JPH07253304A - 多軸位置決めユニットおよびこれにおける測長方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】小型の移動鏡を用いて大型のワークの全範囲に
わたり高精度に測定することができる多軸位置決めユニ
ットを提供する。 【構成】各々独立にＸ軸方向の測長を行なう複数本の測
長光５ａ〜５ｄをほぼ平行に、かつステージ９がＹ軸方
向に移動しても常に測長光の少なくとも１本が移動鏡８
ａに照射されているように配置する。同時に、Ｙ軸方向
のステージ移動を測定する少なくとも１本の測長光６ａ
を設け、この測長値と前記複数の測長光の位置とを照合
することにより、移動鏡８ａに照射している測長光がど
の測長光かを認識する。この認識された測長光による測
長値によりＸ軸方向のステージ位置が求められる。ステ
ージ９がＹ軸方向に移動した場合、移動前に測長してい
た測長光による測長値を、移動鏡８ａの移動につれてこ
の測長光と同時に移動鏡８ａを照射するようになった測
長光の測長値の初期値として受け渡す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体露光装置や３次元
座標測定装置などに応用され、特に高精度で広範囲に測
定を行なう多軸位置決めユニットに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図６は、半導体露光装置や３次元座標測
定機などで用いられる従来の高精度位置決めユニットの
構成例を示している。測長用のレーザ光源１から射出さ
れる測長光を反射するための、Ｘ−Ｙ移動ステージ９の
移動と共に移動する反射鏡（以下、移動鏡と称する）が
２つ、その反射面８ａ，８ｂがそれぞれＸ軸、Ｙ軸と直
角になるようにＸ−Ｙ移動ステージ９に固定されてい
る。この２つの移動鏡の反射面を座標系の基準平面とし
て、レーザ干渉測長装置により移動ステージ９の各座標
方向の移動量の測定を行なっている。本図のようにＸ軸
の測長に２本（５ａ、５ｂ）の測長光を配した場合に
は、ステージ９の移動量に加えてその傾きの測定も行な
うことができる。したがって、もし移動鏡の反射面に凹
凸が存在した場合、実際のステージ９の移動量とレーザ
干渉測長装置によるステージ９の移動量の測定値とに誤
差が生じるため、移動鏡の反射面の平面度は、ステージ
９の位置決め精度を決める非常に重要な要因である。そ
のため位置決め精度をよくするには、移動鏡の反射面の
平面度を必要となるステージの位置決め精度より良くし
ておくか、あるいはあらかじめ移動鏡の反射面の形状を
測定し、そのデータによりステージ位置の測定値の補正
をするという方法を取っている。

【０００３】また、従来のこのような位置決めユニット
の構成においては、移動ステージ９がＸあるいはＹ方向
に移動しても移動鏡が常にレーザ干渉測長装置からの測
長光を反射し続けるように、移動鏡の寸法はＸ−Ｙ移動
ステージ９の各軸方向の可動範囲以上の大きさが必要と
なる。すなわち、大型のワークを位置決めユニットの移
動ステージ９に乗せて広い範囲でステージ９の位置決め
をするためには、ワークの大きさ以上の大きさの移動鏡
が必要となる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような理由から、
短波長用光学素子の加工や計測等の用途で、より大型の
ワークを載せたステージをより高精度に位置決めする必
要が高まるにつれ、従来の位置決めユニットの構成では
高精度の形状精度を持つ大型の移動鏡が必要となる。

【０００５】しかし、ワークが大型化するにつれ、大型
の移動鏡を必要とすること、その大型の移動鏡全体を必
要な精度で加工または測定すること、さらに振動や撓み
を避けて必要な形状精度で保持することが困難になる。

【０００６】本発明は、このような従来の問題に鑑みて
なされたものであり、その目的は、小型の移動鏡を用い
て大型のワークの全範囲にわたり高精度に測定すること
ができる多軸位置決めユニットを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による多軸位置決めユニットは、少なくとも
第１軸方向および該第１軸方向に略直角な第２軸方向に
移動する移動ステージと、略平行な複数本の測長光を有
し、前記第１軸方向における前記移動ステージの位置の
測定を行なう第１のレーザ干渉測長装置と、前記移動ス
テージに固定され、前記第１のレーザ干渉測長装置の複
数本の測長光のうち、前記移動ステージの前記第２軸方
向の移動に伴って、順次異なる少なくとも１本の測長光
を受ける第１の移動鏡と、少なくとも１本の測長光を有
し、前記第２軸方向における前記移動ステージの位置の
測定を行なう第２のレーザ干渉測長装置と、前記移動ス
テージに固定され、前記第２のレーザ干渉測長装置の少
なくとも１本の測長光を常時受ける第２の移動鏡と、該
第２のレーザ干渉測長装置の測長値に基づいて、現在前
記第１の移動鏡が前記第１のレーザ干渉測長装置のいず
れの測長光を受けているかを判定し、当該測長光により
前記第１のレーザ干渉測長装置の測長結果を得る演算手
段とを備えたものである。

