JPH0727882B2 - 洗浄装置用搬送トレイ - Google Patents
洗浄装置用搬送トレイInfo
- Publication number
- JPH0727882B2 JPH0727882B2 JP60044813A JP4481385A JPH0727882B2 JP H0727882 B2 JPH0727882 B2 JP H0727882B2 JP 60044813 A JP60044813 A JP 60044813A JP 4481385 A JP4481385 A JP 4481385A JP H0727882 B2 JPH0727882 B2 JP H0727882B2
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- JP
- Japan
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- tray
- cleaned
- cleaning
- cleaning device
- dust
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P52/00—Grinding, lapping or polishing of wafers, substrates or parts of devices
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、小物被洗浄物の塵埃を除去するための精密洗
浄装置用の搬送トレイに関する。
浄装置用の搬送トレイに関する。
従来ウエフアのような円板状の一定形状物の搬送装置は
特公昭56−49451号等で公知であって第9図のように、
平置した状態のまま直接コンベアやチャックによって搬
送したり加工したりするものである。四角板状など円板
状以外の形状をもち、ウエフアよりも小さい対象物に対
しては、そのまま利用することは困難である。
特公昭56−49451号等で公知であって第9図のように、
平置した状態のまま直接コンベアやチャックによって搬
送したり加工したりするものである。四角板状など円板
状以外の形状をもち、ウエフアよりも小さい対象物に対
しては、そのまま利用することは困難である。
洗浄装置における搬送も同様であって、磁気信号記録部
品や水晶振動子などの精密洗洗浄には、ウエフア用の洗
浄装置を利用することができなかった。
品や水晶振動子などの精密洗洗浄には、ウエフア用の洗
浄装置を利用することができなかった。
〔発明の目的〕 本発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
で、上記小物被洗浄物をしっかりと良く洗浄できるとと
もに十分な水切りのできる洗浄装置用搬送トレイを提供
するものである。
で、上記小物被洗浄物をしっかりと良く洗浄できるとと
もに十分な水切りのできる洗浄装置用搬送トレイを提供
するものである。
本発明は、小物の被洗浄物を載置するトレイと,載置さ
れている被洗浄物をフラッシングするブラシスクラバ工
程と,被洗浄物に水を噴射するジェットスクラバ工程
と,被洗浄物を載置したままトレイを回すスピン乾燥工
程とを備えているものにおいて、 前記トレイには、被洗浄物が載置される部位に上下方向
に貫通する真空引穴を形成し、トレイの下側にあたる真
空引穴側に吸引を付与して被洗浄物をトレイに吸引固定
し、トレイの上側には前記真空引穴の回りに被洗浄物の
位置決め用ピンを立てるように設け、上下方向に貫通す
る複数の液抜穴をトレイの(内・外)周に近い部位に配
置するとともに液抜穴を相互に連通するように結ぶ溝を
トレイの上側面に形成したことを特徴とするものであ
る。
れている被洗浄物をフラッシングするブラシスクラバ工
程と,被洗浄物に水を噴射するジェットスクラバ工程
と,被洗浄物を載置したままトレイを回すスピン乾燥工
程とを備えているものにおいて、 前記トレイには、被洗浄物が載置される部位に上下方向
