JPH07280643A - 紫外線センサ - Google Patents
紫外線センサInfo
- Publication number
- JPH07280643A JPH07280643A JP6276539A JP27653994A JPH07280643A JP H07280643 A JPH07280643 A JP H07280643A JP 6276539 A JP6276539 A JP 6276539A JP 27653994 A JP27653994 A JP 27653994A JP H07280643 A JPH07280643 A JP H07280643A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- light
- diffusing element
- diffusion
- sensor according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 49
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 17
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 15
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 abstract description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000009365 direct transmission Effects 0.000 description 2
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007524 flame polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/429—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to measurement of ultraviolet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22C—FOUNDRY MOULDING
- B22C9/00—Moulds or cores; Moulding processes
- B22C9/12—Treating moulds or cores, e.g. drying, hardening
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B35/002—Crucibles or containers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/23—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/80—Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
- C03C2203/52—Heat-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 より長時間に亘って安定した、再現性がある
測定結果が得られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサ
を提供する。 【構成】 紫外線用の入射口（９）を有し、内部に前記
入射口から入射する紫外線を測定するための光検出器
（２）が配設されたハウジング（７）と、光検出器の前
に、紫外線の入射方向を向いて配設されたＳｉ０2含有
拡散素子（４）とを有する紫外線センサ（１）におい
て、前記拡散素子が、空間内の配向が統計的に均一に分
布された内部境界面を有する石英ガラスを含有する紫外
線センサ。
測定結果が得られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサ
を提供する。 【構成】 紫外線用の入射口（９）を有し、内部に前記
入射口から入射する紫外線を測定するための光検出器
（２）が配設されたハウジング（７）と、光検出器の前
に、紫外線の入射方向を向いて配設されたＳｉ０2含有
拡散素子（４）とを有する紫外線センサ（１）におい
て、前記拡散素子が、空間内の配向が統計的に均一に分
