JPH07263301A - ブランキングアパーチャアレイ方式電子ビーム露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は電子ビーム露光装置本体を複数設け
た構成のブランキングアパーチャアレイ方式電子ビーム
露光装置に関し、設備規模の小型化を実現することを目
的とする。 【構成】 ４つの電子ビーム露光装置本体２１_-1〜２１
_-4を、その間隔Ａ，Ｂを形成するＩＣチップの縦、横の
寸法の整数倍に定めて配置する。各露光装置本体２１_-1
〜２１_-4のブランキングアパーチャアレイ５２_-1を制御
するブランキングアパーチャアレイを制御部２３を単一
設け、且つ各露光装置本体２１_-1〜２１_-4のサブ偏向器
５４_-1を制御すると共にブランキングアパーチャアレイ
制御部２３を制御する主制御部２２を単一設けて構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブランキングアパーチャ
アレイ（以下ＢＡＡという）方式の電子ビーム露光装置
に関する。

【０００２】この種の露光装置は、スループットが大き
くて、しかも規模が小さくて設備費が安価であることが
望ましい。

【０００３】また、ウエハは将来的には、１２inと大径
化すると考えられる。従って、露光装置は、ウエハの大
径化に適した構成が望ましい。

【０００４】

【従来の技術】図６は、特開昭６４−２０６１９号に示
されている従来のＢＡＡ方式の電子ビーム露光装置１０
を示す。

【０００５】三つの筒状の電子ビーム露光装置本体１１
_-1，１１_-2，１１_-3が、一のウエハ１２に対向する配置
で設けてある。１３_-1，１３_-2，１３_-3は夫々ＢＡＡで
ある。

【０００６】第１の装置本体１１_-1に関して、主制御部
１４_-1及びＢＡＡ制御部１５_-1が設けてある。同じく、
第２の装置本体１１_-2，第３の装置本体１１_-3に関し
て、主制御部１４_-2，１４_-3及びＢＡＡ制御部１５_-2，
１５_-3が設けてある。

【０００７】１６は外部記憶装置であり、露光データが
記憶されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来のＢＡＡ方式の電
子ビーム露光装置１０は、一のウエハ１２に対して三個
所の露光を並行して行うため、一の電子ビーム露光装置
を設けた構造に比べて、高いスループットを達成するこ
とができるけれども、個々の装置本体１１_-1，１１_-2，
１１_-3毎に、主制御部１４_-1〜１４_-3及びＢＡＡ制御部
１５_-1〜１５_-3を別々に設けた構成であるため、設備が
大規模になって、製造コストが高価となってしまう。

【０００９】そこで、本発明は、上記課題を解決したブ
ランキングアパーチャアレイ方式電子ビーム露光装置を
提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項の発明は、鏡筒
と、該鏡筒内に設けてあり、電子ビームの束を形成する
ブランキングアパーチャアレイと、該鏡筒内に設けてあ
り、該ブランキングアパーチャアレイを通過した電子ビ
ーム束を偏向させる偏向手段とを有してなり、間隔を、
形成すべきＩＣチップの縦、横の長さ寸法の整数倍の寸
法に定めて配設された複数の電子ビーム露光装置本体
と、同じ点滅データを送り出して、各電子ビーム露光装
置本体のブランキングアパーチャアレイの動作を制御す
る単一のブランキングアパーチャアレイ制御部と、各電
子ビーム露光装置本体の偏向手段の動作を制御すると共
に、上記単一のブランキングアパーチャアレイの制御部
を制御する単一の主制御部とを有する構成としたもので
ある。

【００１１】請求項２の発明は、各電子ビーム露光装置
本体のブランキングアパーチャアレイの動作のタイミン
グずれを検出する検出手段と、上記単一の主制御部と各
電子ビーム露光装置本体の各偏向手段との間に設けてあ
り、上記検出手段の検出されたタイミングのずれに応じ
て、上記偏向手段への偏向信号の供給のタイミングを調
整する遅延手段とを更に有する構成としたことものであ
る。

【００１２】請求項３の発明は、気密空間を有する中空
の基台と、該基台の内部に配してあり、ウェハが載置さ
れるウェハ用ステージ装置と、該基台の上面に設けてあ
り、上記電子ビーム露光装置本体の夫々を別々に移動可
能に支持する電子ビーム露光装置本体用ステージ装置
と、該電子ビーム露光装置本体用ステージ装置を動作さ
せて、移動させた後における、電子ビーム露光装置本体
の位置を求める手段とを更に有する構成としたものであ
る。