に貫通する真空引穴を形成し、トレイの下側にあたる真
空引穴側に吸引を付与して被洗浄物をトレイに吸引固定
し、トレイの上側には前記真空引穴の回りに被洗浄物の
位置決め用ピンを立てるように設け、上下方向に貫通す
る複数の液抜穴をトレイの(内・外)周に近い部位に配
置するとともに液抜穴を相互に連通するように結ぶ溝を
トレイの上側面に形成したことを特徴とするものであ
る。
第1図は、本発明に係る洗浄装置用搬送トレイ12の一実
施例を示す斜視図であって、ステンレス製の円板の平面
に真空引穴12aと液抜穴12bと位置決め用ピン12cとを有
するもので、被洗浄物9は、該トレイ12の平面上に、放
射状2列に等間隔を保って載置される。図中において
は、被洗浄物9は半径上に並ぶ2組計4個を図示し、か
つこのうち2個は断面にて示してあるが、他の被洗浄物
9は図示を省略してある。
施例を示す斜視図であって、ステンレス製の円板の平面
に真空引穴12aと液抜穴12bと位置決め用ピン12cとを有
するもので、被洗浄物9は、該トレイ12の平面上に、放
射状2列に等間隔を保って載置される。図中において
は、被洗浄物9は半径上に並ぶ2組計4個を図示し、か
つこのうち2個は断面にて示してあるが、他の被洗浄物
9は図示を省略してある。
このトレイ12を用いて多数の被洗浄物9を、各種洗浄装
置から成る湿式洗浄装置及び電磁波照射形洗浄装置によ
って連続的に洗浄処理をおこなう実施例を第2図〜第8
図によって説明する。
置から成る湿式洗浄装置及び電磁波照射形洗浄装置によ
って連続的に洗浄処理をおこなう実施例を第2図〜第8
図によって説明する。
第2図は、本発明に係る洗浄装置用搬送トレイを用いた
洗浄装置全体の概要平面及び被洗浄物の洗浄経路並びに
洗浄空気の流路を示す図、第3図は、第2図に示す洗浄
装置内部の構成を示す平面配置図である。
洗浄装置全体の概要平面及び被洗浄物の洗浄経路並びに
洗浄空気の流路を示す図、第3図は、第2図に示す洗浄
装置内部の構成を示す平面配置図である。
この洗浄装置1は、ローダ2,湿式超音波洗浄装置3,シャ
ワリング装置4,スクラバ装置5,電磁波照射洗浄装置6,検
査ユニット7,アンローダ8等を順次並設してて一連の洗
浄装置となしたものである。被洗浄物9は、洗浄装置1
を構成する前記各装置2,3,4,5,6,7,8を経由し、洗浄さ
れる間常に本発明に係るトレイ12上に載置された状態に
おいて処理される。トレイ12上の被洗浄物9は第2図矢
印Pの方向に順次搬送装置によって移送される。清浄空
気Aは、被洗浄物9の移動方向と逆に矢印Qの方向に流
れるようになされている。また清浄空気Aは、各装置8,
7,5,4,3,2におけるトレイ12上の被洗浄物9に対し、垂
直上方より下方に向って前記各装置ごとに順次分岐して
流すことにより、各装置8,7,5,4,3,2から発生する塵埃
が被洗浄物9に付着しないように配慮されている。従っ
て例えば、シャワリング装置4において発生する塵埃
は、次工程のスクラバ装置5に持ち込まれることはな
い。また清浄空気Aは洗浄装置1内を通過するに従って
徐々に汚染されるが、前述のようにトレイ12上の被洗浄
物9の移動方向と逆方向に流されるため、トレイ12上の
被洗浄物が、洗浄装置1内の前記各装置2,3,4,5,7,8か
ら出る側においては、新鮮な空気と接触することとな
り、清浄空気Aを、被洗浄物9の洗浄工程順路と同じ方
向に流すよりも、汚染されにくいように構成されてい
る。なお清浄空気Aは電磁波照射洗浄装置6には分流し
ないようになされており、別に電磁波照射形洗浄装置6
専用に、清浄空気Bを送り込むようにしてあり、トレイ
12上の被洗浄物9に付着した有機物の塵埃がオゾン及び
酸素ラジカルによって酸化分解される結果生成する炭酸
ガスと水蒸気とを直ちに電磁波照射洗浄装置6の外に排
出し、次工程へ塵埃が送られないようになされている。
清浄空気Bの代りに、電磁波照射形洗浄装置6に酸素ガ