【０００８】この多軸位置決めユニットにおいて、前記
第１のレーザ干渉測長装置の複数の測長光は、そのうち
隣接する少なくとも２本が前記移動ステージの特定位置
において前記第１の移動鏡を同時に照射するよう配置さ
れ、前記演算手段は、前記移動ステージの特定位置にお
いて、前記第１のレーザ干渉測長装置の隣接する２本の
測長光を同時に受けたとき、先に受けていた測長光によ
る測長値により新たに受けた測長光による測長値の初期
値を定めることが好ましい。

【０００９】

【作用】前述の問題を解決するための本発明の原理を説
明する。

【００１０】各々独立に第１軸（Ｘ軸）方向の測長を行
なうレーザ干渉測長装置からの複数本の測長光をほぼ平
行に、かつ移動ステージが第２軸（Ｙ軸）方向に移動し
ても常に測長光の少なくとも１本が第１の移動鏡に照射
されているように配置する。さらに、第２軸方向のステ
ージ移動を測定する少なくとも１本の測長光を設け、こ
の測長値とあらかじめ得ておいた前記複数の測長光の光
線の位置とを照合することにより、第１の移動鏡に照射
している測長光がどの測長光かを認識する。この認識さ
れた測長光による測長値により第１軸方向の測長値が得
られる。

【００１１】移動ステージが第２軸方向に移動した場
合、移動前に移動鏡位置を測長していた測長光による測
長値を、第１の移動鏡の移動につれてこの測長光と同時
に第１の移動鏡を照射するようになった測長光の測長値
の初期値として受け渡す。移動鏡の移動にしたがってこ
の手順を繰り返すことにより、第２軸方向に第１の移動
鏡がその寸法以上に移動しても第１軸方向のステージ位
置の測定値を連続して得ることが可能となる。

【００１２】これにより、小型の移動鏡を用いても、大
型のワークの全範囲にわたり、測定を行なうことができ
る。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の多軸位置決めユニットの実施
例について、図面により詳細に説明する。

【００１４】図１は、本発明によるＹ軸方向に広い移動
範囲を持つ位置決めユニットの実施例である。本装置
は、レーザ干渉測長装置、移動鏡８ａ，８ｂ、Ｘ−Ｙ移
動ステージ９、および演算装置１０により構成されてい
る。レーザ干渉測長装置は、Ｘ−Ｙ移動ステージ９のＸ
軸方向位置を測長するためのＸ軸レーザ干渉測長装置
と、Ｙ軸方向位置を測長するためのＹ軸レーザ干渉測長
装置とからなる。Ｘ軸レーザ干渉測長装置は、レーザ光
源１ａ、ビームスプリッタ２ａ〜２ｄ、検出器３ａ〜３
ｄ、干渉計ユニット４ａ〜４ｄからなる。Ｙ軸レーザ干
渉測長装置は、レーザ光源１ｂ、検出器３ｉ、干渉計ユ
ニット４ｉからなる。演算装置１０は、両軸レーザ干渉
測長装置に共用される。

【００１５】図９に、演算装置１０の構成例を示す。演
算装置１０は、一般的な電子計算機、もしくはパーソナ
ルコンピュータにより構成することができる。すなわ
ち、その主要構成要素として、図示のように、検出器３
（３ａ〜３ｄ、３ｉを総称）から検出結果を受ける入出
力制御装置９１と、これらのデータおよび処理プログラ
ムを格納するメモリ９２と、この処理プログラムを実行
してデータの処理を行なう中央処理装置（ＣＰＵ）９３
と、この処理結果を表示画面に表示する表示装置９４と
を備える。

