JPH07280599A

JPH07280599A - 反射目盛盤

Info

Publication number: JPH07280599A
Application number: JP6087228A
Authority: JP
Inventors: Yuji Kadomatsu; 雄次門松
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-04-04
Filing date: 1994-04-04
Publication date: 1995-10-27

Abstract

(57)【要約】【目的】測量機等において目盛線を容易に観測するこ
とができる反射目盛盤を得る。【構成】所定の厚さを有する透明基板の一方の表面上
に、該一方の表面側から順にクロム層と酸化クロム層と
を積層してなる低反射率の目盛パターンが形成され、前
記透明基板の他方の表面上に、該他方の表面側から順に
背景鏡面を形成する高反射率の金属被覆層と該金属被覆
層を被覆する保護層とが設けられている反射目盛盤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば測量機等の観測
光学系によって観測される反射目盛盤に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】図２（ａ）は、従来の一般的な測量機等
に用いられる反射目盛盤の概略構成断面図である。図２
（ａ）に示すように、従来の反射目盛盤は、透明ガラス
基板１の裏面上に比較的反射率の低い酸化クロム層２
（Ｃ_r2Ｏ₃ ）を真空蒸着法などによって積層した後、エ
ッチング等によって所定の目盛パターンに形成し、更
に、前記ガラス基板１とクロム層２上に比較的反射率の
高いクロム層３（Ｃ_r ）をほぼ水平となるまで真空蒸着
法などによって積層し、目盛盤を構成している。

【０００３】上記のように構成された従来の反射目盛盤
においては、酸化クロム層２及びクロム層３がガラス基
板１に対して密着性が高く、耐久性の優れた目盛盤にな
るという利点を有しており、後述する測量機等において
該反射目盛盤を観測したときに、目盛線となる酸化クロ
ム層２と背景部となるクロム層３との相対的な反射率の
差によって目盛線２が読まれる。

【０００４】また、最近では、測量機等において更に目
盛線を鮮明に観測することができるように、図２（ｂ）
に示すように、ガラス基板１の裏面上に比較的反射率の
低い酸化クロム層２（Ｃ_r2Ｏ₃ ）を真空蒸着法などによ
って積層した後、更に比較的反射率の高いクロム層３
（Ｃ_r ）を真空蒸着法などによって積層し、その後、前
記酸化クロム層２及びクロム層３をエッチング等によっ
て所定の目盛パターンに形成し、更に、前記ガラス基板
１と酸化クロム層２及びクロム層３上に反射率の高いア
ルミニウム膜４をほぼ水平になるまで積層し、このアル
ミニウム層４上に保護膜層５として黒色塗装（あるいは
クロム（Ｃ_r ））を積層して目盛盤を構成しているもの
も知られている（実公平４−４７６２２）。

【０００５】図２（ｂ）のように構成された目盛盤にお
いては、後述する測量機等において、前記目盛盤を観測
したときに、目盛線の背景部となるアルミニウム層４の
反射率が高いため、目盛線となる酸化クロム層２及びク
ロム層３との更なる相対的な反射率の差によって目盛線
が更に鮮明に読まれる。

【０００６】また、図２（ｃ）に示すように、酸化クロ
ム層２及びクロム層３から構成される目盛線と、アルミ
ニウム膜４から構成される背景部とが、それぞれ予め定
められた間隙をあけて別々のガラス基板１，１０に形成
され、それらを組合せて使用する反射目盛盤もある。図
２（ｃ）に示す目盛盤は、例えば使用する測量機（図示
せず）を地面に対して水平方向に回動した際に、その回
動に伴って、酸化クロム層２とクロム層３とから構成さ
れる目盛線とアルミニウム層４から構成される背景部と
が相対回転し易い構造となるように、予め定められた間
隙をあけて別々のガラス基板１，１０に形成されている
ものである。

【０００７】図３は、これらの反射目盛盤が用いられる
測量機の観測光学系の概略構成図である。図３に示すよ
うに、測量機は、明かりを取り込むための採光窓１１
と、ハーフミラー１２（又はプリズム）と、結像レンズ
１３と、焦点板１４と、接眼レンズ１５と、反射目盛盤
１６とから主に構成されている。

【０００８】ハーフミラー１２は、４５度に傾斜して採
光窓１１の下方に配設されており、更に前記ハーフミラ
ー１２の下方には目盛盤１６が配設されている。そし
て、これら採光窓１１、ハーフミラー１２、目盛盤１６
は、それぞれ同一光軸１７上に配設されている。

