JPH07278669A - 鉄損の低い鏡面方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
鉄損の低い鏡面方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JPH07278669A JPH07278669A JP6706194A JP6706194A JPH07278669A JP H07278669 A JPH07278669 A JP H07278669A JP 6706194 A JP6706194 A JP 6706194A JP 6706194 A JP6706194 A JP 6706194A JP H07278669 A JPH07278669 A JP H07278669A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 製品表面の鏡面化（磁気的平滑化）を工業的
に安定して達成する手段を提示する。 【構成】 脱炭焼鈍の雰囲気ガスをＦｅ系酸化物の形成
しない酸化度（Ｐ H2 O／Ｐ H2 ）で行い、焼鈍分離剤
中に塩化物を添加することによりコイル全域での鏡面化
を安定して達成する。
に安定して達成する手段を提示する。 【構成】 脱炭焼鈍の雰囲気ガスをＦｅ系酸化物の形成
しない酸化度（Ｐ H2 O／Ｐ H2 ）で行い、焼鈍分離剤
中に塩化物を添加することによりコイル全域での鏡面化
を安定して達成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は主として変圧器その他の
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
【０００２】
【従来の技術】一方向性珪素鋼板は、磁気鉄心として多
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力鉄損の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力鉄損の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
【０００３】積み鉄心の場合、仕上げ焼鈍後の鋼板にレ
ーザービームを照射して、局部的な微少歪を与えること
により磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例え
ば特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
ーザービームを照射して、局部的な微少歪を与えること
により磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例え
ば特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
【０００４】しかしながら、これらの磁区の動きを観察
すると動かない磁区も存在していることが分かり、方向
性電磁鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細
分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス
皮膜の凹凸に起因するピン止め効果をなくすことが重要
であることが分かった。そのためには、磁区の動きを阻
害する鋼板表面のグラス皮膜を形成させないことが有効
である。その手段として、焼鈍分離剤として粗大高純ア
ルミナを用いることによりグラス皮膜を形成させない方
法が、例えばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３７８５８８２に開
示されている。しかしながらこの方法では表面直下の介
在物をなくすことができず、鉄損の向上代はＷ15/60 で
高々２％に過ぎない。
すると動かない磁区も存在していることが分かり、方向
性電磁鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細
分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス
皮膜の凹凸に起因するピン止め効果をなくすことが重要
であることが分かった。そのためには、磁区の動きを阻
害する鋼板表面のグラス皮膜を形成させないことが有効
である。その手段として、焼鈍分離剤として粗大高純ア
ルミナを用いることによりグラス皮膜を形成させない方
法が、例えばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３７８５８８２に開
示されている。しかしながらこの方法では表面直下の介
在物をなくすことができず、鉄損の向上代はＷ15/60 で
高々２％に過ぎない。
【０００５】この表面直下の介在物を制御し、かつ表面
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学研
磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−８
３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化学
研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試料の
材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行う
には薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の点
で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至っていな
い。この問題点を解消する方策として、本発明者等は塩
化物を焼鈍分離剤に添加する方法を既に提案している
（例えば特願平５−２０４３９３号、特願平５−３２３
０５９号）。
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学研
磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−８
３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化学
研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試料の
材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行う
には薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の点
で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至っていな
い。この問題点を解消する方策として、本発明者等は塩
化物を焼鈍分離剤に添加する方法を既に提案している
（例えば特願平５−２０４３９３号、特願平５−３２３
０５９号）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、工業的
にコイル規模で行った場合、コイルの部位により仕上げ
焼鈍昇温時の雰囲気ガスが異なるため塩化物の分解挙動
がばらつき、コイル全体で均一に鏡面化が実現できない
ことが判明した。この問題点を解消するために、塩化物
の添加量を増加させ鏡面の均一化をめざしたところ、部
分的に粒界までエッチングされてしまった。本発明の目
的はコイル規模で均一に鏡面化を行い、鉄損の低い鏡面
方向性電磁鋼板の製造方法を提示することである。