【００１６】図１に戻り、Ｘ軸レーザ干渉測長装置にお
いて、レーザ光源１ａより射出されたレーザ光はビーム
スプリッタ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄにより干渉計ユニッ
ト４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄに分配される。それぞれのレ
ーザ光は、干渉計ユニット（図示しないビームスプリッ
タと固定鏡とからなる）４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ内のビ
ームスプリッタで２分割され内部の固定鏡に向かう光線
と、Ｘ−Ｙ移動ステージ９に固定された移動鏡８ａに向
かう光線に分けられる。Ｘ軸レーザ干渉測長装置の各構
成要素は、その測長光５ａ〜５ｄがほぼ平行に射出さ
れ、かつＸ−Ｙ移動ステージ９がＹ軸方向に移動しても
常に測長光５ａ〜５ｄの少なくとも１つが移動鏡８ａに
照射されているように配置される。図示の状態では、移
動鏡８ａで反射した測長光は、再び干渉計ユニット４
ａ、４ｂに入り、干渉計ユニット４ａ，４ｂで各々内の
固定鏡からの光線と干渉し、検出器３ａ、３ｂに入射し
て干渉計ユニット３ａ，３ｂと移動鏡８ａとの間隔を測
長する。

【００１７】Ｙ軸レーザ干渉測長装置においても、レー
ザ光源１ｂより出た光線（測長光６ａ）も同様にして干
渉計４ｉとＸ−Ｙ移動ステージ９に固定された移動鏡８
ｂの間隔を測定する。このＹ軸方向のステージ９の位置
情報は、Ｘ軸測長のどの測長光が移動鏡８ａに照射され
ているかを検知するためにも利用される。すなわち、こ
のＹ軸測長値とあらかじめ得ておいた測長光５ａ〜５ｄ
の光線の位置とを照合し、移動鏡８ａに照射している測
長光がいずれの測長光かを識別する。

【００１８】図１に示した状態において、ステージ９が
Ｙ軸方向に移動した場合、移動前に移動鏡位置を測長し
ていた測長光５ａの測長値を、移動鏡８ａの移動につれ
て測長光５ａと同時に移動鏡８ａを照射するようになっ
た測長光５ｂの測長値として受け渡す。測長値を「受け
渡す」ことが必要となる理由は次のとおりである。すな
わち、この種の測長装置は、ステージのある位置から他
の位置への相対的な移動量を測定するものであり、この
例のように、突如、移動鏡８ａを照射するようになった
測長光５ｂのみによってはその時点のステージ位置は知
りえないからである。移動鏡８ａの移動にしたがってこ
の手順を繰り返すことにより、Ｙ軸方向に移動鏡８ａが
その寸法以上に移動してもＸ軸方向のステージ位置の測
定値を連続して得ることが可能となる。

【００１９】これらの測長値を演算装置１０に取り込
み、前項で述べた方法によりステージの位置を得る。

【００２０】図７のフローチャートにより、図１の装置
のステージ位置の測定の手順を説明する。

【００２１】まず、ステージ９を予め定めた初期位置に
移動させ、各測長光の測長値をリセット（初期化）する
（７１）。この初期位置からの、Ｘ、Ｙ、両軸方向の移
動量が測長装置により求まる。以下のステップ７２から
７８は周期的に実行される。ステップ７２においてステ
ージを移動させる。このステージ移動は、自動、手動の
いずれで行なってもよい。Ｙ軸方向のステージ位置を検
出する測長光６ａにより、ステージＹ座標値を算出する
（７３）。次いで、この得られたステージＹ座標値に基
づいて、測長光５ａ〜５ｄのどの測長光が移動鏡８ａに
当たっているかを認識する。この認識は、移動鏡８ａの
移動鏡８ｂに対する位置および大きさ、各測長光５ａ〜
５ｄのＹ軸方向位置が予め分かっていることから、容易
に行なえる。移動鏡８ａに測長光が１本のみ当たってい
る場合（７５、Ｎｏ）、当たっているビームの測長値を
ステージのＸ座標値として（７６）、ステップ７２に戻
る。

【００２２】ステップ７５において、測長光が同時に２
本当たっていると判断された場合、ステージの移動によ
り新たに移動鏡８ａに当たった測長光の測長値を、同時
に移動鏡８ａに当たっているもう一方の測長光の測長値
を用いてリセットする（７７）。すなわち、先に移動鏡
８ａに当たっている測長光の測長値を新たに移動鏡８ａ
に当たるようになった測長光の測長値として受け渡す。
同時に、この測長値をＸ座標値とする（７８）。続い
て、ステップ７２に戻る。新たに移動鏡８ａに当たるよ
うになった測長光による測長値は、受け渡された測長値
を基準にして、ステージの移動に伴い増減する。