スを送り込んでもよく、これにより該装置6におけるオ
ゾンの発生を助長する作用をする。
ワリング装置4,スクラバ装置5,電磁波照射洗浄装置6,検
査ユニット7,アンローダ8等を順次並設してて一連の洗
浄装置となしたものである。被洗浄物9は、洗浄装置1
を構成する前記各装置2,3,4,5,6,7,8を経由し、洗浄さ
れる間常に本発明に係るトレイ12上に載置された状態に
おいて処理される。トレイ12上の被洗浄物9は第2図矢
印Pの方向に順次搬送装置によって移送される。清浄空
気Aは、被洗浄物9の移動方向と逆に矢印Qの方向に流
れるようになされている。また清浄空気Aは、各装置8,
7,5,4,3,2におけるトレイ12上の被洗浄物9に対し、垂
直上方より下方に向って前記各装置ごとに順次分岐して
流すことにより、各装置8,7,5,4,3,2から発生する塵埃
が被洗浄物9に付着しないように配慮されている。従っ
て例えば、シャワリング装置4において発生する塵埃
は、次工程のスクラバ装置5に持ち込まれることはな
い。また清浄空気Aは洗浄装置1内を通過するに従って
徐々に汚染されるが、前述のようにトレイ12上の被洗浄
物9の移動方向と逆方向に流されるため、トレイ12上の
被洗浄物が、洗浄装置1内の前記各装置2,3,4,5,7,8か
ら出る側においては、新鮮な空気と接触することとな
り、清浄空気Aを、被洗浄物9の洗浄工程順路と同じ方
向に流すよりも、汚染されにくいように構成されてい
る。なお清浄空気Aは電磁波照射洗浄装置6には分流し
ないようになされており、別に電磁波照射形洗浄装置6
専用に、清浄空気Bを送り込むようにしてあり、トレイ
12上の被洗浄物9に付着した有機物の塵埃がオゾン及び
酸素ラジカルによって酸化分解される結果生成する炭酸
ガスと水蒸気とを直ちに電磁波照射洗浄装置6の外に排
出し、次工程へ塵埃が送られないようになされている。
清浄空気Bの代りに、電磁波照射形洗浄装置6に酸素ガ
スを送り込んでもよく、これにより該装置6におけるオ
ゾンの発生を助長する作用をする。
洗浄装置1内の各装置2,3,4,5,6,7,8を第2図に示すよ
うにU字状に配列されているので、一直線状に配列され
た場合と比較して考えた場合、長手方向の寸法をほぼ1/
2に縮小することができる。また各装置2,3,4,5,6,7,8の
駆動装置及び配管部をU字状の中央部Rに設置すること
ができるから、トレイ12上の被洗浄物9を洗浄装置1の
外周側から監視したり点検したり、事故の際に処理した
りする場合に、駆動装置及び配管部のために邪魔される
心配がない。
うにU字状に配列されているので、一直線状に配列され
た場合と比較して考えた場合、長手方向の寸法をほぼ1/
2に縮小することができる。また各装置2,3,4,5,6,7,8の
駆動装置及び配管部をU字状の中央部Rに設置すること
ができるから、トレイ12上の被洗浄物9を洗浄装置1の
外周側から監視したり点検したり、事故の際に処理した
りする場合に、駆動装置及び配管部のために邪魔される
心配がない。
また回動アーム11の回動範囲の中間に、予備室6a,6hの
ために必要なスペースを確保することができる。
ために必要なスペースを確保することができる。
被洗浄物9は、第1図に示すようにステンレス製の円板
状トレイ12の上に載置された状態で洗浄装置1内へ送り
込まれる。被洗浄物9を載置したトレイ12は、第4図に
示すようにラック13において多段に積載されてローダ2
へ送られる。トレイ12上の被洗浄物9はローダ2の昇降
テーブル2aを介して搬送コンベア2b上に順次載置され、
湿式超音波洗浄装置3へ送られる。
状トレイ12の上に載置された状態で洗浄装置1内へ送り
込まれる。被洗浄物9を載置したトレイ12は、第4図に
示すようにラック13において多段に積載されてローダ2
へ送られる。トレイ12上の被洗浄物9はローダ2の昇降
テーブル2aを介して搬送コンベア2b上に順次載置され、
湿式超音波洗浄装置3へ送られる。
