JPH07261017A - カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH07261017A JPH07261017A JP7385594A JP7385594A JPH07261017A JP H07261017 A JPH07261017 A JP H07261017A JP 7385594 A JP7385594 A JP 7385594A JP 7385594 A JP7385594 A JP 7385594A JP H07261017 A JPH07261017 A JP H07261017A
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- G02B5/201—Filters in the form of arrays
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 着色塗膜とその間隙を埋める遮光性塗膜が精
度よく形成され、光リークがよく防止されており、着色
が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性のよいカラーフィ
ルターを工業的有利に製造し、高画質の液晶表示装置を
製造する。 【構成】 光硬化性材料を用いて電着により着色塗膜を
形成する工程と光硬化性の塗膜形成材料を用いて背面露
光により機能性塗膜を形成する工程を含む方法によって
着色塗膜とその間隙に機能性塗膜とを有するカラーフィ
ルターを製造する。
度よく形成され、光リークがよく防止されており、着色
が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性のよいカラーフィ
ルターを工業的有利に製造し、高画質の液晶表示装置を
製造する。 【構成】 光硬化性材料を用いて電着により着色塗膜を
形成する工程と光硬化性の塗膜形成材料を用いて背面露
光により機能性塗膜を形成する工程を含む方法によって
着色塗膜とその間隙に機能性塗膜とを有するカラーフィ
ルターを製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターおよ
び液晶表示装置の製造方法に関する。更に詳しくは、本
発明は、着色層およびその間隙に遮光性塗膜を有するカ
ラーフィルターの新規な製造方法およびそのカラーフィ
ルターを用いて液晶表示装置を製造する方法に関する。
び液晶表示装置の製造方法に関する。更に詳しくは、本
発明は、着色層およびその間隙に遮光性塗膜を有するカ
ラーフィルターの新規な製造方法およびそのカラーフィ
ルターを用いて液晶表示装置を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、液
晶を利用したLCDは、いわゆるポケットテレビ等に使
われてきたが、近年大型化、大画面化が急速に進められ
ている。画質もTN液晶からSTN液晶やTFTに代表
されるアクティブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが
商品化されている。カラー表示装置の画質向上と生産性
の改善については、様々な検討が行われているが、その
重要な問題として、光リーク防止および画質向上(見か
けのコントラスト)のためのブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜の形成方法が挙げられる。LCDのカラー
化に使用されるカラーフィルターの着色層の間隙を埋め
る、遮光性などを有する機能性塗膜の形成方法として、
従来、シルクスクリーン法、オフセット法などの印刷技
術による方法が知られている。
晶を利用したLCDは、いわゆるポケットテレビ等に使
われてきたが、近年大型化、大画面化が急速に進められ
ている。画質もTN液晶からSTN液晶やTFTに代表
されるアクティブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが
商品化されている。カラー表示装置の画質向上と生産性
の改善については、様々な検討が行われているが、その
重要な問題として、光リーク防止および画質向上(見か
けのコントラスト)のためのブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜の形成方法が挙げられる。LCDのカラー
化に使用されるカラーフィルターの着色層の間隙を埋め
る、遮光性などを有する機能性塗膜の形成方法として、
従来、シルクスクリーン法、オフセット法などの印刷技
術による方法が知られている。
【0003】また、基板上に形成された複数の平行なス
トライプ状の導電性回路上に遮光性プレコート塗膜を形
成し、次いで機能性塗膜を与えるネガ型フォトレジスト
を全面に塗布し、前記プレコート塗膜をマスク代わりに
して基板背面から露光して、ストライプ状の着色膜の間
隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を形成
し、未露光部分および前記プレコート塗膜を除去後、電
着法により着色層を形成する方法(特開昭62−160
421号公報)、あるいは電着法による着色層の形成を
先に行い、ネガ型フォトレジストを全面に塗布し、その
塗膜を形成し該着色層をマスク代わりにして基板背面か
ら露光して機能性塗膜を形成する方法(特開昭62−2
47331号公報)など、電着および背面露光それぞれ
によって着色層および機能性膜を形成する方法が知られ
ている。
トライプ状の導電性回路上に遮光性プレコート塗膜を形
成し、次いで機能性塗膜を与えるネガ型フォトレジスト
を全面に塗布し、前記プレコート塗膜をマスク代わりに
して基板背面から露光して、ストライプ状の着色膜の間
隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を形成
し、未露光部分および前記プレコート塗膜を除去後、電
着法により着色層を形成する方法(特開昭62−160
421号公報)、あるいは電着法による着色層の形成を
先に行い、ネガ型フォトレジストを全面に塗布し、その
塗膜を形成し該着色層をマスク代わりにして基板背面か
ら露光して機能性塗膜を形成する方法(特開昭62−2
47331号公報)など、電着および背面露光それぞれ
によって着色層および機能性膜を形成する方法が知られ
ている。
【0004】しかしながら、従来の印刷による方法で
は、格子間が約100μm程度の粗いパターンのものし
かできず、更に、着色層と機能性塗膜の平坦性、寸法性
に難点があった。本発明者らは、前記した電着と背面露
光法とを組み合わせる方法が着色層を極めて精度よく導
電回路上にのみ選択的に塗着することができ、平坦性、
寸法性においても従来の印刷による方法よりも優れるこ
とに着目し、特に平坦性がより優れたカラーフィルター
を工業的有利に製造する方法につい鋭意検討した結果、
電着を光硬化性材料を用いて行うことにより目的が達成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。
は、格子間が約100μm程度の粗いパターンのものし
かできず、更に、着色層と機能性塗膜の平坦性、寸法性
に難点があった。本発明者らは、前記した電着と背面露
光法とを組み合わせる方法が着色層を極めて精度よく導
電回路上にのみ選択的に塗着することができ、平坦性、
寸法性においても従来の印刷による方法よりも優れるこ
とに着目し、特に平坦性がより優れたカラーフィルター
を工業的有利に製造する方法につい鋭意検討した結果、
電着を光硬化性材料を用いて行うことにより目的が達成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、電着法によっ
て着色塗膜を形成する工程および光硬化性の塗膜形成材
料を用い背面露光によって機能性塗膜を形成する工程を
含むカラーフィルターの製造方法にして、電着を光硬化
性材料を用いて行うことを特徴とする着色層を有しその
間隙に機能性塗膜を有するカラーフィルターの製造方
法、およびその方法で製造されたカラーフィルターを用
いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供す
る。
て着色塗膜を形成する工程および光硬化性の塗膜形成材
料を用い背面露光によって機能性塗膜を形成する工程を
含むカラーフィルターの製造方法にして、電着を光硬化
性材料を用いて行うことを特徴とする着色層を有しその
間隙に機能性塗膜を有するカラーフィルターの製造方
法、およびその方法で製造されたカラーフィルターを用
いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供す
る。
【0006】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
方法によってカラーフィルターを製造するに当たって、
着色塗膜を有し、その間隙に機能性塗膜を有する基板
は、電着による着色塗膜の形成工程と背面露光による機
能性塗膜の形成工程を含むかぎり、どのような方法によ
っても製造することができる。例えば、前記の特開昭6
2−160421号公報に記載されているように、導電
性回路を有する透明基板を用い、(i)該導電性回路上
に遮光性を有する薬剤可溶性のコート剤を電着コートし
て遮光性プレコート塗膜を形成し、(ii)該プレコート
塗膜を含み透明基板全体に光硬化性を有する機能性材料
を塗布して機能性を有する光硬化性塗膜を形成し、(ii
i )透明基板の背面から露光し、(iv)(ii)の光硬化
性塗膜の未露光部分および(i)の遮光性プレコート塗
膜を除去し、次いで(v)電着により着色塗膜を形成す
ることによって所望の基板を製造することができる。ま
た、前記特開昭62−247331号公報、特にその実
施例に記載されているように、導電性回路を有する透明
基板を用い、(i)該導電性回路上に電着により着色塗
膜を形成し、(ii)該着色塗膜を含み透明基板全体に光
硬化性を有する機能性材料を用いてその塗膜を形成し、
(iii )透明基板の背面から露光し、次いで(iv)
(i)の着色塗膜上にある(ii)で形成された機能性塗
膜(未露光部分)を除去することによっても所望の基板
を製造することができる。本発明は、例えば上記の方法
における電着による着色塗膜の形成を下記の方法によっ
て行うものである。
方法によってカラーフィルターを製造するに当たって、
