JPH0725868A - 置換基を有するフェノ−ルの製造方法 - Google Patents
置換基を有するフェノ−ルの製造方法Info
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- JPH0725868A JPH0725868A JP17176393A JP17176393A JPH0725868A JP H0725868 A JPH0725868 A JP H0725868A JP 17176393 A JP17176393 A JP 17176393A JP 17176393 A JP17176393 A JP 17176393A JP H0725868 A JPH0725868 A JP H0725868A
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Landscapes
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】置換基を有するフェノ−ルの効率的な製造法を
開発すること。 【構成】置換基を有するベンズアルデヒドから対応する
ギ酸エステルを経由して置換基を有するフェノ−ルを製
造する方法において、該ギ酸エステルを単離すること無
く、かつ、該置換基を有するベンズアルデヒドから対応
するギ酸エステルを製造する際、水不存在下で過酸によ
り酸化し、該ギ酸エステルを塩基または水存在下加水分
解する。 【効果】従来の方法より短時間の反応で、高い原料転化
率を示し、過剰の酸化剤を還元除去することなく、熱分
解を行い対応するカルボン酸とし、生成した製品は晶析
または蒸留操作により精製を行い得る。
開発すること。 【構成】置換基を有するベンズアルデヒドから対応する
ギ酸エステルを経由して置換基を有するフェノ−ルを製
造する方法において、該ギ酸エステルを単離すること無
く、かつ、該置換基を有するベンズアルデヒドから対応
するギ酸エステルを製造する際、水不存在下で過酸によ
り酸化し、該ギ酸エステルを塩基または水存在下加水分
解する。 【効果】従来の方法より短時間の反応で、高い原料転化
率を示し、過剰の酸化剤を還元除去することなく、熱分
解を行い対応するカルボン酸とし、生成した製品は晶析
または蒸留操作により精製を行い得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は置換基を有するフェノ−
ルの製造方法に関する。
ルの製造方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】の方法は反応副生成
物も多く、その処理に繁雑な手段をとらなければならな
い。また、上記の方法は、原料の転換率が十分でな
く、未反応原料の分離を必要とする。の方法は置
換基を有するベンズアルデヒドを過酸化水素、過酸と反
応する際、高価な溶媒（塩化炭化水素類）を必要とす
る。原料の3,4-ジヒドロキシフェノ−ルが高価で入手
しにくい等の欠点がある。は２段の反応工程を必要と
しプロセス的にも繁雑である。本法は置換基を有するベ
ンズアルデヒドを過酢酸と反応する際、安価な溶媒下ま
たは無溶媒下に安価な溶媒に溶解した過酸を酸化剤とし
て用いても良い。
物も多く、その処理に繁雑な手段をとらなければならな
い。また、上記の方法は、原料の転換率が十分でな
く、未反応原料の分離を必要とする。の方法は置
換基を有するベンズアルデヒドを過酸化水素、過酸と反
応する際、高価な溶媒（塩化炭化水素類）を必要とす
る。原料の3,4-ジヒドロキシフェノ−ルが高価で入手
しにくい等の欠点がある。は２段の反応工程を必要と
しプロセス的にも繁雑である。本法は置換基を有するベ
ンズアルデヒドを過酢酸と反応する際、安価な溶媒下ま
たは無溶媒下に安価な溶媒に溶解した過酸を酸化剤とし
て用いても良い。
【０００３】
【発明の目的】本発明の目的は血圧降下剤等医薬品の製
造原料として重要であり、他に酸化防止剤、抗菌剤、除
草剤、化粧品原料の用途がある置換基を有するフェノ−
ルの効率的な製造法を開発することにある。
造原料として重要であり、他に酸化防止剤、抗菌剤、除
草剤、化粧品原料の用途がある置換基を有するフェノ−
ルの効率的な製造法を開発することにある。
【０００４】本発明者は、上記問題点を克服するために
鋭意研究を行った結果、高収率で置換基を有するフェノ
−ルを製造する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
鋭意研究を行った結果、高収率で置換基を有するフェノ
−ルを製造する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は「置換基
を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステルを
経由して置換基を有するフェノ−ルを製造する方法にお
いて、該ギ酸エステルを単離すること無く、かつ、該置
換基を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステ
ルを製造する際、水不存在下で過酸により酸化し、該ギ
酸エステルを塩基または水存在下加水分解することを特
徴とする置換基を有するフェノ−ルの製造方法」であ
る。
を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステルを
経由して置換基を有するフェノ−ルを製造する方法にお
いて、該ギ酸エステルを単離すること無く、かつ、該置
換基を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステ
ルを製造する際、水不存在下で過酸により酸化し、該ギ
酸エステルを塩基または水存在下加水分解することを特
徴とする置換基を有するフェノ−ルの製造方法」であ
る。
【０００６】以下に、本発明の方法を詳細に説明する。
【０００７】本発明の製造方法で製造される置換基を有
するフェノ−ルは下記一般式
するフェノ−ルは下記一般式
【化１】 ＜化１において、ｎは１、２または３である＞で表され
る3,4-アルキレンジオキシフェノ−ルである。
る3,4-アルキレンジオキシフェノ−ルである。
【０００８】本発明の製造方法により得られる置換基を
有するフェノ−ルは、薬理活性を示す医農薬品等の製造
中間原料として重要であり、抗酸化作用を有する蒸散性
の少ない酸化防止剤の原料、美白剤、としても利用され
る。
有するフェノ−ルは、薬理活性を示す医農薬品等の製造
中間原料として重要であり、抗酸化作用を有する蒸散性
の少ない酸化防止剤の原料、美白剤、としても利用され
る。
【０００９】出発原料である置換基を有するベンズアル
デヒドは3,4-アルキレンジオキシベンズアルデヒド等で
好ましくは3,4-アルキレンジオキシフェノ−ル（通称ヘ
リオトロピン）である。ヘリオトロピンはサフロ−ル
（樟脳油あるいはオコチア油に含有）をカ性アルカリで
加熱処理して異性化反応させることによりイソサフロ−
ルを合成する。これをオゾンまたは重クロム酸塩によっ
て酸化することによりヘリオトロピンが得られる。
デヒドは3,4-アルキレンジオキシベンズアルデヒド等で
好ましくは3,4-アルキレンジオキシフェノ−ル（通称ヘ
リオトロピン）である。ヘリオトロピンはサフロ−ル
（樟脳油あるいはオコチア油に含有）をカ性アルカリで
加熱処理して異性化反応させることによりイソサフロ−
ルを合成する。これをオゾンまたは重クロム酸塩によっ
て酸化することによりヘリオトロピンが得られる。
【００１０】
【従来の技術】従来、置換基を有するフェノ−ルの製造
方法としては、例えば、 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、セレン化合物の存在下カ性ソ−ダ過酸化水素と反応
させる方法（Synthesis, 1989, March, 167) 置換基を有するベンズアルデヒドを１級アルコ−ル溶
媒中、鉱酸触媒下、過酸化水素と反応させる方法（特開
昭60-166637 ） 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、過酢酸または過酸化水素と反応させる方法（J.Org.
Chem.,1984, 49, 4741） ［石油学会誌29, (5), 364 (1986) ］ 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、クロル過安息香酸と反応させる方法 (Ind. J. Che
m. 1983, 22, 1150) 置換基を有するベンズアルデヒドをクロロホルム溶媒
中、過ギ酸と反応させる方法 (USSR 688492) などが開示されている。
方法としては、例えば、 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、セレン化合物の存在下カ性ソ−ダ過酸化水素と反応
させる方法（Synthesis, 1989, March, 167) 置換基を有するベンズアルデヒドを１級アルコ−ル溶
媒中、鉱酸触媒下、過酸化水素と反応させる方法（特開
昭60-166637 ） 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、過酢酸または過酸化水素と反応させる方法（J.Org.
Chem.,1984, 49, 4741） ［石油学会誌29, (5), 364 (1986) ］ 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、クロル過安息香酸と反応させる方法 (Ind. J. Che
m. 1983, 22, 1150) 置換基を有するベンズアルデヒドをクロロホルム溶媒
中、過ギ酸と反応させる方法 (USSR 688492) などが開示されている。
【００１１】また、3,4-ジヒドロキシフェノ−ルとメ
チレンクロライドとの反応で置換基を有するフェノ−ル
を合成する方法（特開昭52-133984 ）がある。
チレンクロライドとの反応で置換基を有するフェノ−ル
を合成する方法（特開昭52-133984 ）がある。
【００１２】一方、3,4-ジヒドロキシベンゼンとアセ
チ−ル化剤から3,4-ジヒドロキシアセトフェノンを造
り、さらに有機スルフォン酸触媒下、過酸化水素と反応
させ、アセテ−トとし、さらに加水分解することにより
置換基を有するフェノ−ルを得る方法（特開昭56-8348
6）がある。
チ−ル化剤から3,4-ジヒドロキシアセトフェノンを造
り、さらに有機スルフォン酸触媒下、過酸化水素と反応
させ、アセテ−トとし、さらに加水分解することにより
置換基を有するフェノ−ルを得る方法（特開昭56-8348
6）がある。
【００１３】本発明の製造方法における一連の反応は下
記
記
【化２】 ＜化２において、ｎは１、２または３である＞の反応式
で表わされる。
