JPH0725607A - 球状シリカ粉末及びエポキシ樹脂組成物 - Google Patents
球状シリカ粉末及びエポキシ樹脂組成物Info
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Abstract
の流動特性、成形性及び半田付け時の耐クラック性に優
れたエポキシ樹脂組成物を得るのに特に好適な球状シリ
カ粉末及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物を提供する
こと。 【構成】 粒子径149μm以上の粒子含有率をa重量
%、粒子径32μm以下の粒子含有率をb重量%、粒子
径12μm以下の粒子含有率をc重量%、粒子径6μm
以下の粒子含有率をd重量%、粒子径3μm以下の粒子
含有率をe重量%としたとき、a≦0.5、40≦b≦
80、30≦c≦75、30≦d≦75及び20≦e≦
60であり、且つb/e≦3である粒度分布を有するこ
とを特徴とする球状シリカ粉末、及び(A)エポキシ樹
脂、(B)硬化剤及び(C)上記の球状シリカ粉末を含
有してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
Description
ポキシ樹脂組成物、詳しくは、半導体チップを樹脂組成
物で封止する際、その流動特性、成形性及び半田付け時
の耐クラック性に優れたエポキシ樹脂組成物を得るのに
特に好適な球状シリカ粉末及びそれを用いたエポキシ樹
脂組成物に関するものである。
高集積化が進むにつれてチップが大型化し、またその実
装方式も配線基板等への高密度実装に好適な表面実装が
主流になりつつある。例えば、QFP(Quad Fl
at Package)やSOP(Small Out
line Package)等においては、これらを回
路基板に取り付ける場合、パッケージ全体を200℃以
上の高温に加熱して半田付けされる。そのため、保管時
に周囲の湿度の影響を受けて吸湿したパッケージは、水
分の爆発的な気化によってパッケージ内部にクラックが
発生し、ひどいものは外部までクラックが到達するケー
スもあり、従来の封止用樹脂組成物(以下、「封止材」
という)用いたのではこの問題に対してはは追随できな
かった。
ジにした際の吸水率を低減させるため、各種樹脂の検討
やフィラーの高充填による方法が報告されているが、未
だに満足のいく耐クラック性のレベルまでには到達して
いなく、さらにフィラーの充填率を高めることが必要で
ある。しかし、この場合、封止材の流動性が低下し成形
性等が著しく悪化するという大きな問題がある。特に、
チップの大型化とパッケージの薄型化が進んでいる中、
耐半田クラック対策の観点から、85重量%以上特に9
0重量%以上のフィラー充填率の実現が望まれつつある
が、このような高充填をしても成形性を損なわせないフ
ィラーはまだない。
でに、ビスヒドロキシビフェニル型エポキシに代表され
る低粘度樹脂系において、1μm以下のサブミクロン粒
子をベース・フィラーに少量添加することによって、封
止材の流動性やバリ性を飛躍的に改善するができること
を見いだしたが、耐クラック性を大幅に改善できるよう
なフィラーの充填率にすると成形性が不十分となり、単
なるサブミクロン粒子の増量では耐クラック性と成形性
とを同時に改善するとができなかった。また、使用する
樹脂の粘度によっては逆に流動性が低下することもあっ
た。
なく究極の高充填を可能とし、しかも高流動性が得られ
るフィラーの粒度分布はいかなるものであるかの観点に
たってさらに検討を進めた結果、特定の粒度分布を有す
る球状シリカフィラーを開発したものであり、それを用
いたエポキシ樹脂組成物からなる封止材は、流動性が大
幅に向上し、しかも半田付け時の耐クラック性も著しく
改善できることを見いだし、本発明を完成させたもので
ある。
149μm以上の粒子含有率をa重量%、粒子径32μ
m以下の粒子含有率をb重量%、粒子径12μm以下の
粒子含有率をc重量%、粒子径6μm以下の粒子含有率
をd重量%、粒子径3μm以下の粒子含有率をe重量%
としたとき、a≦0.5、40≦b≦80、30≦c≦
75、30≦d≦75及び20≦e≦60であり、且つ
b/e≦3である粒度分布を有することを特徴とする球
状シリカ粉末、及び(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤
及び(C)上記の球状シリカ粉末を含有してなることを
特徴とするエポキシ樹脂組成物である。
る。
粉末からなるものであり、これは低線膨張係数、耐湿性
等の封止材の要求特性に応じることができるものであ
る。球状シリカ粉末以外の充填材、例えばアルミナ粉末
では線膨張係数が大きく、また炭酸カルシウムや硫酸バ
リウム、窒化珪素などでは加水分解を起こしやすくなっ
て半導体部品の耐湿性が悪くなる。さらには、破砕状の
シリカ粉末では、その粒度構成を考えられる範囲内でど
のように調整しても本発明の球状シリカ粉末を用いた場
合における流動性をこえることはできない。
石、珪砂、水晶等を振動ミル等の適当な方法で粉砕し、
