JPH0726706U - 干渉計装置 - Google Patents
干渉計装置Info
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- JPH0726706U JPH0726706U JP6478293U JP6478293U JPH0726706U JP H0726706 U JPH0726706 U JP H0726706U JP 6478293 U JP6478293 U JP 6478293U JP 6478293 U JP6478293 U JP 6478293U JP H0726706 U JPH0726706 U JP H0726706U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来よりも高い精度な計測を実現できる干渉計
装置の提供にある。 【構成】被計測物体の変位量を計測する干渉計装置にお
いて、2つの直角プリズム(2a,2b)の内の一方の
斜面と他方の底面とを接合してこの接合面が偏光分離面
S1 で形成された光学部材2を配置し、この光学部材2
によって測定用光路と参照用光路とを形成する構成とし
たことを特徴とする干渉計装置。
装置の提供にある。 【構成】被計測物体の変位量を計測する干渉計装置にお
いて、2つの直角プリズム(2a,2b)の内の一方の
斜面と他方の底面とを接合してこの接合面が偏光分離面
S1 で形成された光学部材2を配置し、この光学部材2
によって測定用光路と参照用光路とを形成する構成とし
たことを特徴とする干渉計装置。
Description
【0001】
本考案は、被計測物体の変位量を計測する干渉計装置に関するものである。
【0002】
従来において、環境変化の1つとして空気の屈折率の変化を補正する干渉計装 置としては、例えば、特開昭60-263801 号が公知である。この特開昭60-263801 号に開示されている装置は、図6に示す如く、レーザ光源31からの光束は、ビ ームスプリッター32により2分割され、このビームスプリッター32を透過す る一方のビームL2 は、計測用ビームとして、図6の左右方向へ移動可能に設け られた計測側の反射部材34にて反射されて再びビームスプリッター32へ向か う。一方、ビームスプリッター32を反射する他方のビームL3 は、参照用ビー ムとして、反射鏡33を介して基台に固設された参照側の反射部材35を反射し 、再び反射鏡33を介してビームスプリッター32へ向かう。そして、ビームス プリッター32によって計測用ビームL2 と参照用ビームL3 とが一緒になり、 ビームL4 として光電検出器36にて受光され、被測定物としての反射部材34 の移動量が検出される。
【0003】 このとき、空気のゆらぎの影響を受ける部分での参照用光路長と計測用光路長 とが等しくなるように計測側の反射部材33と参照側の反射部材34とをほぼ等 しい位置に配置することにより、空気のゆらぎによる影響を補正している。
【0004】
ところが、図6に示した従来の装置では、被測定物としての反射部材34が大 きく移動した場合には、計測用ビームL2 と参照用ビームL3 との光路長差が大 きくなる。この結果、測定誤差が無視できない程、大きくなるため、空気のゆら ぎ等による空気の屈折率変化の影響を根本的に解決できるものではなかった。
【0005】 そこで、本考案は、上記の問題を解決し、空気のゆらぎ等によって生ずる空気 の屈折率変化のよる計測誤差を補正して、常に高精度な計測を可能とし得る高性 能な干渉装置を提供することを目的としている。
【0006】
上記の目的を達成するために、第1の考案としては、例えば図1に示す如く、 計測物体の変位量を計測する干渉計装置において、2つの直角プリズムの内の一 方の斜面と他方の底面とを接合してこの接合面が偏光分離面で形成された光学部 材を配置し、該光学部材によって測定用光路と参照用光路とを形成する構成とし たものである。
【0007】 また、上記の目的を達成するために、第2の考案としては、例えば図1に示す 如く、計測方向に沿って一体的に移動可能に設けられた第1及び第2計測用反射 手段と、それぞれ所定の位置に固設された第1及び第2参照用反射手段と、光束 を供給する光源手段と、該光源手段からの光束に基づいて,前記第1計測用反射 手段を介して往復する第1計測光路と前記第1参照用反射手段を介して往復する 第1参照光路とを形成し,該第1計測光路及び第1参照光路を経由した各光束に よって第1測定出力を生成する第1干渉計手段と、前記光源手段からの光束に基 づいて,前記第2計測用反射手段を介して往復する第2計測光路と前記第2参照 用反射手段を介して往復する第2参照光路とを形成し,該第2計測光路及び第2 参照光路を経由した各光束によって第2測定出力を生成する第2干渉計手段と、 前記第1及び第2測定出力に基づいて所定の演算を行う演算手段とを有し、 前記第1干渉計手段から前記第1参照用反射手段までの前記第1参照光路は、 前記第2干渉計手段から前記第2参照用反射手段までの前記第2参照光路よりも 短い光学的光路長を有し、 前記第1干渉計手段から前記第1計測用反射手段の基準位置までの前記第1計 測光路の光学的光路長をlM1とし、前記第2干渉計手段から前記第2計測用反射 手段の基準位置までの前記第2計測光路の光学的光路長をlM2、前記第1干渉計 手段から前記第1参照用反射手段までの前記第1参照光路の光学的光路長をlR1 、前記第2干渉計手段から前記第2参照用反射手段までの前記第2参照光路の光 学的光路長をlR2、前記基準位置からの前記第1及び第2計測用反射手段の変位 をxとするとき、 前記第1及び第2計測用反射手段は、以下の範囲を少なくとも移動可能、もし くは以下の範囲の1部を少なくとも移動可能に構成されるようにした。
【0008】 lR1−lM1≦x≦lR2−lM2
【0009】
本考案は、計測物体の変位量を計測する2つの干渉計装置において、2つの直 角プリズムの内の一方の斜面と他方の底面とを接合してこの接合面が偏光分離面 で形成された光学部材を配置し、該光学部材によって測定用光路と参照用光路と を形成する構成とし、環境変化に伴う測定誤差の影響を軽減するようにしたもの である。
【0010】 また、本考案は、2つの干渉計手段により形成される各参照光路を所定の長さ だけ異ならせしめつつ、2つの干渉計手段により形成される各計測光路長と各参 照光路長とを少なくとも所定の関係のもとで2つの計測用反射手段を一体的に移 動させるという事に着目したものである。 これにより、空気等の気体中を通過する参照光路と計測光路において屈折率変 化が生じた場合でも、環境変化に伴う空気等の気体の屈折率変化の情報を含んだ 異なる2つの計測出力を得て、この2つの計測出力に基づいて所定の演算を行う ことにより、各光路中での屈折率の変化による計測誤差を除去することができる 。しかも、2つの計測用反射手段を所定の移動範囲もしくはその範囲の1部を少 なくとも移動可能に構成することにより、2つの干渉計手段自体が持つ量子化誤 差による影響を格段に軽減することができ、大幅に計測精度の向上を達成するこ とができる。
【0011】 なお、各干渉計手段により形成される各計測光路並びにその付近に局所的な空 気等の気体中の屈折率変化が生じる恐れがある場合には、各干渉計手段は、これ らによりそれぞれ形成される参照光路と計測光路とが互いに近接する構成とする ことが望ましい。 以下の図4を参照しながら本考案の原理について説明する。図4の(a)は本 考案の第1干渉計装置の構成を示す図であり、(b)は本考案の第2干渉計装置 の構成を示す図である。
【0012】 まず、図4(a)に示す如く、第1の光源11から供給される光束は、光分割 部材としてのビームスプリッター12により2光束に分割され、このビームスプ リッター12を透過する一方のビームL21は、計測用ビームとして、図4(a) の左右方向へ移動可能に設けられた計測用の反射部材14(計測用反射手段)に て反射されて再びビームスプリッター12に向かう。一方、ビームスプリッター 12を反射する他方のビームL31は、参照用ビームとして反射鏡13を反射し、 計測用ビームL21の光路と近接した空気等の気体中を計測用ビームL21と平行と なるように進行する。その後、ビームL31は基台に固設された参照用の反射部材 15(第1参照用反射手段)を反射し、再び計測用ビームL21の光路と近接した 空気等の気体中を計測用ビームL21と平行となるように進行し、反射鏡13を介 してビームスプリッター12へ向かう。そして、ビームスプリッター12によっ て計測用ビームL21と参照用ビームL31とが一緒になり、ビームL41として第1 のレシーバー16(第1検出器)にて受光され、被測定物としての反射部材14 の移動量が検出される。
【0013】 ここで、図4(a)に示す第1干渉計は、ビームスプリッター12と反射鏡1 3と第1のレシーバー16とで構成されており、参照用の反射部材15は、気体 中の参照用光路の光学的光路長がlR1となるように、第1干渉計に対して所定の 光学的距離lR1だけ隔てて基台に固設されている。また、計測用の反射部材14 は、これの基準位置における気体中の計測用光路の光学的光路長がlM1となるよ うに、第1干渉計から計測用の反射部材14の基準位置までの光学的距離がlM1 となるように移動可能に設定されている。
【0014】 一方、図4(a)の紙面と垂直な方向には、図4(b)に示す如き第2干渉計 装置が並列的に配置されており、第2干渉計装置では、反射鏡23及び参照用の 反射部材25は、第2干渉計の気体中の参照用光路の光学的光路長lR2が第1干 渉計の気体中の参照用光路の光学的光路長lR1に対し異なるようにそれぞれ固設 されている。また、ビームスプリッター22及び計測用の反射部材24(計測用 反射手段)は、反射部材24の基準位置において、第2干渉計の気体中の測定用 光路の光学的光路長lM2が第2干渉計の気体中の参照用光路の光学的光路長lM1 に対し異なるようにそれぞれ設定、あるいは反射部材24の基準位置において、 第2干渉計の気体中の測定用光路の光学的光路長lM2が第2干渉計の気体中の参 照用光路の光学的光路長lM1と実質的に等しくなるようにそれぞれ設定されてお り、それ以外に関しては図4(a)に示す第1干渉計装置と基本的に同一である 。
