶性有機溶媒としては、
反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであ
れば特に限定はないが、好適には、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ルのような
アルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよう
なニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができ、更に好適には、アルコ−ル類である。溶媒と
して好ましくは、アルコール類及び含水アルコール類で
あり、最も好ましくはメタノール及び体積比で20%以
下の水を含む含水メタノールである。
物と溶媒の混合物へ、予め少量の溶媒で溶かした化合物
(I)又は化合物(II)の溶液を滴下することにより
行う。塩の形成反応に用いる溶媒としては、通常、溶媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には、水、水溶性有機溶媒、又は水と水溶性有機溶媒の
混合溶媒が使用され、斯かる水溶性有機溶媒としては、
反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであ
れば特に限定はないが、好適には、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ルのような
アルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよう
なニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができ、更に好適には、アルコ−ル類である。溶媒と
して好ましくは、アルコール類及び含水アルコール類で
あり、最も好ましくはメタノール及び体積比で20%以
下の水を含む含水メタノールである。
【0020】反応温度は、通常、0℃〜還流温度で行わ
れるが、好ましくは、滴下中及び滴下後30分程、反応
温度を60〜80℃付近に保ち、その後徐々に冷却し、
最終的に10〜30℃付近の温度で塩の濾過を行う。
れるが、好ましくは、滴下中及び滴下後30分程、反応
温度を60〜80℃付近に保ち、その後徐々に冷却し、
最終的に10〜30℃付近の温度で塩の濾過を行う。
【0021】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば、再結晶又は再沈殿によって分離、精製すること
ができる。
例えば、再結晶又は再沈殿によって分離、精製すること
ができる。
【0022】フリー化工程は非水溶性有機溶媒と水との
2相系溶媒へ、塩及び塩に対して当量若しくは小過剰の
塩基を加え、撹拌することにより行われる。使用される
非水溶性有機溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができる。使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
類;弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金
属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類;メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類類を挙げることがで
き、更に好適には、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物であり、最も好適に
は、アルカリ金属炭酸水素塩である。
2相系溶媒へ、塩及び塩に対して当量若しくは小過剰の
塩基を加え、撹拌することにより行われる。使用される
非水溶性有機溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができる。使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
類;弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金
属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類;メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類類を挙げることがで
き、更に好適には、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物であり、最も好適に
は、アルカリ金属炭酸水素塩である。
【0023】本工程は、0℃〜還流温度の温度範囲で行
われるが、塩基としてアルカリ金属水酸化物を使用する
場合、0〜20℃が好ましく、塩基としてアルカリ金属
炭酸水素塩若しくはアルカリ金属炭酸塩を使用する場合
は、60℃〜80℃が好ましい。
われるが、塩基としてアルカリ金属水酸化物を使用する
場合、0〜20℃が好ましく、塩基としてアルカリ金属
炭酸水素塩若しくはアルカリ金属炭酸塩を使用する場合
は、60℃〜80℃が好ましい。
【0024】反応終了後、目的化合物は常法に従って、
反応混合物から採取される。例えば、目的化合物を含む
非水溶性有機層を分離し、水等で洗浄後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機
化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリ
カゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロ
リジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフ
ィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
反応混合物から採取される。例えば、目的化合物を含む
非水溶性有機層を分離し、水等で洗浄後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機
化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリ
カゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロ
リジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフ
ィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
【0025】
【発明の効果】本発明の新規な光学分割法は、既知の方