LPG/酸素等の火炎中や高温プラズマ中に投入して球
状化したもの、四塩化珪素の気相加水分解により生成し
た合成シリカ超微粉を出発原料としスプレードライヤー
により球状造粒し、焼成や火炎溶射処理を施して球状化
したもの、さらには金属珪素やアルコキシシランを出発
原料として気相又は液層で合成し球状化したもの等、球
状のシリカであればいかなる方法で製造されたものでも
使用できる。
粒子径149μm以上の粒子含有率をa重量%、粒子径
32μm以下の粒子含有率をb重量%、粒子径12μm
以下の粒子含有率をc重量%、粒子径6μm以下の粒子
含有率をd重量%、粒子径3μm以下の粒子含有率をe
重量%としたとき、各々の含有量がa≦0.5及び40
≦b≦80及び30≦c≦75及び30≦d≦75及び
20≦e≦60の範囲であって、しかもb/e≦3であ
る粒度分布を有していることが必要である。
ールド時のチップ損傷発生や金型ゲート部の目詰まりに
よる未充填等の問題が起こる。また、bが40重量%未
満であるか又は80重量%をこえる場合、cが30重量
%未満であるか又は75重量%をこえる場合、dが30
重量%未満であるか又は75重量%をこえる場合、eが
20重量%未満であるか又は60重量%をこれる場合、
さらにはb/e比が3をこえる場合は、いずれも流動性
(スパイラルフロー値)が低下し、またバリ特性も悪く
なってしまう。
5、35≦c≦65、35≦d≦65、30≦e≦55
の範囲にあって、しかもb/e≦2.3である粒度分布
を有するものがより好ましく、さらには比表面積が2〜
10m2/g特に3〜8m2/gであるものがより好まし
い。
樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有する
ものであれば特に制限はなく、具体例を挙げれば、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とアルデヒド類
のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノー
ルA、ビスフェノールF及びビスフェノールSなどのグ
リシジルエーテル、フタル酸やダイマー酸などの多塩基
酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジ
ルエステル酸エポキシ樹脂、その他、線状脂肪族エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、
アルキル変性多官能エポキシ樹脂、β−ナフトールノボ
ラック型エポキシ樹脂、1,6−ジヒドロキシナフタレ
ン型エポキシ樹脂、2,7−ジヒドロキシナフタレン型
エポキシ樹脂、ビスヒドロキシビフェニル型エポキシ樹
脂、さらには難燃性を付与するために臭素などのハロゲ
ンを導入したエポキシ樹脂などがあり、これらを1種又
は2種以上を用いる。特に半田耐熱性と耐湿信頼性の観
点からは、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスヒドロキシビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタ
レン骨格のエポキシ樹脂などが好適である。
しては、エポキシ樹脂(A)と反応して硬化させるもの
であれば特に限定されず、例えば、フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、レゾルシノール、クロロフェノー
ル、t−ブチルフェノール、ノニルフェノール、イソプ
ロピルフェノール、オクチルフェノール等の群から選ば
れた1種又は2種以上の混合物をホルムアルデヒド、パ
ラホルムアルデヒド又はパラキシレンとともに酸化触媒
下で反応させて得られるノボラック型樹脂、ポリパラヒ
ドロキシスチレン樹脂、ビスフェノールAやビスフェノ
ールS等のビスフェノール化合物、ピロガロールやフロ
ログルシノール等の3官能フェノール類、無水マレイン
酸、無水フタル酸や無水ピロメリット酸等の酸無水物、
メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、
ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミンなどが挙
げられる。
(B)硬化剤及び(C)球状シリカ粉末を含有してなる
エポキシ樹脂組成物中、(C)成分の含有量は、
(A)、(B)及び(C)の合計量に対し80〜95重
量%の範囲内であることが好ましい。(C)成分の割合
が80重量%よりも少なくなると、封止材の強度が小さ
くなったり、吸水率が上昇したりして、耐半田クラック
性能が低下する。一方、95重量%よりも多くなると、
最適粒度分布や最適比表面積を選択しても、スパイラル
フロー値が小さくなり、成形時に未充填を生じたり、チ
ップを搭載したダイパットが変動したりし、さらには半
導体素子とリードとを結ぶボンディングワイヤを変形さ
せたり切断させたりする危険性が生じる。特にダイパッ
トが変動した場合、半田付け時にパッケージクラックが