着色塗膜を有し、その間隙に機能性塗膜を有する基板
は、電着による着色塗膜の形成工程と背面露光による機
能性塗膜の形成工程を含むかぎり、どのような方法によ
っても製造することができる。例えば、前記の特開昭6
2−160421号公報に記載されているように、導電
性回路を有する透明基板を用い、(i)該導電性回路上
に遮光性を有する薬剤可溶性のコート剤を電着コートし
て遮光性プレコート塗膜を形成し、(ii)該プレコート
塗膜を含み透明基板全体に光硬化性を有する機能性材料
を塗布して機能性を有する光硬化性塗膜を形成し、(ii
i )透明基板の背面から露光し、(iv)(ii)の光硬化
性塗膜の未露光部分および(i)の遮光性プレコート塗
膜を除去し、次いで(v)電着により着色塗膜を形成す
ることによって所望の基板を製造することができる。ま
た、前記特開昭62−247331号公報、特にその実
施例に記載されているように、導電性回路を有する透明
基板を用い、(i)該導電性回路上に電着により着色塗
膜を形成し、(ii)該着色塗膜を含み透明基板全体に光
硬化性を有する機能性材料を用いてその塗膜を形成し、
(iii )透明基板の背面から露光し、次いで(iv)
(i)の着色塗膜上にある(ii)で形成された機能性塗
膜(未露光部分)を除去することによっても所望の基板
を製造することができる。本発明は、例えば上記の方法
における電着による着色塗膜の形成を下記の方法によっ
て行うものである。
【0007】本発明における電着による着色塗膜の形成
は電着塗装法により行う。電着塗装法には、アニオン系
とカチオン系の塗装法が知られている。本発明において
はいずれの方法でも使用可能であるが、回路への影響が
少ないことなどから好ましくはアニオン系塗装法によっ
て行う。本発明の電着は光硬化性材料を用いて行う。光
硬化性材料としては、光硬化性であり、且つ、電着にお
いてバインダーとして機能するポリマー、およびバイン
ダーとして機能するポリマーに光硬化性を有する化合物
を配合してなる組成物などが挙げられる。光硬化性であ
り、且つ、バインダーとして機能するポリマーは既によ
く知られており、例えば、アマニ油、ポリブタジエン等
に、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート等の(メタ)アクリロイル基を
有する水酸基含有モノマーを半エステル付加させて得ら
れるポリマー、エポキシ基含有ポリマーに(メタ)アク
リル酸等を付加させ、次いで2塩基酸、3塩基等の多塩
基酸をエステル付加させて得られるポリマー(ここで、
多塩基酸としては、無水コハク酸、無水トリメリット酸
などの無水多塩基酸が工業的有利に使用される。)、高
酸価ポリマーに、グリシジル(メタ)アクリレート等を
作用させて得られるポリマー、および水溶性ポリエステ
ル樹脂にジイソシアネートの存在下、ヒドロキシエチル
アクリレート等の水酸基含有モノマーを付加させて得ら
れるポリマーなどが例示される。
は電着塗装法により行う。電着塗装法には、アニオン系
とカチオン系の塗装法が知られている。本発明において
はいずれの方法でも使用可能であるが、回路への影響が
少ないことなどから好ましくはアニオン系塗装法によっ
て行う。本発明の電着は光硬化性材料を用いて行う。光
硬化性材料としては、光硬化性であり、且つ、電着にお
いてバインダーとして機能するポリマー、およびバイン
ダーとして機能するポリマーに光硬化性を有する化合物
を配合してなる組成物などが挙げられる。光硬化性であ
り、且つ、バインダーとして機能するポリマーは既によ
く知られており、例えば、アマニ油、ポリブタジエン等
に、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート等の(メタ)アクリロイル基を
有する水酸基含有モノマーを半エステル付加させて得ら
れるポリマー、エポキシ基含有ポリマーに(メタ)アク
リル酸等を付加させ、次いで2塩基酸、3塩基等の多塩
基酸をエステル付加させて得られるポリマー(ここで、
多塩基酸としては、無水コハク酸、無水トリメリット酸
などの無水多塩基酸が工業的有利に使用される。)、高
酸価ポリマーに、グリシジル(メタ)アクリレート等を
作用させて得られるポリマー、および水溶性ポリエステ
ル樹脂にジイソシアネートの存在下、ヒドロキシエチル
アクリレート等の水酸基含有モノマーを付加させて得ら
れるポリマーなどが例示される。
【0008】また、バインダーとして機能するポリマー
としては、カルボキシル基含有のマレイン化油系、アク
リル系、ポリエステル系、ポリブタジエン系、ポリオレ
フィン系、エポキシ系などのポリマーが例示され、共用
される光硬化性を有する化合物としては、例えば、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリ
メチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのオリ
ゴマーが挙げられる。これらの光硬化性材料は、好まし
くは15〜150mgKOH/gの酸価および好ましく
は0.1〜0.5モル/kgの二重結合量(不飽和度)
を有することが望ましい。電着液の調製に当たっては、
好ましくはベンゾイン系、アントラキノン系などの公知
の光開始剤が、光硬化性材料に対して好ましくは0.1
〜10重量%用いられる。光開始剤としては非水溶性の
ものが望ましい。
としては、カルボキシル基含有のマレイン化油系、アク
リル系、ポリエステル系、ポリブタジエン系、ポリオレ
フィン系、エポキシ系などのポリマーが例示され、共用
される光硬化性を有する化合物としては、例えば、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリ
メチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのオリ
ゴマーが挙げられる。これらの光硬化性材料は、好まし
くは15〜150mgKOH/gの酸価および好ましく
は0.1〜0.5モル/kgの二重結合量(不飽和度)
を有することが望ましい。電着液の調製に当たっては、
好ましくはベンゾイン系、アントラキノン系などの公知
の光開始剤が、光硬化性材料に対して好ましくは0.1
〜10重量%用いられる。光開始剤としては非水溶性の
ものが望ましい。
【0009】また、水希釈性、電気泳動性、流展性など
の向上を目的としてアルコール系、セロソルブ系、エス
テル系、炭化水素系などの有機溶剤を用いることもでき
る。その他、消泡剤、塗膜流展剤など公知の助剤を適宜
使用することができる。電着液は、光硬化性材料、染
料、顔料などの着色用色素、必要に応じ上記の各種材料
を混合し、電着をアニオン系塗装法によって行う場合に
は有機アミン類によって中和後、脱イオン水で希釈して
調製される。有機アミンとしてはトリエチルアミンなど
のアルキルアミン類、ジエタノールアミンなどのアルカ
ノールアミン類が好ましく、その使用量は光硬化性材料
中のカルボキシル基に対して好ましくは0.3〜2モ
ル、更に好ましくは0.5〜1.2モルである。電着
は、このようにして調製した電着液の入った浴中に所定
の基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、その導電
性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料(ステンレスな
ど)を対極として入れて直流電圧を印加することによっ
て行う。その結果、導電性回路の上に選択的に電着塗膜
が形成される。
の向上を目的としてアルコール系、セロソルブ系、エス
テル系、炭化水素系などの有機溶剤を用いることもでき
る。その他、消泡剤、塗膜流展剤など公知の助剤を適宜
使用することができる。電着液は、光硬化性材料、染
料、顔料などの着色用色素、必要に応じ上記の各種材料
を混合し、電着をアニオン系塗装法によって行う場合に
は有機アミン類によって中和後、脱イオン水で希釈して
調製される。有機アミンとしてはトリエチルアミンなど
のアルキルアミン類、ジエタノールアミンなどのアルカ
ノールアミン類が好ましく、その使用量は光硬化性材料
中のカルボキシル基に対して好ましくは0.3〜2モ
ル、更に好ましくは0.5〜1.2モルである。電着
は、このようにして調製した電着液の入った浴中に所定
の基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、その導電
性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料(ステンレスな
ど)を対極として入れて直流電圧を印加することによっ
て行う。その結果、導電性回路の上に選択的に電着塗膜
が形成される。
【0010】電着塗膜の膜厚は、電着条件により制御す
ることができる。電着条件は、通常10〜300Vで1
秒から3分程度である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去することが望ましい。必要によ
り、好ましくは、100〜280℃、10〜120分間
の条件で加熱処理することによって塗膜強度を高めるこ
とができる。本発明の方法において、背面露光による機
能性塗膜の形成を上記の電着による着色塗膜の形成に先
立って行っている場合には、電着塗膜をよく洗浄後、例
えば30〜150℃、1〜30分の条件で水分を除去し
た後、好ましくは、基板の背面から露光、現像すること
によって、電着により機能性塗膜上に形成されることが
ある着色塗膜を除去する。この場合の背面露光および現
像は一般的な光硬化型樹脂に用いられる方法でもよく、
例えば、下記する機能性塗膜の形成条件を採用してもよ
い。
ることができる。電着条件は、通常10〜300Vで1
秒から3分程度である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去することが望ましい。必要によ
り、好ましくは、100〜280℃、10〜120分間
の条件で加熱処理することによって塗膜強度を高めるこ
とができる。本発明の方法において、背面露光による機
能性塗膜の形成を上記の電着による着色塗膜の形成に先
立って行っている場合には、電着塗膜をよく洗浄後、例
えば30〜150℃、1〜30分の条件で水分を除去し
た後、好ましくは、基板の背面から露光、現像すること
によって、電着により機能性塗膜上に形成されることが
ある着色塗膜を除去する。この場合の背面露光および現