トレイ12上の被洗浄物9は、この搬送コンベア2bからパ
レット3aによって湿式超音波洗浄槽3bの水中に浸漬され
る。第4図に示すパレット3aの位置は、トレイ12上の被
洗浄物9が湿式超音波洗浄槽3bの水中に浸漬されていな
い状態における位置を示している。洗浄槽3bの底部には
振動子3cが設けられており、この振動子3cを振動させ洗
浄槽3b内の水3dに対し超音波振動を与えることにより、
被洗浄物9の表面の塵埃に対して振動エネルギを与え
る。塵埃は大きいもの程大きな振動エネルギが加わるの
で、大きな塵埃から順次被洗浄物の表面から遊離する。
大きな塵埃は一般的には無機物が多いので、湿式超音波
洗浄装置3によって、主に無機物の塵埃を除去すること
ができる。無機物の塵埃を除去することによって、無機
物によって蔽われていた有機物の塵埃を被洗浄物9の表
面に露出されることができる。
レット3aによって湿式超音波洗浄槽3bの水中に浸漬され
る。第4図に示すパレット3aの位置は、トレイ12上の被
洗浄物9が湿式超音波洗浄槽3bの水中に浸漬されていな
い状態における位置を示している。洗浄槽3bの底部には
振動子3cが設けられており、この振動子3cを振動させ洗
浄槽3b内の水3dに対し超音波振動を与えることにより、
被洗浄物9の表面の塵埃に対して振動エネルギを与え
る。塵埃は大きいもの程大きな振動エネルギが加わるの
で、大きな塵埃から順次被洗浄物の表面から遊離する。
大きな塵埃は一般的には無機物が多いので、湿式超音波
洗浄装置3によって、主に無機物の塵埃を除去すること
ができる。無機物の塵埃を除去することによって、無機
物によって蔽われていた有機物の塵埃を被洗浄物9の表
面に露出されることができる。
洗浄槽3b内の水3dは、オーバフローさせることによりタ
ンク14へ導き、タンク14からポンプ15によってフィルタ
16を経て洗浄槽3bへ再供給されるように循環している。
水中に遊離した塵埃は、フィルタ16によってろ過され取
り除かれる。
ンク14へ導き、タンク14からポンプ15によってフィルタ
16を経て洗浄槽3bへ再供給されるように循環している。
水中に遊離した塵埃は、フィルタ16によってろ過され取
り除かれる。
洗浄槽3bにおける洗浄が終了すると、ペレット3aは引き
上げられ、被洗浄物が載置したトレイ12は、シャワリン
グ装置4へ送るために、シャワリングコンベア4aに載置
される。
上げられ、被洗浄物が載置したトレイ12は、シャワリン
グ装置4へ送るために、シャワリングコンベア4aに載置
される。
トレイ12上の被洗浄物9は、シャワリングコンベア4a上
を移動する際に、シャワリングコンベア4aの上方に配置
された散水ノズル4bにより散水されることにより、洗浄
槽3b内において付着した塵埃があれば除去される。
を移動する際に、シャワリングコンベア4aの上方に配置
された散水ノズル4bにより散水されることにより、洗浄
槽3b内において付着した塵埃があれば除去される。
第5図及び第6図において、被洗浄物を載置したトレイ
12は、シャワリングコンベア4a及びスライダ4cによって
スクラバ装置へ送られる。
12は、シャワリングコンベア4a及びスライダ4cによって
スクラバ装置へ送られる。
スクラバ装置5には、中央にテーブル5aがあり、テーブ
ル5a上に載置されたトレイ12上の被洗浄物に対し、リン
スノズル5dから純水を噴射させると同時に、ブラシスク
ラバ5bが被洗浄物をこすり、その表面に固着している有
機物及び無機物の塵埃を剥離させる。第4図に示す湿式
超音波洗浄装置3によってトレイ12上の被洗浄物9に付
着していた大きな塵埃は、すでに除去されており、まだ
除去されていない被洗浄物9の表面に固着した比較的小
さい無機物の塵埃は、第5図のシャワリング装置を通過
した後においては、剥離し易い状態になっているので、
ブラシスクラバ5によるブラシングの効果が高くなる。
続いて5aの上方に配置されたジェットスクラバ5cにより