布された内部境界面を有する石英ガラスを含有する紫外
線センサ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線用の入射口を有
し、内部に前記入射口から入射する紫外線を測定するた
めの光検出器が配設されたハウジングと、光検出器の前
に、紫外線の入射方向を向いて配設されたＳｉ０2含有
拡散素子とを有する紫外線センサに関する。
し、内部に前記入射口から入射する紫外線を測定するた
めの光検出器が配設されたハウジングと、光検出器の前
に、紫外線の入射方向を向いて配設されたＳｉ０2含有
拡散素子とを有する紫外線センサに関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線放射体又は紫外線レーザーは、例
えば塗料の硬化、光分解による被覆材料の溶着、表面、
液体及び気体の消毒、並びに老化及び風化試験に使用さ
れている。
えば塗料の硬化、光分解による被覆材料の溶着、表面、
液体及び気体の消毒、並びに老化及び風化試験に使用さ
れている。
【０００３】紫外線線量の測定及び紫外線放射源の機能
の監視のために、通常は紫外線センサが使用される。
の監視のために、通常は紫外線センサが使用される。
【０００４】紫外線の測定の際に、高エネルギー紫外線
によって、センサの材料が放射線障害を生ずる原因にな
ることがあるという問題点がある。測定精度に関して
も、多くの用途では、測定時に全方向から紫外線センサ
に入射する放射線をできるだけ考慮に入れる必要がある
という課題がある。
によって、センサの材料が放射線障害を生ずる原因にな
ることがあるという問題点がある。測定精度に関して
も、多くの用途では、測定時に全方向から紫外線センサ
に入射する放射線をできるだけ考慮に入れる必要がある
という課題がある。
【０００５】上記のような種類の紫外線センサはDE-A1
39 02 028から公知である。このセンサは塩化セシウム
の光陰極を有する真空光電管が内部に取り付けられた円
筒形のハウジングから成っている。このハウジングは入
射する紫外線用の入射口を有しており、この入射口は有
孔板によって部分的に閉鎖されている。有孔板によって
入射する紫外線の強度が減衰してしまう。有孔板と光電
管との間には、拡散ディスクの形式の拡散素子が備えら
れている。この拡散ディスクは多結晶性の石英、好まし
くは石英フリットから成っている。
39 02 028から公知である。このセンサは塩化セシウム
の光陰極を有する真空光電管が内部に取り付けられた円
筒形のハウジングから成っている。このハウジングは入
射する紫外線用の入射口を有しており、この入射口は有
孔板によって部分的に閉鎖されている。有孔板によって
入射する紫外線の強度が減衰してしまう。有孔板と光電
管との間には、拡散ディスクの形式の拡散素子が備えら
れている。この拡散ディスクは多結晶性の石英、好まし
くは石英フリットから成っている。
【０００６】拡散ディスクは光線を拡散せしめる。それ
によって光電管に照射する光線が更に弱まると共に、光
線の拡散により測定結果が入射する紫外線の方向に左右
されないことが保証される。拡散ディスクの拡散性は、
紫外線が石英結晶の粒界で、もしくは石英フリットの粒
界で拡散することに因るものである。従って拡散ディス
クの拡散特性は、使用される水晶材料の粒度分布によっ
て、また特にその製造条件によって左右される。従っ
て、例えば焼結温度が極めて高いと、粒界が消滅した
り、拡散ディスクの光透過性が高まったりする。これに
対して焼結温度が低いと、拡散ディスクによる光線強度
の減衰程度が高まり、光透過性が低下し、その際に、ガ
ラスフリットの個々の粒子の間に残る開放孔によって紫
外線センサの気密性が損なわれる恐れが生ずる。石英は
光透過性及び光屈折性に関して同形の材料ではないの
で、公知の拡散ディスクの拡散特性も石英粒子の偶然の
配向に左右される。従って、光学特性、強度および密度
に関する拡散ディスクの再現性もあまり保証されない。
公知の紫外線センサの拡散ディスクは強度が弱いので、
焼結後、注意して取り扱う必要があり、機械的な加工は
ほとんどできない。その上、拡散ディスクの表面の残さ
れた開放孔内に汚染物の粒子が集積し、これを再度取り
除くのは困難であるので、拡散ディスクの透過性は時間
の経過と共に無限に低下する。更に、高エネルギーの紫
外線により結晶質の石英フリットに誘発される材料の損
傷の問題が加わる。
によって光電管に照射する光線が更に弱まると共に、光
線の拡散により測定結果が入射する紫外線の方向に左右