像は一般的な光硬化型樹脂に用いられる方法でもよく、
例えば、下記する機能性塗膜の形成条件を採用してもよ
い。
【0011】本発明における背面露光による機能性塗膜
の形成はそれ自身公知の方法によって、例えば、次のと
おり行うことができる。先ず、光硬化性の塗膜形成材料
として、遮光性などの機能性を付与するネガ型フォトレ
ジスト組成物を所定の基板上の全面に塗布してネガ型レ
ジスト層を形成する。使用されるネガ型フォトレジスト
組成物は未露光部分が現像により溶出除去できるもので
あればよく、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキ
シ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコール系等の各種の
樹脂あるいは、ゴムまたはゼラチン、およびベンゾフェ
ノン系またはアントラキノン系の光重合開始剤などから
なる組成物が挙げられる。また、OMR−83(東京応
化工業社製)などの市販品、または光硬化型塗料または
インキとして市販されているものから適宜選択して使用
することもできる。
の形成はそれ自身公知の方法によって、例えば、次のと
おり行うことができる。先ず、光硬化性の塗膜形成材料
として、遮光性などの機能性を付与するネガ型フォトレ
ジスト組成物を所定の基板上の全面に塗布してネガ型レ
ジスト層を形成する。使用されるネガ型フォトレジスト
組成物は未露光部分が現像により溶出除去できるもので
あればよく、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキ
シ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコール系等の各種の
樹脂あるいは、ゴムまたはゼラチン、およびベンゾフェ
ノン系またはアントラキノン系の光重合開始剤などから
なる組成物が挙げられる。また、OMR−83(東京応
化工業社製)などの市販品、または光硬化型塗料または
インキとして市販されているものから適宜選択して使用
することもできる。
【0012】塗膜の機能性は、例えば、このようなネガ
型フォトレジスト組成物に金属酸化物系黒色顔料、カー
ボンブラック、硫化ビスマス、黒色染料などの黒色色素
を混合して、遮光性が付与される。ネガ型フォトレジス
ト組成物は、所望により反応性希釈剤、反応開始剤、光
増感剤、接着向上剤、粘度調整のための有機溶剤や水な
どを含有することができる。塗布は、スピンコート法、
ロールコート法、スクリーン印刷法、オフセット印刷
法、浸漬コート法などの方法によって行うことができ、
このようにして均質なネガ型レジスト層を形成すること
ができる。
型フォトレジスト組成物に金属酸化物系黒色顔料、カー
ボンブラック、硫化ビスマス、黒色染料などの黒色色素
を混合して、遮光性が付与される。ネガ型フォトレジス
ト組成物は、所望により反応性希釈剤、反応開始剤、光
増感剤、接着向上剤、粘度調整のための有機溶剤や水な
どを含有することができる。塗布は、スピンコート法、
ロールコート法、スクリーン印刷法、オフセット印刷
法、浸漬コート法などの方法によって行うことができ、
このようにして均質なネガ型レジスト層を形成すること
ができる。
【0013】次いで、所定の基板の裏面から露光、現像
し、現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化する。露
光は、ネガ型フォトレジスト組成物の種類により種々の
範囲の波長の光が使用できるが、一般には、UV領域の
波長光が好ましく、光源として超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等を使用した装置を用いて行うことができ
る。露光条件は、使用する光源およびネガ型フォトレジ
スト組成物の種類により異なるが、通常の露光量は10
0〜4000mJ/cm2 である。露光された部分は、
架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。露光の際の空
気中の酸素による硬化阻害を防止するために、窒素ガス
雰囲下に露光を行ってもよく、あるいはポリビニルアル
コールを主成分とする酸素遮断膜を設けて露光を行って
もよい。
し、現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化する。露
光は、ネガ型フォトレジスト組成物の種類により種々の
範囲の波長の光が使用できるが、一般には、UV領域の
波長光が好ましく、光源として超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等を使用した装置を用いて行うことができ
る。露光条件は、使用する光源およびネガ型フォトレジ
スト組成物の種類により異なるが、通常の露光量は10
0〜4000mJ/cm2 である。露光された部分は、
架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。露光の際の空
気中の酸素による硬化阻害を防止するために、窒素ガス
雰囲下に露光を行ってもよく、あるいはポリビニルアル
コールを主成分とする酸素遮断膜を設けて露光を行って
もよい。
【0014】現像は、ネガ型レジスト層の未露光部分を
溶出、除去するために行う。この除去は、適当な溶解力
を有する薬剤(現像液)に接触させ、溶出することによ
り行われる。このような薬剤は、ネガ型フォトレジスト
組成物の種類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、
炭酸ソーダ、4級アンモニウム塩又は有機アミン等を水
に溶かしたアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケト
ン、アルコール、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから
適宜選択される。溶出は浸漬あるいはシャワーなどによ
り30秒ないし5分程度行えばよい。その後に、水、有
機溶剤などを使用してよく洗浄することが望ましい。ま
た、硬化は常法によって容易に行うことができ、例え
ば、温度100〜280℃で10〜120分間加熱処理
することによって行うことができる。
溶出、除去するために行う。この除去は、適当な溶解力
を有する薬剤(現像液)に接触させ、溶出することによ
り行われる。このような薬剤は、ネガ型フォトレジスト
組成物の種類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、
炭酸ソーダ、4級アンモニウム塩又は有機アミン等を水
に溶かしたアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケト
ン、アルコール、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから
適宜選択される。溶出は浸漬あるいはシャワーなどによ
り30秒ないし5分程度行えばよい。その後に、水、有
機溶剤などを使用してよく洗浄することが望ましい。ま
た、硬化は常法によって容易に行うことができ、例え
ば、温度100〜280℃で10〜120分間加熱処理
することによって行うことができる。
【0015】このようにして着色層を有しその間隙に遮
光性塗膜を有する寸法性、平坦性など諸特性に優れる基
板を製造することができる。本発明の方法によって製造
された基板はそのままカラーフィルターとして用いるこ
とができるが、常法に従って、例えば上記のとおり形成
された着色塗膜および遮光性塗膜の上にオーバーコート
膜(保護膜)を形成し、必要によりその上に液晶駆動用
の透明導電膜を形成し、必要に応じて回路パターンを形
成してカラーフィルターを製造することができる。本発
明によれば、とりわけ平坦性が優れる基板が製造できる
のでオーバーコート膜の形成は省略することができる。
本発明の方法によって製造されたカラーフィルターを用
い、公知の方法にしたがって液晶表示装置を製造するこ
とができる。
光性塗膜を有する寸法性、平坦性など諸特性に優れる基
板を製造することができる。本発明の方法によって製造
された基板はそのままカラーフィルターとして用いるこ
とができるが、常法に従って、例えば上記のとおり形成
された着色塗膜および遮光性塗膜の上にオーバーコート
膜(保護膜)を形成し、必要によりその上に液晶駆動用
の透明導電膜を形成し、必要に応じて回路パターンを形
成してカラーフィルターを製造することができる。本発
明によれば、とりわけ平坦性が優れる基板が製造できる
のでオーバーコート膜の形成は省略することができる。
本発明の方法によって製造されたカラーフィルターを用
い、公知の方法にしたがって液晶表示装置を製造するこ
とができる。
【0016】このようにして着色塗膜とその間隙を埋め
る遮光性塗膜が精度よく形成され、光リークがよく防止
されており、着色が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性
のよいカラーフィルターを工業的有利に製造することが
でき、それを用いて高画質の液晶表示装置を製造するこ
とができる。次に実施例により本発明の方法をさらに詳
しく説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
る遮光性塗膜が精度よく形成され、光リークがよく防止
されており、着色が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性
のよいカラーフィルターを工業的有利に製造することが
でき、それを用いて高画質の液晶表示装置を製造するこ
とができる。次に実施例により本発明の方法をさらに詳
しく説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
【0017】
A 使用した各材料は次のとおりである。 1 透明回路基板:1.1mm 厚のガラス基板上に200
μm幅のITO膜(60Ω/平方)回路を40μmの間
隙を置いて(240μmピッチ)、平行直線に形成し
た。 2 遮光性を有する薬剤可溶性プレコート剤:マレイン
化油系ポリエステル樹脂の水溶液にチタン白、カーボン
ブラックを分散させた液(神東塗料製:エスビアTS#
5000)。固形分12%(重量)。 3 光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料):カ