【００２３】図１の装置は、所望の既知の位置にステー
ジを移動させる目的にも、あるいは任意の未知の位置に
あるステージの位置を検出する目的にも利用できる。後
述する他の実施例においても、同じである。

【００２４】図２は、移動鏡８ａに常に２本以上の測長
光が当たるように測長光５ａ〜５ｄを配置することによ
り、Ｘ−Ｙ移動ステージ９のＺ軸まわりの回転（傾き
量）も把握出来るようにした構成の、本発明の他の実施
例である。ステージ９は、Ｚ軸周りの回転を行なえるよ
うにはなっていないが、ステージ９の微小な傾きやがた
つきが存在しうる。より高精度な測長を行なうには、こ
のような微小なＺ軸周りの回転をも検出することが好ま
しい。

【００２５】図２の例で、Ｘ−Ｙ移動ステージ９がレー
ザ光源ｂ側に近い側から遠い側へ向けてＹ方向に移動し
て行く場合を考える。最初、測長光５ａと５ｂとが同時
に移動鏡８ａを照射している。ステージ９が移動するに
つれ、測長光５ｃが測長光５ａ、５ｂと同時に移動鏡８
ａを照射しはじめる。このとき、測長光５ａおよび５ｂ
の測長値と、あらかじめ得ておいた測長光５ａと５ｂの
間隔長さ、測長光５ｂと５ｃの間隔長さとによって、測
長光５ｃの測長値を外挿によって決定する。この外挿処
理において、移動鏡８ａは小型なので、その反射面はリ
ニアな傾きを有するとみなす。Ｘ−Ｙ移動ステージ９の
Ｙ軸方向への移動に伴いこの手順を繰り返すことによ
り、Ｘ−Ｙ移動ステージ９の座標値とともにＺ軸まわり
の回転量も把握することが可能となる。

【００２６】図８のフローチャートにより、図２の実施
例におけるステージ位置の測定手順を説明する。

【００２７】まず、ステージ９を予め定めた初期位置に
移動させ、各測長光の測長値をリセットする（８１）。
そこで、ステージを移動させる（８２）。Ｙ軸方向のス
テージ位置を検出する測長光６ａにより、ステージＹ座
標値を算出する（８３）。次いで、この得られたステー
ジＹ座標値に基づいて、測長光５ａ〜５ｈのどの測長光
が移動鏡８ａに当たっているかを認識する。この認識
は、移動鏡８ａの移動鏡８ｂに対する位置および大き
さ、各測長光５ａ〜５ｈのＹ軸方向位置が予め分かって
いることから、容易に行なえる。移動鏡８ａに測長光が
２本のみ当たっている場合（８５、Ｎｏ）、当たってい
る２本のビームの測長値からステージのＸ座標値および
傾き量を求めて（８６）、ステップ８２に戻る。ステッ
プ８６において、Ｘ座標値は、２本のビームのうち予め
定めた方（例えばレーザ光源１ａから遠い方）の測長値
を求める。この代わりに、両者の平均値を用いてもよ
い。

【００２８】ステップ８５において、測長光が同時に３
本同時に当たっていると判断された場合、先に移動鏡８
ａに同時に当たっている２本の測長光の測長値を用いて
３本目の測長光の測長値を外挿により計算し、ステージ
の移動により新たに移動鏡８ａに当たった測長光の測長
値を、その計算値でリセットする（８７）。すなわち、
先に移動鏡８ａに当たっている測長光により得られた測
長値を新たに移動鏡８ａに当たるようになった測長光の
測長値として受け渡す。同時に、移動鏡８ａに当たって
いる３本の測長光の測長値のうちの予め定めた２つを用
いて、ステージのＸ座標値および傾き量を求める（８
８）。この場合のＸ座標値も、ステップ８６と同様にし
て求める。続いて、ステップ８２に戻る。新たに移動鏡
８ａに当たるようになった測長光による測長値は、受け
渡された測長値を基準にして、ステージの移動に伴い増
減する。