されないことが保証される。拡散ディスクの拡散性は、
紫外線が石英結晶の粒界で、もしくは石英フリットの粒
界で拡散することに因るものである。従って拡散ディス
クの拡散特性は、使用される水晶材料の粒度分布によっ
て、また特にその製造条件によって左右される。従っ
て、例えば焼結温度が極めて高いと、粒界が消滅した
り、拡散ディスクの光透過性が高まったりする。これに
対して焼結温度が低いと、拡散ディスクによる光線強度
の減衰程度が高まり、光透過性が低下し、その際に、ガ
ラスフリットの個々の粒子の間に残る開放孔によって紫
外線センサの気密性が損なわれる恐れが生ずる。石英は
光透過性及び光屈折性に関して同形の材料ではないの
で、公知の拡散ディスクの拡散特性も石英粒子の偶然の
配向に左右される。従って、光学特性、強度および密度
に関する拡散ディスクの再現性もあまり保証されない。
公知の紫外線センサの拡散ディスクは強度が弱いので、
焼結後、注意して取り扱う必要があり、機械的な加工は
ほとんどできない。その上、拡散ディスクの表面の残さ
れた開放孔内に汚染物の粒子が集積し、これを再度取り
除くのは困難であるので、拡散ディスクの透過性は時間
の経過と共に無限に低下する。更に、高エネルギーの紫
外線により結晶質の石英フリットに誘発される材料の損
傷の問題が加わる。
【０００７】
【本発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課
題は、より長時間に亘って安定した、再現性がある測定
結果が得られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサを提
供することにある。
題は、より長時間に亘って安定した、再現性がある測定
結果が得られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサを提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、上記した
センサにおいて、拡散素子が空間内の配向が統計的に均
一に分布された内部境界面を有する石英ガラスを含有す
ることによって解決される。石英ガラスは紫外線を３０
０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲で透過する。石英ガラ
スは均質で、非晶質の材料である。これには粒界がな
い。そのため、公知の紫外線センサの拡散ディスクの、
粒界に起因する欠点が回避される。従って、例えば石英
ガラス製のディスクの形式の拡散素子は、機械による再
加工も可能な高い機械的強度を有している。石英ガラス
によって、拡散素子の紫外線に対する高い耐性が保証さ
れる。石英ガラスの場合、材料の損傷は紫外線のエネル
ギ密度が極めて高くなった場合に始めて認められる。従
って、照射する紫外線のエネルギー密度を低減するため
の、拡散素子用の防護手段は必要ない。非晶質の石英ガ
ラスから成る拡散素子は気密に製造することができ（石
英ガラスを透過する水素やヘリウムガスを除く）、簡単
に石英ガラスと溶着し、清浄が簡単である。従って、こ
れは取扱いが簡単であり、紫外線センサを簡単且つ経済
的に製造することができる。拡散素子は通常は、光検出
器の前に配設された、独立した部品の形態をとる。更
に、光検出器と連結することも可能である。
センサにおいて、拡散素子が空間内の配向が統計的に均
一に分布された内部境界面を有する石英ガラスを含有す
ることによって解決される。石英ガラスは紫外線を３０
０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲で透過する。石英ガラ
スは均質で、非晶質の材料である。これには粒界がな
い。そのため、公知の紫外線センサの拡散ディスクの、
粒界に起因する欠点が回避される。従って、例えば石英
ガラス製のディスクの形式の拡散素子は、機械による再
加工も可能な高い機械的強度を有している。石英ガラス
によって、拡散素子の紫外線に対する高い耐性が保証さ
れる。石英ガラスの場合、材料の損傷は紫外線のエネル
ギ密度が極めて高くなった場合に始めて認められる。従
って、照射する紫外線のエネルギー密度を低減するため
の、拡散素子用の防護手段は必要ない。非晶質の石英ガ
ラスから成る拡散素子は気密に製造することができ（石
英ガラスを透過する水素やヘリウムガスを除く）、簡単
に石英ガラスと溶着し、清浄が簡単である。従って、こ
れは取扱いが簡単であり、紫外線センサを簡単且つ経済