ーボン含有の感光性の遮光性樹脂(富士ハントテクノロ
ジー製CK−2000) 4 光硬化性着色(赤青緑色)用を電着塗料 (a)光硬化性樹脂の合成 ポリブタジエン樹脂(1−2結合83%) 250重量部 (沃素化=390、数平均分子量分子量=1000) アマニ油(沃素化=185) 500重量部 無水マレイン酸 250重量部 キシレン 10重量部 トリメチルハイドロキノン 2重量部 3リットル4ツ口フラスコ(温度計、攪拌装置、還流冷
却装置、N2 ガス吹き込み装置付き)に仕込み窒素ガス
雰囲気下に190〜200℃で5時間反応させた。次に
未反応マレイン酸及びキシレンを留去した。全酸価=2
80mgKOH/gのマレイン化混合油を得た。
μm幅のITO膜(60Ω/平方)回路を40μmの間
隙を置いて(240μmピッチ)、平行直線に形成し
た。 2 遮光性を有する薬剤可溶性プレコート剤:マレイン
化油系ポリエステル樹脂の水溶液にチタン白、カーボン
ブラックを分散させた液(神東塗料製:エスビアTS#
5000)。固形分12%(重量)。 3 光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料):カ
ーボン含有の感光性の遮光性樹脂(富士ハントテクノロ
ジー製CK−2000) 4 光硬化性着色(赤青緑色)用を電着塗料 (a)光硬化性樹脂の合成 ポリブタジエン樹脂(1−2結合83%) 250重量部 (沃素化=390、数平均分子量分子量=1000) アマニ油(沃素化=185) 500重量部 無水マレイン酸 250重量部 キシレン 10重量部 トリメチルハイドロキノン 2重量部 3リットル4ツ口フラスコ(温度計、攪拌装置、還流冷
却装置、N2 ガス吹き込み装置付き)に仕込み窒素ガス
雰囲気下に190〜200℃で5時間反応させた。次に
未反応マレイン酸及びキシレンを留去した。全酸価=2
80mgKOH/gのマレイン化混合油を得た。
【0018】次に50℃に冷却し空気を吹き込み、空気
に置換し、以下を投入した。 ジエチレングリコールジメチルエーテル 320重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 290重量部 ハイドロキノン 1重量部 次いで、トリエチルアミン3重量部を投入し、80℃に
昇温し、半エステル化反応を実施した。2時間後に固形
分=79.5%、酸化=78mgKOH/g、二重結合
量=1.9mmol/gの粘性のある樹脂液を得た。 (b)−1 光硬化型赤色(R)電着塗料浴の作製 (b)−2 光硬化型緑色(G)電着塗料浴の作製 (b)−3 光硬化型青色(B)電着塗料浴の作製
に置換し、以下を投入した。 ジエチレングリコールジメチルエーテル 320重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 290重量部 ハイドロキノン 1重量部 次いで、トリエチルアミン3重量部を投入し、80℃に
昇温し、半エステル化反応を実施した。2時間後に固形
分=79.5%、酸化=78mgKOH/g、二重結合
量=1.9mmol/gの粘性のある樹脂液を得た。 (b)−1 光硬化型赤色(R)電着塗料浴の作製 (b)−2 光硬化型緑色(G)電着塗料浴の作製 (b)−3 光硬化型青色(B)電着塗料浴の作製
【0019】
【表1】
【0020】上記、各々の着色液にガラスビーズを投入
し、1800rpmで2時間分散し、光開始剤イルガキ
ュア907(チバガイギー社製)5重量部を各々に添加
し、更に15分間ビーズ分散して後、各々を脱イオン水
にて希釈して、固形分8%の光硬化型のR、G、B色の
電着塗料を得た。
し、1800rpmで2時間分散し、光開始剤イルガキ
ュア907(チバガイギー社製)5重量部を各々に添加
し、更に15分間ビーズ分散して後、各々を脱イオン水
にて希釈して、固形分8%の光硬化型のR、G、B色の
電着塗料を得た。
【0021】B カラーフィルターの作製 (i)遮光製プレコート塗膜の形成:基板の回路状にプ
レコート剤を用いて電着コートにより塗膜を形成させ
た。よく水洗した後70℃で10分プリベークした。形
成された塗膜は膜厚20μm、遮光率98%であった。
電着条件は30℃で50V、10秒であった。 (ii)光硬化性機能性塗膜(ブラックマスク用材料)
の形成:(i)の工程を経た基板上にスピンナーで上記
3で調製した光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材
料)を2.5ミクロンの膜厚になるよう塗布した。露光
は日本電池株式会社製超高圧水銀ランプを用い、光量1
00mJ/cm2 でガラス基板背面より行った。現像及
びポストベーク後の前記遮光性樹脂膜厚は2.0ミクロ
ンであった。(i)のプレコート膜は現像工程で溶出
し、よく、イソプロピルアルコール及び脱イオン水で洗
浄した後、ポストベーク230℃×30分を実施した。
2.0μm厚、遮光率が90%の機能性塗膜及び、IT
O面が回路通りきれいに露出した基板を得た。
レコート剤を用いて電着コートにより塗膜を形成させ
た。よく水洗した後70℃で10分プリベークした。形
成された塗膜は膜厚20μm、遮光率98%であった。
電着条件は30℃で50V、10秒であった。 (ii)光硬化性機能性塗膜(ブラックマスク用材料)
の形成:(i)の工程を経た基板上にスピンナーで上記
3で調製した光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材
料)を2.5ミクロンの膜厚になるよう塗布した。露光
は日本電池株式会社製超高圧水銀ランプを用い、光量1
00mJ/cm2 でガラス基板背面より行った。現像及
びポストベーク後の前記遮光性樹脂膜厚は2.0ミクロ
ンであった。(i)のプレコート膜は現像工程で溶出
し、よく、イソプロピルアルコール及び脱イオン水で洗
浄した後、ポストベーク230℃×30分を実施した。
2.0μm厚、遮光率が90%の機能性塗膜及び、IT
O面が回路通りきれいに露出した基板を得た。
【0022】(iii)着色膜の形成 (iii)−(i)電着 前記(b)−1、(b)−2、(b)−3を用いて順次
常法により赤、緑、青の1.8μmの塗膜がえられる
様、該基板を陽極として、電着した。(b)−1の電着
後は常法により水洗後90℃×15分間プリベークし、
しかる後、(b)−2を電着し、同様にプリベーク後、
(b)−3を電着し、同様にプリベークした。
常法により赤、緑、青の1.8μmの塗膜がえられる
様、該基板を陽極として、電着した。(b)−1の電着
後は常法により水洗後90℃×15分間プリベークし、
しかる後、(b)−2を電着し、同様にプリベーク後、
(b)−3を電着し、同様にプリベークした。
【0023】(iii)−(ii)背面露光 (iii)−(i)で得られた基板の背面より、日本電
池製高圧水銀ランプにより、800mJで露光し、カセ
イソーダの3%水で、洗浄した。引き続き脱イオン水に
て洗浄液の液化抵抗値が50万Ω・cm/25℃になる
まで洗浄した。
池製高圧水銀ランプにより、800mJで露光し、カセ
イソーダの3%水で、洗浄した。引き続き脱イオン水に
て洗浄液の液化抵抗値が50万Ω・cm/25℃になる
まで洗浄した。
【0024】(iii)−(iii)焼付 付着水を80℃×5分で、蒸散させた後、200℃で3
0分焼付乾燥して、平坦性の優れた99%の遮光率を有
する塗膜及び、所定のITO回路上にそれぞれ鮮明な
赤、緑、青色が精度よく配置されたカラーフィルターを
得た。
0分焼付乾燥して、平坦性の優れた99%の遮光率を有
する塗膜及び、所定のITO回路上にそれぞれ鮮明な
赤、緑、青色が精度よく配置されたカラーフィルターを
得た。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年4月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 カラーフィルターおよび液晶表示装置
の製造方法
の製造方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターおよ
び液晶表示装置の製造方法に関する。更に詳しくは、本
発明は、着色塗膜およびその間隙に遮光性塗膜を有する
カラーフィルターの新規な製造方法およびそのカラーフ
ィルターを用いて液晶表示装置を製造する方法に関す
る。
び液晶表示装置の製造方法に関する。更に詳しくは、本
発明は、着色塗膜およびその間隙に遮光性塗膜を有する
カラーフィルターの新規な製造方法およびそのカラーフ
ィルターを用いて液晶表示装置を製造する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、液
晶を利用したLCDは、いわゆるポケットテレビ等に使
われてきたが、近年大型化、大画面化が急速に進められ
ている。画質もTN液晶からSTN液晶やTFTに代表
されるアクティブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが
商品化されている。カラー表示装置の画質向上と生産性
の改善については、様々な検討が行われているが、その
重要な問題として、光リーク防止および画質向上(見か
けのコントラスト)のためのブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜の形成方法が挙げられる。LCDのカラー
化に使用されるカラーフィルターの着色塗膜の間隙を埋
める、遮光性などを有する機能性塗膜の形成方法とし
て、従来、シルクスクリーン法、オフセット法などの印
刷技術による方法が知られている。
晶を利用したLCDは、いわゆるポケットテレビ等に使
われてきたが、近年大型化、大画面化が急速に進められ
ている。画質もTN液晶からSTN液晶やTFTに代表
されるアクティブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが
商品化されている。カラー表示装置の画質向上と生産性
の改善については、様々な検討が行われているが、その
重要な問題として、光リーク防止および画質向上(見か
けのコントラスト)のためのブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜の形成方法が挙げられる。LCDのカラー
化に使用されるカラーフィルターの着色塗膜の間隙を埋