【０００９】また、結像レンズ１３、焦点板１４、接眼
レンズ１５は、前記ハーフミラー１２を介して、前記採
光窓１１、ハーフミラー１２、目盛盤１６を通る光軸１
７と直交する光軸１８上に配設されている。

【００１０】上記のように構成された測量機において
は、採光窓１１より入射した照明光は、ハーフミラー１
２を透過して目盛盤１６を照明する。照明された目盛盤
１６からは、目盛線２の像を含む高反射率背景部のアル
ミニウム層４（図２参照）からの反射光がハーフミラー
１２へ向かう。

【００１１】この反射光は、ハーフミラー１２で反射さ
れ、結像レンズ１３を介して焦点板１４の焦点面１４ａ
に結像され、この像が接眼レンズ１６により観測されて
いる。観測像中では目盛線２が暗線として観測される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
反射目盛盤においては、以下に示す問題点があった。先
ず、図２（ａ），（ｂ）に示す反射目盛盤においては、
図４（ａ）に示すように、ガラス基板１の蒸着面１ａ
（ガラス基板裏面）に傷や欠けなどの欠陥部分７がある
と、この欠陥部分７の中に反射率の高いアルミニウム膜
４（あるいはクロム（Ｃ_r ））が入り込み、図３に示し
たような測量機によって目盛盤を観測する際に、前記欠
陥部分７からの反射光が際立って光り、近辺の目盛線の
観測が困難になるという問題点があった。尚、図４
（ａ）に示す目盛盤は、便宜上、図２（ｂ）に示す目盛
盤と同一構成としたが、図２（ａ）に示す目盛盤におい
ても、同様の問題点が生じる。

【００１３】この場合、上記問題点を解決する方策とし
て、図４（ｂ）に示すように、目盛線となる酸化クロム
層２及びクロム層３と背景部となるアルミニウム膜４と
をそれぞれ別個のガラス基板１及び１０上に積層し、ガ
ラス基板１と屈折率がほぼ同一の接着剤８によって前記
ガラス基板１とガラス基板１０を接合することにより、
ガラス基板１の蒸着面１ａの欠陥部分７を補填し、該欠
陥部分７を目立ちにくくする方策が考えられる。尚、ガ
ラス基板１０の蒸着面１０ａにおける欠陥は、この面１
０ａがアルミニウム膜４で覆われるため、観測に不都合
となることはない。

【００１４】しかしながら、図４（ｂ）に示す反射目盛
盤においても、アルミニウム膜４を蒸着するためのガラ
ス基板１０を別途用意しなければならないため、目盛盤
全体の厚みが厚くなるとともに、重量も増大し、価格も
高価になるという問題点が生じる。

【００１５】更に、図２（ａ），（ｂ）及び図４（ｂ）
に示す目盛盤においては、目盛盤を製造した後に、目盛
線の断線、太さ不良及び余分な線や点、ゴミ等の不良が
発見されても、既にアルミニウム層４からなる背景部が
蒸着されているため、目盛盤の手直しができないという
問題点があった。

【００１６】また、図２（ｃ）に示した目盛盤において
は、図４（ｂ）に示す目盛盤と同様に、ガラス基板１０
を別途用意しなければならないという問題点に加えて、
アルミニウム膜４が空気中にさらされているため、劣化
し易いという問題点があった。

【００１７】更に、照明光軸１７を結像光軸１８に合わ
せるため、アルミニウム層４の傾きを調整しなければな
らないという煩雑さがあった。

【００１８】加えて、図２（ａ），（ｂ），（ｃ）及び
図４（ｂ）に示す目盛盤においては、目盛線とアルミニ
ウム膜４とが同一焦点深度内となるため、ガラス基板１
に欠陥部分７が無くても、ガラス基板１又は１０に蒸着
されるアルミニウム膜４の仕上がり具合が悪い場合、あ
るいはガラス基板１自身の性能が悪い場合（例えば、光
学的に均質でない場合、着色している場合、ガラス基板
１自身が変形している場合など）には、目盛線の結像性
能に悪影響を及ぼし、観測が困難になるという問題点も
ある。

【００１９】本発明の目的は、測量機等において目盛線
を容易に観測することができる反射目盛盤を得ることで
ある。

【００２０】本発明の別の目的は、目盛盤全体の厚みが
厚くなったり重量が増大することを防止するとともに、
低価格で製造することができる反射目盛盤を得ることで
ある。