水を噴射することにより、剥離した有機物及び無機物の
塵埃を被洗浄物9の表面から排除する。さらにリンスノ
ズル5dにより純水を噴射させ、テーブル5aを高速回転さ
せ、N2ガスをブローノズルから噴射されることにより被
洗浄物9とトレイ12とを乾燥する。テーブル5aには搬送
用トレイ12の真空引穴12aが設けられており、この真空
引穴12aから減圧することにより被洗浄物9をトレイ12
と共にテーブル5aに吸引固定させている。
ル5a上に載置されたトレイ12上の被洗浄物に対し、リン
スノズル5dから純水を噴射させると同時に、ブラシスク
ラバ5bが被洗浄物をこすり、その表面に固着している有
機物及び無機物の塵埃を剥離させる。第4図に示す湿式
超音波洗浄装置3によってトレイ12上の被洗浄物9に付
着していた大きな塵埃は、すでに除去されており、まだ
除去されていない被洗浄物9の表面に固着した比較的小
さい無機物の塵埃は、第5図のシャワリング装置を通過
した後においては、剥離し易い状態になっているので、
ブラシスクラバ5によるブラシングの効果が高くなる。
続いて5aの上方に配置されたジェットスクラバ5cにより
水を噴射することにより、剥離した有機物及び無機物の
塵埃を被洗浄物9の表面から排除する。さらにリンスノ
ズル5dにより純水を噴射させ、テーブル5aを高速回転さ
せ、N2ガスをブローノズルから噴射されることにより被
洗浄物9とトレイ12とを乾燥する。テーブル5aには搬送
用トレイ12の真空引穴12aが設けられており、この真空
引穴12aから減圧することにより被洗浄物9をトレイ12
と共にテーブル5aに吸引固定させている。
スクラバ装置5における洗浄が終了した後、上述した減
圧状態から常圧に戻すことにより吸引を解除し、被洗浄
物9を載置したトレイ12は次の搬送コンベア17へ、スラ
イダ4cにより移送れる。
圧状態から常圧に戻すことにより吸引を解除し、被洗浄
物9を載置したトレイ12は次の搬送コンベア17へ、スラ
イダ4cにより移送れる。
第6図及び第7図において、トレイ12上の被洗浄物9は
搬送コンベア17によってて移送され、回動アーム11の位
置に到達した後、回動アーム11に載置され、次いで回動
アーム11が回動することによりトレイ12上の被洗浄物9
を電磁波照射形洗浄装置6の前室6aへ送る。前室6aの入
口と出口にはシャッタ6b,6cが設けられており、被洗浄
物9を載置したトレイ12が通過するときのみシャッタ6
b,6cは開くようになされている。前室6aは本室6dにおい
て発生したオゾン及び酸素ラジカルが、スクラバ装置5
内へ流出するのを防止するために設けられている。
搬送コンベア17によってて移送され、回動アーム11の位
置に到達した後、回動アーム11に載置され、次いで回動
アーム11が回動することによりトレイ12上の被洗浄物9
を電磁波照射形洗浄装置6の前室6aへ送る。前室6aの入
口と出口にはシャッタ6b,6cが設けられており、被洗浄
物9を載置したトレイ12が通過するときのみシャッタ6
b,6cは開くようになされている。前室6aは本室6dにおい
て発生したオゾン及び酸素ラジカルが、スクラバ装置5
内へ流出するのを防止するために設けられている。
回動アームはさらに回動して、トレイ12上の被洗浄物9
を本室6d内のテーブル6e上に載置する。テーブル6eの上
方には、複数個の水銀ランプ6fと2本の赤外線ランプ6g
とが設けられている。水銀ランプ6fに通電すると、水銀
ランプから発する紫外線の作用により、本室6d内の空気
がオゾンと酸素ラジカルに分解し、トレイ12上の被洗浄
物9の表面に薄膜状に付着している有機物に作用し、有
機物を炭酸ガスと水蒸気に分解する。前述のように、湿
式超音波洗浄装置3とシャワリング装置4及びスクラバ
装置5とによって無機物の塵埃が除去されているため、
無機物の塵埃に蔽われていた有機物の塵埃は露出してい
るので、この酸化分解作用を効果的に行わせることが可
能である。水銀ランプ6fから発する紫外線の波長は184.
