JPH07249281A

JPH07249281A - 磁気ディスク装置

Info

Publication number: JPH07249281A
Application number: JP3829394A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Nakakawaji; 孝行中川路; Saburo Shoji; 三良庄司; Tomoe Takamura; 友恵高村; Shuji Imazeki; 周治今関; Yutaka Ito; 伊藤　　豊; Yoji Inada; 洋二稲田; Toshiyuki Morooka; 寿至師岡; Yuko Murakami; 祐子村上; Juichi Arai; 寿一新井
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-03-09
Filing date: 1994-03-09
Publication date: 1995-09-26

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ディスク上をヘッドが極低浮上で記録，再
生する磁気ディスク装置において、ディスクの回転駆動
力により液体潤滑剤を連続的にディスク表面に供給する
高記録密度の磁気ディスク装置の提供にある。【構成】スピンドルにより回転駆動されるハブ１４に装
着したディスク６と、ディスク６に磁気データを記録，
再生する磁気ヘッド・スライダ１５を備えた磁気トラン
スジューサが、高気密性の容器１内に収容され、容器１
内底部に蓄えた液体潤滑剤１０がハブ１４底部に設けら
れた液体潤滑剤供給手段９のスピンドルの回転駆動によ
りディスク６と磁気ヘッド・スライダ１５間に循環，供
給され、ディスク６と磁気ヘッド・スライダ１５間を潤
滑すると同時にヘッド・スライダを極低浮上させる磁気
ディスク装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の摺動耐
久性が優れた磁気記録再生装置（以下磁気ディスク装置
と云う）に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置は、情報の記録再生装
置として最も汎用性が高く、大型コンピュータをはじめ
パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ等に広く普
及している。こうした磁気ディスク装置の情報記録容量
は年々増大し、特に、高記録密度と高速データ取込みを
必要とするハードタイプの磁気ディスク装置は、近年、
高記録密度化が可能な薄膜磁性媒体が適用されている。

【０００３】磁気ディスクは、ディスクの回転駆動中、
磁気ヘッド・スライダが僅かな空気層を介してディスク
上を浮上し、記録，再生を行なっている。そして、記憶
容量を増大させるため、磁気ヘッドとディスクとの間隔
は狭くなる一方であり、現在、そのヘッドの浮上量は
０.１μｍ程度までに狭くなっている。

【０００４】今後、前記ヘッド浮上量の低下傾向は、磁
気ディスクの記録再生密度の増大と云う要求に伴い、更
に進み、近い将来ナノメータオーダの浮上（極低浮上）
量で記録，再生されることは確実である。

【０００５】極低浮上における記録，再生では、必然的
にヘッドとディスクとの摺動条件も苛酷になり、磁気デ
ィスク表面にフッ素系化合物からなる潤滑層を形成し
て、摺動信頼性を確保する従来の潤滑方式ではもはや十
分ではない。そのため、高摺動信頼性を実現できる新し
い潤滑方式の磁気ディスク装置が要求されている。

【０００６】こうした極低浮上におけるディスクの潤滑
技術としては、薄い液体膜によってヘッドを浮上させる
方法とそれに対応した磁気ディスク装置が提案されてい
る。例えば、液体潤滑剤を含浸させたウイック材により
ディスク表面に液体潤滑剤を連続的に供給する方式が提
案（特開平２−２４９１７７号、同２−１３０７８９
号、同４−１１３５６８号公報）されている。

【０００７】また、特開昭６３−３０８７７５号公報で
はディスクの中心付近に液体潤滑剤を含浸させた領域を
設けて、そこから液体潤滑剤を供給している。更にま
た、特開平２−２６０１１１号公報では微小開気胞を有
する保護膜をディスク表面に形成し、この保護膜に液体
潤滑剤を含浸させる方式が提案されている。

【０００８】特開平５−１５９５３２号、同５−１５１
７３５号公報では、ハブのディスク取付け部近傍に設置
した潤滑剤リザーバより潤滑剤を供給する方式が提案さ
れている。特開平３−１１９５８０号公報では装置内に
蓄えた液状潤滑剤槽にディスクを浸漬し、ディスクの回
転により潤滑剤を供給する方式を提案している。