【００１３】請求項４の発明は、請求項３の位置を求め
る手段は、上記基台に固定して配されたレーザ測長器
と、該レーザ測長器によって求めた距離に基づいて、上
記位置を算出する演算手段とを有する構成としたことを
特徴とするブランキングアパーチャアレイ方式電子ビー
ム露光装置。

【００１４】

【作用】請求項１の電子ビーム露光装置本体の間隔を、
形成すべきＩＣチップの長さ寸法の整数倍の寸法に定め
た構成は、ブランキングアパーチャアレイ制御部及び主
制御部を全部の電子ビーム露光装置本体について共通と
しうるように作用する。

【００１５】ブランキングアパーチャアレイ制御部及び
主制御部を夫々共通とした構成は、設備の規模を小さく
するように作用する。

【００１６】請求項２のタイミングずれ検出手段及び遅
延手段を設けた構成は、全部の電子ビーム露光装置が各
ＩＣチップ上の同じ位置を同じタイミングで露光するよ
うに作用する。

【００１７】請求項３の露光装置本体用ステージ装置を
設けた構成は、露光装置本体の位置を変更することを可
能とするように作用する。

【００１８】請求項４の演算手段を設けた構成は、レー
ザ測長器を動かさなくてもよいように作用する。

【００１９】

【実施例】

〔全体の概略構成〕図１は本発明の第１実施例になるＢ
ＡＡ方式の電子ビーム露光装置２０を示す。

【００２０】ＢＡＡ方式の電子ビーム露光とは、単一の
電子ビームを整形して複数の電子ビーム要素よりなる電
子ビームパターンを形成し、ウエハ上に所定露光パター
ンを、前記電子ビームパターンを構成する複数の電子ビ
ーム要素の照射により、所定のピッチで配列した露光ド
ットの集合として描画する露光方法をいう。

【００２１】装置２０は、第１乃至第４の４つの筒状の
電子ビーム露光装置本体２１_-1〜２１_-4，各装置本体２
１_-1〜２１_-4に共通である一の主制御部２２と、同じく
各装置本体２１_-1〜２１_-4に共通である一のＢＡＡ制御
部２３と、露光データが記憶されている外部記憶装置２
４とを有する。

【００２２】後述するように、電子ビーム露光装置本体
２１_-1〜２１_-4の間隔Ａ，Ｂを形成するＩＣチップの
縦、横の寸法の整数倍の寸法に定めている関係上、主制
御部２２及びＢＡＡ制御部２３は一つとなっている。

【００２３】各電子ビーム露光装置本体２１_-1〜２１_-4
毎に、ＢＡＡ系のＡＭＰ２５_-1〜２５_-4，偏向系のＡＭ
Ｐ２６_-1〜２６_-4，遅延回路２７_-1〜２７_-4が設けてあ
る。

【００２４】また、装置２０は、ステージ駆動回路２８
及びＢＡＡの動作タイミングずれ検出回路２９を更に有
する。 〔電子ビーム露光装置本体及びこれと関連する部分の構
造〕図２に併せて示すように、４０は、中空の直方体状
の基台であり、気密の空間４１を有する。

【００２５】図３に併せて示すように、基台４０の気密
空間４１内に、ウエハが載置されるウエハ用ステージ装
置４２が設けてある。

【００２６】ウエハ用ステージ装置４２は、Ｘ，Ｙ方向
に移動可能である矩形板状のステージ４３と、ステージ
駆動回路２８の出力に応じて動作され、ステージ４３を
動かす駆動機構（図示せず）とを有する。

【００２７】ステージ４３は鏡面状の側面４３ａ，４３
ｂを有する。

【００２８】基台４０のＸ方向に沿う側面４０ａに、二
つのレーザ測長器Ｙ_A ，Ｙ_B が、距離Ｌ_X の間隔を離し
て、取り付けられている。

【００２９】基台４０のＹ方向に沿う側面４０ｂに、同
じく、二つのレーザ測長器Ｘ_A ，Ｘ _B が、距離Ｌ_y の間
隔を離して取り付けてある。

【００３０】レーザ測長器Ｙ_A ，Ｙ_B ，Ｘ_A ，Ｘ_B は夫
々距離Ｙ_a1，Ｙ_b1，Ｘ_a1，Ｘ_b1を測定する。この測定デ
ータは、図１に示すように主制御部２２へ送られる。