的に製造することができる。拡散素子は通常は、光検出
器の前に配設された、独立した部品の形態をとる。更
に、光検出器と連結することも可能である。
【０００９】この拡散素子には粒界がないので、その光
学特性は、製造用に使用される原材料の粒度には全く、
又は殆ど左右されない。拡散素子は均質な材料から成っ
ているので、その光学特性は容積全体に亘って一定であ
る。拡散素子の均一な拡散性は、石英ガラスが空間内の
配向が統計的に均一に分布された内部境界面を有するこ
とによって達成される。このような統計的に均一な分布
のためには、膨大な数の内部境界面が必要である。これ
は、例えば凝集し、微細に分布したガラス亀裂または多
数の細孔によって作製することができる。それによっ
て、石英ガラスは不透明に見え、拡散素子に照射する紫
外線の強度は、入射角のコサインで算出される。すなわ
ち、入射角が鈍角でも、拡散素子に照射する紫外線を測
定用に算入できる。それによって、所望の通り、測定の
際に照射方向に左右されないことが保証される。
学特性は、製造用に使用される原材料の粒度には全く、
又は殆ど左右されない。拡散素子は均質な材料から成っ
ているので、その光学特性は容積全体に亘って一定であ
る。拡散素子の均一な拡散性は、石英ガラスが空間内の
配向が統計的に均一に分布された内部境界面を有するこ
とによって達成される。このような統計的に均一な分布
のためには、膨大な数の内部境界面が必要である。これ
は、例えば凝集し、微細に分布したガラス亀裂または多
数の細孔によって作製することができる。それによっ
て、石英ガラスは不透明に見え、拡散素子に照射する紫
外線の強度は、入射角のコサインで算出される。すなわ
ち、入射角が鈍角でも、拡散素子に照射する紫外線を測
定用に算入できる。それによって、所望の通り、測定の
際に照射方向に左右されないことが保証される。
【００１０】拡散素子は完全に石英ガラス製でもよい
が、拡散素子の厚さ全体に亘って拡散性である必要はな
い。ここでいう厚さとは、紫外線の光路に対してほぼ垂
直方向の、拡散素子の寸法のことである。
が、拡散素子の厚さ全体に亘って拡散性である必要はな
い。ここでいう厚さとは、紫外線の光路に対してほぼ垂
直方向の、拡散素子の寸法のことである。
【００１１】入射口は紫外線の光学的な窓を形成しなけ
ればならない。この入射口は紫外線用の入射口としての
特性を損なうことなく、紫外線透過素子、例えば拡散素
子自体によって閉鎖されることができる。光検出器とし
ては、例えば照射光線を時間の経過を経て記録する受光
器、並びにどの時点でも光線強度の実際の測定値を記録
し、解析装置に送る受光器が考えられる。
ればならない。この入射口は紫外線用の入射口としての
特性を損なうことなく、紫外線透過素子、例えば拡散素
子自体によって閉鎖されることができる。光検出器とし
ては、例えば照射光線を時間の経過を経て記録する受光
器、並びにどの時点でも光線強度の実際の測定値を記録
し、解析装置に送る受光器が考えられる。
【００１２】紫外線センサに閉鎖孔を有する拡散素子を
具備することが有利であることが実証された。そのため
に、本来ならば稠密なガラス組織に意図的に超微細孔が
作製される。容積割合が０．５％から１０％の間であ
り、好ましくは５％未満である孔を有する石英ガラス製
の拡散素子で、特に優れた結果が達成される。これらの
孔によって拡散中心が得られる。それによって、光線が
直接透過することが防止され、入射光線のより多くの部
分が無方向的に散乱し、それによって拡散素子の所望の
拡散性が保証される。孔は閉鎖された、代表的には球形
の、又は球形に近い表面を有している。これらの表面
は、気体が充満した、又は空の中空空間とこれを囲む石
英ガラスとの間に内部の境界面を形成する。従って空間
内の配向は統計的に均一に分布している。結晶質材料に
は見られるような優先方向はない。このような特性によ
って、拡散素子に照射する紫外線の強度は入射角のコサ
インによって算出される。すなわち、入射角が鈍角でも
拡散素子に照射する紫外線を測定用に算入できる。それ
によって、所望の通り、測定の際に照射方向に左右され
ないことが保証される。充分な拡散性を得るには、孔の
最小容積比は０．５％であることが必要である。孔の容
積比が大きくなるほど、拡散素子による光線強度減衰の
度合いも高くなってしまう。閉鎖孔によって拡散ディス
クの密度が保証され、汚れにくくなる。
具備することが有利であることが実証された。そのため
に、本来ならば稠密なガラス組織に意図的に超微細孔が