で表わされる。
【００１４】（ａ）１段目の工程（バイヤ−ビリガ−反
応）では、置換基を有するベンズアルデヒドを溶媒に溶
解するかまたは溶媒を使用せず加熱溶融し、過酸を滴下
することによりギ酸エステル（置換基を有するフェノ−
ル）とする。過酸の使用量は置換基を有するベンズアル
デヒドを基準にして、１．０ないし１０倍モル％、好ま
しくは１．０ないし１．５倍モルである。
応）では、置換基を有するベンズアルデヒドを溶媒に溶
解するかまたは溶媒を使用せず加熱溶融し、過酸を滴下
することによりギ酸エステル（置換基を有するフェノ−
ル）とする。過酸の使用量は置換基を有するベンズアル
デヒドを基準にして、１．０ないし１０倍モル％、好ま
しくは１．０ないし１．５倍モルである。
【００１５】使用し得る過酸は過ギ酸、過酢酸、過安息
香酸、過プロピオン酸が挙げられる。 中でも工業的に
量産されている過酢酸が好ましい。反応温度は０〜６０
℃が適当であり、置換基を有するベンズアルデヒドの溶
融温度、あるいは温度制御の観点から適宜決定されるべ
きである。反応時間は反応条件、使用する溶媒の量、種
類によって異なるが、通常２〜１０時間である。
香酸、過プロピオン酸が挙げられる。 中でも工業的に
量産されている過酢酸が好ましい。反応温度は０〜６０
℃が適当であり、置換基を有するベンズアルデヒドの溶
融温度、あるいは温度制御の観点から適宜決定されるべ
きである。反応時間は反応条件、使用する溶媒の量、種
類によって異なるが、通常２〜１０時間である。
【００１６】溶媒は特に必要ではないが、カルボン酸エ
ステル類等の有機溶媒を使用することにより反応を円滑
に進行させることができる。用い得る有機溶媒として
は、無水のカルボン酸エステル類などがあげられるが、
好ましくはメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのような低級一価アルコ−ルの有機酸エ
ステル類であり、より好ましくは酢酸エチルである。
ステル類等の有機溶媒を使用することにより反応を円滑
に進行させることができる。用い得る有機溶媒として
は、無水のカルボン酸エステル類などがあげられるが、
好ましくはメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのような低級一価アルコ−ルの有機酸エ
ステル類であり、より好ましくは酢酸エチルである。
【００１７】（ｂ）２段目の工程（加水分解反応）では
過酸が存在しないことを確認後、該当する置換基を有す
るフェノ−ルのギ酸エステルを単離すること無く、水又
は塩基性（アルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化
物）水溶液を加え、加熱処理を行う。
過酸が存在しないことを確認後、該当する置換基を有す
るフェノ−ルのギ酸エステルを単離すること無く、水又
は塩基性（アルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化
物）水溶液を加え、加熱処理を行う。
【００１８】加える水の量は該ギ酸エステルに対し等モ
ル以上を必要とするが、有機溶媒との分液性から５０〜
１００倍モル、好ましくは６０〜８０倍モルである。
ル以上を必要とするが、有機溶媒との分液性から５０〜
１００倍モル、好ましくは６０〜８０倍モルである。
【００１９】反応温度は０〜８０Ｃ、好ましくは３０〜
７０Ｃ。反応時間は３〜１０時間、好ましくは４〜６時
間である。
７０Ｃ。反応時間は３〜１０時間、好ましくは４〜６時
間である。
【００２０】上記ギ酸エステルの反応終了後、室温まで
冷却後有機層を分液し、有機層に存在する該置換基を有
するフェノ−ルは溶媒をフラシュ、蒸留等操作によって
分離される。必要に応じて該置換基を有するフェノ−ル
は晶析、蒸留操作等で純度を上げることも可能である。
有機層の溶媒は回収され、再び反応に供せられる。
冷却後有機層を分液し、有機層に存在する該置換基を有
するフェノ−ルは溶媒をフラシュ、蒸留等操作によって
分離される。必要に応じて該置換基を有するフェノ−ル
は晶析、蒸留操作等で純度を上げることも可能である。
有機層の溶媒は回収され、再び反応に供せられる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の方法に従えば、従来の方法より
短時間の反応で、高い原料転化率を示し、過剰の酸化剤
を還元除去することなく、熱分解を行い対応するカルボ
ン酸とし、生成した製品は晶析または蒸留操作により精
製を行う。
短時間の反応で、高い原料転化率を示し、過剰の酸化剤
を還元除去することなく、熱分解を行い対応するカルボ
ン酸とし、生成した製品は晶析または蒸留操作により精
製を行う。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、これらのものは本発明をなんら限定するものでは
ない。
るが、これらのものは本発明をなんら限定するものでは
ない。
【００２３】実施例−１ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、酢酸エチル１２０ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸エチル溶液）１４０ｇを３時間か
けて滴下し、その後２時間反応後、ヘリオトロピン、過
酢酸が消失していることを確認した。さらに、ＮａＯＨ