【００２１】本発明の更に別の目的は、目盛盤の製造後
でも、簡単に目盛盤の不備・欠陥を手直しすることがで
きる反射目盛盤を得ることである。

【００２２】本発明の更に別の目的は、経年使用によっ
ても劣化することない耐久性の良い反射目盛盤を得るこ
とである。

【００２３】本発明の更に別の目的は、測量機等への取
り付け、あるいは測量機等に取り付ける際の調整を容易
に行うことができる反射目盛盤を得ることである。

【００２４】本発明の更に別の目的は、透明基板自身の
性能や金属被覆層の被覆具合等によって影響を受けるこ
とがない反射目盛盤を得ることである。

【００２５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る反射目盛盤は、上記目的を達成するために、所定の
厚さを有する透明基板の一方の表面上に、該一方の表面
側から順にクロム層と酸化クロム層とを積層してなる低
反射率の目盛パターンが形成され、前記透明基板の他方
の表面上に、該他方の表面側から順に背景鏡面を形成す
る高反射率の金属被覆層と該金属被覆層を被覆する保護
層とが設けられていることを特徴とするものである。

【００２６】また、請求項２に記載の発明に係る反射目
盛盤では、請求項１に記載の反射目盛盤において、前記
透明基板の一方の表面から他方の表面までの厚さ（ｔ）
が次式を満たすものであることを特徴とするものであ
る。ｔ＞ａ×ｎ｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×
Ｍ）］｝但し、ａ＝係数（≧１）ｎ＝透明基板の屈折率 λ＝観測光の波長ＮＡ＝観測光学系の結像レンズの物体側の開口数Ｍ＝観測光学系の総合倍率

【００２７】

【作用】従来の反射目盛盤においては、反射目盛盤を測
量機等の観測光学系によって観測した場合、目盛線と背
景反射面が同一面上に存在することから、この面に接す
る側で透明基板に傷や欠け等があった場合には、反射面
によって前記傷や欠け等が際立って光り、目盛の観測が
困難となっていたが、本発明における反射目盛盤におい
ては、目盛線が透明基板の一方の表面に形成され、背景
鏡面となる反射層は他方の表面に形成されているため、
目盛線と背景反射面とが透明基板の厚さに相当する距離
で離れており、観測光学系の焦点深度との関係で透明基
板の厚さを適宣選択することにより透明基板の他方の面
（裏面）からの影響を受けずに観測することができるよ
うになる。

【００２８】また、本発明では、目盛線が透明基板の一
方の表面上に露出しているため、目盛盤を製造した後
に、目盛線の断線、太さ不良及び余分な線や点、ゴミ等
の不良が発見されても、簡単に手直しや、除去したりす
ることが可能になるとともに、測量機にセットする場合
の反射層の傾き加減等も事前に簡単に調整することが可
能となる。加えて、反射層を透明基板と保護層との間で
に蒸着しているため、反射層の劣化を防止することが可
能となる。

【００２９】更に、透明基板を２枚用いた構成とするこ
となく、透明基板を１枚のみで反射目盛盤を構成してい
るため、目盛盤全体の厚みが厚くなることや重量が増大
するということが回避することができ、測量機等に目盛
盤を取り付ける取り付け作業も容易になる。加えて、目
盛盤を低コストで製造することができる。

【００３０】請求項２に記載の発明による反射目盛盤
は、請求項１に記載の反射目盛盤において、前記透明基
板の一方の表面から他方の表面までの厚さ（ｔ）を観測
光学系の焦点深度より大きくしている。

【００３１】これは、本発明による反射目盛盤を光学系
で観測した場合、透明基板の厚さがあまり薄いと、以下
の２つの問題点が生じるからである。第１に、透明基板
の一方の表面上に形成される目盛線の像が、透明基板の
他方の表面上に蒸着される金属被覆層で反射して、背景
反射中のゴースト像となって観測される恐れが生じるか
らである。また、第２に、目盛線と背景反射面（裏面）
が焦点深度内になって共に観測像中に現れ、透明基板に
傷や欠け等があった場合には、反射層によって前記傷や
欠け等が際立って光ってフレアーが発生し、近辺の目盛
線の観測が困難になるという不都合が生じるからであ
る。

【００３２】従って、このための条件式は、一般的な焦
点深度を求める式から、以下のように定められる。但
し、ａ＝係数（≧１）、ｎ＝透明基板の屈折率、λ＝観
測光の波長、ＮＡ＝観測光学系の結像レンズの物体側の
開口数、Ｍ＝観測光学系の総合倍率である。ｔ＞ａ×ｎ｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×
Ｍ）］｝