【０００９】液体膜によりヘッドを浮上させる上記の各
技術は、空気膜より液体膜の方が膜としての剛性が高い
ため、極低浮上領域でも比較的安定にヘッドを浮上させ
ることが可能である。また、仮りにヘッド・スライダが
強く摺動して液体膜が剥ぎ取られても、液体潤滑剤が摺
動部に補給されるため低摩擦、低摩耗を維持できると考
えられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の各方式
でも、塵埃や液体供給系がもたらすモータへの過負荷、
装置構造の複雑さ、並びに長期の安定供給が困難等の問
題が懸念され、現在、液体潤滑剤を連続して安定供給で
きる有効な手段が見当らないのが実情である。

【００１１】薄い液体膜によってヘッドを極低浮上させ
て記録，再生する場合、低粘度の液体を使用し、かつ、
液体がスピンオフすることなく長期にわたってディスク
表面に担持されなくてはならない。しかし、一般に低粘
度の液体ほどスピンオフし易く、さらに装置の温度の上
昇に伴って液体の粘度は低下するため、液体をディスク
表面に担持することは極めて困難である。

【００１２】安定した極低浮上を維持するには、液体を
ディスク表面に常に供給する方式が有効である。こうし
たものとしては前記特開平２−２４９１７７号公報等で
提案されているディスク表面にウイック材により液体を
供給する方式がある。薄い液体膜による浮上方式では、
液体を連続的に供給することにより液体膜で常に摺動面
を被覆し、剥離した液体膜は瞬時に修復できる上で有効
と考えられる。

【００１３】こうした液体供給方式では、ディスク表面
に液体を安定供給する手段が最も重要な技術課題とな
る。しかし、前記のウイック材による潤滑剤の供給方式
では、ウイック材の摩耗片の発生や、ウイック材とディ
スク面との接触による過負荷が懸念される。

【００１４】また、前記のディスクやディスク近傍に潤
滑剤を含浸しておき供給する方式では、長期間の高速回
転により液切れを生じるため、液体潤滑剤を定期的に補
充しなくてはならない。さらに、液体潤滑方式で極低浮
上を達成しようとすると、低粘度の液体潤滑剤を用いな
くてはならないため、スピンオフによる液切れが生ず
る。

【００１５】従って、液体供給方式による潤滑系では、
液体潤滑剤をディスク表面に長期わたり安定に供給でき
る液体供給手段が必要であり、かつ、その供給手段や液
体が磁気ディスク装置の駆動部や記録再生部に対し、影
響を及ぼさないことが必要である。

【００１６】本発明の第１の目的は、極低浮上での苛酷
な摺動条件を克服できる液体潤滑剤供給方式の磁気ディ
スク装置を提供することにある。

【００１７】本発明の第２の目的は、液体潤滑剤をディ
スク表面に長期わたり安定に供給でき、駆動部や記録再
生部に影響を及ぼさない液体潤滑剤供給手段を備えた小
型でコンパクトな磁気ディスク装置を提供することにあ
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成できる本
発明の要旨は次のとおりである。

【００１９】（１）回転駆動されるハブに装着した磁
気ディスクと、前記磁気ディスクに磁気データを記録，
再生する磁気ヘッド・スライダを備えた磁気トランスジ
ューサが、高気密性容器内に収納され、前記容器内底部
に蓄えた液体潤滑剤が前記ハブ底部に設けられた液体潤
滑剤供給手段のスピンドルによる回転駆動により前記磁
気ディスクと磁気ヘッド・スライダ間に循環，供給さ
れ、前記磁気ディスクと磁気ヘッド・スライダ間を潤滑
すると同時に前記磁気ヘッド・スライダを浮上させるこ
とを特徴とする磁気ディスク装置にある。

【００２０】（２）前記液体潤滑剤供給手段により前
記容器内底部に蓄えた液体潤滑剤が前記スピンドルによ
る回転駆動により吸引，加圧され、前記ハブ内を通って
磁気ディスク表面に供給され、前記容器内底部の液体潤
滑剤蓄え部に循環するよう構成されている。

【００２１】（３）前記液体潤滑剤供給手段が前記ス
ピンドルにより回転駆動される圧力発生用フィンを備
え、前記液体潤滑剤供給手段に設けられた液体潤滑剤取
込み孔が逆止弁を有し、磁気ディスク表面への液体潤滑
剤を供給する各供給口が、各磁気ディスク面へ供給する
液体潤滑剤供給量をほぼ均等にする絞りが形成されてい
る。