水溶液（１０％）５１３ｇを加え６０℃で５時間反応し
た。反応終了後、アルカリ下層を除去し、上層は蒸留精
製を行い、セサモ−ル（ｍｐ 63-64℃）を収率８０％で
得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であった。
ピン５５ｇ、酢酸エチル１２０ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸エチル溶液）１４０ｇを３時間か
けて滴下し、その後２時間反応後、ヘリオトロピン、過
酢酸が消失していることを確認した。さらに、ＮａＯＨ
水溶液（１０％）５１３ｇを加え６０℃で５時間反応し
た。反応終了後、アルカリ下層を除去し、上層は蒸留精
製を行い、セサモ−ル（ｍｐ 63-64℃）を収率８０％で
得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であった。
【００２４】実施例−２ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコに置換基を有
するベンズアルデヒド（ヘリオトロピン）５５ｇ、酢酸
エチル６４ｇを仕込み、温度６０℃で過酢酸（３０％酢
酸エチル溶液）を３時間かけて滴下し、その後、同温度
で２時間反応後、酢酸エチル、酢酸を留去し、さらに、
ＮａＯＨ水溶液（１０％）２４．４ｇ、酢酸エチルを加
え、６０℃で５時間反応した。その後アルカリ下層を除
去し、上層は、蒸留精製を行い、セサモ−ルを収率７９
％で得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であっ
た。
するベンズアルデヒド（ヘリオトロピン）５５ｇ、酢酸
エチル６４ｇを仕込み、温度６０℃で過酢酸（３０％酢
酸エチル溶液）を３時間かけて滴下し、その後、同温度
で２時間反応後、酢酸エチル、酢酸を留去し、さらに、
ＮａＯＨ水溶液（１０％）２４．４ｇ、酢酸エチルを加
え、６０℃で５時間反応した。その後アルカリ下層を除
去し、上層は、蒸留精製を行い、セサモ−ルを収率７９
％で得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であっ
た。
【００２５】比較例−１ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、酢酸エチル６４ｇ、水１４．６ｇを仕込
み、温度６０℃で過酢酸（３０％濃度酢酸エチル溶液）
を３時間かけて滴下し、その後１２時間の間、過酢酸を
ヘリオトロピンに対し２モル倍まで追加し反応を継続し
たが、過酢酸は分解しているもののヘリオトロピンの転
化率は９０％以上進行しなかったため反応を打ち切っ
た。
ピン５５ｇ、酢酸エチル６４ｇ、水１４．６ｇを仕込
み、温度６０℃で過酢酸（３０％濃度酢酸エチル溶液）
を３時間かけて滴下し、その後１２時間の間、過酢酸を
ヘリオトロピンに対し２モル倍まで追加し反応を継続し
たが、過酢酸は分解しているもののヘリオトロピンの転
化率は９０％以上進行しなかったため反応を打ち切っ
た。
【００２６】比較例−２ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、塩化メチレン６４ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸溶液）を４時間かけて滴下し、そ
の後３時間反応後、過剰の過酢酸を還元し、さらに、Ｎ
ａＯＨ ６ｇを加え中和し、その後アルカリ下層を除去
し、上層を約６０℃で６時間反応させた。反応終了後、
蒸留精製を行い、純度９８％セサモ−ルを収率５７％で
得た。ヘリオトロピン転化率８９％であった。（以下余
白）
ピン５５ｇ、塩化メチレン６４ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸溶液）を４時間かけて滴下し、そ
の後３時間反応後、過剰の過酢酸を還元し、さらに、Ｎ
ａＯＨ ６ｇを加え中和し、その後アルカリ下層を除去
し、上層を約６０℃で６時間反応させた。反応終了後、
蒸留精製を行い、純度９８％セサモ−ルを収率５７％で
得た。ヘリオトロピン転化率８９％であった。（以下余
白）
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年８月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 置換基を有するフェノ−ルの製造方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は置換基を有するフェノ−
ルの製造方法に関する。
ルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、置換基を有するフェノ−ルの製造
方法としては、例えば、 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、セレン化合物の存在下カ性ソ−ダ過酸化水素と反応
させる方法（Synthesis, 1989, March, 167) 置換基を有するベンズアルデヒドを１級アルコ−ル溶
媒中、鉱酸触媒下、過酸化水素と反応させる方法（特開
昭60-166637 ） 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、過酢酸または過酸化水素と反応させる方法（J.Org.