【0015】 図4(b)に示す如く、第2の光源21から供給される光束は、光分割部材と してのビームスプリッター22により2光束に分割され、このビームスプリッタ ー22を透過する一方のビームL22は、計測用ビームとして、計測用の反射部材 24(計測用反射手段)に向かう。この反射部材24は、図4(a)に示した反 射部材14と同一の変位を持つように接合され、反射部材14と共に図4(b) の左右方向へ移動可能に設けられている。そして、計測用の反射部材24へ向か うビームL22は、この反射部材24にて反射されて再びビームスプリッター22 へ向かう。一方、ビームスプリッター22を反射する他方のビームL32は、参照 用ビームとして反射鏡23を反射し、計測用ビームL22の光路と近接した空気等 の気体中を計測用ビームL22と平行となるように進行する。その後、ビームL32 は基台に固設された参照用の反射部材25(第2参照用反射手段)を反射し、再 び計測用ビームL22の光路と近接した空気等の気体中を計測用ビームL22と平行 となるように進行し、反射鏡23を介してビームスプリッター22へ向かう。そ して、ビームスプリッター22によって計測用ビームL22と参照用ビームL32と が一緒になり、ビームL42として、第2のレシーバー26(第2検出器)にて受 光され、被測定物としての反射部材24の移動量が検出される。
【0016】 なお、図4(b)に示す第2干渉計は、ビームスプリッター22と反射鏡23 と第2のレシーバー26とで構成されている。 以上の構成によって、被計測物としての反射部材14及び24が図4の紙面方 向へ一体的に移動すると、第1干渉装置の第1のレシーバー16と第2干渉装置 の第2のレシーバー26とからはそれぞれ異なる2つの検出信号が出力される。
【0017】 今、第1干渉装置の第1のレシーバー16からの出力をXA 、第2干渉装置の 第2のレシーバー26からの出力をXB とし、測定開始時(リセット時)等の初 期の基準となる気体の屈折率をn、測定開始時(リセット時)等の初期の基準気 体の屈折率からの屈折率変化量をΔn、第1干渉計の参照光路中での気体の屈折 率の変化の影響を受ける部分の光学的光路の長さ(第1干渉計と第1参照用反射 手段との間の第1参照光路の光学的光路長)をlR1、第2干渉計の参照光路中で の気体の屈折率の変化の影響を受ける部分の光学的光路の長さ(第2干渉計と第 2参照用反射手段との間の第2参照光路の光学的光路長)をlR2、測定開始時( リセット時)等の初期の計測用反射手段の基準位置における第1干渉計の計測光 路中での気体の屈折率の変化の影響を受ける部分の光路の長さ(第1干渉計と計 測用反射手段の基準位置との間の第1計測光路の光学的光路長)をlM1、測定開 始時(リセット時)等の初期の計測用反射手段の基準位置における第2干渉計の 計測光路中での気体の屈折率の変化の影響を受ける部分の光路の長さ(第2干渉 計と計測用反射手段の基準位置との間の第2計測光路の光学的光路長)をlM2、 第1及び第2計測光路の各々において気体の屈折率の変化の影響を受ける部分で の光路の長さがそれぞれlM1,lM2となる時の被計測物体(第1及び第2計測用 反射手段)の基準位置(原点)からの変位をxとする。但し、この変位xは、被 計測物体が原点より右側へ移動する時を正、被計測物体が原点より左側へ移動す る時を負とする。
【0018】 ここで、第1干渉装置の第1のレシーバー16からの出力XA には、気体に露 出している参照光路の長さ(lR1)の分だけ気体の屈折率の変化の影響を受けた 情報と、気体に露出している計測光路の光学的長さ(lM1+x)の分だけ気体の 屈折率の変化の影響を受けた情報とを含んでいる。 一方、第2干渉装置の第2のレシーバー26からの出力XB には、気体に露出 している参照光路の長さ(lR2)の分だけ気体の屈折率の変化の影響を受けた情 報と、気体に露出している計測光路の光学的長さ(lM2+x)の分だけ気体の屈 折率の変化の影響を受けた情報とを含んでいる。
【0019】 従って、この時、以下に示す(1)式及び(2)式の関係が成立する。
【0020】
【数1】
【0021】
【数2】
【0022】 (1)式及び(2)式より以下の(3)式が導出される。
【0023】
【数3】
【0024】 そこで、各干渉計装置による量子化誤差により測定結果に加えられる誤差量を Δxとすると、上記(3)式より、以下の(4)式の如くなる。
【0025】
【数4】
【0026】 そして、上記(4)式を変形すると、以下の(5)式が得られる。
【0027】
【数5】
【0028】 ここで、(1)式、(2)式及び(5)式の関係の関係より、以下の(6)式 が導出される。
【0029】
【数6】
【0030】 ここで、n+Δn≒1、(lM1−lR1)−(lM2−lR2)=αとすると、上記 (6)式は、最終的に以下の(7)式の如くなる。
【0031】
【数7】
【0032】 そこで、上式(7)に基づいて量子化誤差量Δxの最大値ΔxMAX について検 討する。今、α>0であるものとし、第1及び第2干渉計装置の量子化誤差(δ A ,δB )の最大値と最小値をそれぞれe,−e、各干渉計装置の量子化誤差が 、−e≦δA ≦e,−e≦δB ≦eの範囲を取り得る時、上記(7)式による量 子化誤差量の最大値|ΔxMAX |は以下の(i)〜(iii)の3通りに場合分け できる。(i)lR1−lM1≦x≦lR2−lM2の場合 この場合には、lM1−lR1+x≧0,lM2−lR2+x≦0となり、量子化誤差 量の最大値|ΔxMAX |は、上記(7)式より、次式(8)の如くなる。
【0033】
【数8】
【0034】(ii)x>lR2−lM2の場合 この場合には、lM1−lR1+x>0,lM2−lR2+x>0となり、量子化誤差 量の最大値|ΔxMAX |は、上記(7)式より、次式(9)の如くなる。
【0035】
【数9】
【0036】(iii)x<lR1−lM1の場合 この場合には、lM1−lR1+x<0,lM2−lR2+x<0となり、量子化誤差 量の最大値|ΔxMAX |は、上記(7)式より、次式(10)の如くなる。
【0037】
【数10】
【0038】 そこで、上記(8)式〜(10)式を用いて、図4に示した干渉計装置全体と して高精度を保証するための計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲 xについて検討する。 空気等の気体の揺らぎ等による気体の屈折率変化の影響を補正しつつ、干渉計 装置として高精度を保証するためには、現実的に、干渉計装置の計測出力に加わ る量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を4e以下に抑えることが好ましい。従 って、以下において、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差eを4倍〜1倍 以下にそれぞれ抑えた場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移 動範囲xについて説明する。(I)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を4e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(8)式〜(10)式より、以下の(11)式の如くなる。
【0039】
【数11】
【0040】 一例として、図4(a)に示した第1干渉計装置と図4(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lR1=1.0m、 lR2=1.5m、lM1=lM2=0.5mとした場合及びlR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1= 0.3m、lM2=0.5mとした場合について、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤 差の最大値(|ΔxMAX |)を4e以下に抑えられる計測用の反射部材(14, 24)の移動範囲xについて見る。
【0041】 lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=lM2=0.5mとした場合には、上記(11)式 より計測用の反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.25 〜1.75m となり、干 渉計装置全体としては2.0nm (=4e)の精度が保証されながら、広い計測範囲 を確保できることが理解できる。また、lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=0.3m、 lM2=0.5mとした場合には、上記(11)式より計測用の反射部材(14,24 )の移動範囲xは0.25m 〜1.45m となり、干渉計装置全体としては2.0nm (=4 e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保できることが理解でき る。(II)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を3e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(8)式〜(10)式より、以下の(12)式の如くなる。
【0042】
【数12】
【0043】 一例として、図4(a)に示した第1干渉計装置と図4(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lR1=1.0m、 lR2=1.5m、lM1=lM2=1.25m とした場合及びlR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1 =2.0m、lM2=1.5mとした場合について、干渉計装置の計測出力に加わる量子化 誤差の最大値(|ΔxMAX |)を3e以下に抑えられる計測用の反射部材(14 ,24)の移動範囲xについて見る。
【0044】 lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=lM2=1.25m とした場合には、上記(12) 式より計測用の反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.75m〜0.75m となり、 干渉計装置全体としては1.5nm (=3e)の精度が保証されながら、広い計測範 囲を確保できることが理解できる。また、lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=2.0m 、lM2=1.5mとした場合には、上記(12)式より計測用の反射部材(14,2 4)の移動範囲xは-2.0m 〜1.0mとなり、干渉計装置全体としては1.5nm (=3 e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保できることが理解でき る。(III)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を2e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(8)式〜(10)式より、以下の(13)式の如くなる。