【００２２】（４）前記容器内底部に蓄えた液体潤滑
剤が、前記スピンドルによる回転駆動される前記液体潤
滑剤供給手段により磁気ヘッド・スライダ部から前記磁
気ディスクと磁気ヘッド・スライダの摺動部に循環，供
給する給油手段を備えている。

【００２３】（５）前記液体潤滑剤供給手段に設けら
れた液体潤滑剤取込み孔に逆止弁が設けられている。

【００２４】（６）前記液体潤滑剤供給手段に液体潤
滑剤を濾過するフィルタが設けられている。

【００２５】本発明の極低浮上で記録，再生を行う磁気
ディスク装置は、ディスクの起動により装置下部の液体
潤滑剤蓄え部からハブ内を通し、あるいは磁気ヘッド・
スライダ部に液体潤滑剤が送られディスク表面に供給さ
れる。液体潤滑剤はディスク駆動中は連続的に循環，供
給されるため、ディスク表面は常に一定量の液体潤滑剤
膜が形成され、ヘッドは安定した極低浮上を維持するこ
とができ、長期にわたって高記録密度を実現できる。

【００２６】また、ディスクとスライダの接触摺動によ
って液体潤滑膜が剥離された場合でも、ディスク表面に
連続して供給される液体潤滑剤により潤滑膜が瞬時に修
復されるので、ヘッドまたはディスクの摩耗を防ぎ、記
録，再生を行うことができる。

【００２７】さらにまた、磁気トランスジューサが気密
性の高いディスクドライブ容器内に収納されているた
め、液体潤滑剤の散逸が極めて少なく、液体潤滑剤の補
充を必要としない。

【００２８】本発明における液体潤滑剤は、装置の各部
材を汚染，腐食したり溶解する等の悪影響を及ぼさず潤
滑性に優れ、かつ、極低浮上を実現するため低粘度の液
体が望ましい。こうした性能を有する液体潤滑剤として
は、フッ素系液体潤滑剤が最適である。なお、フッ素系
液体潤滑剤は、仮りに漏洩しても地球環境（オゾン層）
の破壊を防ぐため、フロン規制対象外のものを用いる。

【００２９】上記フッ素系液体潤滑剤の具体例として
は、パーフロロカーボン系溶剤、例えば、商品名ＦＣ７
２（住友３Ｍ社製），商品名ＦＣ７５，商品名ＦＣ７７
等が挙げられる。また、下記に示すパーフロロポリエー
テル系潤滑剤が挙げられ、

【００３０】

【化１】Ｒｆ−ＣＯＯＨＨＯＯＣ−Ｒｆ−ＣＯＯＨ（Ｒｆはパーフロロポリオキシアルキル基またはパーフ
ロロポリオキシアルキレン基）、例えば、

【００３１】

【化２】Ｆ(ＣＦ(ＣＦ₃)ＣＦ₂−Ｏ−)x−Ｃ₂Ｆ₄− Ｆ(Ｃ₃Ｆ₆−Ｏ−)x−(ＣＦ₂Ｏ)y−(ＣＦ₂)ｚ− −(ＣＦ₂Ｏ)x−(Ｃ₂Ｆ₄Ｏ)y−(Ｃ₃Ｆ₆Ｏ)₃−ＣＦ₂− （ｘは５〜５０、ｙは５〜５０、ｚは５〜５０の整数を
示す）等が望ましい。なお、これらのフッ素系液体潤滑
剤に限定されるものではない。

【００３２】

【作用】本発明においては、液体潤滑剤をディスク表面
に連続的に供給することにより、空気ベアリングでは安
定浮上が困難であった極低浮上領域（３０ｎｍ以下）で
も、液体の高い膜剛性により極低浮上が可能となり、高
記録密度化を実現できる。

【００３３】また、ヘッドとディスクが接触摺動しても
常に供給される液体潤滑剤により、摺動部の修復が瞬時
に行われ、低摩擦，低摩耗を維持することができる。

【００３４】また、本発明においては、スピンドルによ
る回転力を直接利用した液体潤滑剤の供給手段を備えて
いるため、特別な装置や動力源を別途に設ける必要が無
く、従って、コンパクトな磁気ディスク装置を得ること
ができる。