法とは異って、光学活性体と分割剤のモル比が2:1か
らなる塩を、優先的に晶析させることによる光学分割方
法であり、簡便かつ効率良く非常に高い光学純度を有す
る光学活性体が得られ、しかも、工業的に入手できる分
割剤を使用するため、工業的に利用できる優れた方法で
ある。
法とは異って、光学活性体と分割剤のモル比が2:1か
らなる塩を、優先的に晶析させることによる光学分割方
法であり、簡便かつ効率良く非常に高い光学純度を有す
る光学活性体が得られ、しかも、工業的に入手できる分
割剤を使用するため、工業的に利用できる優れた方法で
ある。
【0026】以下に、実施例をあげて本発明を更に具体
的に説明する。
的に説明する。
【0027】
【実施例1】(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロ
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピンの
製造 (1)塩形成工程: 1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕
アゼピンのラセミ体(100.2g、0.40mol)
の10%(v/v)含水メタノール(1200ml)溶
液へ、ジベンゾイル−L−酒石酸・1水和物(37.6
g、0.1mol)の10%(v/v)含水メタノール
(300ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に
同温で30分間撹拌を続けた。反応混合物を、約1時間
かけて、20℃までゆっくり冷却し、析出した結晶を濾
取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで洗浄・
乾燥し、(S)−1,2,3,4,10,14b−ヘキ
サヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕ア
ゼピン:ジベンゾイル−L−酒石酸=2:1の塩の1水
和物を、59.2g(収率67.5%)得た。 融点:185.5〜186.5℃(分解) 〔α〕D 23 : +288°(c=0.20,N,N−ジ
メチルホルムアミド) 続いて、濾洗液を濃縮し、残留物へ、トルエン(150
0ml)及び炭酸水素ナトリウム水溶液(炭酸水素ナト
リウム5.88g)を加え、70℃で撹拌した。両層を
分配した後、有機層を濃縮し、光学異性体比が、(R)
体:(S)体=68:32から成る混合物を、66.4
g(0.265mol)回収した。これに、10%(v
/v)含水メタノール(400ml)を加えて溶解した
後、ジベンゾイル−D−酒石酸・1水和物(37.6
g、0.1mol)の10%(v/v)含水メタノール
(200ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に
同温で30分間撹拌を続けた。反応混合物を、約1時間
かけて、20℃までゆっくり冷却後、析出した結晶を濾
取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで洗浄・
乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキ
サヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕ア
ゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水
和物を、75.2g(収率85.7%)得た。
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピンの
製造 (1)塩形成工程: 1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕
アゼピンのラセミ体(100.2g、0.40mol)
の10%(v/v)含水メタノール(1200ml)溶
液へ、ジベンゾイル−L−酒石酸・1水和物(37.6
g、0.1mol)の10%(v/v)含水メタノール
(300ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に
同温で30分間撹拌を続けた。反応混合物を、約1時間
かけて、20℃までゆっくり冷却し、析出した結晶を濾
取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで洗浄・
乾燥し、(S)−1,2,3,4,10,14b−ヘキ
サヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕ア
ゼピン:ジベンゾイル−L−酒石酸=2:1の塩の1水
和物を、59.2g(収率67.5%)得た。 融点:185.5〜186.5℃(分解) 〔α〕D 23 : +288°(c=0.20,N,N−ジ
メチルホルムアミド) 続いて、濾洗液を濃縮し、残留物へ、トルエン(150
0ml)及び炭酸水素ナトリウム水溶液(炭酸水素ナト
リウム5.88g)を加え、70℃で撹拌した。両層を
分配した後、有機層を濃縮し、光学異性体比が、(R)
体:(S)体=68:32から成る混合物を、66.4
g(0.265mol)回収した。これに、10%(v
/v)含水メタノール(400ml)を加えて溶解した
後、ジベンゾイル−D−酒石酸・1水和物(37.6
g、0.1mol)の10%(v/v)含水メタノール
(200ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に
同温で30分間撹拌を続けた。反応混合物を、約1時間
かけて、20℃までゆっくり冷却後、析出した結晶を濾
取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで洗浄・
乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキ
サヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕ア
ゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水
和物を、75.2g(収率85.7%)得た。
【0028】融点:186.0〜186.5℃(分解) 〔α〕D 23 : −278°(c=0.20,N,N−ジ
メチルホルムアミド) 元素分析値(C52H50N4O8・H2O として) 計算値:C,71.21;H,5.98;N,6.39 実測値:C,70.83;H,5.98;N,6.31(2)フリー化工程: (1)により得られた、(R)−1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ
〔1,2−a〕アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=