【００２９】図３は、Ｘ、Ｙ軸両方向に広い移動範囲を
持ち、Ｚ軸まわりの回転量も把握できるＸ−Ｙ移動ステ
ージの測長光と移動鏡の配置の本発明の第３の実施例の
平面図である。この実施例では、移動鏡８ａに対して測
長光５ａ〜５ｃのうち同時に少なくとも１本の測長光が
当たり、移動鏡８ｂに対して測長光６ａ〜６ｅのうち同
時に少なくとも２本の測長光があたる例を示す。測長光
６ａ〜６ｅのうち、現在、どの測長光が移動鏡８ｂに当
たっているかは、その時点のＸ軸方向ステージ位置によ
って判定でき、測長光５ａ〜５ｃのうち、現在、どの測
長光が移動鏡８ａに当たっているかは、その時点のＹ軸
方向ステージ位置によって判定できる。この場合、Ｘ、
Ｙ両軸において、測長値の受け渡しが行なわれる。

【００３０】図４、図５は、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向の広い移
動範囲と３軸まわりの回転量を把握可能な本発明の第４
の実施例に係る位置決めユニットの移動鏡と測長光の配
置の模式図の斜視図と平面図である。

【００３１】この場合、Ｘ−Ｙ移動ステージのＸ、Ｙ軸
まわりの回転を把握するためにＺ軸方向測長用の移動鏡
８ｃには、常に３つ以上の測長光（移動鏡８ｃ上の照射
点が一直線上にない３つ以上の測長光）が照射されてい
るように測長光７ａ〜７ｏを配置している。測長光７ａ
〜７ｏのうち、移動鏡８ｃに対して、現在どの測長光が
当たっているかは、その時点のＸおよびＹ軸方向ステー
ジ位置によって決まる。測長光７ａ〜７ｏについても、
上記実施例と同様の測長値の受け渡しが行なわれる。本
実施例では、ＸおよびＹ軸を中心とした移動鏡８ｃの傾
き量も求めることができる。

【００３２】

【発明の効果】レーザ干渉測長装置を利用した２次元以
上の位置決めユニットにおいて、本発明によれば、各軸
の移動鏡の大きさは測定座標軸に平行に配置された測長
光間隔以上であればよく、ワークの寸法によらない。こ
のため大型のワークに対して従来のように大きな移動鏡
を用意する必要がなく、より高精度に加工しやすく保持
中の変形も少ない小型の移動鏡を用いることができる。
その結果、大型のワークも全範囲にわたり高精度に測定
することが可能になる。さらにまた移動鏡を小型にした
ことにより移動ステージの質量を軽減でき移動ステージ
の位置決め制御をより容易にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の説明図

【図２】本発明の第２実施例の説明図

【図３】本発明の第３実施例の説明図

【図４】本発明の第４実施例の説明図

【図５】本発明の第４実施例の説明図

【図６】従来の位置決めユニットの構成図

【図７】図１の実施例のステージ位置の測定手順を示す
フローチャート

【図８】図２の実施例のステージ位置の測定手順を示す
フローチャート

【図９】各実施例における演算装置の構成例を示すブロ
ック図

【符号の説明】

１，１ａ,１ｂ:レーザ光源 ２ａ,２ｂ,２ｃ,２ｄ:ビームスプリッタ ３ａ,３ｂ,３ｃ,３ｄ,３ｉ：検出器 ４ａ,４ｂ,４ｃ,４ｄ,４ｉ：固定鏡およびビームスプリ
ッタからなる干渉計ユニット ５ａ,５ｂ,５ｃ,５ｄ：Ｘ軸方向測長用測長光 ６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ：Ｙ軸方向測長用測長光 ７ａ〜７ｏ：Ｚ軸方向測長用測長光 ８ａ,８ｂ，８ｃ：移動鏡 ９：Ｘ−Ｙ移動ステージ １０：演算装置