【００３５】

【実施例】

〔実施例１〕図１はディスク・ドライブの断面図を示
す。線形ボイスコイルモータによって駆動されるアクチ
ュエータ３では、一般的なウィンチェスタあるいはホイ
ットニー型のヘッドサスペンション４を駆動する。ヘッ
ド・アッセンブリは、ディスク表面から飛散した液体潤
滑剤１０を、ハブ１４の下部に設けられたスクリュ−型
圧力発生用フィン９を有する圧力発生室１１を通して、
再度、ハブ１４内に取込むためにハブ１４の中心に向か
って傾斜し底部が円錐形状に形成されたカバー１がベー
ス２上に設けられている。

【００３６】また、カバー１の上部には液体潤滑剤の蒸
発，散逸を防止するためカバーキャップ１’がガスケッ
ト７を挾んでカバー１に取付けられており、気密性を確
保している。カバー１の下部には、ハブ１４中を通して
ディスク６表面に循環，供給する液体潤滑剤１０が蓄え
られいる。

【００３７】ディスク６はハブ１４によって支持されて
おり、ハブ１４は装置下部に設けられたスピンドル・モ
ータ５に取付けられこれと一体に回転される。カバー１
の下部とスピンドル・モータ５とはメカニカルシール１
６によりシールされている。

【００３８】ハブ１４内の下部には液体潤滑剤１０を取
込むスクリュー型圧力発生用フィン９が内蔵され、ハブ
１４の回転により吸引，加圧された液体潤滑剤１０を液
体潤滑剤供給孔８を経てディスク６の各表面に供給する
ための圧力発生室１１が設けてある。圧力発生室１１
は、前記円錐形状に形成されたカバー１に蓄えられてい
る液体潤滑剤１０中に浸漬されている。また、圧力発生
室１１の側壁２２には、ディスク６から回収された液体
潤滑剤１０の逆流を防ぐ逆流防止弁１２を有する液体潤
滑剤取込み孔１３が設けられている。

【００３９】スピンドル・モータ５が回転駆動し、ハブ
１４とディスク６とが一体に回転すると、圧力発生室１
１内の液体潤滑剤は、スクリュー型圧力発生用フィン９
により加圧され、液体潤滑剤供給孔８に送られて、ディ
スク６の表面に合わせ水平方向に設けられた液体潤滑剤
供給孔８’を通して各ディスク面に供給され、回転によ
る遠心力によりディスク表面に供給される。なお、循
環，供給される液体潤滑剤１０は、液体潤滑剤供給孔８
の途中に設けたフィルタ１７により塵埃等が取除かれ
る。

【００４０】ここで、ディスク６の下表面側では供給さ
れる液体潤滑剤は、ディスクの回転速度によっては滴下
して上面より液体潤滑剤の供給量が少なくなり、ヘッド
・スライダの浮上量に差がでることもある。そのとき
は、下面の液体潤滑剤の供給量を多くなるよう下面側の
液体潤滑剤供給孔８’の径を大きくする。

【００４１】また、液体潤滑剤はハブ１４の下部より加
圧供給されるため上部のディスクほど液体潤滑剤の供給
量が少なくなることもある。そのときは上部の液体潤滑
剤供給孔８の径を大きくすることによりディスク各面で
の液体潤滑剤の供給量を一定にすることができる。

【００４２】上記によりヘッド・スライダ１５の浮上量
を２０ｎｍ程度とすることが可能であり、高密度の記
録，再生を行うことができる。

【００４３】次に、ディスク面から回転飛散した液体潤
滑剤は、ハブ下部の液体潤滑剤蓄え部に回収され、再
度、ディスク表面に供給される。

【００４４】本実施例の液体潤滑剤１０は、ヘッドやア
クチュエータ３等の電子部品に悪影響を及ぼさず、熱
的，化学的に安定で、フロン規制対象外のフッ素系液体
潤滑剤〔１〕（商品名ＦＣ７２：住友３Ｍ社製）を使用
した。

【００４５】〔実施例２〕図２に本発明の他の実施例
の装置断面図を示す。本実施例の特徴は、実施例１のス
クリュー型圧力発生用フィン９の効率を上げるために平
型圧力発生用フィン１８を用いた点にある。平型圧力発
生用フィン１８は、前記のスクリュー型圧力発生用フィ
ン９と比較して圧力発生翼を多く備えているため高効率
で、作製も容易であると云うメリットがある。