める、遮光性などを有する機能性塗膜の形成方法とし
て、従来、シルクスクリーン法、オフセット法などの印
刷技術による方法が知られている。
【0003】また、基板上に形成された複数の平行なス
トライプ状の導電性回路上に遮光性プレコート塗膜を形
成し、次いで機能性塗膜を与えるネガ型フォトレジスト
を全面に塗布し、前記プレコート塗膜をマスク代わりに
して基板背面から露光して、ストライプ状の着色塗膜の
間隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を形成
し、未露光部分および前記プレコート塗膜を除去後、電
着法により着色塗膜を形成する方法(特開昭62−16
0421号公報)、あるいは電着法による着色塗膜の形
成を先に行い、ネガ型フォトレジストを全面に塗布し、
その塗膜を形成し該着色塗膜をマスク代わりにして基板
背面から露光して機能性塗膜を形成する方法(特開昭6
2−247331号公報)など、電着および背面露光そ
れぞれによって着色塗膜および機能性塗膜を形成する方
法が知られている。
トライプ状の導電性回路上に遮光性プレコート塗膜を形
成し、次いで機能性塗膜を与えるネガ型フォトレジスト
を全面に塗布し、前記プレコート塗膜をマスク代わりに
して基板背面から露光して、ストライプ状の着色塗膜の
間隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を形成
し、未露光部分および前記プレコート塗膜を除去後、電
着法により着色塗膜を形成する方法(特開昭62−16
0421号公報)、あるいは電着法による着色塗膜の形
成を先に行い、ネガ型フォトレジストを全面に塗布し、
その塗膜を形成し該着色塗膜をマスク代わりにして基板
背面から露光して機能性塗膜を形成する方法(特開昭6
2−247331号公報)など、電着および背面露光そ
れぞれによって着色塗膜および機能性塗膜を形成する方
法が知られている。
【0004】しかしながら、従来の印刷による方法で
は、格子間が約100μm程度の粗いパターンのものし
かできず、更に、着色塗膜と機能性塗膜の平坦性、寸法
性に難点があった。本発明者らは、前記した電着法と背
面露光法とを組み合わせる方法が着色塗膜を極めて精度
よく導電性回路上にのみ選択的に塗着することができ、
平坦性、寸法性においても従来の印刷による方法よりも
優れることに着目し、特に平坦性がより優れたカラーフ
ィルターを工業的有利に製造する方法につい鋭意検討し
た結果、電着を光硬化性材料を用いて行うことにより目
的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
は、格子間が約100μm程度の粗いパターンのものし
かできず、更に、着色塗膜と機能性塗膜の平坦性、寸法
性に難点があった。本発明者らは、前記した電着法と背
面露光法とを組み合わせる方法が着色塗膜を極めて精度
よく導電性回路上にのみ選択的に塗着することができ、
平坦性、寸法性においても従来の印刷による方法よりも
優れることに着目し、特に平坦性がより優れたカラーフ
ィルターを工業的有利に製造する方法につい鋭意検討し
た結果、電着を光硬化性材料を用いて行うことにより目
的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、電着によって
着色塗膜を形成する工程および光硬化性の塗膜形成材料
を用い背面露光によって機能性塗膜を形成する工程を含
むカラーフィルターの製造方法にして、電着を光硬化性
材料を用いて行うことを特徴とする着色塗膜を有しその
間隙に機能性塗膜を有するカラーフィルターの製造方
法、およびその方法で製造されたカラーフィルターを用
いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供す
る。
着色塗膜を形成する工程および光硬化性の塗膜形成材料
を用い背面露光によって機能性塗膜を形成する工程を含
むカラーフィルターの製造方法にして、電着を光硬化性
材料を用いて行うことを特徴とする着色塗膜を有しその
間隙に機能性塗膜を有するカラーフィルターの製造方
法、およびその方法で製造されたカラーフィルターを用
いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供す
る。
【0006】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
方法によってカラーフィルターを製造するに当たって、
着色塗膜を有し、その間隙に機能性塗膜を有する基板
は、電着による着色塗膜の形成工程と背面露光による機
能性塗膜の形成工程を含むかぎり、どのような方法によ
っても製造することができる。例えば、前記の特開昭6
2−160421号公報に記載されているように、導電
性回路を有する透明基板を用い、(i)該導電性回路上
に遮光性を有する薬剤可溶性のコート剤を電着コートし
て遮光性プレコート塗膜を形成し、(ii)該プレコート
塗膜を含み透明基板全体に光硬化性を有する機能性材料
を塗布して機能性を有する光硬化性塗膜を形成し、(ii
i )透明基板の背面から露光し、(iv)(ii)の光硬化
性塗膜の未露光部分および(i)の遮光性プレコート塗
膜を除去し、次いで(v)電着により着色塗膜を形成す
ることによって所望の基板を製造することができる。ま
た、前記特開昭62−247331号公報、特にその実
施例に記載されているように、導電性回路を有する透明
基板を用い、(i)該導電性回路上に電着により着色塗
膜を形成し、(ii)該着色塗膜を含み透明基板全体に光
硬化性を有する機能性材料を用いてその塗膜を形成し、
(iii )透明基板の背面から露光し、次いで(iv)
(i)の着色塗膜上にある(ii)で形成された機能性塗
膜(未露光部分)を除去することによっても所望の基板
を製造することができる。本発明は、例えば上記の方法
における電着による着色塗膜の形成を下記の方法によっ
て行うものである。
方法によってカラーフィルターを製造するに当たって、
着色塗膜を有し、その間隙に機能性塗膜を有する基板
は、電着による着色塗膜の形成工程と背面露光による機
能性塗膜の形成工程を含むかぎり、どのような方法によ
っても製造することができる。例えば、前記の特開昭6
2−160421号公報に記載されているように、導電
性回路を有する透明基板を用い、(i)該導電性回路上
に遮光性を有する薬剤可溶性のコート剤を電着コートし
て遮光性プレコート塗膜を形成し、(ii)該プレコート
塗膜を含み透明基板全体に光硬化性を有する機能性材料
を塗布して機能性を有する光硬化性塗膜を形成し、(ii
i )透明基板の背面から露光し、(iv)(ii)の光硬化
性塗膜の未露光部分および(i)の遮光性プレコート塗
膜を除去し、次いで(v)電着により着色塗膜を形成す
ることによって所望の基板を製造することができる。ま
た、前記特開昭62−247331号公報、特にその実
施例に記載されているように、導電性回路を有する透明
基板を用い、(i)該導電性回路上に電着により着色塗
膜を形成し、(ii)該着色塗膜を含み透明基板全体に光
硬化性を有する機能性材料を用いてその塗膜を形成し、
(iii )透明基板の背面から露光し、次いで(iv)
(i)の着色塗膜上にある(ii)で形成された機能性塗
膜(未露光部分)を除去することによっても所望の基板
を製造することができる。本発明は、例えば上記の方法
における電着による着色塗膜の形成を下記の方法によっ
て行うものである。
【0007】本発明における電着による着色塗膜の形成
は電着塗装法により行う。電着塗装法には、アニオン系
とカチオン系の塗装法が知られている。本発明において
はいずれの方法でも使用可能であるが、回路への影響が
少ないことなどから好ましくはアニオン系塗装法によっ
て行う。本発明の電着は光硬化性材料を用いて行う。光
硬化性材料としては、光硬化性であり、且つ、電着にお
いてバインダーとして機能するポリマー、およびバイン
ダーとして機能するポリマーに光硬化性を有する化合物
を配合してなる組成物などが挙げられる。光硬化性であ
り、且つ、バインダーとして機能するポリマーは既によ
く知られており、例えば、マレイン化されたアマニ油、
ポリブタジエン等に、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の(メタ)
アクリロイル基を有する水酸基含有モノマーを半エステ
ル付加させて得られるポリマー、エポキシ基含有ポリマ
ーに(メタ)アクリル酸等を付加させ、次いで2塩基
酸、3塩基等の多塩基酸をエステル付加させて得られる
ポリマー(ここで、多塩基酸としては、無水コハク酸、
無水トリメリット酸などの無水多塩基酸が工業的有利に
使用される。)、高酸価ポリマーに、グリシジル(メ
タ)アクリレート等を作用させて得られるポリマー、お
よび水溶性ポリエステル樹脂にジイソシアネートの存在
下、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有モノ
マーを付加させて得られるポリマーなどが例示される。
は電着塗装法により行う。電着塗装法には、アニオン系
とカチオン系の塗装法が知られている。本発明において
はいずれの方法でも使用可能であるが、回路への影響が
少ないことなどから好ましくはアニオン系塗装法によっ
て行う。本発明の電着は光硬化性材料を用いて行う。光
硬化性材料としては、光硬化性であり、且つ、電着にお
いてバインダーとして機能するポリマー、およびバイン
ダーとして機能するポリマーに光硬化性を有する化合物
を配合してなる組成物などが挙げられる。光硬化性であ
り、且つ、バインダーとして機能するポリマーは既によ
く知られており、例えば、マレイン化されたアマニ油、
ポリブタジエン等に、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の(メタ)
アクリロイル基を有する水酸基含有モノマーを半エステ
ル付加させて得られるポリマー、エポキシ基含有ポリマ
ーに(メタ)アクリル酸等を付加させ、次いで2塩基
酸、3塩基等の多塩基酸をエステル付加させて得られる
ポリマー(ここで、多塩基酸としては、無水コハク酸、
無水トリメリット酸などの無水多塩基酸が工業的有利に
使用される。)、高酸価ポリマーに、グリシジル(メ
タ)アクリレート等を作用させて得られるポリマー、お
よび水溶性ポリエステル樹脂にジイソシアネートの存在