容易に発生するようになる。
(A)〜(C)成分の他にも必要に応じて以下の成分を
配合することができる。すなわち、低応力化剤として、
シリコーンゴム、ポリサルファイドゴム、アクリル系ゴ
ム、ブタジエン系ゴム、スチレン系ブロックコポリマー
や飽和型エラストマー等のゴム状物質、各種熱可塑性樹
脂、シリコーン樹脂等の樹脂状物質、さらにはエポキシ
樹脂、フェノール樹脂の一部または全部をアミノシリコ
ーン、エポキシシリコーン、アルコキシシリコーンなど
で変性した樹脂など、シランカップリング剤として、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン等のエポキシシラン、アミノプロピルトリエト
キシシラン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N
−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等のアミ
ノシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメ
トキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等の疎
水性シラン化合物やメルカプトシランなど、表面処理剤
として、Zrキレート、チタネートカップリング剤、ア
ルミニウム系カップリング剤など、難燃助剤として、S
b2 O3 、Sb2 O4 、Sb2 O5 など、難燃剤とし
て、ハロゲン化エポキシ樹脂やリン化合物など、着色剤
として、カーボンブラック、酸化鉄、染料、顔料などで
ある。
求される場合には、各種イオントラップ剤の添加が有効
である。イオントラップ剤の具体例としては、協和化学
社製商品名「DHF−4A」、「KW−2000」、
「KW−2100」や東亞合成化学工業社製商品名「I
XE−600」などが挙げられる。
シ樹脂と硬化剤との反応を促進させるために硬化促進剤
を配合することができる。その硬化促進剤としては、上
記したようなものが挙げられるが、耐熱性及び耐湿性の
面から有機ホスフィン化合物とシクロアミジン誘導体が
特に好ましい。また、耐熱性をさらに高めるためにビス
マレイミド類等のイミド化合物を配合することもでき
る。
応じて、ワックス等の離型剤を添加することができる。
その具体例を挙げれば、天然ワックス類、合成ワックス
類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド類、エステル類、パ
ラフィン等である。
材料をブレンダー又はミキサーで混合した後、加熱ロー
ル、ニーダー、押出機、バンバリーミキサーなどの装置
によって溶融混練し、冷却粉砕することによって製造す
ることができる。
に各種半導体を樹脂封止するには、トランスファーモー
ルド、マルチプランジャー等の公知の成形法により硬化
成形すれば良く、これによって耐熱性、強度、耐湿性、
熱伝導率等の一般的特性を満足させるのみならず、フィ
ラー充填率が高いにもかかわらず流動特性に非常に優れ
る。
に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって
限定されるものではない。尚、以下の例における部及び
%はいずれも重量基準で示した。
6)に示した粒度分布を有する球状シリカ粉末を使用
し、表4に示す割合で各材料と共に配合しミキサーによ
りドライブレンドした。これをロール表面温度100℃
のミキシングロールを用いて5分間加熱混練した後、冷
却・粉砕して異なる25種類のエポキシ樹脂組成物を製
造した。
下に従うスパイラルフロー(SF)、バリ、ゲルタイ
ム、耐半田クラック性を評価した。それらの結果につい
て、表5と表6には実施例1〜19の結果を、表7に比
較例1〜6の結果を示す。
は重量%である。 (2)比表面積 BET法で測定した。単位はm2/gである。 (3)スパイラルフロー(SF) スパイラルフロー金型を用いて、EMMI1−66(E
poxy Molding Material Ins
titute ; Society of Plast
ic Industry)に準処して測定した。成形温
度は175℃で実施した。 (4)バリ 2μm、5μm、10μm及び30μmのスリットを有
するバリ金型を用いて成形し、バリの長さを測定した。
成形温度は175℃で実施した。 (5)ゲルタイム ゲルタイムとは、樹脂が溶融硬化するまでの時間であ
り、ゲルタイムが長いものは、スパーラルフロー値も長
くなる。従って、本発明の効果を確認するに当たり、ス
パイラルフローの優劣を見極めるべくゲルタイムがおよ
そ30秒になるように表4は考慮されている。ゲルタイ
ムの測定は、175℃に加熱した金属ブロック上で、樹
脂が溶融・硬化するまでの時間を測定することによって
行った。 (6)耐半田クラック性 低圧トランスファー成形法により、175℃×2分の条
件で模擬素子を封止した44ピンQFP成形体(パッケ
ージ)の16個を得た後、175℃×5時間のポストキ
ュアを行った。これらを温度85℃、湿度85%RHの