9nm或いは253.7nm近傍が効果的である。また水銀ランプ
6fに通電すると共に、赤外線ランプ6gに通電することに
より、トレイ12上の被洗浄物9の表面の有機物の酸化分
解を促進すると共に、該表面に残留する水分を蒸発させ
る作用をもっているので、被洗浄物9及びトレイ12を乾
燥させることができる。トレイ12上の被洗浄物9は、有
機物の塵埃が除去された後、回動アーム18の回動によっ
て、本室6dから後室6hへ送られる。なおテーブル6eは上
下動自在及び回動自在に設けられており、回動アーム11
及び18による搬送と、水銀ランプ6fによる紫外線照射の
ための、最適位置を選択するのに便利な構成となってい
る。
を本室6d内のテーブル6e上に載置する。テーブル6eの上
方には、複数個の水銀ランプ6fと2本の赤外線ランプ6g
とが設けられている。水銀ランプ6fに通電すると、水銀
ランプから発する紫外線の作用により、本室6d内の空気
がオゾンと酸素ラジカルに分解し、トレイ12上の被洗浄
物9の表面に薄膜状に付着している有機物に作用し、有
機物を炭酸ガスと水蒸気に分解する。前述のように、湿
式超音波洗浄装置3とシャワリング装置4及びスクラバ
装置5とによって無機物の塵埃が除去されているため、
無機物の塵埃に蔽われていた有機物の塵埃は露出してい
るので、この酸化分解作用を効果的に行わせることが可
能である。水銀ランプ6fから発する紫外線の波長は184.
9nm或いは253.7nm近傍が効果的である。また水銀ランプ
6fに通電すると共に、赤外線ランプ6gに通電することに
より、トレイ12上の被洗浄物9の表面の有機物の酸化分
解を促進すると共に、該表面に残留する水分を蒸発させ
る作用をもっているので、被洗浄物9及びトレイ12を乾
燥させることができる。トレイ12上の被洗浄物9は、有
機物の塵埃が除去された後、回動アーム18の回動によっ
て、本室6dから後室6hへ送られる。なおテーブル6eは上
下動自在及び回動自在に設けられており、回動アーム11
及び18による搬送と、水銀ランプ6fによる紫外線照射の
ための、最適位置を選択するのに便利な構成となってい
る。
後室6hの入口と出口にはシャッタ6i,6jが設けられてお
り、被洗浄物9を載置したトレイ12が通過するときの
み、シャッタ6i,6jは開くようになされている。この後
室6hは本室6dにおいて発生したオゾン及び酸素ラジカル
が検査ユニット7へ流出しないように設けたものであ
る。
り、被洗浄物9を載置したトレイ12が通過するときの
み、シャッタ6i,6jは開くようになされている。この後
室6hは本室6dにおいて発生したオゾン及び酸素ラジカル
が検査ユニット7へ流出しないように設けたものであ
る。
第7図及び第8図において、回動アーム18が更に回動す
ることにより、トレイ12上の被洗浄物9は検査ユニット
7内の搬送コンベア7a上に移送され、さらにコンベア7a
からテーブル7bへ送られる。テーブル7bの上方には顕微
鏡7c及びカメラ7dが設けられており、テーブル7bに載置
されたトレイ12上の被洗浄物9の表面の状況をカメラ7d
によって撮影し、撮影の結果をディスプレイ7eにおいて
表示すると共に、表示結果を自動的に評価して前工程に
おける各装置2,3,4,5,6に対してフィードバックさせる
ことができるようになっている。なおテーブル7bは上下
動自在及び回動自在に構成することにより、カメラ7bに
よる撮影の位置の調整を行うようにしてある。
ることにより、トレイ12上の被洗浄物9は検査ユニット
7内の搬送コンベア7a上に移送され、さらにコンベア7a
からテーブル7bへ送られる。テーブル7bの上方には顕微
鏡7c及びカメラ7dが設けられており、テーブル7bに載置
されたトレイ12上の被洗浄物9の表面の状況をカメラ7d
によって撮影し、撮影の結果をディスプレイ7eにおいて
表示すると共に、表示結果を自動的に評価して前工程に
おける各装置2,3,4,5,6に対してフィードバックさせる
ことができるようになっている。なおテーブル7bは上下
動自在及び回動自在に構成することにより、カメラ7bに
よる撮影の位置の調整を行うようにしてある。
検査ユニット7からは搬送コンベア7fによって被洗浄物
9を載置したトレイ12をアンローダ8へ送り、ラック13
へ積載する。
9を載置したトレイ12をアンローダ8へ送り、ラック13
へ積載する。
清浄空気Aは、トレイ12上の被洗浄物9に対し、垂直上
方から下方に向って分流するようになっているので、各
洗浄装置2,3,4,5,7,8から発生する塵埃がトレイ12上の
被洗浄物9を汚染しないようになされており、清浄空気
Aを個別に各装置2,3,4,5,7,8へ送る方式よりも能率よ
く洗浄装置1全体を流れるように構成されている。
方から下方に向って分流するようになっているので、各