【００４６】実施例１と同様に、液体潤滑剤１０はディ
スクの回転によりディスク表面に供給され、ヘッド・ス
ライダ１５を浮上させ、記録再生を行なうことができ
る。

【００４７】なお、本実施例でも実施例１と同様なフッ
素系液体潤滑剤〔２〕（商品名ＦＣ７５：住友３Ｍ社
製）を使用した。

【００４８】〔実施例３〕図３に本発明の他の実施例
の装置断面図を示す。本実施例の特徴は、ハブ１４の下
部に設けた平型圧力発生用フィン１８により加圧された
液体潤滑剤１０を、液体潤滑剤供給管１９を通してハブ
１４上部より液体潤滑剤供給孔８に送られディスク表面
に供給される点にある。また、液体潤滑剤取込み孔１３
と液体潤滑剤供給管１９を有する圧力供給室の側壁２２
がベース２上に固定され、回転しない構造となってい
る。すなわち、圧力発生室は遠心ポンプ構造である。な
お、液体潤滑剤１０は、液体潤滑剤供給管１９の途中に
設けられたフィルタ２０により濾過される。

【００４９】本実施例の液体潤滑剤供給方式では、液体
潤滑剤供給管１９を別個に設けるため装置の構造が複雑
になるが、ディスクやハブを解体せずに液体潤滑剤やフ
ィルタの交換ができるので、メンテナンス上優れてい
る。なお、本実施例は、液体潤滑剤〔３〕（商品名ＦＣ
７７：住友３Ｍ社製）を使用した。

【００５０】〔実施例４〕図４に本発明の他の実施例
の装置断面図を示す。本実施例の特徴は、実施例３と同
様に液体潤滑剤１０を、一旦、ハブ１４の外に送り、ヘ
ッド・スライダ１５を介してディスク６との界面に供給
する方式である。

【００５１】ヘッド・スライダ部への供給管であるフレ
キシブルチューブ２１までの液体潤滑剤の供給構造は実
施例３と同じである。フレキシブルチューブ２１を使用
したのは、ヘッド・スライダ１５がディスク面上をトラ
ック移動（シーク動作）する動作に追従できるようにし
たためである。

【００５２】本実施例は、実施例１〜３に比べてディス
ク６の上下面での液体潤滑剤の供給量の調整は、各ヘッ
ド／ディスク間に直接液体潤滑剤を圧送するため、特に
必要としない。また、ハブ構造も単純であり、液体潤滑
剤やフィルタの交換などメンテナンスの上で有利であ
る。なお、本実施例では前記液体潤滑剤〔１〕を用い
た。

【００５３】〔実施例５〕前記の実施例１〜４に示す
液体潤滑剤のディスク表面の摺動耐久性を実証するた
め、実施例１の磁気ディスク装置と同様な基本構造のモ
デル実験装置を用い、液体潤滑剤を連続供給した場合
と、無供給の場合のヘッド・スライダとディスクとの間
の摩擦係数を測定し比較した。

【００５４】図５にモデル実験装置の断面図を示す。ス
ピンドル下部には、実施例１と同様なスクリュー型圧力
発生用フィン９を備えた圧力発生室１１があり、液体潤
滑剤１０はスピンドルと一体に回転するスクリュー型圧
力発生用フィン９により加圧されて液体供給孔８を通
し、ディスク６表面に連続的に供給される。

【００５５】ヘッド・スライダ１５とディスク６間の摩
擦係数は、ヘッド・スライダ１５およびヘッドサスペン
ション４をロードセル２４により支持して測定した。な
お、ディスク６としてはアルミ基板上に薄膜の下地膜、
磁性層、保護膜を順にスパッタ法により形成したスパッ
タ型磁気ディスクを用いた。また、ヘッド・スライダ１
５にはＡｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣからなるものを用いた。

【００５６】図６は、測定結果を示すグラフである。液
体潤滑剤を連続供給した場合（液体潤滑剤供給方式）の
摩擦係数が０.１以下と極めて低いのに対し、無供給の
場合の摩擦係数は０.４〜０.９と高く、かつ、潤滑状態
も極めて不安定である。また、実験後、両サンプルの摺
動部を顕微鏡観察した結果、液体潤滑剤を連続供給した
ディスクの表面には摩耗痕が全く観察されないのに対
し、無供給のディスクの表面には保護膜に摩耗痕が観察
された。