【００３１】ｌ₁ ，ｌ₂ ，ｌ₃ ，ｌ₄ は夫々レーザ測長
器Ｙ_A ，Ｙ_B ，Ｘ_A ，Ｘ_B の光軸である第１の電子ビー
ム露光装置本体２１_-1は、図３に示すように鏡筒５０_-1
内に、その頂部から順次、電子銃５１_-1，ＢＡＡ５
２_-1，アパーチャ絞り５３_-1，サブ偏向器５４_-1，メイ
ン偏向器５５_-1，及び二次電子検出器５６_-1とを有す
る。

【００３２】ＢＡＡ５２_-1は、電子ビームを通過させる
多数の開口６０と、各開口６０に臨んで設けてあり、Ｂ
ＡＡ制御部２３からの点滅データを供給されて、電子ビ
ームを独立に偏向させる電極６１とを有し、多数本の電
子ビームよりなる束を形成する。

【００３３】アパーチャ絞り５３_-1は、ＢＡＡ５２を偏
向されずに透過した電子ビームを通過させ、ＢＡＡ５２
_-1を通過するときに偏向された電子ビームは遮蔽する。

【００３４】サブ偏向器５４_-1及びメイン偏向器５５_-1
は、夫々サブデフ走査回路６２及びメインデフ走査回路
６３よりの出力に基づいて、電子ビームを偏向させてウ
エハ上をラスタ走査させる。

【００３５】二次電子検出器５６は、リング形状を有
し、ステージ４３の真ぐ真上に位置しており、電子ビー
ムをウエハを照射したときにウエハから発生した二次電
子を検出する。

【００３６】電子ビーム露光装置本体２１_-2，２１_-3，
２１_-4も、上記の装置本体２１_-1と同じ構成であり、対
応する部分には、添字２，３，４を付した同一符号を付
す。

【００３７】第１の装置本体２１_-1の鏡筒５０_-1は、そ
の中心を、図２中、点６５を原点とする座標系におい
て、線ｌ₁ とｌ₂ との交点、即ち座標（Ｘａ，Ｙａ）の
点Ｐに一致させて、基台４０の上面４０ｃに固定してあ
る。

【００３８】第２の装置本体２１_-2の鏡筒５０_-2は、基
台４０の上面４０ｃ上に設けてある。電子ビーム露光装
置本体用ステージＸステージ装置７０_-2上に取り付けて
ある。

【００３９】ステージ装置７０_-2は、矢印７１で示すよ
うに、第２の装置本体２１_-2をＸ方向に移動しうる。

【００４０】ステージ装置７０_-2は、基準位置より距離
（図４中、Ｄ_x ）を読み取りうる機能を有する。

【００４１】図３に示すように、基台４０の上面４０ｃ
のうち、ステージ装置７０_-2の内側は開口７２となって
いる。

【００４２】鏡筒５０_-2の周囲と基台４０の上面４０ｃ
との間に、蛇腹状の真空シール２１ _-2が設けてある。

【００４３】ステージ装置７０_-2及び鏡筒５０_-2は、図
４に示すように、ステージ装置７０ _-2が基準位置とされ
たときに、鏡筒５０_-2の中心が、線ｌ₂ とｌ₃ との交
点、即ち、座標（Ｘａ＋Ｌｘ，Ｙｂ）の点Ｑに一致する
ように設けてある。

【００４４】図１及び図４に示すように、第４の装置本
体２１_-4の鏡筒５０_-4は、矢印７４で示すようＹ方向に
移動し得、且つ基準位置からの距離（図４中、Ｄ_y ）を
読み取り得る機能を備えたＹステージ装置（図示せず）
上に設けてある。

【００４５】鏡筒５０_-4は、上記のステージ装置（図示
せず）が基準位置に位置しているときに、鏡筒５０_-4の
中心が、線ｌ₁ とｌ₄ との交点、即ち、座標（Ｘｂ，Ｘ
ａ＋Ｌｙ）の点Ｓに一致するように設けてある。