Chem.,1984, 49, 4741） ［石油学会誌29, (5), 364 (1986) ］ 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、クロル過安息香酸と反応させる方法 (Ind. J. Che
m. 1983, 22, 1150) 置換基を有するベンズアルデヒドをクロロホルム溶媒
中、過ギ酸と反応させる方法 (USSR 688492) などが開示されている。
方法としては、例えば、 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、セレン化合物の存在下カ性ソ−ダ過酸化水素と反応
させる方法（Synthesis, 1989, March, 167) 置換基を有するベンズアルデヒドを１級アルコ−ル溶
媒中、鉱酸触媒下、過酸化水素と反応させる方法（特開
昭60-166637 ） 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、過酢酸または過酸化水素と反応させる方法（J.Org.
Chem.,1984, 49, 4741） ［石油学会誌29, (5), 364 (1986) ］ 置換基を有するベンズアルデヒドを塩化メチレン溶媒
中、クロル過安息香酸と反応させる方法 (Ind. J. Che
m. 1983, 22, 1150) 置換基を有するベンズアルデヒドをクロロホルム溶媒
中、過ギ酸と反応させる方法 (USSR 688492) などが開示されている。
【０００３】また、3,4-ジヒドロキシフェノ−ルとメ
チレンクロライドとの反応で置換基を有するフェノ−ル
を合成する方法（特開昭52-133984 ）がある。
チレンクロライドとの反応で置換基を有するフェノ−ル
を合成する方法（特開昭52-133984 ）がある。
【０００４】一方、3,4-ジヒドロキシベンゼンとアセ
チ−ル化剤から3,4-ジヒドロキシアセトフェノンを造
り、さらに有機スルフォン酸触媒下、過酸化水素と反応
させ、アセテ−トとし、さらに加水分解することにより
置換基を有するフェノ−ルを得る方法（特開昭56-8348
6） などがある。
チ−ル化剤から3,4-ジヒドロキシアセトフェノンを造
り、さらに有機スルフォン酸触媒下、過酸化水素と反応
させ、アセテ−トとし、さらに加水分解することにより
置換基を有するフェノ−ルを得る方法（特開昭56-8348
6） などがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】の方法は反応副生成
物も多く、その処理に繁雑な手段をとらなければならな
い。また、上記の方法は、原料の転換率が十分でな
く、未反応原料の分離を必要とする。の方法は置
換基を有するベンズアルデヒドを過酸化水素、過酸と反
応する際、高価な溶媒（塩化炭化水素類）を必要とす
る。原料の3,4-ジヒドロキシフェノ−ルが高価で入手
しにくい等の欠点がある。は２段の反応工程を必要と
しプロセス的にも繁雑である。本法は置換基を有するベ
ンズアルデヒドを過酢酸と反応する際、安価な溶媒下ま
たは無溶媒下に安価な溶媒に溶解した過酸を酸化剤とし
て用いても良い。
物も多く、その処理に繁雑な手段をとらなければならな
い。また、上記の方法は、原料の転換率が十分でな
く、未反応原料の分離を必要とする。の方法は置
換基を有するベンズアルデヒドを過酸化水素、過酸と反
応する際、高価な溶媒（塩化炭化水素類）を必要とす
る。原料の3,4-ジヒドロキシフェノ−ルが高価で入手
しにくい等の欠点がある。は２段の反応工程を必要と
しプロセス的にも繁雑である。本法は置換基を有するベ
ンズアルデヒドを過酢酸と反応する際、安価な溶媒下ま
たは無溶媒下に安価な溶媒に溶解した過酸を酸化剤とし
て用いても良い。
【０００６】
【発明の目的】本発明の目的は血圧降下剤等医薬品の製
造原料として重要であり、他に酸化防止剤、抗菌剤、除
草剤、化粧品原料の用途がある置換基を有するフェノ−
ルの効率的な製造法を開発することにある。
造原料として重要であり、他に酸化防止剤、抗菌剤、除
草剤、化粧品原料の用途がある置換基を有するフェノ−
ルの効率的な製造法を開発することにある。
【０００７】本発明者は、上記問題点を克服するために
鋭意研究を行った結果、高収率で置換基を有するフェノ
−ルを製造する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
鋭意研究を行った結果、高収率で置換基を有するフェノ
−ルを製造する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００８】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は「置換基
を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステルを
経由して置換基を有するフェノ−ルを製造する方法にお
いて、該ギ酸エステルを単離すること無く、かつ、該置
換基を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステ
ルを製造する際、水不存在下で過酸により酸化し、該ギ
酸エステルを塩基または水存在下加水分解することを特
徴とする置換基を有するフェノ−ルの製造方法」であ
る。
を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステルを
経由して置換基を有するフェノ−ルを製造する方法にお
いて、該ギ酸エステルを単離すること無く、かつ、該置
換基を有するベンズアルデヒドから対応するギ酸エステ
ルを製造する際、水不存在下で過酸により酸化し、該ギ
酸エステルを塩基または水存在下加水分解することを特
徴とする置換基を有するフェノ−ルの製造方法」であ
る。
【０００９】以下に、本発明の方法を詳細に説明する。
【００１０】本発明の製造方法で製造される置換基を有
するフェノ−ルは下記一般式
するフェノ−ルは下記一般式
【化１】 ＜化１において、ｎは１、２または３である＞で表され
る3,4-アルキレンジオキシフェノ−ルである。
る3,4-アルキレンジオキシフェノ−ルである。
【００１１】本発明の製造方法により得られる置換基を
有するフェノ−ルは、薬理活性を示す医農薬品等の製造
中間原料として重要であり、抗酸化作用を有する蒸散性
の少ない酸化防止剤の原料、美白剤、としても利用され
る。
有するフェノ−ルは、薬理活性を示す医農薬品等の製造
中間原料として重要であり、抗酸化作用を有する蒸散性
の少ない酸化防止剤の原料、美白剤、としても利用され
る。
【００１２】出発原料である置換基を有するベンズアル
デヒドは3,4-アルキレンジオキシベンズアルデヒド等で
好ましくは3,4-アルキレンジオキシフェノ−ル（通称ヘ
リオトロピン）である。ヘリオトロピンはサフロ−ル
（樟脳油あるいはオコチア油に含有）をカ性アルカリで
加熱処理して異性化反応させることによりイソサフロ−
ルを合成する。これをオゾンまたは重クロム酸塩によっ
て酸化することによりヘリオトロピンが得られる。
デヒドは3,4-アルキレンジオキシベンズアルデヒド等で
好ましくは3,4-アルキレンジオキシフェノ−ル（通称ヘ
リオトロピン）である。ヘリオトロピンはサフロ−ル
（樟脳油あるいはオコチア油に含有）をカ性アルカリで
加熱処理して異性化反応させることによりイソサフロ−
ルを合成する。これをオゾンまたは重クロム酸塩によっ
て酸化することによりヘリオトロピンが得られる。
【００１３】本発明の製造方法における一連の反応は下
記
記
【化２】 ＜化２において、ｎは１、２または３である＞の反応式
で表わされる。
で表わされる。
【００１４】（ａ）１段目の工程（バイヤ−ビリガ−反
応）では、置換基を有するベンズアルデヒドを溶媒に溶
解するかまたは溶媒を使用せず加熱溶融し、過酸を滴下
することによりギ酸エステル（置換基を有するフェノ−
ル）とする。過酸の使用量は置換基を有するベンズアル
デヒドを基準にして、１．０ないし１０倍モル％、好ま
しくは１．０ないし１．５倍モルである。
応）では、置換基を有するベンズアルデヒドを溶媒に溶
解するかまたは溶媒を使用せず加熱溶融し、過酸を滴下
することによりギ酸エステル（置換基を有するフェノ−
ル）とする。過酸の使用量は置換基を有するベンズアル
デヒドを基準にして、１．０ないし１０倍モル％、好ま
しくは１．０ないし１．５倍モルである。
【００１５】使用し得る過酸は過ギ酸、過酢酸、過安息
香酸、過プロピオン酸が挙げられる。 中でも工業的に
量産されている過酢酸が好ましい。反応温度は０〜６０
℃が適当であり、置換基を有するベンズアルデヒドの溶
融温度、あるいは温度制御の観点から適宜決定されるべ
きである。反応時間は反応条件、使用する溶媒の量、種
類によって異なるが、通常２〜１０時間である。
香酸、過プロピオン酸が挙げられる。 中でも工業的に
量産されている過酢酸が好ましい。反応温度は０〜６０
℃が適当であり、置換基を有するベンズアルデヒドの溶
融温度、あるいは温度制御の観点から適宜決定されるべ
きである。反応時間は反応条件、使用する溶媒の量、種
類によって異なるが、通常２〜１０時間である。
【００１６】溶媒は特に必要ではないが、カルボン酸エ
ステル類等の有機溶媒を使用することにより反応を円滑
に進行させることができる。用い得る有機溶媒として
は、無水のカルボン酸エステル類などがあげられるが、
好ましくはメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのような低級一価アルコ−ルの有機酸エ
ステル類であり、より好ましくは酢酸エチルである。
ステル類等の有機溶媒を使用することにより反応を円滑
に進行させることができる。用い得る有機溶媒として
は、無水のカルボン酸エステル類などがあげられるが、
好ましくはメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのような低級一価アルコ−ルの有機酸エ
ステル類であり、より好ましくは酢酸エチルである。
【００１７】（ｂ）２段目の工程（加水分解反応）では
過酸が存在しないことを確認後、該当する置換基を有す
るフェノ−ルのギ酸エステルを単離すること無く、水又
は塩基性（アルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化
物）水溶液を加え、加熱処理を行う。
過酸が存在しないことを確認後、該当する置換基を有す
るフェノ−ルのギ酸エステルを単離すること無く、水又
は塩基性（アルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化
物）水溶液を加え、加熱処理を行う。
【００１８】加える水の量は該ギ酸エステルに対し等モ
ル以上を必要とするが、有機溶媒との分液性から５０〜
１００倍モル、好ましくは６０〜８０倍モルである。
ル以上を必要とするが、有機溶媒との分液性から５０〜