【００３３】ここで、係数ａ（但し、ａ≧１）は、透明
基板の厚さ（ｔ）が測量機等に要求される基準（例え
ば、照明光の明るさ、目盛線の形態（線の太さ、線の密
度など）、透明基板の欠陥の程度等）により異なるが、
ある程度の厚みを必要とするために掛けることが好まし
い。また、観測光学系とは接眼レンズを含めた光学系を
言う。

【００３４】従って、前記透明基板の厚さ（ｔ）が、上
記式を満たさない場合には、透明基板の一方の表面上に
形成される目盛線の像が、透明基板の他方の表面（裏
面）上に蒸着される金属被覆層で反射して、背景反射中
のゴースト像となって観測される恐れが生じる。しか
も、目盛線と背景反射面が焦点深度内になって共に観測
像中に現れ、透明基板に傷や欠け等があった場合には、
反射層によって前記傷や欠け等が際立って光ってフレア
ーが発生し、近辺の目盛線の観測に困難を生じるという
不都合がある。しかし、上記式を満たす場合は、ゴース
トの問題が解消され、目盛線と背景反射面とが観測系の
焦点深度外になるので、観測像には目盛線のみが合焦
し、背景反射面及びそれに接する透明基板の表面像等は
合焦せず、観測が常に良好な状態で行うことができる。

【００３５】尚、観測系にＣＣＤ等の固体撮像素子を用
いる場合には、前記条件式を以下のように簡略化しても
良い。ｔ＞ａ×ｎ［λ／（２ＮＡ² ）］

【００３６】これは、［１／（７ＮＡ×Ｍ）］が肉眼観
察の場合での焦点深度に関する項だからである。

【００３７】

【実施例】図１（ａ）は、本発明の第１の実施例に係る
反射目盛盤の概略構成を示す模式断面図である。図１
（ａ）に示すように、第１の実施例に係る反射目盛盤
は、ガラス基板１と、酸化クロム層２（Ｃ_r2Ｏ₃ ）と、
クロム層３（Ｃ_r ）と、アルミニウム層４と、Ｓ_i Ｏ又
はＳ_i Ｏ₂ からなる保護層５とから構成されている。

【００３８】ガラス基板１の一方の表面（以下、単に
「表面」という）上には、クロム層３が真空蒸着法等に
よって積層され、更に前記クロム層３上には酸化クロム
層２が真空蒸着法等によって積層され、その後エッチン
グ等によって前記クロム層３及び酸化クロム層２は、予
め定められた目盛パターンに蝕刻されている。また、ガ
ラス基板１の他方の表面（以下、単に「裏面」という）
上には、反射率が高く耐久性の良いアルミニウム層４が
真空蒸着法などによって全面積層され、更に前記アルミ
ニウム層４上には保護層５が真空蒸着法等によって全面
積層されている。

【００３９】ここで、目盛線となるクロム層３と酸化ク
ロム層２とを前記ガラス基板１の表面上に順に、クロム
層３、酸化クロム層２と積層しているのは、酸化クロム
層２単独の場合よりもクロム層３を裏打ちした方が不透
明で反射率が低い目盛線になるためであり、観測光学系
によって目盛盤の目盛線を観測した際に、背景部となる
アルミニウム層４との相対的な反射率の差を大きくする
ためである。

【００４０】尚、前記ガラス基板１は透明部材であれば
良く、プラスチック等でも良い。また、前記アルミニウ
ム層４の代わりに、反射率の高い他の金属、例えばクロ
ム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）など
を用いても良い。更に、保護層５としては、Ｓ_i Ｏ又は
Ｓ_i Ｏ₂ を使用できるが、これ以外にもクロム（Ｃｒ）
などの各種金属又はその酸化物や樹脂を使用することが
でき、各種の耐久性の良い材料を蒸着や塗装などによっ
て被覆すれば良い。

【００４１】上記のように構成された第１の実施例にお
いては、図３に示したような観測系によって目盛線を観
測する場合、酸化クロム層２の表面に対して前記観測光
学系の焦点を合わせる（図１（ａ）矢印２０）。

【００４２】この場合、ガラス基板１のアルミニウム層
４側の面に傷や欠け等の欠陥があっても、この欠陥のあ
る面は、酸化クロム層２の表面からガラス基板１の厚さ
だけ離れているから、欠陥は観測系内の像中に結像せ
ず、焦点がずれた状態とすることができる。これは、観
測光学系の焦点合わせにおいて、その焦点深度の範囲内
で合焦を調整することにより目盛線のみに焦点を合わせ
て欠陥は焦点からずらすことができることを意味する。