【0045】
【数13】
【0046】 一例として、図4(a)に示した第1干渉計装置と図4(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lR1=1.0m、 lR2=1.5m、lM1=lM2=2.0mとした場合及びlR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1= 1.75m 、lM2=2.0mとした場合について、干渉計装置の計測出力に加わる量子化 誤差の最大値(|ΔxMAX |)を2e以下に抑えられる計測用の反射部材(14 ,24)の移動範囲xについて見る。
【0047】 lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=lM2=2.0mとした場合には、上記(13)式 より計測用の反射部材(14,24)の移動範囲xは-1.25m〜-0.25mとなり、干 渉計装置全体としては1.0nm (=2e)の精度が保証されながら、広い計測範囲 を確保できることが理解できる。また、lR1=1.0m、lR2=1.5m、lM1=1.75m 、lM2=2.0mとした場合には、上記(13)式より計測用の反射部材(14,2 4)の移動範囲xは-0.875m 〜-0.375m となり、干渉計装置全体としては1.0nm (=2e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保できることが理 解できる。(IV)量子化誤差の最大値ΔxMAX をe以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(8)式〜(10)式より、次式(14)の如くなる。
【0048】
【数14】
【0049】 一例として、図4(a)に示した第1干渉計装置と図4(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lR1=0.5m、 lR2=1.5m、lM1=lM2=1.0mとした場合及びlR1=1.0m、lR2=2.0m、lM1= 2.0m、lM2=1.5mとした場合について、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤 差の最大値(|ΔxMAX |)をe以下に抑えられる計測用の反射部材(14,2 4)の移動範囲xについて見る。
【0050】 lR1=0.5m、lR2=1.5m、lM1=lM2=1.0mとした場合には、上記(14)式 より計測用の反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.5m 〜0.5mとなり、また 、lR1=1.0m、lR2=2.0m、lM1=2.0m、lM2=1.5mとした場合には、上記(1 4)式より計測用の反射部材(14,24)の移動範囲xは-1.0m 〜0.5mとなり 、干渉計装置全体としては0.5nm (=e)の精度が保証されながら、広い計測範 囲を確保できることが理解できる。
【0051】 以上の如く、本考案によれば、環境変化に伴う気体の屈折率が変化しても高精 度のもとで安定した計測が実現できることが理解できる。しかも、本考案では、 被計測物体(第1及び第2計測用反射手段)を(14)式を満足する範囲におい て移動させれば、原理的に、2つの干渉計の量子化誤差e(又は分解能)を1倍 以下に抑えられる事が可能となり、極めて安定した高精度な計測が達成できる。 なお、2つの干渉計の量子化誤差e(又は分解能)の1倍以下の精度が要求され ない場合には、被計測物体(第1及び第2計測用反射手段)は、上記(14)式 を満足する範囲もしくはその1部を少なくとも移動可能に設けられれば良い。
【0052】 以上においては、本考案の原理について述べたが、本考案の理解をさらに深め るために別の見方による原理の解析を図5を参照しながら以下において述べる。 但し、この解析は、第1及び第2干渉計の参照光路長が互いに異なり、かつ第1 及び第2干渉計の参照光路長が互いに等しいものとした時のものである。 まず、lM1=lM2=0とし、lR1=a、lR2=b、第1干渉計から計測用の反 射部材14(または第2干渉計から計測用の反射部材24)までの光学的光路長 (または距離)をxとした時を考える。
【0053】 これを換言すれば、第1干渉装置の第1のレシーバー16からの出力をXA 、 第2干渉装置の第2のレシーバー26からの出力をXB とし、測定開始時(リセ ット時)等の初期の基準となる気体の屈折率をn、第1干渉計の参照光路におい て気体の屈折率の変化の影響を受ける部分での光学的光路の長さ(第1干渉計と 第1参照用反射手段との間の第1参照光路の光学的光路長)をa、第2干渉計の 参照光路において気体の屈折率の変化の影響を受ける部分での光学的光路の長さ (第2干渉計と第2参照用反射手段との間の第2参照光路の光学的光路長)をb 、第1干渉計(又は第2干渉計)の計測光路において気体の屈折率の変化の影響 を受ける部分での光路の長さ(第1干渉計と計測用反射手段との間の第1計測光 路の光学的光路長、又は第2干渉計と計測用反射手段との間の第2計測光路の光 学的光路長)をxとする。
【0054】 ここで、第1干渉装置の第1のレシーバー16からの出力XA には、気体に露 出している参照光路の長さaの分だけ気体の屈折率の変化の影響を受けた情報と 、気体に露出している計測光路の光学的長さxの分だけ気体の屈折率の変化の影 響を受けた情報とを含んでいる。 一方、第2干渉装置の第2のレシーバー26からの出力XB には、気体に露出 している参照光路の長さbの分だけ気体の屈折率の変化の影響を受けた情報と、 気体に露出している計測光路の光学的長さxの分だけ気体の屈折率の変化の影響 を受けた情報とを含んでいる。
【0055】 従って、参照光と計測光とが気体の屈折率の変化を受ける影響を等しくなるよ うな比率で各レシーバー(16,26)からの出力(XA ,XB )を平均化する ことが望ましい。この時、以下に示す(15)式及び(16)式の関係が成立し ている。
【0056】
【数15】
【0057】
【数16】
【0058】 そして、(15)式及び(16)式より次の(17)式が得られる。
【0059】
【数17】
【0060】 よって、各レシーバー(16,26)からの出力(XA ,XB )を演算手段に おいて、上式(17)の演算を行うことにより気体の屈折率の変化の影響を除去 することができる。 次に、本考案の干渉計による量子化誤差について検討する。今、第1干渉計装 置の量子化誤差(又は分解能)をδA 、第2干渉計装置の量子化誤差(又は分解 能)をδB とすると、図5(a)に示す第1干渉計装置からの計測出力は、本来 の計測信号XA に量子化誤差δA が加えられたものとなり、図5(b)に示す第 2干渉計装置からの計測出力は、本来の計測信号XB に量子化誤差δB が加えら れたものとなる。そこで、各干渉計装置の量子化誤差により計測結果に加えられ る誤差量をΔxとすると、上式(17)は次式(18)の如くなる。
【0061】
【数18】
【0062】 そして、上式(18)を変形すると、次式(19)の如くなる。
【0063】
【数19】
【0064】 今、図5に示す第1及び第2干渉計装置の各参照光路と各計測光路とが空気中 を通過し、各干渉計装置の参照光路長と計測光路長との差の光路長には、空気の 揺らぎ等により空気の屈折率がΔnだけ変化するものとすると、第1及び第2干 渉計装置による出力はそれぞれXA =(x−a)Δn,XB =(x−b)Δnと なるため、この関係及び上式(19)より、次式(20)が導出される。
【0065】
【数20】
【0066】 ここで、n+Δn≒1とすると、上式(20)は、最終的に次式(21)の如 くなる。
【0067】
【数21】
【0068】 そこで、上式(21)に基づいて量子化誤差量Δxの最大値ΔxMAX について 検討する。今、第1及び第2干渉計装置の量子化誤差(δA ,δB )の最大値と 最小値をそれぞれe,−eとし、各干渉計装置の量子化誤差が、−e≦δA ≦e ,−e≦δB ≦eの範囲を取り得る時、上記(21)式による量子化誤差量の最 大値|ΔxMAX |は以下の(i)〜(iii)の3通りに場合分けできる。(i)a≦x≦bの場合(但し、a<b) a≦x≦bの場合には、x−a≧0,x−b≦0となり、量子化誤差量の最大 値|ΔxMAX |は、上記(21)式より、次式(22)の如くなる。
【0069】
【数22】
【0070】(ii)x>bの場合(但し、a<b) x>bの場合には、x−a>0,x−b>0となり、量子化誤差量の最大値| ΔxMAX |は、上記(21)式より、次式(23)の如くなる。
【0071】
【数23】
【0072】(iii)x<aの場合(但し、a<b) x<aの場合には、x−a<0,x−b<0となり、量子化誤差量の最大値| ΔxMAX |は、上記(21)式より、次式(24)の如くなる。
【0073】
【数24】
【0074】 そこで、上記(22)式〜(24)式を用いて、図5に示した干渉計装置全体 として高精度を保証するための計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範 囲xについて検討する。 空気等の気体の揺らぎ等による気体の屈折率変化の影響を補正しつつ、干渉計 装置として高精度を保証するためには、現実的に、干渉計装置の計測出力に加わ る量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を4e以下に抑えることが好ましい。従 って、以下において、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差eを4倍〜1倍 以下にそれぞれ抑えた場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移 動範囲xについて説明する。(I)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を4e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(22)式〜(24)式より、以下の(25)式又は(26)の 如くなる。
【0075】
【数25】
【0076】
【数26】