2:1の塩の1水和物(219.3g、0.25mo
l)へ、トルエン(2000ml)、水(1000m
l)及び炭酸水素ナトリウム(44.2g,0.525
mol)を加え、70℃で30分撹拌を行った。次い
で、両層を分配し、水層をトルエン(500ml)で再
抽出した。トルエン層を合致し、水(500mlで2
回)で洗浄し、溶媒を留去し、(R)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピ
ラジノ〔1,2−a〕アゼピンの粗結晶を定量的に得
た。この粗結晶を、トルエン−イソプロピルエーテル
〔1:3(v/v)〕500mlから再結晶し、標記化
合物を100.7g得た。又、濾液を濃縮後、同様に再
結晶を行い、標記化合物を16.8g得た。
メチルホルムアミド) 元素分析値(C52H50N4O8・H2O として) 計算値:C,71.21;H,5.98;N,6.39 実測値:C,70.83;H,5.98;N,6.31(2)フリー化工程: (1)により得られた、(R)−1,2,3,4,1
0,14b−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ
〔1,2−a〕アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=
2:1の塩の1水和物(219.3g、0.25mo
l)へ、トルエン(2000ml)、水(1000m
l)及び炭酸水素ナトリウム(44.2g,0.525
mol)を加え、70℃で30分撹拌を行った。次い
で、両層を分配し、水層をトルエン(500ml)で再
抽出した。トルエン層を合致し、水(500mlで2
回)で洗浄し、溶媒を留去し、(R)−1,2,3,
4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピ
ラジノ〔1,2−a〕アゼピンの粗結晶を定量的に得
た。この粗結晶を、トルエン−イソプロピルエーテル
〔1:3(v/v)〕500mlから再結晶し、標記化
合物を100.7g得た。又、濾液を濃縮後、同様に再
結晶を行い、標記化合物を16.8g得た。
【0029】総収量:117.5g(収率93.8%) 融点:130.0〜130.5℃ 〔α〕D 23 : −497°(c=1.00,メタノー
ル) 光学純度 >99%ee(3)光学純度測定条件: カラム:キラルセル OJ(ダイセル化学工業製、4.
6φ×250mm) 溶離液:2−プロパノール/ヘキサン=2/1;流速:
0.7ml/min; 保持時間:(R)体=約6.7分 (S)体=約7.8分
ル) 光学純度 >99%ee(3)光学純度測定条件: カラム:キラルセル OJ(ダイセル化学工業製、4.
6φ×250mm) 溶離液:2−プロパノール/ヘキサン=2/1;流速:
0.7ml/min; 保持時間:(R)体=約6.7分 (S)体=約7.8分
【0030】
【実施例2】1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒ
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(200.3g、0.80mol)の10
%(v/v)含水メタノール(3500ml)溶液へ、
ジベンゾイル−D−酒石酸・1水和物(75.3g、
0.2mol)の10%(v/v)含水メタノール(5
00ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に同温
で30分間撹拌を続けた。ついで、反応混合物を約1時
間かけて、20℃までゆっくり冷却した後、析出した結
晶を濾取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで
洗浄・乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b
−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−
a〕アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩
の1水和物を113.7g得た。又、濾洗液を約100
0mlまで濃縮し、析出した結晶を濾取し、同様に洗浄
・乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕
アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1
水和物を17.6g得た。 総収量:131.3g(収率74.8%) 得られた塩の一部を、実施例1と同様にフリー化を行っ
て、(R)体の光学純度を測定した結果、何れも>99
%eeであった。
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(200.3g、0.80mol)の10
%(v/v)含水メタノール(3500ml)溶液へ、
ジベンゾイル−D−酒石酸・1水和物(75.3g、
0.2mol)の10%(v/v)含水メタノール(5
00ml)溶液を、70〜72℃下で滴下し、更に同温
で30分間撹拌を続けた。ついで、反応混合物を約1時
間かけて、20℃までゆっくり冷却した後、析出した結
晶を濾取し、少量の10%(v/v)含水メタノールで
洗浄・乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b
−ヘキサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−
a〕アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩
の1水和物を113.7g得た。又、濾洗液を約100
0mlまで濃縮し、析出した結晶を濾取し、同様に洗浄
・乾燥し、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕
アゼピン:ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1
水和物を17.6g得た。 総収量:131.3g(収率74.8%) 得られた塩の一部を、実施例1と同様にフリー化を行っ
て、(R)体の光学純度を測定した結果、何れも>99
%eeであった。
【0031】
【実施例3】1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒ
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジベンゾイル−D−酒石酸
・1水和物(940.9mg、2.5mmol)のメタ
ノール(6.3ml)溶液を還流下に滴下し、更に30
分間還流を続けた。ついで、反応混合物を約1時間かけ