【００４６】第３の装置本体２１_-3の鏡筒５０_-3は、矢
印７５で示すようにＸ方向及び矢印７６で示すようにＹ
方向に移動し得、且つ基準位置からの距離（図 中、Ｄ
_x1，Ｄ_y1）を読み取る機能を備えたＸＹステージ装置
（図示せず）上に設けてある。

【００４７】鏡筒５０_-3は、上記のＸＹステージ装置
（図示せず）が基準位置に位置しているときに、鏡筒５
０_-3の中心が、線ｌ₂ とｌ₄ との交点、即ち座標（Ｘｂ
＋Ｌｘ，Ｙｂ＋Ｌｙ）の点Ｒに一致するように設けてあ
る。 〔主制御部２２の構成〕主制御部２２は、記憶装置２４
ｂ，接続されているＣＰＵ８０と、ＣＰＵ８０によって
制御され、サブデフ走査回路６２とメインデフ走査回路
６３の両方を制御する露光制御回路８１とを有する。

【００４８】サブデフ走査回路６２は、同じ偏向信号
を、４つのライン８２_-1〜８２_-4に同時に出力する。 〔ＢＡＡ制御部２３の構成〕ＢＡＡ制御部２３は、記憶
装置２４から露光データを供給されるバッファメモリ９
０と、バッファメモリ９０からの露光データを供給され
て、これをＢＡＡ５２の個々の開口の点滅データに変換
するデータ展開回路９１と、変換された点滅データを記
憶するキャンバスメモリ９２と、キャンバスメモリ９２
に記憶された点滅データを並べ換えるデータ並べ換え回
路９３と、並べ換えられた点滅データを送り出すデータ
出力回路９４とを有する。

【００４９】データ出力回路９４は、同じ点滅データ
を、４つのライン９５_-1〜９５_-4に同時に出力する。

【００５０】キャンバスメモリ９２は、例えば１６ＭＤ
ＲＡＭが４００個よりなる大規模なものである。 〔露光動作〕次に、上記構成の電子ビーム露光装置２０
の動作について、説明する。

【００５１】例えば、図４に示すように、縦×横がａ×
ｂのサイズのＩＣチップ１００を形成する場合について
説明する。

【００５２】動作は、 電子ビーム露光装置本体の位置調整と、 露光 とに大別される。

【００５３】 電子ビーム露光装置本体の位置調整 位置調整前、第１の電子ビーム露光装置本体２１_-1は図
４中、実線で示す基準位置、第２，第３，第４の装置本
体２１_-2，２１_-3，２１_-4は、二点鎖線で示す基準位置
に位置している。

【００５４】ステージ装置７０_-2を操作し、第２の装置
本体２１_-1をＸ₁ 方向にＤｘ移動させて、実線で示すよ
うにその位置に固定する。

【００５５】第４の装置本体２１_-4のステージ装置（図
示せず）を操作し、第４の装置本体２１_-4をＹ₁ 方向に
Ｄｙ移動させて、実線で示すように、その位置に固定す
る。

【００５６】第３の装置本体２１_-3のステージ装置（図
示せず）を操作し、第３の装置本体２１_-3をＸ₁ 方向に
Ｄ_x1移動させ、且つＹ₁ 方向にＤ_y1移動させて、実線で
示すようにその位置に固定する。

【００５７】各ステージ装置７０_-2等の操作に伴って、
装置本体２１_-2，２１_-3，２１_-4の基準位置からの移動
量の情報が主制御部２２内のＣＰＵ８０に供給され、後
述するように減衰されて、その時々における装置本体２
１_-2，２１_-3，２１_-4の中心点Ｑ₁ ，Ｒ₁ ，Ｓ₁ の座標
が求められる。

【００５８】上記移動量Ｄ_x ，Ｄ_y ，Ｄ_x1，Ｄ_y1を適宜
定めることによって、第１の装置本体２１_-1と第４の装
置本体２１_-4との間の間隔Ａ，及び第２の装置本体２１
_-2と第３の装置本体２１_-3との間の間隔Ａを共に、上記
ＩＣチップ１００の縦寸法ａの丁度５倍に調整する。

【００５９】また、第１の装置本体２１_-1第２の装置本
体２１_-2との間の間隔Ｂ，第４の装置本体２１_-4と第３
の装置本体２１_-3との間の間隔Ｂを、共に上記ＩＣチッ
プ１００の横寸法ｂの丁度４倍に調整する。