下、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有モノ
マーを付加させて得られるポリマーなどが例示される。
【0008】また、バインダーとして機能するポリマー
としては、カルボキシル基含有のマレイン化油系、アク
リル系、ポリエステル系、ポリブタジエン系、ポリオレ
フィン系、エポキシ系などのポリマーが例示され、共用
される光硬化性を有する化合物としては、例えば、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリ
メチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのオリ
ゴマーが挙げられる。これらの光硬化性材料は、好まし
くは15〜150mgKOH/gの酸価および好ましく
は0.1〜5モル/kgの二重結合量(不飽和度)を有
することが望ましい。電着液の調製に当たっては、好ま
しくはベンゾイン系、アントラキノン系などの公知の光
開始剤が、光硬化性材料に対して好ましくは0.1〜1
0重量%用いられる。光開始剤としては非水溶性のもの
が望ましい。
としては、カルボキシル基含有のマレイン化油系、アク
リル系、ポリエステル系、ポリブタジエン系、ポリオレ
フィン系、エポキシ系などのポリマーが例示され、共用
される光硬化性を有する化合物としては、例えば、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリ
メチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのオリ
ゴマーが挙げられる。これらの光硬化性材料は、好まし
くは15〜150mgKOH/gの酸価および好ましく
は0.1〜5モル/kgの二重結合量(不飽和度)を有
することが望ましい。電着液の調製に当たっては、好ま
しくはベンゾイン系、アントラキノン系などの公知の光
開始剤が、光硬化性材料に対して好ましくは0.1〜1
0重量%用いられる。光開始剤としては非水溶性のもの
が望ましい。
【0009】また、水希釈性、電気泳動性、流展性など
の向上を目的としてアルコール系、セロソルブ系、エス
テル系、炭化水素系などの有機溶剤を用いることもでき
る。その他、消泡剤、塗膜流展剤など公知の助剤を適宜
使用することができる。電着液は、光硬化性材料、染
料、顔料などの着色用色素、必要に応じ上記の各種材料
を混合し、電着をアニオン系塗装法によって行う場合に
は有機アミン類によって中和後、脱イオン水で希釈して
調製される。有機アミンとしてはトリエチルアミンなど
のアルキルアミン類、ジエタノールアミンなどのアルカ
ノールアミン類が好ましく、その使用量は光硬化性材料
中のカルボキシル基に対して好ましくは0.3〜2モ
ル、更に好ましくは0.5〜1.2モルである。電着
は、このようにして調製した電着液の入った浴中に所定
の基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、その導電
性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料(ステンレスな
ど)を対極として入れて直流電圧を印加することによっ
て行う。その結果、導電性回路の上に選択的に着色塗膜
が形成される。
の向上を目的としてアルコール系、セロソルブ系、エス
テル系、炭化水素系などの有機溶剤を用いることもでき
る。その他、消泡剤、塗膜流展剤など公知の助剤を適宜
使用することができる。電着液は、光硬化性材料、染
料、顔料などの着色用色素、必要に応じ上記の各種材料
を混合し、電着をアニオン系塗装法によって行う場合に
は有機アミン類によって中和後、脱イオン水で希釈して
調製される。有機アミンとしてはトリエチルアミンなど
のアルキルアミン類、ジエタノールアミンなどのアルカ
ノールアミン類が好ましく、その使用量は光硬化性材料
中のカルボキシル基に対して好ましくは0.3〜2モ
ル、更に好ましくは0.5〜1.2モルである。電着
は、このようにして調製した電着液の入った浴中に所定
の基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、その導電
性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料(ステンレスな
ど)を対極として入れて直流電圧を印加することによっ
て行う。その結果、導電性回路の上に選択的に着色塗膜
が形成される。
【0010】着色塗膜の膜厚は、電着条件により制御す
ることができる。電着条件は、通常10〜300Vで1
秒から3分程度である。着色塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去することが望ましい。必要によ
り、好ましくは、100〜280℃、10〜120分間
の条件で加熱処理することによって塗膜強度を高めるこ
とができる。本発明の方法において、背面露光による機
能性塗膜の形成を上記の電着による着色塗膜の形成に先
立って行っている場合には、着色塗膜をよく洗浄後、例
えば30〜150℃、1〜30分の条件で水分を除去し
た後、好ましくは、基板の背面から露光、現像すること
によって、電着により機能性塗膜上に形成されることが
ある着色塗膜を除去する。この場合の背面露光および現
像は一般的な光硬化型樹脂に用いられる方法でもよく、
例えば、下記する機能性塗膜の形成条件を採用してもよ
い。
ることができる。電着条件は、通常10〜300Vで1
秒から3分程度である。着色塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去することが望ましい。必要によ
り、好ましくは、100〜280℃、10〜120分間
の条件で加熱処理することによって塗膜強度を高めるこ
とができる。本発明の方法において、背面露光による機
能性塗膜の形成を上記の電着による着色塗膜の形成に先
立って行っている場合には、着色塗膜をよく洗浄後、例
えば30〜150℃、1〜30分の条件で水分を除去し
た後、好ましくは、基板の背面から露光、現像すること
によって、電着により機能性塗膜上に形成されることが
ある着色塗膜を除去する。この場合の背面露光および現
像は一般的な光硬化型樹脂に用いられる方法でもよく、
例えば、下記する機能性塗膜の形成条件を採用してもよ
い。
【0011】本発明における背面露光による機能性塗膜
の形成はそれ自身公知の方法によって、例えば、次のと
おり行うことができる。先ず、光硬化性の塗膜形成材料
として、遮光性などの機能性を付与するネガ型フォトレ
ジスト組成物を所定の基板上の全面に塗布してネガ型レ
ジスト層を形成する。使用されるネガ型フォトレジスト
組成物は未露光部分が現像により溶出除去できるもので
あればよく、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキ
シ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコール系等の各種の
樹脂あるいは、ゴムまたはゼラチン、およびベンゾフェ
ノン系またはアントラキノン系の光重合開始剤などから
なる組成物が挙げられる。また、OMR−83(東京応
化工業社製)などの市販品、または光硬化型塗料または
インキとして市販されているものから適宜選択して使用
することもできる。
の形成はそれ自身公知の方法によって、例えば、次のと
おり行うことができる。先ず、光硬化性の塗膜形成材料
として、遮光性などの機能性を付与するネガ型フォトレ
ジスト組成物を所定の基板上の全面に塗布してネガ型レ
ジスト層を形成する。使用されるネガ型フォトレジスト
組成物は未露光部分が現像により溶出除去できるもので
あればよく、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキ
シ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコール系等の各種の
樹脂あるいは、ゴムまたはゼラチン、およびベンゾフェ
ノン系またはアントラキノン系の光重合開始剤などから
なる組成物が挙げられる。また、OMR−83(東京応
化工業社製)などの市販品、または光硬化型塗料または
インキとして市販されているものから適宜選択して使用
することもできる。
【0012】塗膜の機能性は、例えば、このようなネガ
型フォトレジスト組成物に金属酸化物系黒色顔料、カー
ボンブラック、硫化ビスマス、黒色染料などの黒色色素
を混合して、遮光性が付与される。ネガ型フォトレジス
ト組成物は、所望により反応性希釈剤、反応開始剤、光
増感剤、接着向上剤、粘度調整のための有機溶剤や水な
どを含有することができる。塗布は、スピンコート法、
ロールコート法、スクリーン印刷法、オフセット印刷
法、浸漬コート法などの方法によって行うことができ、
このようにして均質なネガ型レジスト層を形成すること
ができる。
型フォトレジスト組成物に金属酸化物系黒色顔料、カー
ボンブラック、硫化ビスマス、黒色染料などの黒色色素
を混合して、遮光性が付与される。ネガ型フォトレジス
ト組成物は、所望により反応性希釈剤、反応開始剤、光
増感剤、接着向上剤、粘度調整のための有機溶剤や水な
どを含有することができる。塗布は、スピンコート法、
ロールコート法、スクリーン印刷法、オフセット印刷
法、浸漬コート法などの方法によって行うことができ、
このようにして均質なネガ型レジスト層を形成すること
ができる。
【0013】次いで、所定の基板の裏面から露光、現像
し、現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化する。露
光は、ネガ型フォトレジスト組成物の種類により種々の
範囲の波長の光が使用できるが、一般には、UV領域の
波長光が好ましく、光源として超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等を使用した装置を用いて行うことができ
る。露光条件は、使用する光源およびネガ型フォトレジ
スト組成物の種類により異なるが、通常の露光量は10
0〜4000mJ/cm2 である。露光された部分は、
架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。露光の際の空
気中の酸素による硬化阻害を防止するために、窒素ガス
雰囲下に露光を行ってもよく、あるいはポリビニルアル
コールを主成分とする酸素遮断膜を設けて露光を行って