て、20℃までゆっくり冷却した後、析出した結晶を濾
取し、少量のメタノールで洗浄・乾燥し、(R)−1,
2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ
〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:ジベンゾ
イル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和物を1.15g
(収率52.5%)得た。得られた塩の一部を、実施例
1と同様にフリー化をおこなって、(R)体の光学純度
を測定した結果、>99%eeであった。
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジベンゾイル−D−酒石酸
・1水和物(940.9mg、2.5mmol)のメタ
ノール(6.3ml)溶液を還流下に滴下し、更に30
分間還流を続けた。ついで、反応混合物を約1時間かけ
て、20℃までゆっくり冷却した後、析出した結晶を濾
取し、少量のメタノールで洗浄・乾燥し、(R)−1,
2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロジベンゾ
〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:ジベンゾ
イル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和物を1.15g
(収率52.5%)得た。得られた塩の一部を、実施例
1と同様にフリー化をおこなって、(R)体の光学純度
を測定した結果、>99%eeであった。
【0032】
【実施例4】1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒ
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジベンゾイル−D−酒石酸
・1水和物(2.82g、7.5mmol)のメタノー
ル(6.3ml)溶液を、還流下に滴下し、更に30分
間還流を続けた。以降、実施例3と同様に操作し、
(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロ
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:
ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和物を
1.33g(収率60.7%)得た。得られた塩の一部
を、実施例1と同様にフリー化をおこなって、(R)体
の光学純度を測定した結果、>99%eeであった。
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジベンゾイル−D−酒石酸
・1水和物(2.82g、7.5mmol)のメタノー
ル(6.3ml)溶液を、還流下に滴下し、更に30分
間還流を続けた。以降、実施例3と同様に操作し、
(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロ
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:
ジベンゾイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和物を
1.33g(収率60.7%)得た。得られた塩の一部
を、実施例1と同様にフリー化をおこなって、(R)体
の光学純度を測定した結果、>99%eeであった。
【0033】
【実施例5】1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒ
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジ−p−トルオイル−D−
酒石酸・1水和物(1.01g、2.5mmol)のメ
タノール(6.3ml)溶液を還流下で滴下し、更に3
0分間還流を続けた。以降、実施例3と同様に操作し、
(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロ
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:
ジ−p−トルオイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和
物を1.22g(収率54.1%)得た。 融点:182〜183℃(分解) 〔α〕D 23 : −270°(c=0.20,N,N−ジ
メチルホルムアミド) 元素分析値(C52H50N4O8・H2O として) 計算値:C,71.66;H,6.24;N,6.12 実測値:C,71.22;H,6.21;N,6.19 得られた塩の一部を、実施例1と同様にフリー化をおこ
なって、(R)体の光学純度を測定した結果、99%e
eであった。
ドロジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピ
ンのラセミ体(2.50g、10mmol)のメタノー
ル(43.7ml)溶液へ、ジ−p−トルオイル−D−
酒石酸・1水和物(1.01g、2.5mmol)のメ
タノール(6.3ml)溶液を還流下で滴下し、更に3
0分間還流を続けた。以降、実施例3と同様に操作し、
(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘキサヒドロ
ジベンゾ〔c,f〕ピラジノ〔1,2−a〕アゼピン:
ジ−p−トルオイル−D−酒石酸=2:1の塩の1水和
物を1.22g(収率54.1%)得た。 融点:182〜183℃(分解) 〔α〕D 23 : −270°(c=0.20,N,N−ジ
メチルホルムアミド) 元素分析値(C52H50N4O8・H2O として) 計算値:C,71.66;H,6.24;N,6.12 実測値:C,71.22;H,6.21;N,6.19 得られた塩の一部を、実施例1と同様にフリー化をおこ
なって、(R)体の光学純度を測定した結果、99%e
eであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07M 7:00
Claims (4)
- 【請求項1】「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」の光学活性体混合物に、一般式
(I) 【化1】 [式中、 R1 はアシル基を示し、 (S)はS配位を示す。]で表される光学活性なジアシ
ル酒石酸、又は、一般式(II) 【化2】 [式中、 R2 はアシル基を示し、 (R)はR配位を示す。]で表される光学活性なジアシ
ル酒石酸を作用させ、「不斉炭素及び塩基性の窒素原子