【００４３】また、アルミニウム層４のガラス基板１上
への蒸着の良否又はこの蒸着面側のガラス基板１自身の
表面精度の良否の影響も同様にして除去することができ
る。更に、目盛線の観測光学系は、ガラス基板を通過し
ないので、ガラス基板が光学的に不均質であっても、あ
るいは着色されていても結像性能を何ら悪化させること
がない。また、ガラス基板の表面と裏面との平行度が悪
くても、目盛読み取り精度を狂わせることなく、ガラス
基板の厚さに誤差があっても焦点移動（ピントずれ）を
生じさせることもない。

【００４４】また、目盛線となるクロム層３及び酸化ク
ロム層２は、ガラス基板１の表面上に露出して形成され
ているため、目盛盤を製造した後に、目盛線の断線、太
さ不良及び余分な線や点、ゴミ等の不良が発見されて
も、簡単に手直しや、除去したりすることができる。更
に、測量機等の光学系内にセットしたときのアルミニウ
ム層４の傾き加減等も事前に簡単に調整することがで
き、加えて、アルミニウム層４をガラス基板１と保護層
５との間で積層しているため、経年使用によるアルミニ
ウム層４の劣化も防止される。

【００４５】上記のように構成された第１の実施例に係
る反射目盛盤を図３に示したような光学系で観測した場
合、ガラス基板１の厚さがあまり薄いと、ガラス基板１
の表面上に形成された目盛線の像が、ガラス基板１の裏
面上に蒸着されたアルミニウム層４で反射して、背景反
射中のゴースト像となって観測される恐れが生じる。し
かも、目盛線と背景反射面（裏面）が焦点深度内になっ
て共に観測像中に現れ、透明基板に傷や欠け等があった
場合には、反射層によって前記傷や欠け等が際立って光
ってフレアーが発生し、近辺の目盛線の観測に困難が生
じる。

【００４６】このため、本実施例の反射目盛盤では、ガ
ラス基板１の表面から裏面までの厚さ（ｔ）（図１参
照）を観測光学系の焦点深度以上に厚くしてある。即
ち、図３において、結像レンズ１３の物体側の開口数を
ＮＡ、観測光学系の総合倍率をＭ、観測波長をλ、ガラ
ス基板１の屈折率をｎとすると、焦点深度の公式より、
式が成立する。ｔ／ｎ＞｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×Ｍ）］｝………

【００４７】前記式より、式が導かれる。ｔ＞ｎ｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×Ｍ）］｝………

【００４８】ここで、前記ガラス基板１の厚さ（ｔ）
は、測量機に要求される基準、例えば照明光の明るさ、
目盛線の形態（線の太さ、線の密度など）、ガラス基板
の欠陥の程度等により異なるが、ある程度の厚みを必要
とするため、係数ａ（但し、ａ≧１）だけ余裕を持たせ
ることが好ましい。従って、式は式のように表され
る。ｔ＞ａ×ｎ｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×Ｍ）］｝………

【００４９】このような式の条件を満たす厚さ（ｔ）
のガラス基板を使用することにより、上記ゴースト像は
観測光学系の焦点深度外となり、観測に悪影響を与える
ことがない。尚、第１の実施例に係る反射目盛盤におい
ては、ＮＡ＝０．０５、Ｍ＝１０、λ＝０．０５［μ
ｍ］、ｎ＝１．５として、ガラス基板１の厚さ（ｔ）を
ｔ＞０．５９ａとした。具体的には、ａ＝８としてｔ＝
５［mm］とした場合と、ａ＝３としてｔ＝３［mm］とし
た場合を試験したが、いずれも良好な結果が得られた。
尚、反射光によるゴーストの問題を完全に解消するには
ａ≧３とすることが望ましく、更に、透明基板に傷や欠
け等によるフレアーの問題を完全に解消するためにはａ
≧５とすることが望ましい。

【００５０】また、観測系に撮像素子（ＣＣＤ）を用い
た場合には、式は式のように簡略化することができ
る。ｔ＞ａ×ｎ［λ／（２ＮＡ² ）］………

【００５１】これは、［１／（７ＮＡ×Ｍ）］が肉眼観
察の場合での焦点深度に関する項であるためである。
尚、上記式のａの値の範囲の制限についても、上記式
と同様の理由を有する。