条件で96時間放置後、260℃の半田に10秒間浸漬
し、超音波探査映像装置により、16個のパッケージ中
に観察された内部クラックの発生率を求めた。
明のエポキシ樹脂組成物は、流動性を損なうことなく大
幅な高充填が可能となり、半田付け時の耐半田クラック
性に著しく優れるので、表面実装の電子部品用途特に半
導体等の封止材として好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】 粒子径149μm以上の粒子含有率をa
重量%、粒子径32μm以下の粒子含有率をb重量%、
粒子径12μm以下の粒子含有率をc重量%、粒子径6
μm以下の粒子含有率をd重量%、粒子径3μm以下の
粒子含有率をe重量%としたとき、a≦0.5、40≦
b≦80、30≦c≦75、30≦d≦75及び20≦
e≦60であり、且つb/e≦3である粒度分布を有す
ることを特徴とする球状シリカ粉末。 - 【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤及び
(C)請求項1記載の球状シリカ粉末を含有してなるこ
とを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17068793A JP3408585B2 (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | 球状シリカ粉末及びエポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17068793A JP3408585B2 (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | 球状シリカ粉末及びエポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
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|---|---|
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Family
ID=15909535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3408585B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001048521A (ja) * | 1999-08-13 | 2001-02-20 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 微細球状シリカ粉末とその製造方法および用途 |
| JP2002275355A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
| WO2011037260A1 (ja) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | 京セラ株式会社 | 構造体およびその製造方法 |
| US8975537B2 (en) | 2009-09-28 | 2015-03-10 | Kyocera Corporation | Circuit substrate, laminated board and laminated sheet |
-
1993
- 1993-07-09 JP JP17068793A patent/JP3408585B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| WO2011037260A1 (ja) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | 京セラ株式会社 | 構造体およびその製造方法 |
| CN102550139A (zh) * | 2009-09-28 | 2012-07-04 | 京瓷株式会社 | 结构体及其制造方法 |
| KR101423534B1 (ko) * | 2009-09-28 | 2014-07-25 | 쿄세라 코포레이션 | 구조체 및 그 제조 방법 |
| US8975537B2 (en) | 2009-09-28 | 2015-03-10 | Kyocera Corporation | Circuit substrate, laminated board and laminated sheet |
| JP5734860B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2015-06-17 | 京セラ株式会社 | 構造体およびその製造方法 |
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| JP3408585B2 (ja) | 2003-05-19 |
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