作製される。容積割合が０．５％から１０％の間であ
り、好ましくは５％未満である孔を有する石英ガラス製
の拡散素子で、特に優れた結果が達成される。これらの
孔によって拡散中心が得られる。それによって、光線が
直接透過することが防止され、入射光線のより多くの部
分が無方向的に散乱し、それによって拡散素子の所望の
拡散性が保証される。孔は閉鎖された、代表的には球形
の、又は球形に近い表面を有している。これらの表面
は、気体が充満した、又は空の中空空間とこれを囲む石
英ガラスとの間に内部の境界面を形成する。従って空間
内の配向は統計的に均一に分布している。結晶質材料に
は見られるような優先方向はない。このような特性によ
って、拡散素子に照射する紫外線の強度は入射角のコサ
インによって算出される。すなわち、入射角が鈍角でも
拡散素子に照射する紫外線を測定用に算入できる。それ
によって、所望の通り、測定の際に照射方向に左右され
ないことが保証される。充分な拡散性を得るには、孔の
最小容積比は０．５％であることが必要である。孔の容
積比が大きくなるほど、拡散素子による光線強度減衰の
度合いも高くなってしまう。閉鎖孔によって拡散ディス
クの密度が保証され、汚れにくくなる。
【００１３】拡散素子が孔を有し、その孔の少なくとも
８０％が１００μｍ未満、好ましくは１０μｍ未満の最
大孔ザイズを有する紫外線センサで、特に良好な結果が
達成される。孔のサイズが小さいほど個々の拡散中心が
小さくなり、拡散素子の容積全体に亘る拡散性が均質に
なる。その場合、孔のサイズ分布ができるだけ狭い範囲
にあることが特に有利である。所望の無方向的な拡散の
多くの部分は、孔のサイズが、測定される紫外線の波長
の範囲内にある場合に特に達成される。
８０％が１００μｍ未満、好ましくは１０μｍ未満の最
大孔ザイズを有する紫外線センサで、特に良好な結果が
達成される。孔のサイズが小さいほど個々の拡散中心が
小さくなり、拡散素子の容積全体に亘る拡散性が均質に
なる。その場合、孔のサイズ分布ができるだけ狭い範囲
にあることが特に有利である。所望の無方向的な拡散の
多くの部分は、孔のサイズが、測定される紫外線の波長
の範囲内にある場合に特に達成される。
【００１４】拡散素子のＳｉ０2含量が少なくとも９
９．９重量％である紫外線センサが好適な実施態様であ
り、その際に、クリストバライト含量が多くとも１重量
％である。このような拡散素子によって、特に高い機械
的強度と極めて優れた放射線耐性が達成される。波長範
囲が３００ｎｍと４００ｎｍの間にある紫外線をこのよ
うな拡散素子に照射した場合、ソラリゼーションは認め
られなかった。クリストバライト含量がより低いことに
よって、高い光線透過性と光学特性、特に拡散ディスク
の容積全体に亘る紫外線の拡散特性の均一な分布が保証
される。
９．９重量％である紫外線センサが好適な実施態様であ
り、その際に、クリストバライト含量が多くとも１重量
％である。このような拡散素子によって、特に高い機械
的強度と極めて優れた放射線耐性が達成される。波長範
囲が３００ｎｍと４００ｎｍの間にある紫外線をこのよ
うな拡散素子に照射した場合、ソラリゼーションは認め
られなかった。クリストバライト含量がより低いことに
よって、高い光線透過性と光学特性、特に拡散ディスク
の容積全体に亘る紫外線の拡散特性の均一な分布が保証
される。
【００１５】紫外線センサを密度が少なくとも２．１５
g/cm3 である石英ガラスからなる拡散素子で製造する
と、特に好適であることが実証された。このような拡散
素子は、機械的、光学的強度が高く、同時に拡散特性に
優れ、光線強度の減衰が少ない。
g/cm3 である石英ガラスからなる拡散素子で製造する
と、特に好適であることが実証された。このような拡散
素子は、機械的、光学的強度が高く、同時に拡散特性に
優れ、光線強度の減衰が少ない。
【００１６】特に取扱い易さ及び測定の再現性と安定性
の高さに関して、拡散素子が開放孔がない平滑な表面を
有している紫外線センサが優れていることが実証され
た。このような拡散素子は、特に汚れにくく、汚れた場
合でも清浄し易い。平滑な表面は、例えば火炎研磨によ
って達成できる。その際に、同時に完全に透明な表面層
が得られる。
の高さに関して、拡散素子が開放孔がない平滑な表面を
有している紫外線センサが優れていることが実証され
た。このような拡散素子は、特に汚れにくく、汚れた場
合でも清浄し易い。平滑な表面は、例えば火炎研磨によ
って達成できる。その際に、同時に完全に透明な表面層
が得られる。