【0077】 なお、この(25)式及び(26)式の関係について、上記(11)式に対応 させて示せば、(11)式中の第1干渉計の計測光路長lM1と第2干渉計の計測 光路長lM2とを互いに等しくした場合(lM1=lM2=lM とした場合)と等価で ある。 一例として、図5(a)に示した第1干渉計装置と図5(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、a=0.5m、b =1.0mとした場合及びa=0.7m、b=1.0mとした場合について、干渉計装置の計 測出力に加わる量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を4e以下に抑えられる計 測用の反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。
【0078】 a=0.5m、b=1.0mとした場合には、上記(25)式より計測用の反射部材( 14,24)の移動範囲xは0m〜1.75m となり、干渉計装置全体としては2.0nm (=4e)の精度が保証されながら、広い計測範囲を確保できることが理解でき る。また、a=0.7m、b=1.0mとした場合には、上記(26)式より計測用の反 射部材(14,24)の移動範囲xは0.25m 〜1.45m となり、干渉計装置全体と しては2.0nm (=4e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保で きることが理解できる。(II)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を3e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(22)式〜(24)式より、以下の(27)式又は(28)式 の如くなる。
【0079】
【数27】
【0080】
【数28】
【0081】 なお、この(27)式及び(28)式の関係について、上記(12)式に対応 させて示せば、(12)式中の第1干渉計の計測光路長lM1と第2干渉計の計測 光路長lM2とを互いに等しくした場合(lM1=lM2=lM とした場合)と等価で ある。 一例として、図5(a)に示した第1干渉計装置と図5(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、a=0.4m、b =1.0mとした場合及びa=0.6m、b=1.0mとした場合について、干渉計装置の計 測出力に加わる量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を3e以下に抑えられる計 測用の反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。
【0082】 a=0.4m、b=1.0mとした場合には、上記(27)式より計測用の反射部材( 14,24)の移動範囲xは0m〜1.6mとなり、干渉計装置全体としては1.5nm ( =3e)の精度が保証されながら、広い計測範囲を確保できることが理解できる 。また、a=0.6m、b=1.0mとした場合には、上記(28)式より計測用の反射 部材(14,24)の移動範囲xは0.2m〜1.4mとなり、干渉計装置全体としては 1.5nm (=3e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保できるこ とが理解できる。(III)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を2e以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(22)式〜(24)式より、以下の(29)式又は(30)式 の如くなる。
【0083】
【数29】
【0084】
【数30】
【0085】 なお、この(29)式及び(30)式の関係について、上記(13)式に対応 させて示せば、(13)式中の第1干渉計の計測光路長lM1と第2干渉計の計測 光路長lM2とを互いに等しくした場合(lM1=lM2=lM とした場合)と等価で ある。 一例として、図5(a)に示した第1干渉計装置と図5(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、a=0.2m、b =1.0mとした場合及びa=0.5m、b=1.0mとした場合について、干渉計装置の計 測出力に加わる量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を2e以下に抑えられる計 測用の反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。
【0086】 a=0.2m、b=1.0mとした場合には、上記(29)式より計測用の反射部材( 14,24)の移動範囲xは0m〜1.4mとなり、干渉計装置全体としては1.0nm ( =2e)の精度が保証されながら、広い計測範囲を確保できることが理解できる 。また、a=0.5m、b=1.0mとした場合には、上記(30)式より計測用の反射 部材(14,24)の移動範囲xは0.25m 〜1.25m となり、干渉計装置全体とし ては1.0nm (=2e)の精度が保証されながら、比較的広い計測範囲を確保でき ることが理解できる。(IV)量子化誤差の最大値ΔxMAX をe以下に抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最適な移動範囲x(但し 、x≧0)は、(22)式〜(24)式より、次式(31)の如くなる。
【0087】
【数31】
【0088】 なお、この(31)式の関係について、上記(14)式に対応させて示せば、 (14)式中の第1干渉計の計測光路長lM1と第2干渉計の計測光路長lM2とを 互いに等しくした場合(lM1=lM2=lM とした場合)と等価である。 一例として、図5(a)に示した第1干渉計装置と図5(b)に示した第2干 渉計装置との量子化誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、a=0.5m、b =1.0mとするとき、上記(31)式より計測用の反射部材(14,24)の移動 範囲xは0.5m〜1.0mとなり、干渉計装置全体としては0.5nm (=e)の精度が保 証されながら、広い計測範囲を確保できることが理解できる。
【0089】 以上の如く、本考案によれば、環境変化に伴う気体の屈折率が変化しても広い 計測範囲を確保しながら高精度のもとで安定した計測が実現できることが理解で きる。しかも、本考案では、原理的に、図5(a)に示した第1干渉計装置又は 図5(b)に示した第2干渉計装置の量子化誤差e(又は分解能)を1倍以下に 抑えられる広い計測範囲xを確保できるため、極めて安定した高精度な計測が達 成できる。
【0090】 なお、本考案による座標原点は、計測用の反射部材(14,24)の移動する 範囲であれば、原理的に何処にでも設定できることは言うまでもない。
【0091】
以下、本発明による第1実施例の干渉計の構成について図1を参照して説明す る。本例では第1干渉計と第2干渉計との計測光路が共用する複合型干渉計を用 いて、この共用する計測光路を1つの計測用反射手段(移動鏡3)を介して往復 させる構成としたものである。
【0092】 図1に示す第1実施例では、計測方向Xに移動可能に設けられた計測用反射手 段(移動鏡3)と、それぞれ所定の位置に固設された第1参照用反射手段(密閉 管3, 固定鏡6)と第2参照用反射手段(固定鏡6)と、コヒーレントな光束を 供給する光源手段1と、この光源手段1からの光束に基づいて,計測用反射手段 (移動鏡3)を介して計測方向Xに沿って往復する第1計測光路OPM と第1参 照用反射手段(密閉管3及び固定鏡6)を介して往復する第1参照光路OPR1と を形成し,第1計測光路OPM 及び第1参照光路OPR1を経由した各光束によっ て第1測定出力XA を生成する第1干渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a 1 ,8a2,8b1,8b2),1/2波長板9,偏向プリズム4,第1検出器7a)と、光源 手段1からの光束に基づいて,計測用反射手段(移動鏡3)を介して計測方向X に沿って往復して第1計測光路OPM と共用する第2計測光路と第2参照用反射 手段(固定鏡6)を介して往復する第2参照光路OPR2とを形成し,第2計測光 路(第1計測光路OPM )及び第2参照光路OPR2を経由した各光束によって第 2測定出力XB を生成する第2干渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a1,8a 2 ,8b3,8b4),1/2波長板9,偏向プリズム4,第2検出器7b)と、第1及び 第2測定出力(XA ,XB )に基づいて所定の演算を行う演算処理部10とを配 置し、その第1参照反射手段(密閉管3, 固定鏡6)と第2参照反射手段(固定 鏡6)とを、計測方向に沿って光学的に所定の距離だけ隔てて配置し、各光路( OPM ,OPR1,OPR2)を平行かつ近接する構成としたものである。
【0093】 図1は本例のレーザー干渉計装置の要部を示し、この図1において、2は第1 の直角プリズム2aと第2の直角プリズム2bとを貼り合わせてなる光学部材( 以下、プリズム部材2と称する。)である。このプリズム部材2は、図2(a) に示すように、直交する辺の長さがd1で45°傾いた斜辺を持つ直角プリズム 2aの斜辺と、長さがd2(=2・d1)の45°傾いた斜辺を持つ直角プリズ ム2bの直交する2辺の内の1辺とを貼り合わせたものである。そして、その貼 り合わせ面(直角プリズム2bの直交する2辺の内の一方の辺側の面)は偏光分 離面(偏光ビームスプリッター面)S1 で形成され、直角プリズム2bの直交す る2辺の内の他方の辺側の面は反射面R1 で形成されている。なお、この反射面 R1 には反射膜を設けることなく、この面R1 は光を全反射させるように構成さ れても良い。
【0094】 ここで、プリズム部材2は原理的に偏光分離面S1 と反射面R1 とが直交して 配置されたものであれば良く、直角プリズム2bのみで構成しても良い。また、 例えば、図2(d)に示すように、3個の直角プリズム20a〜20cを貼り合 わせてプリズム部材20を構成し、直角プリズム20aと20bとの貼り合わせ 面を偏光分離面S1 で形成し、直角プリズム20cの外部の面を反射面R1 とす れば、このプリズム体20をプリズム体2の代わりに使用することができる。