【００５２】図１（ｂ）は、本発明の第２の実施例に係
る反射目盛盤の概略構成を示す模式断面図である。第１
の実施例との相違点は、ガラス基板１の上面上に、酸化
クロム層２ａを蒸着し、その後、前記酸化クロム層２ａ
上にクロム層３を蒸着し、その後更に前記クロム層３上
に酸化クロム層２を蒸着して所定パターンの目盛線を形
成した点である。尚、第１の実施例と同一部分について
は同一符号を付し説明を省略する。

【００５３】図１（ｂ）に示す反射目盛盤においては、
図３に示した測量機等を介して目盛線を観測する場合、
前記測量機等の焦点は、矢印２０に示すように、酸化ク
ロム層２の上面に合焦させる。もう一つの酸化クロム層
２ａは低反射率であり、従って矢印２１で示すように、
ガラス基板１の裏面に蒸着されたアルミニウム層４の反
射による目盛線のゴーストは第１の実施例の場合よりも
格段に低減される。

【００５４】また、図１（ｂ）に示す反射目盛盤におい
ては、矢印２１で示すように、測量機等のピントをずら
して目盛線の裏側を観測することもできる。この場合に
は、ガラス基板１の影響を受ける恐れがあるが、ゴース
トとなる矢印２０からの像とアルミニウム層４との影響
は前述と同様に避けることが可能となる。

【００５５】

【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、目盛線と
背景反射面とが透明基板の厚さに相当する距離だけで離
れて設けられているため、観測光学系の焦点深度との関
係で透明基板の厚さを選ぶことにより、測量機等におい
て目盛線を容易に観測することができるという効果があ
る。

【００５６】また、本発明は、目盛盤全体の厚みが厚く
なったり重量が増大することなく、低価格で製造するこ
とができるという効果もある。

【００５７】また、本発明は、目盛盤の製造後でも、簡
単に目盛盤の不備・欠陥を手直しすることができるとい
う効果もある。

【００５８】また、本発明は、反射層を透明基板と保護
層との間でに蒸着しているため、経年使用によっても反
射層が劣化することなく、耐久性の良い反射目盛盤にす
ることができるという効果もある。

【００５９】また、本発明は、測量機等への取り付け、
あるいは測量機等に取り付ける際の調整を容易に行うこ
とができるという効果もある。

【００６０】また、本発明は、透明基板自身の性能や金
属被覆層の被覆具合等によって影響を受けることがない
という効果もある。

【００６１】また、本発明は、透明基板の厚さ（ｔ）が
前記式が満たされるようにしたため、透明基板の一方
の表面上に形成された目盛線の像が、透明基板の他方の
表面上に蒸着された反射層で反射して、背景反射中のゴ
ースト像となって観測される恐れをなくすことができる
という効果もある。

【００６２】また、本発明は、透明基板に傷や欠け等が
あっても、反射層によって傷や欠け等が際立って光って
フレアーが発生しても、近辺の目盛線の観測に何ら困難
を伴うことがないという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施例に係る反射目
盛盤の概略構成を示す模式断面図である。（ｂ）は、本
発明の第２の実施例に係る反射目盛盤の概略構成を示す
模式断面図である。

【図２】従来の反射目盛盤の概略構成を示す模式断面図
である。

【図３】反射目盛盤を用いる測量機の観測光学系を示す
概略構成図である。

【図４】従来の反射目盛盤の問題点を説明するための模
式断面図である。

【符号の説明】

１：ガラス基板（透明基板）２：酸化クロム層３：クロム層４：アルミニウム層（反射層）５：保護膜層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の厚さを有する透明基板の一方の表
面上に、該一方の表面側から順にクロム層と酸化クロム
層とを積層してなる低反射率の目盛パターンが形成さ
れ、前記透明基板の他方の表面上に、該他方の表面側か
ら順に背景鏡面を形成する高反射率の金属被覆層と該金
属被覆層を被覆する保護層とが設けられていることを特
徴とする反射目盛盤。
【請求項２】前記透明基板の一方の表面から他方の表
面までの厚さ（ｔ）が次式を満たすものであることを特
徴とする請求項１に記載の反射目盛盤。ｔ＞ａ×ｎ｛［λ／（２ＮＡ² ）］＋［１／（７ＮＡ×
Ｍ）］｝但し、ａ＝係数（≧１）ｎ＝透明基板の屈折率 λ＝観察光の波長ＮＡ＝観察光学系の結像レンズの物体側の開口数Ｍ＝観察光学系の総合倍率