【００６０】 露光 ｉ 例えば、径が１２inであり、レジスト膜を有するウ
エハ１０１を、ステージ４３上に固定する。

【００６１】ii 主制御部２２及びＢＡＡ制御部２３を
動作させる。

【００６２】これによりステージ駆動回路２８を介して
ステージ装置４２が、Ｙ方向とＸ方向に交互に駆動さ
れ、ステージ４３が図４中、符号１０２で示すジグザグ
軌跡を描いて移動する。

【００６３】これにより、第３の装置本体２１_-3は、ウ
エハ１０１の中心を原点とした場合にウエハ１０１のう
ち第１の象限の部分を、線１０３で示すようにジグザグ
状に相対的に走査する。

【００６４】第１の装置本体２１_-1，第２の装置本体２
１_-2，第４の装置本体２１_-4は、夫々ウエハ１０１の第
３象限の部分、第４象限の部分ジグザグ状に相対的に走
査する。

【００６５】ウエハ１０１の各装置本体２１_-1〜２１_-4
の真下の位置の情報が、主制御部２２に供給される。

【００６６】また、図１に示すように、ＢＡＡ制御部２
３から同時に４つのライン９５_-1〜９５_-4に、同一の点
滅データが出力される。

【００６７】各点滅データは、夫々ＡＭＰ２５_-1〜２５
_-4により増幅された後、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4
のＢＡＡ５２_-1等に加えられる。

【００６８】また主制御部２２から同時に４つのライン
８２_-1〜８２_-4に、同一の偏向信号が出力される。

【００６９】各偏向信号は夫々ＡＭＰ２６_-1〜２６_-4に
より増幅された後、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4のサ
ブ偏向器５４_-1等に加えられる。

【００７０】これにより、各露光装置本体２１_-1〜２１
_-4においては、電子ビームが同じ形状の束に整形され、
同じくラスタ走査される。

【００７１】従って、ウエハ１０１の露光は、形成され
るＩＣチップ群のうち、４つのＩＣチップについて、同
じ場所を同様に露光されつつ進行し、各露光装置本体２
１_-1〜２１_-4が、ウエハ１０１の４分の一の範囲の露光
を終了した時点で完了する。

【００７２】従って、１２inのウエハ１０１の露光時間
は、一の露光装置本体を使用して６inのウエハを露光す
るのに要する時間と同じであり、約３０枚／時間のスル
ープットが得られる。

【００７３】なお、別のサイズのＩＣチップを製造する
露光は、電子ビーム装置本体の間隔をＩＣチップの縦、
横寸法の整数倍となるように調整し直して、この後は、
上記と同様に行う。

【００７４】また、ステージ装置７０_-2等は、Ｘ，Ｙ方
向に、±１５mmの可動範囲を有している。このため、小
さいＩＣチップから大きいＩＣチップまで対応可能であ
る。

【００７５】装置２０は、更に、以下に述べる特徴を有
する。 〔サブ偏向の補正〕ＢＡＡ制御部２３から各露光装置本
体２１_-1〜２１_-4の各ＢＡＡ５２_-1等までの電線の長さ
の差異等に起因して、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4の
各ＢＡＡ５２_-1〜５２_-4のオンオフ動作のタイミングが
ずれる場合がある。この状態で、各露光装置本体２１_-1
〜２１_-4のサブ偏向器５４_-1〜５４_-4が同じタイミング
で動作すると、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4の露光状
況に差が生じ、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4によって
形成される露光パターンに微差が生じ、同じウエハから
切り出されたＩＣチップの中で特性にバラツキが生じて
しまう。

【００７６】そこで、本実施例においては、図１中、検
出回路２９及び遅延回路２７_-1〜２７_-4を有する構成と
してある。

【００７７】検出回路２９は、各露光装置本体２１_-1〜
２１_-4の各二次電子検出器５６_-1〜５６_-4より送り出さ
れてくる４つの信号について最も早い信号に対する時間
差を検出し、この時間差に応じた信号を出力する。

【００７８】この時間差に対応した信号が遅延回路２７
_-1〜２７_-4に加えられ、各遅延回路２７_-1〜２７_-4の遅
延時間が上記時間差に応じて調整される。

【００７９】これにより、偏向信号の各露光装置本体２
１_-1〜２１_-4の各サブ偏向器に加えられるタイミングが
補正される。

【００８０】この結果、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4
において、時間的にずれがあっても、同一の点滅データ
に対して、電子ビーム束が同じように偏向されることと
なり、各露光装置本体２１_-1〜２１_-4は、厳密に同じパ
ターンを露光する。