洗浄装置2,3,4,5,7,8から発生する塵埃がトレイ12上の
被洗浄物9を汚染しないようになされており、清浄空気
Aを個別に各装置2,3,4,5,7,8へ送る方式よりも能率よ
く洗浄装置1全体を流れるように構成されている。
本実施例では、第8図に示すように、洗浄装置1のアン
ローダ8側に送り込み用のファン19を設けると共に、第
4図に示すように、ローダ2側に排出用のファン20を設
けてある。
ローダ8側に送り込み用のファン19を設けると共に、第
4図に示すように、ローダ2側に排出用のファン20を設
けてある。
なお、トレイ12は処理工程及び処理条件により、ステン
レス製のものの他、プラスチック製,コム製,セラミッ
ク製のものであってもよく、また第1−a図に示すよう
に、トレイ12の表面において、液抜穴12bの相互間を溝1
2dをもって連結する別の実施例もある。
レス製のものの他、プラスチック製,コム製,セラミッ
ク製のものであってもよく、また第1−a図に示すよう
に、トレイ12の表面において、液抜穴12bの相互間を溝1
2dをもって連結する別の実施例もある。
以上述べたとおり、本発明は、小物の被洗浄物を載置す
るトレイと,載置されている被洗浄物をフラッシングす
るブラシスクラバ工程と,被洗浄物に水を噴射するジェ
ットスクラバ工程と,被洗浄物を載置したままトレイを
回すスピン乾燥工程とを備えているものにおいて、 前記トレイには、被洗浄物が載置される部位に上下方向
に貫通する真空引穴を形成し、トレイの下側にあたる真
空引穴側に吸引を付与して被洗浄物をトレイに吸引固定
し、トレイの上側には前記真空引穴の回りに被洗浄物の
位置決め用ピンを立てるように設け、上下方向に貫通す
る複数の液抜穴をトレイの(内・外)周に近い部位に配
置するとともに液抜穴を相互に連通するように結ぶ溝を
トレイの上側面に形成したことを特徴とする洗浄装置用
搬送トレイにある。
るトレイと,載置されている被洗浄物をフラッシングす
るブラシスクラバ工程と,被洗浄物に水を噴射するジェ
ットスクラバ工程と,被洗浄物を載置したままトレイを
回すスピン乾燥工程とを備えているものにおいて、 前記トレイには、被洗浄物が載置される部位に上下方向
に貫通する真空引穴を形成し、トレイの下側にあたる真
空引穴側に吸引を付与して被洗浄物をトレイに吸引固定
し、トレイの上側には前記真空引穴の回りに被洗浄物の
位置決め用ピンを立てるように設け、上下方向に貫通す
る複数の液抜穴をトレイの(内・外)周に近い部位に配
置するとともに液抜穴を相互に連通するように結ぶ溝を
トレイの上側面に形成したことを特徴とする洗浄装置用
搬送トレイにある。
この構成によれば次のような良さがある。
(1).被洗浄物は、真空引および位置決め用ピンによ
りしっかりとトレイに固定できるので、ブラシスクラバ
およびシェットスクラバの強力な洗浄を十分に行うこと
ができるとともに被洗浄物の位置がずれない良さがあ
る。
りしっかりとトレイに固定できるので、ブラシスクラバ
およびシェットスクラバの強力な洗浄を十分に行うこと
ができるとともに被洗浄物の位置がずれない良さがあ
る。
(2).同様にしっかりとトレイに固定できるので、高
速のスピン乾燥により水分を十分に切ることができる。
速のスピン乾燥により水分を十分に切ることができる。
(3).液抜穴はトレイの上面に形成される溝で連通す
るように結ばれているので、水切りはさらによく行われ
るものである。
るように結ばれているので、水切りはさらによく行われ
るものである。
本発明の実施により、トレイ12上に小物被洗浄物9を載
置した状態のまま、ウエフアに対する洗浄装置と同様の
洗浄装置によって、精密洗浄を連続的に行うことが可能
になった。
置した状態のまま、ウエフアに対する洗浄装置と同様の
洗浄装置によって、精密洗浄を連続的に行うことが可能
になった。
第1図は本発明の洗浄装置用搬送トレイの斜視図、第1
−a図は洗浄装置用搬送トレイの別の実施例の斜視図、
第2図は本発明による洗浄装置用搬送トレイを用いた洗
浄装置全体の概要を示す平面図及び被洗浄物の洗浄順路
並びに洗浄空気の流路を示す図、第3図は、第2図に示
す洗浄装置内の各装置の平面配置図、第4図〜第8図
は、第2図に示す洗浄装置を構成する各装置の横断面
図、第9図は従来例における搬送部の斜視図である。 1……洗浄装置、2……ローダ、3……湿式超音波洗浄
装置、4……シャワリング装置、5……スクラバ装置、
6……電磁波照射形洗浄装置、7……検査ユニット、8
……アンローダ、9……被洗浄物、12……トレイ、12a
……真空引穴、12b……液抜穴、12c……位置決めピン、
12d……溝。
−a図は洗浄装置用搬送トレイの別の実施例の斜視図、
第2図は本発明による洗浄装置用搬送トレイを用いた洗