１００倍モル、好ましくは６０〜８０倍モルである。
【００１９】反応温度は０〜８０Ｃ、好ましくは３０〜
７０Ｃ。反応時間は３〜１０時間、好ましくは４〜６時
間である。
７０Ｃ。反応時間は３〜１０時間、好ましくは４〜６時
間である。
【００２０】上記ギ酸エステルの反応終了後、室温まで
冷却後有機層を分液し、有機層に存在する該置換基を有
するフェノ−ルは溶媒をフラシュ、蒸留等操作によって
分離される。必要に応じて該置換基を有するフェノ−ル
は晶析、蒸留操作等で純度を上げることも可能である。
有機層の溶媒は回収され、再び反応に供せられる。
冷却後有機層を分液し、有機層に存在する該置換基を有
するフェノ−ルは溶媒をフラシュ、蒸留等操作によって
分離される。必要に応じて該置換基を有するフェノ−ル
は晶析、蒸留操作等で純度を上げることも可能である。
有機層の溶媒は回収され、再び反応に供せられる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の方法に従えば、従来の方法より
短時間の反応で、高い原料転化率を示し、過剰の酸化剤
を還元除去することなく、熱分解を行い対応するカルボ
ン酸とし、生成した製品は晶析または蒸留操作により精
製を行う。
短時間の反応で、高い原料転化率を示し、過剰の酸化剤
を還元除去することなく、熱分解を行い対応するカルボ
ン酸とし、生成した製品は晶析または蒸留操作により精
製を行う。
【００２２】以下、実施例により本発明を具体的に説明
するが、これらのものは本発明をなんら限定するもので
はない。
するが、これらのものは本発明をなんら限定するもので
はない。
【００２３】実施例−１ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、酢酸エチル１２０ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸エチル溶液）１４０ｇを３時間か
けて滴下し、その後２時間反応後、ヘリオトロピン、過
酢酸が消失していることを確認した。さらに、ＮａＯＨ
水溶液（１０％）５１３ｇを加え６０℃で５時間反応し
た。反応終了後、アルカリ下層を除去し、上層は蒸留精
製を行い、セサモ−ル（ｍｐ 63-64℃）を収率８０％で
得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であった。
ピン５５ｇ、酢酸エチル１２０ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸エチル溶液）１４０ｇを３時間か
けて滴下し、その後２時間反応後、ヘリオトロピン、過
酢酸が消失していることを確認した。さらに、ＮａＯＨ
水溶液（１０％）５１３ｇを加え６０℃で５時間反応し
た。反応終了後、アルカリ下層を除去し、上層は蒸留精
製を行い、セサモ−ル（ｍｐ 63-64℃）を収率８０％で
得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であった。
【００２４】実施例−２ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコに置換基を有
するベンズアルデヒド（ヘリオトロピン）５５ｇ、酢酸
エチル６４ｇを仕込み、温度６０℃で過酢酸（３０％酢
酸エチル溶液）を３時間かけて滴下し、その後、同温度
で２時間反応後、酢酸エチル、酢酸を留去し、さらに、
ＮａＯＨ水溶液（１０％）２４．４ｇ、酢酸エチルを加
え、６０℃で５時間反応した。その後アルカリ下層を除
去し、上層は、蒸留精製を行い、セサモ−ルを収率７９
％で得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であっ
た。
するベンズアルデヒド（ヘリオトロピン）５５ｇ、酢酸
エチル６４ｇを仕込み、温度６０℃で過酢酸（３０％酢
酸エチル溶液）を３時間かけて滴下し、その後、同温度
で２時間反応後、酢酸エチル、酢酸を留去し、さらに、
ＮａＯＨ水溶液（１０％）２４．４ｇ、酢酸エチルを加
え、６０℃で５時間反応した。その後アルカリ下層を除
去し、上層は、蒸留精製を行い、セサモ−ルを収率７９
％で得た。ヘリオトロピン転化率ほぼ１００％であっ
た。
【００２５】比較例−１ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、酢酸エチル６４ｇ、水１４．６ｇを仕込
み、温度６０℃で過酢酸（３０％濃度酢酸エチル溶液）
を３時間かけて滴下し、その後１２時間の間、過酢酸を
ヘリオトロピンに対し２モル倍まで追加し反応を継続し
たが、過酢酸は分解しているもののヘリオトロピンの転
化率は９０％以上進行しなかったため反応を打ち切っ
た。
ピン５５ｇ、酢酸エチル６４ｇ、水１４．６ｇを仕込
み、温度６０℃で過酢酸（３０％濃度酢酸エチル溶液）
を３時間かけて滴下し、その後１２時間の間、過酢酸を
ヘリオトロピンに対し２モル倍まで追加し反応を継続し
たが、過酢酸は分解しているもののヘリオトロピンの転
化率は９０％以上進行しなかったため反応を打ち切っ
た。
【００２６】比較例−２ 温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコにヘリオトロ
ピン５５ｇ、塩化メチレン６４ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸溶液）を４時間かけて滴下し、そ