【００８１】従って、露光装置本体２１_-1〜２１_-4毎の
ＩＣチップの特性のバラツキは無くなる。 〔電子ビーム露光装置本体２１_-1〜２１_-4の位置座標の
求め方〕図５中、第１の電子ビーム露光装置本体２１_-1
の中心Ｐの座標（Ｘ₁ ，Ｙ₁ ）は、 Ｘ₁ ＝Ｘａ Ｙ₁ ＝Ｙａ で表わされる。

【００８２】第２の電子ビーム露光装置本体２１_-2の中
心Ｑの座標（Ｘ₂ ，Ｙ₂ ）は、次式を演算することによ
り求まる。

【００８３】Ｘ₂ ＝Ｘａ＋Ｌｘ＋Ｄｘ Ｙ₂ ＝Ｙｂ＋Ｄｘ（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌｘ 第３の電子ビーム露光装置本体２１_-3の中心Ｒ₁ の座標
（Ｘ₃ ，Ｙ₃ ）は、次式を演算することにより求まる。

【００８４】 Ｘ₃ ＝Ｘｂ＋Ｌｘ＋Ｄｘ＋Ｄｙ（Ｘｂ−Ｘａ）／Ｌｙ Ｙ₃ ＝Ｙｂ＋Ｌｙ＋Ｄｙ＋Ｄｘ（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌｘ 第４の電子ビーム露光装置本体２１_-4の中心Ｓ₁ の座標
（Ｘ₄ ，Ｙ₄ ）は、次式を演算する。

【００８５】Ｘ₄ ＝Ｘｂ＋Ｄｙ（Ｘｂ−Ｘａ）／Ｌｙ Ｙ₄ ＝Ｙａ＋Ｌｙ＋Ｄｙ 上記演算は、主制御部２２内で行われる。

【００８６】このようにして、レーザ測長器Ｘ_A ，
Ｘ_B ，Ｙ_A ，Ｙ_B は動かさずに、移動させた電子ビーム
露光装置本体の位置が求められる。 〔変形例〕電子ビーム露光装置本体を４つに限らず、２
つ、６つ又は９つ設けた構成としうる。

【００８７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、ブランキングアパーチャアレイ制御部及び主制
御部を、複数の電子ビーム露光装置本体の全部に対し
て、共通に使用する構成であるため、各電子ビーム露光
装置本体毎にブランキングアパーチャアレイ制御部及び
主制御部を設けた構成に比べて、設備を相当に小規模化
出来、これによって、装置の製造コストを安価とし得
る。即ち、大径のウエハにおいても高いスループットを
確保できる設備を、規模を特別に大きくせずに実現出来
る。

【００８８】請求項２の発明によれば、全部の電子ビー
ム露光装置が各ＩＣチップ上同じ位置を同じタイミング
で露光しつつ露光を行うことが出来、然して、各装置本
体間における露光精度のバラツキを無くすことが出来、
ウエハ全体について同じ品質で露光出来る。

【００８９】請求項３の発明によれば、ＩＣチップのサ
イズが変わっても、露光装置本体用ステージ装置を操作
することによって、これに対応することが出来る。即
ち、形成するＩＣチップの種類が変わってその縦、横の
寸法が今まで露光を行っていたＩＣチップのものとは変
わった場合であっても、露光装置本体用ステージ装置を
操作するだけで、露光を行うことが出来る。

【００９０】請求項４の発明によれば、レーザ測長器
は、その精度維持上動かせないという状況の下におい
て、移動させた電子ビーム露光装置本体の位置を求める
ことが出来、請求項３の発明の効果と同様の効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例になるＢＡＡ方式の電子ビ
ーム露光装置の概略構成図である。