もよい。
し、現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化する。露
光は、ネガ型フォトレジスト組成物の種類により種々の
範囲の波長の光が使用できるが、一般には、UV領域の
波長光が好ましく、光源として超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等を使用した装置を用いて行うことができ
る。露光条件は、使用する光源およびネガ型フォトレジ
スト組成物の種類により異なるが、通常の露光量は10
0〜4000mJ/cm2 である。露光された部分は、
架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。露光の際の空
気中の酸素による硬化阻害を防止するために、窒素ガス
雰囲下に露光を行ってもよく、あるいはポリビニルアル
コールを主成分とする酸素遮断膜を設けて露光を行って
もよい。
【0014】現像は、ネガ型レジスト層の未露光部分を
溶出、除去するために行う。この除去は、適当な溶解力
を有する薬剤(現像液)に接触させ、溶出することによ
り行われる。このような薬剤は、ネガ型フォトレジスト
組成物の種類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、
炭酸ソーダ、4級アンモニウム塩又は有機アミン等を水
に溶かしたアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケト
ン、アルコール、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから
適宜選択される。溶出は浸漬あるいはシャワーなどによ
り30秒ないし5分程度行えばよい。その後に、水、有
機溶剤などを使用してよく洗浄することが望ましい。ま
た、硬化は常法によって容易に行うことができ、例え
ば、温度100〜280℃で10〜120分間加熱処理
することによって行うことができる。
溶出、除去するために行う。この除去は、適当な溶解力
を有する薬剤(現像液)に接触させ、溶出することによ
り行われる。このような薬剤は、ネガ型フォトレジスト
組成物の種類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、
炭酸ソーダ、4級アンモニウム塩又は有機アミン等を水
に溶かしたアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケト
ン、アルコール、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから
適宜選択される。溶出は浸漬あるいはシャワーなどによ
り30秒ないし5分程度行えばよい。その後に、水、有
機溶剤などを使用してよく洗浄することが望ましい。ま
た、硬化は常法によって容易に行うことができ、例え
ば、温度100〜280℃で10〜120分間加熱処理
することによって行うことができる。
【0015】このようにして着色塗膜を有しその間隙に
遮光性塗膜を有する寸法性、平坦性など諸特性に優れる
基板を製造することができる。本発明の方法によって製
造された基板はそのままカラーフィルターとして用いる
ことができるが、常法に従って、例えば上記のとおり形
成された着色塗膜および遮光性塗膜の上にオーバーコー
ト膜(保護膜)を形成し、必要によりその上に液晶駆動
用の透明導電膜を形成し、必要に応じて回路パターンを
形成してカラーフィルターを製造することができる。本
発明によれば、とりわけ平坦性が優れる基板が製造でき
るのでオーバーコート膜の形成は省略することができ
る。本発明の方法によって製造されたカラーフィルター
を用い、公知の方法にしたがって液晶表示装置を製造す
ることができる。
遮光性塗膜を有する寸法性、平坦性など諸特性に優れる
基板を製造することができる。本発明の方法によって製
造された基板はそのままカラーフィルターとして用いる
ことができるが、常法に従って、例えば上記のとおり形
成された着色塗膜および遮光性塗膜の上にオーバーコー
ト膜(保護膜)を形成し、必要によりその上に液晶駆動
用の透明導電膜を形成し、必要に応じて回路パターンを
形成してカラーフィルターを製造することができる。本
発明によれば、とりわけ平坦性が優れる基板が製造でき
るのでオーバーコート膜の形成は省略することができ
る。本発明の方法によって製造されたカラーフィルター
を用い、公知の方法にしたがって液晶表示装置を製造す
ることができる。
【0016】このようにして着色塗膜とその間隙を埋め
る遮光性塗膜が精度よく形成され、光リークがよく防止
されており、着色が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性
のよいカラーフィルターを工業的有利に製造することが
でき、それを用いて高画質の液晶表示装置を製造するこ
とができる。次に実施例により本発明の方法をさらに詳
しく説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
る遮光性塗膜が精度よく形成され、光リークがよく防止
されており、着色が鮮明で光学特性が優れ、且つ平坦性
のよいカラーフィルターを工業的有利に製造することが
でき、それを用いて高画質の液晶表示装置を製造するこ
とができる。次に実施例により本発明の方法をさらに詳
しく説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
【0017】
【実施例】 〔A〕使用した各材料は次のとおりである。 1 透明回路基板:1.1mm厚のガラス基板上に20
0μm幅のITO膜(60Ω/平方)回路を40μmの
間隙を置いて(240μmピッチ)、平行直線に形成し
た。 2 遮光性を有する薬剤可溶性プレコート剤:マレイン
化油系ポリエステル樹脂の水溶液にチタン白、カーボン
ブラックを分散させた液(神東塗料製:エスビアTS#
5000)。固形分12%(重量)。 3 光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料):カ
ーボン含有の感光性の遮光性樹脂(富士ハントテクノロ
ジー製CK−2000) 4 光硬化性電着塗料: (a)光硬化性樹脂の合成 ポリブタジエン樹脂(1−2結合83%) 250重量部 (沃素価=390、数平均分子量=1000) アマニ油(沃素価=185) 500重量部 無水マレイン酸 250重量部 キシレン 10重量部 トリメチルハイドロキノン 2重量部を 3リットル4ツ口フラスコ(温度計、攪拌装置、還流冷
却装置、N2 ガス吹き込み装置付き)に仕込み窒素ガス
雰囲気下に190〜200℃で5時間反応させた。次に
未反応マレイン酸及びキシレンを留去した。全酸価=2
80mgKOH/gのマレイン化混合油を得た。
0μm幅のITO膜(60Ω/平方)回路を40μmの
間隙を置いて(240μmピッチ)、平行直線に形成し
た。 2 遮光性を有する薬剤可溶性プレコート剤:マレイン
化油系ポリエステル樹脂の水溶液にチタン白、カーボン
ブラックを分散させた液(神東塗料製:エスビアTS#
5000)。固形分12%(重量)。 3 光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料):カ
ーボン含有の感光性の遮光性樹脂(富士ハントテクノロ
ジー製CK−2000) 4 光硬化性電着塗料: (a)光硬化性樹脂の合成 ポリブタジエン樹脂(1−2結合83%) 250重量部 (沃素価=390、数平均分子量=1000) アマニ油(沃素価=185) 500重量部 無水マレイン酸 250重量部 キシレン 10重量部 トリメチルハイドロキノン 2重量部を 3リットル4ツ口フラスコ(温度計、攪拌装置、還流冷
却装置、N2 ガス吹き込み装置付き)に仕込み窒素ガス
雰囲気下に190〜200℃で5時間反応させた。次に
未反応マレイン酸及びキシレンを留去した。全酸価=2
80mgKOH/gのマレイン化混合油を得た。
【0018】次に50℃に冷却し空気を吹き込み、空気
に置換し、以下を投入した。 ジエチレングリコールジメチルエーテル 320重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 290重量部 ハイドロキノン 1重量部 次いで、トリエチルアミン3重量部を投入し、80℃に
昇温し、半エステル化反応を実施した。2時間後に固形
分=79.5重量%、酸価=78mgKOH/g、二重
結合量=1.9mol/gの粘性のある樹脂液を得た。 (b)−1 光硬化型青色(B)電着塗料浴の作製 (b)−2 光硬化型緑色(G)電着塗料浴の作製 (b)−3 光硬化型赤色(R)電着塗料浴の作製
に置換し、以下を投入した。 ジエチレングリコールジメチルエーテル 320重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 290重量部 ハイドロキノン 1重量部 次いで、トリエチルアミン3重量部を投入し、80℃に
昇温し、半エステル化反応を実施した。2時間後に固形
分=79.5重量%、酸価=78mgKOH/g、二重
結合量=1.9mol/gの粘性のある樹脂液を得た。 (b)−1 光硬化型青色(B)電着塗料浴の作製 (b)−2 光硬化型緑色(G)電着塗料浴の作製 (b)−3 光硬化型赤色(R)電着塗料浴の作製
【0019】
【表1】
【0020】上記、各々の混合着色液にガラスビーズを
投入し、1800rpmで2時間分散し、光開始剤イル
ガキュア907(チバガイギー社製)5重量部を各々に
添加し、更に15分間ビーズ分散して後、各々を脱イオ
ン水にて希釈して、固形分8%の光硬化型のR、G、B
色の電着塗料浴を得た。
投入し、1800rpmで2時間分散し、光開始剤イル
ガキュア907(チバガイギー社製)5重量部を各々に
添加し、更に15分間ビーズ分散して後、各々を脱イオ
ン水にて希釈して、固形分8%の光硬化型のR、G、B
色の電着塗料浴を得た。
【0021】〔B〕カラーフィルターの作製 (i)遮光製プレコート塗膜の形成:基板の回路上にプ
レコート剤を用いて電着コートにより塗膜を形成させ
た。よく水洗した後70℃で10分プリベークした。形
成された塗膜は膜厚2μm、遮光率98%であった。電
着条件は30℃で50V、10秒であった。 (ii)光硬化性機能性塗膜(ブラックマスク)の形
成:(i)の工程を経た基板上にスピンナーで上記3で