【００１７】拡散素子が入射口を閉鎖する紫外線センサ
の実施態様が好適である。このようなセンサでは、拡散
素子を組立て易く、交換する場合も簡単である。拡散素
子をハウジングと連結することもできる。この態様によ
って、測定される紫外線が妨害されずに全方向から直接
拡散素子に照射され、そこから特に光検出器に均一に拡
散されるので、高い測定精度が保証される。その際に、
拡散素子はハウジング上に載置され、従って入射口は外
側から閉鎖される。入射口を内側から閉じることもでき
るが、その場合は、入射光線の（光検出器の入射面に対
して）１８０°及び０°の一定の角度範囲が検出されな
いという難点がある。しかし、用途によっては、その大
きさがハウジング内の拡散素子の具体的な配置によって
左右される、上記の角度範囲での検出は省略してもよい
場合がある。
の実施態様が好適である。このようなセンサでは、拡散
素子を組立て易く、交換する場合も簡単である。拡散素
子をハウジングと連結することもできる。この態様によ
って、測定される紫外線が妨害されずに全方向から直接
拡散素子に照射され、そこから特に光検出器に均一に拡
散されるので、高い測定精度が保証される。その際に、
拡散素子はハウジング上に載置され、従って入射口は外
側から閉鎖される。入射口を内側から閉じることもでき
るが、その場合は、入射光線の（光検出器の入射面に対
して）１８０°及び０°の一定の角度範囲が検出されな
いという難点がある。しかし、用途によっては、その大
きさがハウジング内の拡散素子の具体的な配置によって
左右される、上記の角度範囲での検出は省略してもよい
場合がある。
【００１８】紫外線センサのその他の好適な実施態様で
は、拡散素子自体がハウジングを形成する。このような
構成は石英ガラス−拡散材料の再加工によって可能にな
る。ハウジングは、例えば光検出器を覆う一体のキャッ
プの形式で製造できる。ハウジングは容易に気密に製造
でき、内部に配設した部品を化学的腐食及び機械的負荷
から防護する。このような紫外線センサは組立てが簡単
であり、メインテナンスもし易い。このような態様で
は、ハウジング全体を紫外線センサ用の入射口と見なす
ことができる。
は、拡散素子自体がハウジングを形成する。このような
構成は石英ガラス−拡散材料の再加工によって可能にな
る。ハウジングは、例えば光検出器を覆う一体のキャッ
プの形式で製造できる。ハウジングは容易に気密に製造
でき、内部に配設した部品を化学的腐食及び機械的負荷
から防護する。このような紫外線センサは組立てが簡単
であり、メインテナンスもし易い。このような態様で
は、ハウジング全体を紫外線センサ用の入射口と見なす
ことができる。
【００１９】拡散素子と光検出器との間に可視光線用の
光学フィルタを備えた紫外線センサが特に好適であるこ
とが実証された。それによって、可視光線の波長範囲で
も反応する光検出器を有する紫外線センサの、紫外線ス
ペクトル範囲での測定精度が高まる。このフィルタは独
立した部品として形成することができる。しかし、例え
ば積層の形式で拡散素子又は光検出器と一体に形成して
もよい。
光学フィルタを備えた紫外線センサが特に好適であるこ
とが実証された。それによって、可視光線の波長範囲で
も反応する光検出器を有する紫外線センサの、紫外線ス
ペクトル範囲での測定精度が高まる。このフィルタは独
立した部品として形成することができる。しかし、例え
ば積層の形式で拡散素子又は光検出器と一体に形成して
もよい。
【００２０】入射口の側部が金属製スリーブによって境
界形成され、このスリーブ内部に拡散素子と光検出器
の、少なくとも入射口側の上部とが配設された紫外線セ
ンサの実施態様が特に有利であることが実証された。拡
散素子と光検出器の上部を側面から囲む金属製スリーブ
によって、光線が拡散素子を迂回して光検出器に照射
し、測定結果に誤差が生ずることが防止される。内側が
反射性に構成された金属スリーブによって、拡散素子か
ら光検出器への光の誘導が行われる。拡散素子と光検出
器との間にフィルタを備える場合は、フィルタ側も金属
スリーブで囲まれる。
界形成され、このスリーブ内部に拡散素子と光検出器
の、少なくとも入射口側の上部とが配設された紫外線セ
ンサの実施態様が特に有利であることが実証された。拡
散素子と光検出器の上部を側面から囲む金属製スリーブ
によって、光線が拡散素子を迂回して光検出器に照射
し、測定結果に誤差が生ずることが防止される。内側が
反射性に構成された金属スリーブによって、拡散素子か
ら光検出器への光の誘導が行われる。拡散素子と光検出