【図２】図１中、中空基台に関する部分の構造を示す図
である。

【図３】図１中、主制御部、ＢＡＡ制御部、第１の電子
ビーム露光装置本体の構成を示す図である。

【図４】図１の装置の動作を説明する図である。

【図５】各電子ビーム露光装置本体を動かした後の中心
座標の求め方を説明する図である。

【図６】従来のＢＡＡ方式の電子ビーム露光装置を示す
図である。

【符号の説明】

２０ ＢＡＡ方式の電子ビーム露光装置 ２１_-1〜２１_-4 電子ビーム露光装置本体 ２２ 主制御部 ２３ ＢＡＡ制御部 ２４ 外部記憶装置 ２５_-1〜２５_-4 ＡＭＰ ２８ ステージ駆動回路 ２９ ＢＡＡの動作タイミングずれ検出回路 ４０ 中空の基台 ４０ａ，４０ｂ 側板 ４０ｃ 上板 ４１ 気密の空間 ４２ ウエハ用ステージ装置 ４３ ステージ ４３ａ，４３ｂ 側板 Ｘ_A ，Ｙ_A ，Ｘ_B ，Ｙ_B レーザ側長器 ５０ 鏡筒 ５１ 電子銃 ５２ ＢＡＡ ５３ アパーチャ絞り ５４ サブ偏向器 ５５ メイン偏向器 ５６ 二次電子検出器 ６０ 開口 ６１ 電極 ６２ サブデフ走査回路 ６３ メインデフ走査回路 ６５ 点（原点） ７０_-2 電子ビーム露光装置本体用Ｘステージ装置 ７２ 開口 ７３ 真空シール ８０ ＣＰＵ ８１ 露光制御回路 ８２_-1 ライン ９０ バッファメモリ ９１ データ展開回路 ９２ キャンバスメモリ ９３ データ並べ換え回路 ９４ データ出力回路 ９５ ライン １００ ＩＣチップ １０１ ウエハ １０２ 移動軌跡 １０３ 走査軌跡

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 鏡筒（５０_-1）と、該鏡筒内に設けてあ
   り、電子ビームの束を形成するブランキングアパーチャ
   アレイ（５２_-1）と、該鏡筒内に設けてあり、該ブラン
   キングアパーチャアレイを通過した電子ビーム束を偏向
   させる偏向手段（５４_-1，５５_-1）とを有してなり、間
   隔を、形成すべきＩＣチップの縦、横の長さ寸法の整数
   倍の寸法に定めて配設された複数の電子ビーム露光装置
   本体（２１_-1〜２１_-4）と、 同じ点滅データを送り出して、各電子ビーム露光装置本
   体のブランキングアパーチャアレイの動作を制御する単
   一のブランキングアパーチャアレイ制御部（２３）と、 各電子ビーム露光装置本体の偏向手段の動作を制御する
   と共に、上記単一のブランキングアパーチャアレイ制御
   部を制御する単一の主制御部（２２）とを有する構成と
   したことを特徴とするブランキングアパーチャアレイ方
   式電子ビーム露光装置。
2. 【請求項２】 各電子ビーム露光装置本体のブランキン
   グアパーチャアレイの動作のタイミングずれを検出する
   検出手段（５６，２９）と、 上記単一の主制御部と各電子ビーム露光装置本体の各偏
   向手段との間に設けてあり、上記検出手段の検出された
   タイミングのずれに応じて、上記偏向手段への偏向信号
   の供給のタイミングを調整する遅延手段（２７_-1〜２７
   _-4）とを更に有する構成としたことを特徴とする請求項
   １記載のブランキングアパーチャアレイ方式電子ビーム
   露光装置。
3. 【請求項３】 気密空間を有する中空の基台（４０）
   と、 該基台の内部に配してあり、ウエハが載置されるウエハ
   用ステージ装置（４２）と、 該基台の上面に設けてあり、上記電子ビーム露光装置本
   体の夫々を別々に移動可能に支持する電子ビーム露光装
   置本体用ステージ装置（７０_-2）と、 該電子ビーム露光装置本体用ステージ装置を動作させ
   て、移動させた後における、電子ビーム露光装置本体の
   位置を求める手段（Ｘ_A ，Ｘ_B ，Ｙ_A ，Ｙ_B ）とを更に
   有する請求項１記載のブランキングアパーチャアレイ方
   式電子ビーム露光装置。
4. 【請求項４】 請求項３の位置を求める手段は、 上記基台に固定して配されたレーザ測長器（Ｘ_A ，
   Ｘ_B ，Ｙ_A ，Ｙ_B ）と、 該レーザ測長器によって求めた距離に基づいて、上記位
   置を算出する演算手段（２２）とを有する構成としたこ
   とを特徴とするブランキングアパーチャアレイ方式電子
   ビーム露光装置。