浄装置全体の概要を示す平面図及び被洗浄物の洗浄順路
並びに洗浄空気の流路を示す図、第3図は、第2図に示
す洗浄装置内の各装置の平面配置図、第4図〜第8図
は、第2図に示す洗浄装置を構成する各装置の横断面
図、第9図は従来例における搬送部の斜視図である。 1……洗浄装置、2……ローダ、3……湿式超音波洗浄
装置、4……シャワリング装置、5……スクラバ装置、
6……電磁波照射形洗浄装置、7……検査ユニット、8
……アンローダ、9……被洗浄物、12……トレイ、12a
……真空引穴、12b……液抜穴、12c……位置決めピン、
12d……溝。
Claims (1)
- 【請求項1】小物の被洗浄物を載置するトレイと,載置
されている被洗浄物をフラッシングするブラシスクラバ
工程と,被洗浄物に水を噴射するジェットスクラバ工程
と,被洗浄物を載置したままトレイを回すスピン乾燥工
程とを備えているものにおいて、 前記トレイには、被洗浄物が載置される部位に上下方向
に貫通する真空引穴を形成し、トレイの下側にあたる真
空引穴側に吸引を付与して被洗浄物をトレイに吸引固定
し、トレイの上側には前記真空引穴の回りに被洗浄物の
位置決め用ピンを立てるように設け、上下方向に貫通す
る複数の液抜穴をトレイの(内・外)周に近い部位に配
置するとともに液抜穴を相互に連通するように結ぶ溝を
トレイの上側面に形成したことを特徴とする洗浄装置用
搬送トレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60044813A JPH0727882B2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 洗浄装置用搬送トレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60044813A JPH0727882B2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 洗浄装置用搬送トレイ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61204941A JPS61204941A (ja) | 1986-09-11 |
| JPH0727882B2 true JPH0727882B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=12701866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60044813A Expired - Lifetime JPH0727882B2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 洗浄装置用搬送トレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727882B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04157724A (ja) * | 1990-10-22 | 1992-05-29 | Dan Kagaku:Kk | 洗浄装置 |
| JP2013169474A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 異物除去方法、異物除去装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5252568A (en) * | 1975-10-27 | 1977-04-27 | Nec Corp | Production of semiconductor element |
| JPS54149470A (en) * | 1978-05-16 | 1979-11-22 | Fujitsu Ltd | Washing jig of semiconductor chip |
| JPS57102024A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-24 | Nec Kyushu Ltd | Brush scrubber |
| JPS6163836U (ja) * | 1984-10-02 | 1986-04-30 |
-
1985
- 1985-03-08 JP JP60044813A patent/JPH0727882B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61204941A (ja) | 1986-09-11 |
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