【0095】 さて、図1に戻って説明すると、まず、コヒーレントな光束を供給する光源手 段としてのレーザー光源1から光束が射出される方向をX方向とすると、プリズ ム部材2は、これの偏光分離面S1 がX方向に対して45°で傾くように配置さ れており、このプリズム部材2に対向して、計測用反射手段としての移動鏡3と 参照用反射手段としての固定鏡6とがそれぞれ配置されている。この移動鏡3は 、不図示の被計測物体に固定され、X方向に沿って移動自在で平面鏡より構成さ れており、固定鏡6は、プリズム部材2に対してX方向に所定の距離bだけ隔て た位置に固定されており、移動鏡3と固定鏡6とはX方向に垂直な方向にずらし て配置されている。
【0096】 プリズム部材2中の直角プリズム2bの直交する2辺(S1 ,R1 )に対して 等しい角度を成す斜辺を形成する透過面T近傍にはそれぞれ6個の1/4波長板 (8a1 ,8a2 ,8b1 〜8b4 )がそれぞれ並列的に配置されており、この 内の2個の1/4波長板(8b3 ,8b4 )と固定鏡6との間には、後で詳述す るが、2個の1/4波長板(8b3 ,8b4 )を各々介して固定鏡6で反射往復 する2つの往復光路の所定の長さだけ周囲と隔離する密閉管60(補正部材)が 配置されている。
【0097】 この密閉管60は、少なくとも両端が透明でx方向において所定の長さLを持 つ中空状の円筒で構成される部材であり、この内部は真空となっている。このた め、2個の1/4波長板(8b3 ,8b4 )を各々介して固定鏡6で反射往復す る各往復光路の気体(空気等)にさらされている部分の光路長Dは、プリズム部 材2から固定鏡までのx方向に沿った長さをb、図1に示す干渉計装置がさらさ れている気体の屈折率をnとするとき、D=(b−L)nとなる。従って、この 密閉管60の配置によって、実質的に、固定鏡6を密閉管60の長さLの分だけ x方向に沿ってプリズム部材2側に配置した事と等しくしている。なお、この密 封管に所定の屈折率を持つ気体、液体、固体等の媒質を封入しても良い。
【0098】 さて、プリズム部材2の偏光分離面S1 でレーザー光源1からのレーザービー ムが反射される方向には、偏光分離面S1 から射出する光を180°偏向させる 偏向部材としての偏向プリズム(直角プリズム)4が配置されている。この場合 、偏向プリズム4内の2回の全反射によりレーザービームがその偏光分離面S1 へ再び戻されるものとして、プリズム部材2の偏光分離面S1 と反射面R1 との 稜線に対してプリズム部材2により偏向される光路を含む面が平行となるように 、その偏向プリズム4の位置決めがされている。
【0099】 プリズム部材2と偏向プリズム4との間の下方の光路の途中には、1/2波長 板9が配置されており、プリズム部材2と偏向プリズム4との間の上方の光路の 途中には、プリズム部材2と類似した形状を有する光学部材(以下、プリズム部 材5と称する。)が設けられている。このプリズム部材5は、2つの直角プリズ ム(5a,5b)が貼り合わされて構成されており、その貼り合わせ面(直角プ リズム5bの直交する2辺の内の一方の辺側の面)は光分割面(ビームスプリッ ター面)S2 で形成され、直角プリズム5bの直交する2辺の内の他方の辺側の 面は反射面R2 で形成されている。
【0100】 また、偏向プリズム4からのレーザービームがプリズム部材5により分割・偏 向(光分割面S2 で反射された後、反射面R2 で反射)された後、プリズム部材 2の偏光分離面P1 で反射される方向には、第1検出器としての第1のレシーバ 7aが配置されており、偏向プリズム4からのレーザービームがプリズム部材5 の光分割面S2 を通過した後、プリズム部材2の偏光分離面S1 で反射される方 向には第2の検出器としての第1のレシーバ7bが配置されている。
【0101】 図1に示す如く、第1及び第2レシーバ(7a,7b)は演算手段としての演 算部10に対して電気的に接続されており、各レシーバ(7a,7b)からの出 力に基づいて、例えば、上記(3)式の如き演算が演算処理部10にて行われ、 演算結果が不図示の表示部に出力される。 なお、1/2波長板9の代わりに、偏向プリズム4の入射面及び射出面又はプ リズム部材2の偏向プリズム4側の面の全面をカバーするような1枚の1/4波 長板を配置しても良く、この場合、偏向プリズム4の入射面及び射出面又はプリ ズム部材2の偏向プリズム4側の面に1/4波長板を直接的に接合しても良い。 さらには、プリズム部材2と偏向プリズム4との光路間又は偏向プリズム4とプ リズム部材5との光路間に1/4波長板を配置すると共に、プリズム部材5とプ リズム部材2との間に形成される2つの光路中に1/4波長板を配置する構成と しても良い。
【0102】 次に、本例の動作につき説明する。先ず、コヒーレントな光束を供給する光源 手段としてのレーザー光源1は第1周波数f1 のビーム(以下、第1ビームと称 する。)と第2周波数f2 のビーム(以下、第2ビームと称する。)を供給し、 この第1及び第2ビームは、プリズム部材2の偏光分離面S1 に対し45°の入 射角で入射する。
【0103】 ここで、このレーザー光源1から供給される2つのビームの内の一方の第1ビ ームは、偏光分離面S1 の入射面内を振動する直線偏光の光(以下、P偏光と称 する。)であり、他方の第2ビームは、偏光分離面S1 の入射面と垂直な面内を 振動する直線偏光の光(以下、S偏光と称する。)である。 まず、レーザー光源1から供給されるP偏光の第1ビームについて説明すると 、このP偏光の第1ビームは、プリズム部材2の偏光分離面S1 をそのまま通過 して1/4波長板8a1 を介して円偏光に変換された後、移動鏡3にて反射され 、再び1/4波長板8a1 を通過してS偏光に変換される。そして、このS偏光 の第1ビームは、プリズム部材2の偏光分離面S1 を反射し、プリズム部材2の 反射面R1 で90°反射偏向される。その後、S偏光の第1ビームは、1/4波 長板8a2 を通過して円偏光に変換されて、移動鏡3により反射されて再び1/ 4波長板8a2 へ向かう。そして、この1/4波長板8a2 を再び通過した第1 ビームは、P偏光に変換された後、再び反射面R1 を反射して偏光分離面S1 を 通過する。この偏光分離面S1 を通過したP偏光の第1ビームは、1/2波長板 9を通過して、偏光面が90°回転されてP偏光からS偏光に変換される。1/ 2波長板9によってS偏光に変換された第1ビームは、偏向プリズム4により1 80°反射偏向されて、プリズム部材5の光分割面S2 で2分割される。
【0104】 まず、プリズム部材5の光分割面S2 を反射する一方のS偏光の第1ビームは 、プリズム部材5の反射面R2 で90°反射偏向され、プリズム部材2の偏光分 離面S1 を反射した後、第1のレシーバ7aで受光される。 一方、プリズム部材5の光分割面S2 を通過する他方のS偏光の第1ビームは 、プリズム部材2の偏光分離面S1 で反射されて、第2のレシーバ7bで受光さ れる。
【0105】 次に、レーザー光源1から供給されるS偏光の第2ビームについて説明すると 、このS偏光の第2ビームは、プリズム部材2の偏光分離面S1 で反射されて1 /2波長板9に向かう。この1/2波長板9を通過した第2ビームは、偏光面が 90°回転されてS偏光からP偏光に変換された後、偏向プリズム4により18 0°反射偏向されて、プリズム部材5の光分割面S2 で2分割される。
【0106】 まず、プリズム部材5の光分割面S2 を反射する一方のP偏光の第2ビームは 、プリズム部材5の反射面R2 で90°反射偏向され、プリズム部材2の偏光分 離面S1 をそのまま通過する。この偏光分離面S1 を通過した第2ビームは、反 射面R1 で90°反射偏向された後、1/4波長板8b1 を通過して円偏光に変 換される。その後、円偏光に変換された第2ビームは、x方向(計測方向)に所 定の長さLを持つ密閉管60を通過し、固定鏡6で反射された後、再び密閉管6 0を通過して1/4波長板8b1 を通過して、S偏光に変換される。このS偏光 に変換された第2ビームは、プリズム部材2の反射面R1 で反射され、プリズム 部材2の偏光分離面S1 で反射されて1/4波長板8b2 へ向かう。この1/4 波長板8b2 を通過した第2ビームは、円偏光に変換された後、密閉管60を通 過して固定鏡6で反射されて再び密閉管60に向かう。この密閉管60を通過し た第2ビームは、1/4波長板8b2 を通過してP偏光に変換され、プリズム部 材2の偏光分離面S1 を透過して第1のレシーバ7aで受光される。
【0107】 一方、プリズム部材5の光分割面S2 を通過する他方のP偏光の第2ビームは 、プリズム部材2の偏光分離面S1 をそのまま通過し、反射面R1 で90°反射 偏向されて、1/4波長板8b3 へ向かう。この1/4波長板8b3 を通過した 第2ビームは、円偏光に変換されて、固定鏡6により反射されて再び1/4波長 板8b3 を通過し、S偏光に変換される。このS偏光に変換された第2ビームは 、プリズム部材2の反射面R1 を反射し、偏光分離面S1 を反射して1/4波長 板8b4 に向かう。この1/4波長板8b4 を通過した第2ビームは円偏光に変 換された後、固定鏡6により反射されて再び1/4波長板8b4 を通過して、P 偏光に変換される。この1/4波長板8b4 を通過してP偏光に変換された第2 ビームは、偏光分離面S1 をそのまま通過して第2のレシーバ7bで受光される 。
【0108】 さて、第1のレシーバ7aにおいては、プリズム部材2と移動鏡3との間の空 気等の気体中を経由する長さx(プリズム部材2の面Tから移動鏡3までのX方 向に沿った距離)の計測光路OPM を進行する第1ビームと、この計測光路OP M と近接してプリズム部材2と固定鏡6との間の空気等の気体中及び密閉管60 を経由する長さb(プリズム部材2の面Tから固定鏡6までのX方向に沿った距 離)の第1参照光路OPR1を進行する第2ビームとが内部のアナライザにより偏 光方向が揃えられて内部の受光素子に入射する。
【0109】 ここで、第1参照光路OPR1中には密閉管60が配置されているため、密閉管 60のX方向における長さをLとすると、前述の如く、空気等の気体の屈折率変 化に対しては、密閉管60の長さLの分だけ固定鏡6をプリズム部材2側へずら して配置した事と等しくなる。従って、第1のレシーバ10aの受光素子には、 実質的に、プリズム部材2と移動鏡3との間の空気等の気体中を経由する長さx (プリズム部材2の面Tから移動鏡3までのX方向に沿った距離)の計測光路O PM を進行する第1ビームと、この計測光路OPM と近接してプリズム部材2と 固定鏡6との間の空気等の気体中を経由する長さa(=b−L)の第1参照光路 OPR1を進行する第2ビームとが入射することとなる。