器との間にフィルタを備える場合は、フィルタ側も金属
スリーブで囲まれる。
【００２１】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【００２２】図１では、紫外線センサ全体に符号１が付
されている。紫外線センサ１は紫外線光検出器２と、可
視光線用のフィルタ３と、不透明の、非晶質の石英ガラ
ス製の拡散ディスク４を備えている。フィルタ３は光検
出器２と拡散素子４との間に取り付けられている。紫外
線センサ１は上方から石英ドーム５によって覆われ、こ
れがセンサ１の光学系を損傷から保護している。拡散デ
ィスク４とフィルタ３との間の光線の誘導性を高めるた
め、双方の部品３，４の間には内側が反射性に構成され
たスチール製スリーブ６が設けられている。
されている。紫外線センサ１は紫外線光検出器２と、可
視光線用のフィルタ３と、不透明の、非晶質の石英ガラ
ス製の拡散ディスク４を備えている。フィルタ３は光検
出器２と拡散素子４との間に取り付けられている。紫外
線センサ１は上方から石英ドーム５によって覆われ、こ
れがセンサ１の光学系を損傷から保護している。拡散デ
ィスク４とフィルタ３との間の光線の誘導性を高めるた
め、双方の部品３，４の間には内側が反射性に構成され
たスチール製スリーブ６が設けられている。
【００２３】拡散ディスク４は、この実施例及び下記の
実施例で、Ｓｉ０2含量が９９．９４重量％であり、ク
リストバライト含量は０．５重量％である。その不透明
性は閉鎖孔によるものであり、その容積比は約１％であ
り、孔の８０％の最大孔サイズは３μｍ未満である。拡
散ディスクの厚さは通常は１ないし２ｍｍである。拡散
ディスクの、波長範囲が３００ｎｍから４００ｎｍの紫
外線の直接透過性は、壁厚が１ｍｍである場合は約１０
％である。入射光線の残りの部分は、減衰部分を除く
と、空間の全方向に拡散する。それによって、均一な拡
散性が達成されるので、拡散ディスク４に照射する紫外
線の強度は入射角度のコサインで算出される。それによ
って、所望のとおり、測定結果は方向に左右されない。
実施例で、Ｓｉ０2含量が９９．９４重量％であり、ク
リストバライト含量は０．５重量％である。その不透明
性は閉鎖孔によるものであり、その容積比は約１％であ
り、孔の８０％の最大孔サイズは３μｍ未満である。拡
散ディスクの厚さは通常は１ないし２ｍｍである。拡散
ディスクの、波長範囲が３００ｎｍから４００ｎｍの紫
外線の直接透過性は、壁厚が１ｍｍである場合は約１０
％である。入射光線の残りの部分は、減衰部分を除く
と、空間の全方向に拡散する。それによって、均一な拡
散性が達成されるので、拡散ディスク４に照射する紫外
線の強度は入射角度のコサインで算出される。それによ
って、所望のとおり、測定結果は方向に左右されない。
【００２４】拡散ディスク４は非晶質の石英ガラス製、
すなわち粒界がない均質な材料製であるので、機械的強
度が高く、機械加工が可能である。石英ガラスによっ
て、紫外線に対する拡散ディスク４の高い放射線耐性が
保証される。石英ガラスは密度が２．１８g/cm3 であ
り、開放孔がない平滑な表面を有している。そのため
に、拡散ディスク４は火炎研磨によって、透明で、孔が
ない表面層が作製される。これは清浄し易く、石英ガラ
スと容易に溶着し、石英ガラスを透過する水素やヘリウ
ムガスを除いて、気密性である。従って、この拡散ディ
スクは取扱いが簡単であり、製造が簡単で経済的な紫外
線センサ１を製造できる。
すなわち粒界がない均質な材料製であるので、機械的強
度が高く、機械加工が可能である。石英ガラスによっ
て、紫外線に対する拡散ディスク４の高い放射線耐性が
保証される。石英ガラスは密度が２．１８g/cm3 であ
り、開放孔がない平滑な表面を有している。そのため
に、拡散ディスク４は火炎研磨によって、透明で、孔が
ない表面層が作製される。これは清浄し易く、石英ガラ
スと容易に溶着し、石英ガラスを透過する水素やヘリウ
ムガスを除いて、気密性である。従って、この拡散ディ
スクは取扱いが簡単であり、製造が簡単で経済的な紫外
線センサ１を製造できる。
【００２５】図２に示した紫外線センサ１の実施例で
は、ハウジング全体に符号７が付されている。ハウジン
グ７はステンレス鋼製のスリーブ状部分８を有してお
り、この内部に光検出器２と、不透明な、非晶質の石英
ガラス製の拡散ディスク４が収容されている。光検出器
２と拡散ディスク４との間には、可視光線用のフィルタ
３が取り付けられている。ステンレス鋼製のスリーブ８