にコイル規模で行った場合、コイルの部位により仕上げ
焼鈍昇温時の雰囲気ガスが異なるため塩化物の分解挙動
がばらつき、コイル全体で均一に鏡面化が実現できない
ことが判明した。この問題点を解消するために、塩化物
の添加量を増加させ鏡面の均一化をめざしたところ、部
分的に粒界までエッチングされてしまった。本発明の目
的はコイル規模で均一に鏡面化を行い、鉄損の低い鏡面
方向性電磁鋼板の製造方法を提示することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために種々の実験を行い脱炭焼鈍の露点を制
御し、脱炭焼鈍時に形成される酸化層においてＦｅ系酸
化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4，ＦｅＯ等）を形成させないこと
により、焼鈍分離剤中の塩化物の添加量を低減させた条
件下で安定して鏡面化できることを見出した。
を解決するために種々の実験を行い脱炭焼鈍の露点を制
御し、脱炭焼鈍時に形成される酸化層においてＦｅ系酸
化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4，ＦｅＯ等）を形成させないこと
により、焼鈍分離剤中の塩化物の添加量を低減させた条
件下で安定して鏡面化できることを見出した。
【０００８】以下、詳細に説明する。重量で、Ｓｉ：
３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：
０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．
００８％の珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板
厚１．６mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分
間焼鈍した後最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延
板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８３０℃で７０秒焼鈍し一
次再結晶させた。脱炭焼鈍の雰囲気ガス露点は酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）として（１）０．０１６、（２）
０．０６、（３）０．１０５、（４）０．１８５、
（５）０．３２７の条件で焼鈍を行った。これらの脱炭
焼鈍後の表面酸化物の組成を赤外反射スペクトルにより
同定した。その結果を図２に示す。形成された酸化物は
図２に示されるように、条件（１）〜（３）では、Ｓｉ
Ｏ2 、条件（４），（５）ではＳｉＯ2 とＦｅ2 ＳｉＯ
4 である。
３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：
０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．
００８％の珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板
厚１．６mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分
間焼鈍した後最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延
板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８３０℃で７０秒焼鈍し一
次再結晶させた。脱炭焼鈍の雰囲気ガス露点は酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）として（１）０．０１６、（２）
０．０６、（３）０．１０５、（４）０．１８５、
（５）０．３２７の条件で焼鈍を行った。これらの脱炭
焼鈍後の表面酸化物の組成を赤外反射スペクトルにより
同定した。その結果を図２に示す。形成された酸化物は
図２に示されるように、条件（１）〜（３）では、Ｓｉ
Ｏ2 、条件（４），（５）ではＳｉＯ2 とＦｅ2 ＳｉＯ
4 である。
【０００９】その後、アンモニア窒化により窒素量を
０．０２％まで高めインヒビターを強化した。この脱炭
焼鈍板にＢｉＯＣｌを０〜８％添加したマグネシアを主
成分とする焼鈍分離剤を塗布した後、仕上げ焼鈍を施し
た。仕上げ焼鈍は１２００℃まではＮ2 ：５０％＋
Ｈ2 ：５０％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度で
行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間
純化焼鈍を行った。これらの試料について、鏡面化度を
図１に示す。これらの結果より、Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2
ＳｉＯ4 ）が生成しない酸化度域（実験条件（１）〜
（３））で塩化物添加量の広い領域で均一な鏡面化が達
成されることが分かる。
０．０２％まで高めインヒビターを強化した。この脱炭
焼鈍板にＢｉＯＣｌを０〜８％添加したマグネシアを主
成分とする焼鈍分離剤を塗布した後、仕上げ焼鈍を施し
た。仕上げ焼鈍は１２００℃まではＮ2 ：５０％＋
Ｈ2 ：５０％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度で
行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間
純化焼鈍を行った。これらの試料について、鏡面化度を
図１に示す。これらの結果より、Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2
ＳｉＯ4 ）が生成しない酸化度域（実験条件（１）〜
（３））で塩化物添加量の広い領域で均一な鏡面化が達
成されることが分かる。
【００１０】以下、実施形態を説明する。基本的な製造
法としては、田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを主イ
ンヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭４０−１
５６４４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）
Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭
６２−４５２８５号公報）を適用すればよい。Ｓｉは電
気抵抗を高め、鉄損を下げるうえで重要な元素である。
含有量が４．８％を超えると、冷間圧延時に材料が割れ
易くなり、圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げると
仕上げ焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が損な
われるので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさない
０．８％を下限とする。
法としては、田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを主イ
ンヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭４０−１
５６４４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）
Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭
６２−４５２８５号公報）を適用すればよい。Ｓｉは電
気抵抗を高め、鉄損を下げるうえで重要な元素である。
含有量が４．８％を超えると、冷間圧延時に材料が割れ
易くなり、圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げると
仕上げ焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が損な
われるので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさない
０．８％を下限とする。
【００１１】酸可溶性ＡｌはＮと結合してＡｌＮまたは
（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能するた
めに必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１２
〜０．０５０％を限定範囲とする。Ｎは製鋼時に０．０
１％以上添加するとブリスターと呼ばれる鋼板中の空孔
を生じるので０．０１％を上限とする。他のインヒビタ
ー構成元素として、Ｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ
等を添加することもできる。
（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能するた
めに必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１２
〜０．０５０％を限定範囲とする。Ｎは製鋼時に０．０
１％以上添加するとブリスターと呼ばれる鋼板中の空孔
を生じるので０．０１％を上限とする。他のインヒビタ
ー構成元素として、Ｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ
等を添加することもできる。
【００１２】上記成分の溶鋼は、通常の工程により熱延
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯はただちに、もしく
は短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０
〜１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この
焼鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む
製品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように最終冷延圧下率８０％以上
とすればよい。冷間圧延後の材料は、鋼中に含まれる炭
素を除去するために湿水素雰囲気中で、７５０〜９００
℃の温度域で脱炭焼鈍を行う。
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯はただちに、もしく
は短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０
〜１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この
焼鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む
製品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように最終冷延圧下率８０％以上
とすればよい。冷間圧延後の材料は、鋼中に含まれる炭
素を除去するために湿水素雰囲気中で、７５０〜９００
℃の温度域で脱炭焼鈍を行う。
【００１３】この脱炭焼鈍において、Ｆｅ系の酸化物
（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ，ＦｅＯ等）を形成させない酸化度で
焼鈍を行うことが、本発明のポイントである。例えば、
通常脱炭焼鈍が行われる８００〜８５０℃の温度域にお
いては、雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を
０．１５以下に調整することにより、Ｆｅ系酸化物の生
成を抑制することができる。但し、あまりに酸化度を下
げると脱炭速度が遅くなってしまう。この両者を勘案す
ると、この温度域においては雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H
2 O ／Ｐ H2 ）：０．０１〜０．１５の範囲が好まし
い。
（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ，ＦｅＯ等）を形成させない酸化度で
焼鈍を行うことが、本発明のポイントである。例えば、
通常脱炭焼鈍が行われる８００〜８５０℃の温度域にお
いては、雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を
０．１５以下に調整することにより、Ｆｅ系酸化物の生
成を抑制することができる。但し、あまりに酸化度を下
げると脱炭速度が遅くなってしまう。この両者を勘案す
ると、この温度域においては雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H
2 O ／Ｐ H2 ）：０．０１〜０．１５の範囲が好まし
い。
【００１４】（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒビターとして
用いる製造法（例えば特公昭６２−４５２８５号公報）
においては、この脱炭焼鈍板に窒化処理を施す。この窒
化処理の方法は特に限定するものではなく、アンモニア
等の窒化能のある雰囲気ガス中で行う方法等がある。量
的には０．００５％以上、望ましくは全窒素量として鋼
中のＡｌ当量以上窒化すればよい。これらの脱炭焼鈍板
を積層する際に、マグネシアを主成分とする焼鈍分離剤
に塩化物を添加する。この塩化物として特に、ビスマス
の塩化物またはビスマスの化合物と塩素化合物を複合し
て添加すると鏡面化に有効である。
用いる製造法（例えば特公昭６２−４５２８５号公報）
においては、この脱炭焼鈍板に窒化処理を施す。この窒
化処理の方法は特に限定するものではなく、アンモニア
等の窒化能のある雰囲気ガス中で行う方法等がある。量
的には０．００５％以上、望ましくは全窒素量として鋼
中のＡｌ当量以上窒化すればよい。これらの脱炭焼鈍板
を積層する際に、マグネシアを主成分とする焼鈍分離剤
に塩化物を添加する。この塩化物として特に、ビスマス
の塩化物またはビスマスの化合物と塩素化合物を複合し
て添加すると鏡面化に有効である。
【００１５】この積層した板を仕上げ焼鈍して、二次再
結晶と窒化物の純化を行う。二次再結晶を特開平２−２
５８９２９号に開示されるように一定の温度で保持する
等の手段により所定の温度域で行うことは磁束密度を上
げるうえで有効である。二次再結晶完了後、窒化物の純
化を行うために１００％水素で１１００℃以上の温度で
焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面は既に平滑化されている
ので、張力コーティング処理を行い、必要に応じてレー
ザー照射等の磁区細分化処理を施せばよい。
結晶と窒化物の純化を行う。二次再結晶を特開平２−２
５８９２９号に開示されるように一定の温度で保持する
等の手段により所定の温度域で行うことは磁束密度を上
げるうえで有効である。二次再結晶完了後、窒化物の純
化を行うために１００％水素で１１００℃以上の温度で
焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面は既に平滑化されている
ので、張力コーティング処理を行い、必要に応じてレー
ザー照射等の磁区細分化処理を施せばよい。
【００１６】
【実施例】重量で、Ｓｉ：３．２％、Ｍｎ：０．１３
％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０２７％、Ｎ：０．００８％、残部Ｆｅ及び不
可避的不純物からなる珪素鋼熱延板を、１１００℃で２
分間焼鈍した後、最終板厚０．２３mmに冷延した。この
冷延板を脱炭を兼ね酸化度（１）０．０６、（２）０．
４４で８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一次再結晶させ
た。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、
窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化
を行った。
％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０２７％、Ｎ：０．００８％、残部Ｆｅ及び不
可避的不純物からなる珪素鋼熱延板を、１１００℃で２
分間焼鈍した後、最終板厚０．２３mmに冷延した。この
冷延板を脱炭を兼ね酸化度（１）０．０６、（２）０．
４４で８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一次再結晶させ
た。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍することにより、
窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビターの強化
を行った。
【００１７】これらの鋼板をその後、マグネシア（Ｍｇ
Ｏ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。
焼鈍分離剤にＢｉ2 Ｏ3 とＦｅＣｌ2 をそれぞれ（１）
１％、（２）３％、（３）５％、（４）７％添加した。
これらの試料を燐酸−クロム酸系の張力コーティング処
理を施した後、レーザー照射して磁区細分化した。得ら
れた製品の磁気特性を表１に示す。酸化度０．０６の脱
炭焼鈍条件の場合、広範囲の添加物の添加量で鏡面化が
達成されている。
Ｏ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。
焼鈍分離剤にＢｉ2 Ｏ3 とＦｅＣｌ2 をそれぞれ（１）
１％、（２）３％、（３）５％、（４）７％添加した。
これらの試料を燐酸−クロム酸系の張力コーティング処
理を施した後、レーザー照射して磁区細分化した。得ら
れた製品の磁気特性を表１に示す。酸化度０．０６の脱
炭焼鈍条件の場合、広範囲の添加物の添加量で鏡面化が
達成されている。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】本発明により、従来ないような低鉄損の
方向性電磁鋼板を工業的規模で安定して製造することが
できる。
方向性電磁鋼板を工業的規模で安定して製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】脱炭焼鈍時の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）及び塩化物（ＢｉＯＣｌ）添加量の製品の表面
鏡面度に及ぼす影響を示した図表である。
Ｐ H2 ）及び塩化物（ＢｉＯＣｌ）添加量の製品の表面
鏡面度に及ぼす影響を示した図表である。
【図２】脱炭焼鈍時の雰囲気ガスの酸化度を変更した場
合に形成された酸化物を赤外反射スペクトルである。
合に形成された酸化物を赤外反射スペクトルである。
Claims (3)
- 【請求項１】 重量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２〜０．０５％、 Ｎ ≦０．０１％、 残部実質的にＦｅ及び不可避的不純物からなる珪素鋼帯
を、一回もしくは中間焼鈍をはさむ二回以上の冷間圧延
により最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍・増窒素処理を行
った後、焼鈍分離剤を塗布して仕上げ焼鈍を施す方向性
電磁鋼板の製造方法において、 （１）脱炭焼鈍を酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）で０．０
１以上０．１５以下の雰囲気ガス中で行い、 （２）該鋼板を積層する際の板間のマグネシアを主成分
とする焼鈍分離剤に塩化物を添加することにより仕上げ
焼鈍後に表面を鏡面にすることを特徴とする鉄損の低い
鏡面方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 重量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２〜０．０５％、 Ｎ ≦０．０１％、 Ｍｎ：０．０２〜０．３％、 Ｓ ：０．００５〜０．０４０％、 残部実質的にＦｅ及び不可避的不純物からなる珪素鋼帯
を、一回もしくは中間焼鈍をはさむ二回以上の冷間圧延
により最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行った後、焼鈍
分離剤を塗布して仕上げ焼鈍を施す方向性電磁鋼板の製
造方法において、 （１）脱炭焼鈍を酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）で０．０
１以上０．１５以下の雰囲気ガス中で行い、 （２）該鋼板を積層する際の板間のマグネシアを主成分
とする焼鈍分離剤に塩化物を添加することにより仕上げ
焼鈍後に表面を鏡面にすることを特徴とする鉄損の低い
鏡面方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項３】 焼鈍分離剤に添加する塩化物としてビス
マスの塩化物またはビスマスの化合物と塩素化合物を複
合して添加する請求項１もしくは２記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6706194A JPH07278669A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 鉄損の低い鏡面方向性電磁鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6706194A JPH07278669A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 鉄損の低い鏡面方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278669A true JPH07278669A (ja) | 1995-10-24 |
Family
ID=13333961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6706194A Pending JPH07278669A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 鉄損の低い鏡面方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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