【0110】 このため、第1レシーバ7aの受光素子からは、移動鏡3が固定鏡6に対して 停止している状態では、周波数が(f1−f2)のビート信号が出力され、移動 鏡3がX方向へ移動すると周波数が変調されたビート信号が出力される。従って 、この周波数の変化を積算することにより、移動鏡3と固定鏡6とのX方向の相 対的な移動量を検出することができる。よって、空気等の気体中を通過する計測 光路OPM の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材2から移動鏡6までの計測光 路OPM の光学的光路長)をx、空気等の気体中を通過する第1参照光路OPR1 の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材2から固定鏡6までの第1参照光路OP R1 の光学的光路長)をa、測定開始時(リセット時)等の初期の空気等の気体の 屈折率をn、空気等の気体の屈折率の変化をΔnとすると、第1レシーバ7aで は、nx+(x−a)Δnに相当する信号XA が演算処理部10へ出力される。
【0111】 一方、第2レシーバ7bにおいては、プリズム部材2と移動鏡3との間の空気 等の気体中を経由する長さx(プリズム部材2の面Tから移動鏡3までのX方向 に沿った距離)の計測光路OPM を進行する第1ビームと、この計測光路OPM と近接してプリズム部材2と固定鏡6との間の空気等の気体中を経由する長さb (プリズム部材2の面Tから固定鏡6までのX方向に沿った距離)の第2参照光 路OPR2を進行する第2ビームとが内部のアナライザにより偏光方向が揃えられ て内部の受光素子に入射する。
【0112】 ここで、第2レシーバ7bの受光素子からは、第1レシーバ7aと同様に、移 動鏡3が固定鏡6に対して停止している状態では、周波数が(f1−f2)のビ ート信号が出力され、移動鏡3がX方向へ移動すると周波数が変調されたビート 信号が出力される。従って、この周波数の変化を積算することにより、移動鏡3 と固定鏡6とのX方向の相対的な移動量を検出することができる。よって、空気 等の気体中を通過する計測光路OPM の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材2 から移動鏡6までの計測光路OPM の光学的光路長)をx、空気等の気体中を通 過する第2参照光路OPR2の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材2から固定鏡 6までの第2参照光路OPR2の光学的光路長)をb、測定開始時(リセット時) 等の初期の空気等の気体の屈折率をn、空気等の気体の屈折率の変化をΔnとす ると、第2レシーバ7bでは、nx+(x−b)Δnに相当する信号XB が演算 処理部10へ出力される。
【0113】 さて、演算処理部10には、所定の演算式がメモリーされており、例えば、上 記(3)の如き演算式がメモリーされている。従って、演算処理部10は、第1 及び第2のレシーバ(7a,7b)からの出力信号(XA ,XB )、及び計測開 始時での初期の気体の屈折率nを検出するための不図示の屈折率検出器からの出 力nに基づいて、上記(3)式に示す如き演算を実行し、気体の揺らぎ等が起因 して生ずる気体の屈折率変化に伴う計測誤差が補正された演算結果が不図示の表 示部を介して出力される。
【0114】 そして、上記(11)式〜(14)式、又は上記(25)式〜(31)式を満 足するように第1移動鏡及び第2移動鏡(3)をそれぞれ一体的に移動させれば 、干渉計装置の出力に加算される量子化誤差eをそれぞれ4倍〜1倍以下に抑え ることが可能となる。 以上の如く本実施例によれば、干渉計によって計測光路と各参照光路とを近接 するように構成しているため、計測光路中にて生ずる気体の屈折率変化による測 定誤差を補正し、精度良く移動鏡3の移動量や位置を検出することができる。
【0115】 しかも、本例によれば、2つの固定鏡との間の距離に対して移動鏡が内分する ように、2つの固定鏡との間に形成される空間に沿って移動鏡を移動させること ができるため、極めて高い精度な計測が保証される。 ところで、本例では、プリズム部材2の内部を通過する計測光路長と各参照光 路長とが共に等しくなるように干渉計装置を構成し、プリズム部材2に温度変化 が生じても高精度な計測が行えるようになっている。
【0116】 この事について具体的に説明するに当たって、まず、第1のレシーバ7aにそ れぞれ入射する計測用の第1ビームと参照用の第2ビームとがプリズム部材2の 内部を通過する光路について、図2(a)及び図2(b)を参照しながら説明す る。 プリズム部材2内の下部を通過する計測用の第1ビームは、図2(a)の実線 で示す如く、直角プリズム2a内では光路A11と直角プリズム2b内では光路B 11 とを通過し、プリズム部材2内の上部を通過する計測用の第1ビームは、図2 (b)の実線で示す如く、直角プリズム2a内のみの光路A12を通過する。
【0117】 一方、プリズム部材2内の下部を通過する参照用の第2ビームは、図2(a) の点線で示す如く、直角プリズム2a内のみの光路A21を通過し、プリズム部材 2内の上部を通過する計測用の第2ビームは、図2(b)の点線で示す如く、直 角プリズム2a内では光路A22を通過し、直角プリズム2b内では光路B22を通 過する。
【0118】 従って、プリズム部材2内を通過する計測用の第1ビームと参照用の第2ビー ムとの光路長は、それぞれA11+B11+A12,A21+A22+B22となり、図2( a)及び図2(b)から明らかな如く、A11=A12=A21=A22=d1 とB11= B22=d2 との関係が成立しているため、プリズム部材2内を通過する計測用の 第1ビームと参照用の第2ビームとの光路長は等しくなる。
【0119】 次に、第2のレシーバ7bにそれぞれ入射する計測用の第1ビームと参照用の 第2ビームとがプリズム部材2の内部を通過する光路について図2(a)及び図 2(c)を参照しながら説明する。 プリズム部材2内の下部を通過する計測用の第1ビームは、図2(a)の実線 で示す如く、直角プリズム2a内では光路A11と直角プリズム2b内では光路B 11 とを通過し、プリズム部材2内の上部を通過する計測用の第1ビームは、図2 (c)の実線で示す如く、直角プリズム2a内のみの光路A12を通過する。
【0120】 一方、プリズム部材2内の下部を通過する参照用の第2ビームは、図2(a) の点線で示す如く、直角プリズム2a内のみの光路A21を通過し、プリズム部材 2内の上部を通過する計測用の第2ビームは、図2(c)の点線で示す如く、直 角プリズム2a内では光路A32を通過し、直角プリズム2b内では光路B31を通 過する。
【0121】 従って、プリズム部材2内を通過する計測用の第1ビームと参照用の第2ビー ムとの光路長は、それぞれA11+B11+A12,A21+A32+B32となり、図2( a)及び図2(b)から明らかな如く、A11=A12=A21=A32=d1 とB11= B32=d2 との関係が成立しているため、プリズム部材2内を通過する計測用の 第1ビームと参照用の第2ビームとの光路長は等しくなる。
【0122】 従って、仮に、直角プリズム2aと直角プリズム2bとの間に温度差が生じて も、第1ビームと第2ビームとの光路長の差は変化しなため、移動鏡3のX方向 での移動量を常に高精度のもとで計測することができる。 なお、図1に示した第1実施例では、1/4波長板(8a1 ,8a2 ,8b1 〜8b4 )を6枚で構成した場合について説明したが、これらを一体化して1枚 の1/4波長板で構成しても良く、さらには、この1枚の1/4波長板をプリズ ム部材2の面Tに接合して一体的に構成しても良い。
【0123】 また、図1に示した第1実施例では、互いに直交した2つの面を持つ直角プリ ズム2aの第1の面側にレーザー光源1と2つのレシーバ(7a,7b)とが配 置され、第2の面側に1/2波長板9,プリズム部材5と直角プリズム4とが配 置されている。しかしながら、この配置構成に限ることなく、この直角プリズム 2aの第2の面側にレーザー光源1と2つのレシーバ(7a,7b)とを配置し 、直角プリズム2aの第1の面側に1/2波長板9,プリズム部材5及び直角プ リズム4とを配置しても良い。
【0124】 次に、本発明の第2実施例による干渉計装置について図3を参照しながら説明 する。図3に示す第2実施例は、図1の第1実施例を変形したものであり、図3 には、図1と同一の機能を有する部材には同一符号を付してある。 図3に示す如く、本実施例が第1実施例と大きく異なる所は、まず、図1の第 1実施例に示した偏光プリズム4とプリズム部材2との間に配置されたプリズム 部材5をレーザー光源1とプリズム部材2との間に配置し、棒状部材61を介し てX方向に沿って異なる位置に参照用の2つの固定鏡(6a,6b)を配置した 点である。さらに、本実施例が第1実施例と相違する所は、第1実施例では、プ リズム部材2と移動鏡4との間に2つの1/4波長板(8a1 ,8a2 )を配置 し、プリズム部材2と偏向プリズム4との間に1つの1/2波長板9を配置して いるのに対し、図3の第2実施例では、プリズム部材2と移動鏡4との間に4つ の1/4波長板(8a1 〜8a4 )を配置し、プリズム部材2と偏向プリズム4 との間に2つの1/4波長板(9a,9b)を配置している点である。
【0125】 なお、棒状部材61は所定の長さを持ち熱膨張率の極めて小さな部材で構成さ れている。 図3に示す第2実施例の構成を簡単に説明すると、本実施例では、計測方向X に移動可能に設けられた移動鏡3と、それぞれ所定の位置に固設された第1固定 鏡6aと第2固定鏡6bと、コヒーレントな光束を供給する光源手段(レーザ光 源1,プリズム部材5)と、この光源手段(1,5)からの光束に基づいて,移 動鏡3を介して計測方向Xに沿って往復する第1計測光路OPM1と第1固定鏡6 aを介して往復する第1参照光路OPR1とを形成し,第1計測光路OPM1及び第 1参照光路OPR1を経由した各光束によって第1測定出力XA を生成する第1干 渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a1,8a2,8b1,8b2),1/2波長板9a, 偏向プリズム4,第1検出器7a)と、光源手段(1,5)からの光束に基づい て,移動鏡3を介して計測方向Xに沿って往復する第2計測光路OPM2と第2固 定鏡6bを介して往復する第2参照光路OPR2とを形成し,第2計測光路OPM2 及び第2参照光路OPR2を経由した各光束によって第2測定出力XB を生成する 第2干渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a3,8a4,8b3,8b4),1/2波長板 9b,偏向プリズム4,第2検出器7b)と、第1及び第2測定出力(XA ,X B )に基づいて所定の演算を行う演算処理部10とを配置し、その第1固定鏡6 aと第2固定鏡6bとを計測方向に沿って所定の距離だけ隔てて配置し、各光路 (OPM1,OPM2,OPR1,OPR2)を平行にする構成としたものである。