【００５７】以上の各実施例から明らかなように、本発
明の液体潤滑方式の磁気ディスク装置は、極低浮上（浮
上量１０〜３０μｍ）用として極めて有効なことが分か
る。

【００５８】

【発明の効果】本発明の液体潤滑剤をディスク表面に連
続供給する方式の磁気ディスク装置は、極低浮上（浮上
量１０〜３０μｍ）の苛酷な摺動条件において低摩擦
で、かつ、耐摩耗性を実現できる。また、液体潤滑剤を
装置内部に蓄え、ディスクの回転駆動力を利用するため
循環，供給でき、これまでのように液体潤滑剤の供給装
置を外部に別に設けないので、小型でコンパクトな磁気
ディスク装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ディスク装置の断面図である。

【図２】実施例２の磁気ディスク装置の断面図である。

【図３】実施例３の磁気ディスク装置の断面図である。

【図４】実施例４の磁気ディスク装置の断面図である。

【図５】実施例５のモデル実験装置の断面図である。

【図６】実施例５の実験結果を示すグラフである。

【符号の説明】

１…カバー、１’…カバー蓋、２…ベース、３…アクチ
ュエータ、４…ヘッドサスペンション、５…スピンドル
・モータ、６…ディスク、７…ガスケット、８，８'…
液体潤滑剤供給孔、９…スクリュー型圧力発生用フィ
ン、１０…液体潤滑剤、１１…圧力発生室、１２…逆流
防止弁、１３…液体潤滑剤取込み孔、１４…ハブ、１５
…ヘッド・スライダ、１６…メカニカルシール、１７,
２０…フィルタ、１８…平型圧力発生用フィン、１９…
液体潤滑剤供給管、２１…フレキシブルチューブ、２２
…側壁、２３…モータ、２４…ロードセル、２５…ベア
リング。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者今関周治茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者伊藤豊茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者稲田洋二茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者師岡寿至茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者村上祐子茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者新井寿一茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回転駆動されるハブに装着した磁気ディ
スクと、前記磁気ディスクに磁気データを記録，再生す
る磁気ヘッド・スライダを備えた磁気トランスジューサ
が、高気密性容器内に収納され、前記容器内底部に蓄え
た液体潤滑剤が前記ハブ底部に設けられた液体潤滑剤供
給手段のスピンドルによる回転駆動により前記磁気ディ
スクと磁気ヘッド・スライダ間に循環，供給され、前記
磁気ディスクと磁気ヘッド・スライダ間を潤滑すると同
時に前記磁気ヘッド・スライダを浮上させることを特徴
とする磁気ディスク装置。
【請求項２】前記液体潤滑剤供給手段により前記容器
内底部に蓄えた液体潤滑剤が前記スピンドルによる回転
駆動により吸引，加圧され、前記ハブ内を通って磁気デ
ィスク表面に供給され、前記容器内底部の液体潤滑剤蓄
え部に循環するよう構成されている請求項１に記載の磁
気ディスク装置。
【請求項３】前記液体潤滑剤供給手段が前記スピンド
ルにより回転駆動される圧力発生用フィンを備え、前記
液体潤滑剤供給手段に設けられた液体潤滑剤取込み孔が
逆止弁を有し、磁気ディスク表面への液体潤滑剤を供給
する各供給口が、各磁気ディスク面へ供給する液体潤滑
剤供給量をほぼ均等にする絞りが形成されている請求項
２に記載の磁気ディスク装置。
【請求項４】前記容器内底部に蓄えた液体潤滑剤が、
前記スピンドルによる回転駆動される前記液体潤滑剤供
給手段により磁気ヘッド・スライダ部から前記磁気ディ
スクと磁気ヘッド・スライダの摺動部に循環，供給する
給油手段を備えている請求項１に記載の磁気ディスク装
置。
【請求項５】前記液体潤滑剤供給手段に設けられた液
体潤滑剤取込み孔に逆止弁が設けられている請求項４に
記載の磁気ディスク装置。
【請求項６】前記液体潤滑剤供給手段に液体潤滑剤を
濾過するフィルタが設けられている請求項１〜５のいず
れかに記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】前記液体潤滑剤の粘度が１ｃＳｔ以下で
ある請求項１〜６のいずれかに記載の磁気ディスク装
置。
【請求項８】前記液体潤滑剤がフッ素系液体潤滑剤で
ある請求項７に記載の磁気ディスク装置。