を環内に有する環状化合物」の光学活性体と、化合物
(I)又は化合物(II)とのモル比が2:1の塩を形
成させ、溶解度の差を利用することを特徴とする、「不
斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に有する環状化合
物」の光学分割方法。 - 【請求項2】「不斉炭素及び塩基性の窒素原子を環内に
有する環状化合物」が、1,2,3,4,10,14b
−ヘキサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−
a]アゼピンである、請求項1記載の光学分割方法。 - 【請求項3】請求項2において、化合物(I)を作用さ
せて塩を形成させる、式 【化3】 を有する、(R)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンの光学分割方法。 - 【請求項4】請求項2において、化合物(II)を作用
させて、塩を形成させる、式 【化4】 を有する、(S)−1,2,3,4,10,14b−ヘ
キサヒドロジベンゾ[c,f]ピラジノ[1,2−a]
アゼピンの光学分割方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7004732A JPH07247286A (ja) | 1994-01-18 | 1995-01-17 | 含窒素環状化合物の光学分割方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-3348 | 1994-01-18 | ||
| JP334894 | 1994-01-18 | ||
| JP7004732A JPH07247286A (ja) | 1994-01-18 | 1995-01-17 | 含窒素環状化合物の光学分割方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247286A true JPH07247286A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=26336905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7004732A Pending JPH07247286A (ja) | 1994-01-18 | 1995-01-17 | 含窒素環状化合物の光学分割方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07247286A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997027176A1 (en) * | 1996-01-22 | 1997-07-31 | Medeva Europe Limited | Optical resolution of methylphenidate by 0,0'-bisaroyl tartaric acids |
| US6100401A (en) * | 1998-04-20 | 2000-08-08 | Novartris Ag | Process for preparing the d-threo isomer of methylphenidate hydrochloride |
| WO2001038330A1 (en) * | 1999-11-24 | 2001-05-31 | Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. | Anhydrous mirtazapine crystals and process for the production thereof |
| US6242464B1 (en) | 1996-01-22 | 2001-06-05 | Chiroscience Limited | Single isomer methylphenidate and resolution process |
| EP1017695A4 (en) * | 1997-09-26 | 2002-01-16 | Univ Monash | RESOLUTION OF OPTICALLY ACTIVE COMPOUNDS |
| WO2009008303A1 (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 光学活性ミルタザピンの製造方法 |
| JP2009541231A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 多形および方法 |
| JP2021100930A (ja) * | 2009-01-15 | 2021-07-08 | インサイト・ホールディングス・コーポレイションIncyte Holdings Corporation | Jak阻害剤および関連中間化合物の製造方法 |
-
1995
- 1995-01-17 JP JP7004732A patent/JPH07247286A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6531489B2 (en) | 1996-01-22 | 2003-03-11 | Chiroscience, Ltd. | Single isomer methylphenidate and resolution process |
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| US7297790B2 (en) | 1999-11-24 | 2007-11-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Anhydrous mirtazapine crystals and process for preparing the same |
| JP2009541231A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 多形および方法 |
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| US12247030B2 (en) | 2009-01-15 | 2025-03-11 | Incyte Holdings Corporation | Process for preparing compositions comprising an enantiomeric excess of a substituted pyrrolo[2,3-d]pyrimidine |
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