【0126】 次に、図3に基づいて本例の引き回し光路について説明する。先ず、レーザー 光源1は第1周波数f1 のビーム(以下、第1ビームと称する。)と第2周波数 f2 のビーム(以下、第2ビームと称する。)を供給し、この第1及び第2ビー ムは、プリズム部材5の光分割面S2 に対し45°の入射角で入射する。 ここで、このレーザー光源1から供給される2つのビームの内の一方の第1ビ ームは、光分割面S1 の入射面内を振動する直線偏光の光(以下、P偏光と称す る。)であり、他方の第2ビームは、光分割面S1 の入射面と垂直な面内を振動 する直線偏光の光(以下、S偏光と称する。)である。
【0127】 第1及び第2ビームは、光源からのビームを2分割する光分割手段として機能 するプリズム部材5の光分割面(半透過面)S2 によってそれぞれ2分割され、 この光分割面S2 を反射する第1及び第2ビームは、プリズム部材5の反射面R 2 を介して、プリズム部材2に入射し、この光分割面S2 を通過する第1及び第 2ビームは、そのままプリズム部材2に入射する。
【0128】 まず、プリズム部材5の光分割面S2 及び反射面R2 を介してプリズム部材2 に向かう第1及び第2ビームについて説明する。 プリズム部材5の光分割面S2 及び反射面R2 を介した第1及び第2ビームは 、プリズム部材2の偏光分離面S1 に対し45°の入射角で入射する。ここで、 第1ビームは、偏光分離面S1 に対する入射面内を直線偏光するP偏光の光であ り、第2ビームは、偏光分離面S1 に対する入射面と垂直な面内を直線偏光する S偏光の光であるため、P偏光の第1ビームは偏光分離面S1 をそのまま透過し 、S偏光の第2ビームは偏光分離面S1 を反射する。
【0129】 まず、偏光分離面S1 を透過したP偏光の第1ビームは、1/4波長板8a1 を介して円偏光に変換された後、移動鏡3にて反射され、再び1/4波長板8a 1 を通過してS偏光に変換される。そして、このS偏光の第1ビームは、プリズ ム部材2の偏光分離面S1 を反射し、プリズム部材2の反射面R1 で90°反射 偏向される。その後、S偏光の第1ビームは、1/4波長板8a2 を通過して円 偏光に変換されて、移動鏡3により反射されて再び1/4波長板8a2 へ向かう 。そして、この1/4波長板8a2 を再び通過した第1ビームは、P偏光に変換 された後、再び反射面R1 を反射して偏光分離面S1 を通過する。この偏光分離 面S1 を通過したP偏光の第1ビームは、1/2波長板9aを通過して、偏光面 が90°回転されてP偏光からS偏光に変換される。1/2波長板9aによって S偏光に変換された第1ビームは、偏向プリズム4により180°反射偏向され た後、偏光分離面S1 で反射されて第1のレシーバ7aで受光される。
【0130】 一方、プリズム部材5の光分割面S2 及び反射面R2 を介してプリズム部材2 の偏光分離面S1 を反射するS偏光の第2ビームは、1/2波長板9aを透過し て、偏光面が90°回転されてS偏光からP偏光に変換された後、偏向プリズム 4により180°反射偏向されて、プリズム部材5の偏光分離面S1 を通過する 。そして、偏光分離面S1 を通過したP偏光の第2ビームは、反射面R1 で90 °反射偏向された後、1/4波長板8b1 を通過して円偏光に変換される。その 後、円偏光に変換された第2ビームは、プリズム部材の面Tに対してX方向に沿 って所定の距離aだけ隔てて固定された第1固定鏡6aを反射して、再び1/4 波長板8b1 を通過して、S偏光に変換される。このS偏光に変換された第2ビ ームは、プリズム部材2の反射面R1 で反射され、プリズム部材2の偏光分離面 S1 で反射されて1/4波長板8b2 へ向かう。この1/4波長板8b2 を通過 した第2ビームは、円偏光に変換された後、第1固定鏡6aで反射されて1/4 波長板8b2 を通過し、P偏光に変換される。そして、P偏光に変換された第2 ビームは、プリズム部材2の偏光分離面S1 を透過して第1のレシーバ7aで受 光される。
【0131】 次に、プリズム部材5の光分割面S2 を透過するレーザ光源1からの第1及び 第2ビームについて説明する。 プリズム部材5の光分割面S2 を介した第1及び第2ビームは、プリズム部材 2の偏光分離面S1 に対し45°の入射角で入射する。ここで、第1ビームは、 偏光分離面S1 に対する入射面内を直線偏光するP偏光の光であり、第2ビーム は、偏光分離面S1 に対する入射面と垂直な面内を直線偏光するS偏光の光であ るため、P偏光の第1ビームは偏光分離面S1 をそのまま透過し、S偏光の第2 ビームは偏光分離面S1 を反射する。
【0132】 まず、偏光分離面S1 を透過したP偏光の第1ビームは、1/4波長板8a3 を介して円偏光に変換された後、移動鏡3にて反射され、再び1/4波長板8a 3 を通過してS偏光に変換される。そして、このS偏光の第1ビームは、プリズ ム部材2の偏光分離面S1 を反射し、プリズム部材2の反射面R1 で90°反射 偏向される。その後、S偏光の第1ビームは、1/4波長板8a4 を通過して円 偏光に変換されて、移動鏡3により反射されて再び1/4波長板8a4 へ向かう 。そして、この1/4波長板8a4 を再び通過した第1ビームは、P偏光に変換 された後、再び反射面R1 を反射して偏光分離面S1 を通過する。この偏光分離 面S1 を通過したP偏光の第1ビームは、1/2波長板9bを通過して、偏光面 が90°回転されてP偏光からS偏光に変換される。1/2波長板9bによって S偏光に変換された第1ビームは、偏向プリズム4により180°反射偏向され た後、偏光分離面S1 で反射されて第2のレシーバ7bで受光される。
【0133】 一方、プリズム部材5の光分割面S2 を透過してプリズム部材2の偏光分離面 S1 を反射するS偏光の第2ビームは、1/2波長板9bを透過して、偏光面が 90°回転されてS偏光からP偏光に変換された後、偏向プリズム4により18 0°反射偏向されて、プリズム部材5の偏光分離面S1 を通過する。そして、偏 光分離面S1 を通過したP偏光の第2ビームは、反射面R1 で90°反射偏向さ れた後、1/4波長板8b3 を通過して円偏光に変換される。その後、円偏光に 変換された第2ビームは、プリズム部材の面Tに対してX方向に沿って所定の距 離bだけ隔てて固定された第2固定鏡6bを反射して、再び1/4波長板8b3 を通過して、S偏光に変換される。このS偏光に変換された第2ビームは、プリ ズム部材2の反射面R1 で反射され、プリズム部材2の偏光分離面S1 で反射さ れて1/4波長板8b4 へ向かう。この1/4波長板8b4 を通過した第2ビー ムは、円偏光に変換された後、第2固定鏡6bで反射されて1/4波長板8b4 を通過し、P偏光に変換される。そして、P偏光に変換された第2ビームは、プ リズム部材2の偏光分離面S1 を透過して第2のレシーバ7aで受光される。
【0134】 以上の如く、本発明による第2実施例の干渉計装置は、第1のレシーバ7aに おいては、プリズム部材2と移動鏡3との間の空気等の気体中を経由する長さx (プリズム部材2の面Tから移動鏡3までのX方向に沿った距離)の第1計測光 路OPM1を進行する第1ビームと、この第1計測光路OPM1と近接してプリズム 部材2と第1固定鏡6aとの間の空気等の気体中を経由する長さa(プリズム部 材2の面Tから第1固定鏡6aまでのX方向に沿った距離)の第1参照光路OP R1 を進行する第2ビームとが内部のアナライザにより偏光方向が揃えられて内部 の受光素子に入射する。
【0135】 このため、第1レシーバ7aの受光素子からは、移動鏡3が第1固定鏡6に対 して停止している状態では、周波数が(f1−f2)のビート信号が出力され、 移動鏡3がX方向へ移動すると周波数が変調されたビート信号が出力される。従 って、この周波数の変化を積算することにより、移動鏡3と固定鏡6とのX方向 の相対的な移動量を検出することができる。よって、空気等の気体中を通過する 第1計測光路OPM1の長さ(あるいは第1干渉計のプリズム部材2から移動鏡6 までの第1計測光路OPM1の光学的光路長)をx、空気等の気体中を通過する第 1参照光路OPR1の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材2から固定鏡6までの 第1参照光路OPR1の光学的光路長)をa、測定開始時(リセット時)等の初期 の空気等の気体の屈折率をn、空気等の気体の屈折率の変化をΔnとすると、第 1レシーバ7aでは、nx+(x−a)Δnに相当する信号XA が演算処理部1 0へ出力される。
【0136】 一方、第2レシーバ7bにおいては、プリズム部材2と移動鏡3との間の空気 等の気体中を経由する長さx(プリズム部材2の面Tから移動鏡3までのX方向 に沿った距離)の第2計測光路OPM2を進行する第1ビームと、この第2計測光 路OPM1と近接してプリズム部材2と第2固定鏡6bとの間の空気等の気体中を 経由する長さb(プリズム部材2の面Tから第2固定鏡6bまでのX方向に沿っ た距離)の第2参照光路OPR2を進行する第2ビームとが内部のアナライザによ り偏光方向が揃えられて内部の受光素子に入射する。
【0137】 ここで、第2レシーバ7bの受光素子からは、第1レシーバ7aと同様に、移 動鏡3が固定鏡6に対して停止している状態では、周波数が(f1−f2)のビ ート信号が出力され、移動鏡3がX方向へ移動すると周波数が変調されたビート 信号が出力される。従って、この周波数の変化を積算することにより、移動鏡3 と固定鏡6とのX方向の相対的な移動量を検出することができる。よって、空気 等の気体中を通過する第2計測光路OPM2の長さ(あるいは第2干渉計のプリズ ム部材2から移動鏡6までの第2計測光路OPM2の光学的光路長)をx、空気等 の気体中を通過する第2参照光路OPR2の長さ(あるいは干渉計のプリズム部材 2から固定鏡6までの第2参照光路OPR2の光学的光路長)をb、測定開始時( リセット時)等の初期の空気等の気体の屈折率をn、空気等の気体の屈折率の変 化をΔnとすると、第2レシーバ7bでは、nx+(x−b)Δnに相当する信 号XB が演算処理部10へ出力される。
【0138】 さて、演算処理部10には、第1実施例と同様に、例えば、前述の(3)式に 示す如き演算式がメモリーされており、演算処理部10は、第1及び第2のレシ ーバ(7a,7b)からの出力信号(XA ,XB )、及び計測開始時での初期の 気体の屈折率nを検出するための不図示の屈折率検出器からの出力nに基づいて 、前述の(3)式に示す如き演算を実行し、気体の揺らぎ等が起因して生ずる気 体の屈折率変化に伴う計測誤差が補正された演算結果が不図示の表示部を介して 出力される。