の後３時間反応後、過剰の過酢酸を還元し、さらに、Ｎ
ａＯＨ ６ｇを加え中和し、その後アルカリ下層を除去
し、上層を約６０℃で６時間反応させた。反応終了後、
蒸留精製を行い、純度９８％セサモ−ルを収率５７％で
得た。ヘリオトロピン転化率８９％であった。（以下余
白）
ピン５５ｇ、塩化メチレン６４ｇを仕込み、温度４０℃
で過酢酸（３０％酢酸溶液）を４時間かけて滴下し、そ
の後３時間反応後、過剰の過酢酸を還元し、さらに、Ｎ
ａＯＨ ６ｇを加え中和し、その後アルカリ下層を除去
し、上層を約６０℃で６時間反応させた。反応終了後、
蒸留精製を行い、純度９８％セサモ−ルを収率５７％で
得た。ヘリオトロピン転化率８９％であった。（以下余
白）
Claims (5)
- 【請求項１】置換基を有するベンズアルデヒドから対応
するギ酸エステルを経由して置換基を有するフェノ−ル
を製造する方法において、該ギ酸エステルを単離するこ
と無く、かつ、該置換基を有するベンズアルデヒドから
対応するギ酸エステルを製造する際、水不存在下で過酸
により酸化し、該ギ酸エステルを塩基または水存在下加
水分解することを特徴とする置換基を有するフェノ−ル
の製造方法。 - 【請求項２】置換基を有するベンズアルデヒドを過酸で
酸化する際、溶媒として置換基を有するベンズアルデヒ
ド、置換フェノ−ルを溶解するアルコ−ル類、カルボン
酸エステル類から選ばれる少なくとも１種類の溶媒を使
用する請求項１記載の置換基を有するフェノ−ルの製造
方法。 - 【請求項３】置換基を有するベンズアルデヒドを過酸で
酸化する際、触媒として鉱酸、スルホン酸からが選ばれ
る少なくとも１種類の触媒として使用する請求項１記載
の置換基を有するフェノ−ルの製造方法。 - 【請求項４】置換基を有するベンズアルデヒドを過酸で
酸化する際、過酸として過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、
過プロピオン酸からが選ばれる少なくとも１種類を使用
する請求項１記載の置換基を有するフェノ−ルの製造方
法。 - 【請求項５】該ギ酸エステルを塩基または水存在下加水
分解する際、塩基として水に溶解する、アルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物が選ばれる少なくとも
１種類を使用する請求項１記載の置換基を有するフェノ
−ルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17176393A JP3247773B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 置換基を有するフェノ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17176393A JP3247773B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 置換基を有するフェノ−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725868A true JPH0725868A (ja) | 1995-01-27 |
| JP3247773B2 JP3247773B2 (ja) | 2002-01-21 |
Family
ID=15929232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17176393A Expired - Fee Related JP3247773B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 置換基を有するフェノ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3247773B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021161083A1 (en) * | 2020-02-13 | 2021-08-19 | Anthea Aromatics Private Limited | An efficient process for preparation of acyl derivatives of alkylenedioxybenzenes |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4876277A (en) | 1987-05-29 | 1989-10-24 | Plant Cell Research Institute, Inc. | Antimicrobial/antifungal compositions |
| US4840965A (en) | 1987-07-07 | 1989-06-20 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Naphthalene anti-psoriatic agents |
-
1993
- 1993-07-12 JP JP17176393A patent/JP3247773B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3247773B2 (ja) | 2002-01-21 |
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