調製した光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料)
を2.5μmの膜厚になるよう塗布した。露光は日本電
池株式会社製超高圧水銀ランプを用い、光量100mJ
/cm2 でガラス基板背面より行った。現像及びポスト
ベーク後の前記遮光性樹脂膜厚は2.0μmであった。
(i)のプレコート膜は現像工程で溶出し、よく、イソ
プロピルアルコール及び脱イオン水で洗浄した後、ポス
トベーク230℃×30分を実施した。膜厚が2.0μ
m、遮光率が99%の機能性塗膜及び、ITO面が回路
通りきれいに露出した基板を得た。
レコート剤を用いて電着コートにより塗膜を形成させ
た。よく水洗した後70℃で10分プリベークした。形
成された塗膜は膜厚2μm、遮光率98%であった。電
着条件は30℃で50V、10秒であった。 (ii)光硬化性機能性塗膜(ブラックマスク)の形
成:(i)の工程を経た基板上にスピンナーで上記3で
調製した光硬化性機能性材料(ブラックマスク用材料)
を2.5μmの膜厚になるよう塗布した。露光は日本電
池株式会社製超高圧水銀ランプを用い、光量100mJ
/cm2 でガラス基板背面より行った。現像及びポスト
ベーク後の前記遮光性樹脂膜厚は2.0μmであった。
(i)のプレコート膜は現像工程で溶出し、よく、イソ
プロピルアルコール及び脱イオン水で洗浄した後、ポス
トベーク230℃×30分を実施した。膜厚が2.0μ
m、遮光率が99%の機能性塗膜及び、ITO面が回路
通りきれいに露出した基板を得た。
【0022】(iii)着色塗膜の形成 (iii)−(i)電着 前記(b)−3、(b)−2、(b)−1を用いて順次
常法により赤、緑、青の1.8μmの塗膜がえられる
様、該基板を陽極として、電着した。(b)−3の電着
後は常法により水洗後90℃×15分間プリベークし、
しかる後、(b)−2を電着し、同様に水洗、プリベー
ク後、(b)−1を電着し、同様にプリベークした。
常法により赤、緑、青の1.8μmの塗膜がえられる
様、該基板を陽極として、電着した。(b)−3の電着
後は常法により水洗後90℃×15分間プリベークし、
しかる後、(b)−2を電着し、同様に水洗、プリベー
ク後、(b)−1を電着し、同様にプリベークした。
【0023】(iii)−(ii)背面露光 (iii)−(i)で得られた基板の背面より、日本電
池製高圧水銀ランプにより、800mJ/cm2 で露光
し、3重量%カセイソーダ水で、洗浄した。引き続き脱
イオン水にて洗浄液の液比抵抗値が50万Ω・cm/2
5℃になるまで洗浄した。
池製高圧水銀ランプにより、800mJ/cm2 で露光
し、3重量%カセイソーダ水で、洗浄した。引き続き脱
イオン水にて洗浄液の液比抵抗値が50万Ω・cm/2
5℃になるまで洗浄した。
【0024】(iii)−(iii)焼付 付着水を80℃×5分で、蒸散させた後、200℃で3
0分焼付乾燥して、平坦性の優れた99%の遮光率を有
する塗膜及び、所定のITO回路上にそれぞれ鮮明な
赤、緑、青色が精度よく配置されたカラーフィルターを
得た。
0分焼付乾燥して、平坦性の優れた99%の遮光率を有
する塗膜及び、所定のITO回路上にそれぞれ鮮明な
赤、緑、青色が精度よく配置されたカラーフィルターを
得た。
Claims (2)
- 【請求項1】 電着によって着色塗膜を形成する工程お
よび光硬化性の塗膜形成樹脂を用い背面露光によって機
能性塗膜を形成する工程を含むカラーフィルターの製造
方法にして、電着を光硬化性材料を用いて行うことを特
徴とする着色塗膜を有しその間隙に機能性塗膜を有する
カラーフィルターの製造方法。 - 【請求項2】 請求項1の方法によって製造されたカラ
ーフィルターを用いることを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7385594A JPH07261017A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法 |
| US08/393,651 US5573876A (en) | 1994-03-18 | 1995-02-24 | Method for manufacturing color filter and liquid crystal display |
| EP95103192A EP0672934A1 (en) | 1994-03-18 | 1995-03-06 | Method for manufacturing color filter and liquid crystal display |
| FI951240A FI951240L (fi) | 1994-03-18 | 1995-03-16 | Menetelmä värisuodattimen ja nestekidenäytön valmistamiseksi |
| KR1019950005535A KR950033597A (ko) | 1994-03-18 | 1995-03-17 | 칼라필터 및 액정표시장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7385594A JPH07261017A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07261017A true JPH07261017A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=13530196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7385594A Pending JPH07261017A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5573876A (ja) |
| EP (1) | EP0672934A1 (ja) |
| JP (1) | JPH07261017A (ja) |
| KR (1) | KR950033597A (ja) |
| FI (1) | FI951240L (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW406214B (en) * | 1995-03-16 | 2000-09-21 | Hitachi Chemical Co Ltd | Production of color filter |
| GB9616044D0 (en) * | 1996-07-31 | 1996-09-11 | Sharp Kk | Liquid crystal devices |
| US6068953A (en) * | 1997-11-17 | 2000-05-30 | Ricoh Company, Ltd. | Color filter for liquid crystal display device |
| BRPI0810563B1 (pt) | 2007-04-24 | 2017-12-12 | Cabot Corporation | Smoke black and process for the production of a smoke black product |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62160421A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-16 | Shinto Paint Co Ltd | 微細な導電性回路の間に機能性塗膜を形成する方法 |
| JPH07117662B2 (ja) * | 1986-04-21 | 1995-12-18 | 神東塗料株式会社 | 微細な透明導電性回路パタ−ン上およびその間隙に機能性薄膜を形成する方法 |
| JPH04104102A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Nippon Paint Co Ltd | 多色表示装置の製法 |
| US5403698A (en) * | 1990-10-16 | 1995-04-04 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Negative type photosensitive electrodepositing resin composition |
| JPH05247386A (ja) * | 1991-11-27 | 1993-09-24 | Hitachi Chem Co Ltd | ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、ポジ型感光性アニオン電着塗料、電着塗装浴、電着塗装法及びプリント回路板の製造法 |
-
1994
- 1994-03-18 JP JP7385594A patent/JPH07261017A/ja active Pending
-
1995
- 1995-02-24 US US08/393,651 patent/US5573876A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-06 EP EP95103192A patent/EP0672934A1/en not_active Ceased
- 1995-03-16 FI FI951240A patent/FI951240L/fi not_active Application Discontinuation
- 1995-03-17 KR KR1019950005535A patent/KR950033597A/ko not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FI951240A0 (fi) | 1995-03-16 |
| EP0672934A1 (en) | 1995-09-20 |
| US5573876A (en) | 1996-11-12 |
| FI951240A7 (fi) | 1995-09-19 |
| FI951240L (fi) | 1995-09-19 |
| KR950033597A (ko) | 1995-12-26 |
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