JPH07266065A - 液晶マスク式パターン転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】レーザ装置２から取り出されるレーザ光１はビ
ーム拡大器３により、液晶マスク４の全面を照射し、マ
ーキングさせるパターン状の偏光方向を有するレーザ光
は、偏光ビームスプリッタ５で反射して、結像レンズ６
に入射し、液晶マスク４でのパターンが感光性樹脂７に
転写される。また、液晶マスク４にはＸＺステージ８が
接着されており、液晶マスク４はその画面に対して平行
な面内で左右及び上下方向に微動する。 【効果】液晶マスクを用いても連続するパターンを転写
できるようになった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザを光源に用いたパ
ターン転写装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光により文字などをワーク上に転
写する装置は一般にレーザマーカと呼ばれる。また、マ
ーキングさせる文字などの任意のパターンを液晶マスク
で形成し、そのパターンを結像光学系により、ワークに
転写させることでマーキングさせる装置は一般に液晶マ
スク式レーザマーカと呼ばれる。従来、液晶マスク式レ
ーザマーカでは、おもにＩＣパッケージなどの樹脂をワ
ークとしており、レーザ光の照射により、照射された部
分が温度上昇して変色することを利用してマーキングし
ていた。なお、液晶マスク式レーザマーカに関しては、
例えば、特開平2−207991号公報において説明されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の液晶マスク式レ
ーザマーカでは、例えば、図４に示したように、液晶マ
スクで形成したＡという文字を画素の集合体で形成する
と、マーキングされるパターンは、これと相似になり、
画素の集合体で構成される。そのため、ワークに連続す
るパターンを転写させることは困難であった。

【０００４】また、樹脂にマーキングする場合は、温度
上昇による変色を利用するため、ワークに対してレーザ
光が画素の集合として照射されても、隣接する画素間で
は、熱伝導による温度上昇により変色することがあり、
連続するパターン状にマーキングさせることが可能であ
った。ところが、ワークに対して光化学反応を利用して
パターン転写させる場合、光が照射される部分しか反応
しないため、従来の装置では連続するパターンを転写さ
せることは極めて困難であった。

【０００５】本発明の目的は、光化学反応を利用してパ
ターン転写させる場合でも、任意の連続するパターンを
転写できる装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するため
に、本発明は画面とほぼ平行な平面内で微動できる液晶
マスクを備えた。

【０００７】

【作用】液晶マスクがその画面と平行な平面内で微動す
ることにより、ワークに照射されるレーザ光のパターン
の位置を僅かにずらして複数回レーザ照射できる。それ
により、これら複数回の重複により形成されるパターン
では、元のパターンにおける画素間に対応する部分もレ
ーザ照射部として含んでおり、画素の集合体ではなく、
連続したパターンを形成することができる。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。

【０００９】図１で本発明の一実施例である液晶マスク
式パターン転写装置を説明する。

【００１０】図１に示された液晶マスク式パターン転写
装置１００は光化学反応を引き起こす部材の一例である
感光性樹脂に対して連続するパターンを転写させるため
の装置である。

【００１１】液晶マスク式パターン転写装置１００で
は、その光源として、紫外のレーザ光１を発生できるレ
ーザ装置２が用いられている。レーザ光１は、ここでは
ＹＡＧレーザの第３高調波であり、連続波になってい
る。また、液晶マスク４を利用できるように直線偏光に
なっている。ＹＡＧレーザの第３高調波は波長が３５５
ｎｍの紫外光であり、これは感光性樹脂を感光させるこ
とができる。

【００１２】レーザ光１はビーム拡大器３により、ビー
ム径が拡大され、液晶マスク４の全面が一度に照射され
る。液晶マスク４を通過し、マーキングさせるパターン
状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビームスプリッ
タ５で反射して、結像レンズ６を通り、ワークとしての
感光性樹脂７に照射される。すなわち、結像レンズ６に
より、液晶マスク４でのパターンが感光性樹脂７に転写
されるようになっている。なお、ここでは、液晶マスク
４としてＴＮ液晶を使用しているが、光散乱型液晶を用
いることもでき、その場合、レーザ光は非偏光でよく、
偏光ビームスプリッタ５は不要となる。

【００１３】液晶マスク４にはＸＺステージ８が備えら
れており、これにより液晶マスク４はその画面に対して
平行な平面内で左右及び上下方向に微動できるようにな
っている。これらの微動ごとに液晶マスク４の１画素が
感光性樹脂７に転写される位置を図２に示す。点線で示
された四角は液晶マスクを微動させない時の位置を示
す。ここに示された長さＡ及びＢは、液晶マスク４にお
けるそれぞれ左右方向に並ぶ画素と画素の間隔、及び上
下方向に並ぶ画素と画素の間隔に相当する。すなわち、
液晶マスク４に対して一定時間のレーザ照射ごとに液晶
マスク４を微動させることで、液晶マスク４における一
つの画素が感光性樹脂７では互いにずれた複数の画素と
なって転写されることになる。

【００１４】したがって、液晶マスク４で形成したパタ
ーン、及び感光性樹脂７に転写されるパターンを示す
と、それぞれ図３、及び図４のようになる。液晶マスク
４で形成したＡという文字は、図３に示されたように画
素の集合体から成るが、液晶マスク４の左右方向，上下
方向の各微動によるレーザ照射による四つのパターンが
重なると、図４に示したように、連続したパターンから
成るＡという文字になる。

【００１５】

【発明の効果】本発明によれば、ワークに対して連続し
た任意のパターンを転写することができる。特に、転写
させるパターンが細い線を含む場合でも、レーザ光を細
く絞る必要が無いため、従来のように、レーザ光を細く
絞ってワーク上でスキャンする方式に比べて、処理速度
を大幅に向上できるようになった。

【００１６】特に、本発明では、ワークとして温度上昇
などの熱的効果を伴わず、光化学反応を利用してパター
ン転写する場合に効果がある。例えば、ワークとして感
光性樹脂を用いて、これに回路パターンなどを転写する
ことで電子回路を製作する場合に、電子回路の回路パタ
ーンが画素の集合から構成され、回路として機能しない
問題が解決された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶マスク式パターン転写装置の説明
図。

【図２】液晶マスク式パターン転写装置における感光性
樹脂に照射されるレーザ光の位置の説明図。

【図３】液晶マスク式パターン転写装置における液晶マ
スクにおいて形成されたパターンを示す説明図。

【図４】液晶マスク式パターン転写装置における感光性
樹脂に照射されるレーザ光のパターンを示す説明図。

【符号の説明】

１…レーザ光、２…レーザ装置、３…ビーム拡大器、４
…液晶マスク、５…偏光ビームスプリッタ、６…結像レ
ンズ、７…感光性樹脂、８…ＸＺステージ、１００…液
晶マスク式パターン転写装置。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】画面とほぼ平行な平面内で微動できる液晶
   マスクを備えたことを特徴とする液晶マスク式パターン
   転写装置。
2. 【請求項２】請求項１において、パターンを転写するワ
   ークが光化学反応を引き起こす部材から成る液晶マスク
   式パターン転写装置。