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも第１軸方向および該第１軸方向
   に略直角な第２軸方向に移動する移動ステージと、 略平行な複数本の測長光を有し、前記第１軸方向におけ
   る前記移動ステージの位置の測定を行なう第１のレーザ
   干渉測長装置と、 前記移動ステージに固定され、前記第１のレーザ干渉測
   長装置の複数本の測長光のうち、前記移動ステージの前
   記第２軸方向の移動に伴って、順次異なる少なくとも１
   本の測長光を受ける第１の移動鏡と、 少なくとも１本の測長光を有し、前記第２軸方向におけ
   る前記移動ステージの位置の測定を行なう第２のレーザ
   干渉測長装置と、 前記移動ステージに固定され、前記第２のレーザ干渉測
   長装置の少なくとも１本の測長光を常時受ける第２の移
   動鏡と、 該第２のレーザ干渉測長装置の測長値に基づいて、現在
   前記第１の移動鏡が前記第１のレーザ干渉測長装置のい
   ずれの測長光を受けているかを判定し、当該測長光によ
   り前記第１のレーザ干渉測長装置の測長結果を得る演算
   手段と、 を備えたことを特徴とする多軸位置決めユニット。
2. 【請求項２】前記第１のレーザ干渉測長装置の複数の測
   長光は、そのうち隣接する少なくとも２本が前記移動ス
   テージの特定位置において前記第１の移動鏡を同時に照
   射するよう配置され、前記演算手段は、前記移動ステー
   ジの特定位置において、前記第１のレーザ干渉測長装置
   の隣接する２本の測長光を同時に受けたとき、先に受け
   ていた測長光による測長値により新たに受けた測長光に
   よる測長値の初期値を定めることを特徴とする請求項１
   記載の多軸位置決めユニット。
3. 【請求項３】前記第１の移動鏡の前記第２軸方向の寸法
   は、前記移動ステージの前記第２軸方向の可動距離より
   短いことを特徴とする請求項１または２記載の多軸位置
   決めユニット。
4. 【請求項４】前記第１のレーザ干渉測長装置の複数の測
   長光として少なくとも３本の測長光を有し、そのうち隣
   接する少なくとも２本が前記移動ステージの位置に関わ
   らず常時前記第１の移動鏡を同時に照射するよう配置さ
   れ、 前記演算手段は、前記第１の移動鏡に常時照射される２
   本の測長光による測長値に基づいて前記移動ステージの
   傾き量を求めるとともに、前記移動ステージの特定位置
   において、前記第１の移動鏡が前記第１のレーザ干渉測
   長装置の隣接する３本の測長光を同時に受けたとき、先
   に受けていた２本の測長光による測長値により新たに受
   けた測長光による測長値の初期値を定めることを特徴と
   する請求項１、２または３記載の多軸位置決めユニッ
   ト。
5. 【請求項５】少なくとも第１軸方向および該第１軸方向
   に略直角な第２軸方向に移動し、第１軸および第２軸方
   向の測長光をそれぞれ反射する第１および第２の移動鏡
   を有する移動ステージと、それぞれ前記第１軸方向およ
   び第２軸方向の前記移動ステージの位置を測定する第１
   および第２のレーザ干渉測長装置とを備えた多軸位置決
   めユニットにおける測長方法であって、 前記第１軸方向に沿った移動ステージ位置の測定を各々
   独立に行なうよう略平行に２本以上の測長光を配置し、
   その際、前記移動ステージの移動範囲内のいかなる位置
   においても常に前記２本以上の測長光のいずれか少なく
   とも１本が前記移動鏡の反射面を照射するようにし、 前記第２軸方向に沿った移動ステージ位置の測定を行な
   うよう前記少なくとも１本の測長光を配置し、その際、
   前記移動ステージの移動範囲内のいかなる位置において
   も常に前記少なくとも１本の測長光が前記移動鏡の反射
   面を照射するようにし、 測長開始時に、前記移動ステージの位置を初期位置に移
   動させるとともに、前記第１軸および第２軸方向の測長
   値を初期化し、 前記移動ステージの移動に伴い、前記第２軸方向の測長
   値を求め、 該求められた前記第２軸方向の測長値に基づいて、前記
   略平行な２本以上の測長光のうちいずれの測長光が前記
   移動鏡に照射されているかを検知し、 該検知された測長光により前記第１軸方向の測長値を求
   め、 前記求められた各方向の測長値により前記移動ステージ
   の位置を求めることを特徴とする多軸位置決めユニット
   における位置決め方法。
6. 【請求項６】前記移動ステージの前記第２軸方向の移動
   に伴い、前記略平行に配置された２本以上の測長光のう
   ち複数の測長光が同時に前記移動鏡に照射されたとき、
   前記第１の移動鏡に先に照射されていた測長光による測
   長値を、前記第１の移動鏡に新たに照射された測長光に
   よる測長値の初期値として受け渡すことを特徴とする請
   求項５記載の多軸位置決めユニットにおける位置決め方
   法。