【0139】 そして、上記(11)式〜(14)式、又は上記(25)式〜(31)式を満 足するように第1移動鏡及び第2移動鏡(3)をそれぞれ一体的に移動させれば 、干渉計装置の出力に加算される量子化誤差eをそれぞれ4倍〜1倍以下に抑え ることが可能となる。 しかも、第2実施例も第1実施例と同様に、2つの固定鏡との間の距離に対し て移動鏡が内分するように、2つの固定鏡との間に形成される空間に沿って移動 鏡を移動させることができるため、極めて高い精度な計測が保証される。
【0140】 また、詳細な説明は省略するが、第2実施例でも、プリズム部材2の内部を通 過する計測光路長と各参照光路長とが共に等しくなるように干渉計装置が構成さ れているため、プリズム部材2の内部に温度差が生じても高精度な計測が実現で きる。 なお、図3に示す第2実施例では、1/4波長板(8a1 〜8a4 ,8b1 〜 8b4 )を8枚で構成した例を示しているが、これを1枚の1/4波長板で構成 しても良く、また、この1枚の1/4波長板をプリズム部材の面Tと接合して一 体的に構成しても良い。
【0141】 また、図3に示した第2実施例の2枚の1/2波長板(9a,9b)の代わり に、偏光プリズム4とプリズム部材2の間に形成される4つの光路をカバーする ような1枚の1/4波長板を設けても良く、また、偏光プリズム4の入射面及び 射出面の全面を覆うような1/4波長板を偏光プリズム4と一体的に構成しても 良く、さらには、プリズム部材2の偏光プリズム4側の面全体を覆うような1/ 4波長板1/4波長板をプリズム部材2と一体的に構成しても良い。
【0142】 また、図3に示した第1実施例では、互いに直交した2つの面を持つ直角プリ ズム2aの第1の面側にレーザー光源1とプリズム部材5と2つのレシーバ(7 a,7b)とがそれぞれ配置され、第2の面側に2つの1/2波長板(9a,9 b)と直角プリズム4とがそれぞれ配置されている。しかしながら、この配置構 成に限ることなく、この直角プリズム2aの第2の面側にレーザー光源1とプリ ズム部材5と2つのレシーバ(7a,7b)とをそれぞれ配置し、直角プリズム 2aの第1の面側に2つの1/2波長板(9a,9b)と直角プリズム4とをそ れぞれ配置しても良い。
【0143】 また、図3に示した第2実施例では、コヒーレントな光束を供給する光源手段 をレーザー光源1と光分割手段として機能するプリズム部材5とで構成している が、2つのレーザー光源を光源手段として用いて、一方のレーザー光源からの光 束を第1干渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a1,8a2,8b1,8b2),1/2波 長板9a,偏向プリズム4,第1検出器7a)へ導き、他方のレーザー光源から の光束を第2干渉計(プリズム部材2,1/4波長板(8a3,8a4,8b3,8b4),1/ 2波長板9b,偏向プリズム4,第2検出器7b)へ導く構成としても良い。こ の場合、2つの光源(レーザー光源)の光学特性変化(波長変動等)がある時に は、この光学特性変化を補正する補正手段を設けることが望ましい。
【0144】 また、上述の各実施例ではヘテロダイン方式のレーザー干渉計に本発明を適用 したものであるが、本発明はホモダイン方式の干渉計にも同様に適用することが できる。また、直角プリズム17の代わりにコーナーキューブ等を使用しても良 い。 ところで、以上にて説明した各実施例では、第1及び第2干渉計により形成さ れる各計測光路並びに各参照光路を互いに近接かつ平行となるように構成した例 を示したが、これに限るものではない。
【0145】 そこで、図1に示した第1実施例の別の変形例としての第3実施例について図 7を参照しながら説明する。なお、図3には、図1と同一の機能を有する部材に は同一符号を付してある。 本実施例では、図1に示した第1実施例のプリズム部材2を、計測光路OPM を形成する下側部分のプリズム部材62、2つの参照光路(OPR1,OPR2)を 形成する上側部分のプリズム部材63に2分割し、上側部分のプリズム部材63 は下側部分のプリズム部材62に対して90度回転された状態で配置して、計測 光路OPM に対して2つの参照光路(OPR1,OPR2)が非平行、即ち垂直とな る如く構成したものである。
【0146】 ここで、下側部分のプリズム部材62は、直角プリズム62aと直角プリズム 62aとの貼合せで構成され、この貼合せ面は偏光分離面(偏光ビームスプリッ ター面)S3 で形成されている。また、上側部分のプリズム部材63は、直角プ リズム63aと直角プリズム63bとの貼合せで構成され、この貼合せ面は偏光 分離面(偏光ビームスプリッター面)S4 で形成されている。
【0147】 なお、プリズム部材62、63の構成以外は、図1に示した第1実施例の構成 と全く同一であるため、装置の動作を含めた詳細な説明は省略する。 以上の如く図7に示した例によっても、計測光路中にて生ずる気体の屈折率変 化による測定誤差を補正し、精度良く移動鏡3の移動量や位置を検出することが できる。しかも、本例においても、2つの固定鏡との間の距離に対して移動鏡が 内分するように、2つの固定鏡との間に形成される空間に沿って移動鏡を移動さ せることができるため、極めて高い精度な計測が保証される。
【0148】 なお、図3に示した第2実施例においても、図7に示した如き計測光路と参照 光路とを直交させる構成とすることが可能である。例えば、図3の偏光プリズム 2の代わりに図7に示した2つの偏光プリズム62,63を用いれば、計測光路 と参照光路とを直交させることが可能となる。 また、以上にて示した各実施例における各干渉計の計測光路と参照光路との光 路の少なくとも一方に光路折り曲げ用の光路偏向部材を適宜配置し、装置全体が コンパクトになるように各光路を引き回すことも可能である。
【0149】 また、以上の各実施例では、第1及び第2干渉計の計測光路長が互いに等しい 例を示したが、図4の原理にて説明した如く、第1及び第2干渉計の計測光路長 を異ならせしてめても良いことは言うまでもない。 このように、本発明は上述実施例に限定されず本発明の要旨を逸脱しない範囲 で種々の構成を取り得る。
【0150】
以上の如く、本発明によれば、空気等の気体の揺らぎが生じていても測定誤差 が極めて少なく、しかも原理的に高精度な計測が実現できる高性能な干渉計装置 が実現できる。
【図1】本考案の干渉計装置の第1実施例を示す斜視図
である。
である。
【図2】(a)は第1実施例のプリズム部材2の下部を
通過する計測光路及び第1及び第2参照光路の様子を示
す平面図、(b)は第1実施例のプリズム部材2の上部
を通過する計測光路及び第1参照光路の様子を示す平面
図、(c)は第1実施例のプリズム部材2の上部を通過
する計測光路及び第2参照光路の様子を示す平面図、
(d)は第1実施例のプリズム部材2の他の例を示す平
面図である。
通過する計測光路及び第1及び第2参照光路の様子を示
す平面図、(b)は第1実施例のプリズム部材2の上部
を通過する計測光路及び第1参照光路の様子を示す平面
図、(c)は第1実施例のプリズム部材2の上部を通過
する計測光路及び第2参照光路の様子を示す平面図、
(d)は第1実施例のプリズム部材2の他の例を示す平
面図である。
【図3】本考案の干渉計装置の第2実施例を示す斜視図
である。
である。
【図4】本考案の干渉計装置の原理を示す構成図であ
る。
る。
【図5】図4とは別の見方による本考案の干渉計装置の
原理を示す構成図である。
原理を示す構成図である。
【図6】従来の干渉計装置を示す構成図である。
【図7】本考案の干渉計装置の第1実施例の変形例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
1・・・・・・レーザー光源 2・・・・・・プリズム部材 3・・・・・・移動鏡 4・・・・・・偏向プリズム(直角プリズム) 5・・・・・・プリズム部材(光分割部材) 6,6a,6b・・・・・・固定鏡 7a・・・・・・第1レシーバ 7b・・・・・・第2レシーバ 8a1 〜8a4,8b1 〜8a4 ・・・・・・1/4波長板 9,9a,9b・・・・・・1/2波長板 10・・・・・・演算処理部 60・・・・・・密閉管 61・・・・・・棒状部材
Claims (1)
- 【請求項1】被計測物体の変位量を計測する干渉計装置
において、2つの直角プリズムの内の一方の斜面と他方
の底面とを接合してこの接合面が偏光分離面で形成され
た光学部材を配置し、該光学部材によって測定用光路と
参照用光路とを形成する構成としたことを特徴とする干
渉計装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6478293U JPH0726706U (ja) | 1992-12-24 | 1993-12-03 | 干渉計装置 |
| US08/532,267 US5585922A (en) | 1992-12-24 | 1995-09-22 | Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8831792 | 1992-12-24 | ||
| JP5-47343 | 1993-08-31 | ||
| JP4734393 | 1993-08-31 | ||
| JP4-88317 | 1993-08-31 | ||
| JP6478293U JPH0726706U (ja) | 1992-12-24 | 1993-12-03 | 干渉計装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0726706U true JPH0726706U (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=27292947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6478293U Pending JPH0726706U (ja) | 1992-12-24 | 1993-12-03 | 干渉計装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726706U (ja) |
-
1993
- 1993-12-03 JP JP6478293U patent/JPH0726706U/ja active Pending
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