は、光検出器２とは反対側の端部に、紫外線用の入射口
に配設された拡散ディスク４を具備している。拡散ディ
スク４はステンレス鋼製のスリーブ８内に配設され、こ
のスリーブの上方に開放された端部には、拡散ディスク
４の一部に張り出す縁部１０が形成されている。
は、ハウジング全体に符号７が付されている。ハウジン
グ７はステンレス鋼製のスリーブ状部分８を有してお
り、この内部に光検出器２と、不透明な、非晶質の石英
ガラス製の拡散ディスク４が収容されている。光検出器
２と拡散ディスク４との間には、可視光線用のフィルタ
３が取り付けられている。ステンレス鋼製のスリーブ８
は、光検出器２とは反対側の端部に、紫外線用の入射口
に配設された拡散ディスク４を具備している。拡散ディ
スク４はステンレス鋼製のスリーブ８内に配設され、こ
のスリーブの上方に開放された端部には、拡散ディスク
４の一部に張り出す縁部１０が形成されている。
【００２６】図２に示した本発明の紫外線センサ１は耐
候性計測器の紫外線の監視に特に適している。
候性計測器の紫外線の監視に特に適している。
【００２７】図３に示した本発明のセンサの実施例で
は、ステンレス鋼製ハウジング７の内部に、ＳｉＣをベ
ースにした光電管１１と、不透明で、非晶質の石英ガラ
ス製の拡散ディスク４とが配設されている。ハウジング
７は、内側が反射性のスリーブ状部分８と、図２の実施
例で前述したように、拡散ディスク４の一部に張出し、
入射口９の境界を形成する縁部１０とを有している。拡
散ディスク４は光電管１１の真上にある。ＳｉＣをベー
スにした光電管１１は可視光線を検出しないので、この
実施例では可視光線用のフィルタは必要ない。
は、ステンレス鋼製ハウジング７の内部に、ＳｉＣをベ
ースにした光電管１１と、不透明で、非晶質の石英ガラ
ス製の拡散ディスク４とが配設されている。ハウジング
７は、内側が反射性のスリーブ状部分８と、図２の実施
例で前述したように、拡散ディスク４の一部に張出し、
入射口９の境界を形成する縁部１０とを有している。拡
散ディスク４は光電管１１の真上にある。ＳｉＣをベー
スにした光電管１１は可視光線を検出しないので、この
実施例では可視光線用のフィルタは必要ない。
【００２８】図４に示した本発明のセンサの実施例で
は、ステンレス鋼製ハウジング７の内部に、Ｓｉをベー
スにした光電管２と、不透明で、非晶質の石英ガラス製
の拡散ディスク４と、可視光線用の光学フィルタ１２と
が配設されている。フィルタ１２は拡散ディスク４上に
蒸着された酸化チタン製の誘電層から成っている。この
場合も、ハウジング７は内側が反射性のスリーブ状部分
８を具備し、その縁部は、この実施例では、紫外線セン
サ１の入射口９の境界を形成している。拡散ディスク４
は光電管２の真上にある。
は、ステンレス鋼製ハウジング７の内部に、Ｓｉをベー
スにした光電管２と、不透明で、非晶質の石英ガラス製
の拡散ディスク４と、可視光線用の光学フィルタ１２と
が配設されている。フィルタ１２は拡散ディスク４上に
蒸着された酸化チタン製の誘電層から成っている。この
場合も、ハウジング７は内側が反射性のスリーブ状部分
８を具備し、その縁部は、この実施例では、紫外線セン
サ１の入射口９の境界を形成している。拡散ディスク４
は光電管２の真上にある。
【００２９】図５に示した本発明の紫外線センサ１の実
施例では、拡散素子は光電管２と光学フィルタ３とを囲
む拡散キャップ１３の形式で構成されている。このキャ
ップ１３は、図１の実施例に関連して、拡散ディスク４
について前述したと同様の特性を有する、不透明で、非
晶質の石英ガラス製である。それが例えば切断、研磨、
又は穿孔等により機械的に加工できることによって、こ
のようなキャップを拡散性の石英ガラスから製造するこ
とが可能である。このキャップによって、内部の部品を
化学的腐食から保護するだけではなく、機械的負荷から
も保護する。
施例では、拡散素子は光電管２と光学フィルタ３とを囲
む拡散キャップ１３の形式で構成されている。このキャ
ップ１３は、図１の実施例に関連して、拡散ディスク４
について前述したと同様の特性を有する、不透明で、非
晶質の石英ガラス製である。それが例えば切断、研磨、
又は穿孔等により機械的に加工できることによって、こ
のようなキャップを拡散性の石英ガラスから製造するこ
とが可能である。このキャップによって、内部の部品を
化学的腐食から保護するだけではなく、機械的負荷から
も保護する。
【００３０】図６に示した、図５のＡ部分の拡大図で
は、Ｓｉ０2被覆層の形式の光学フィルタ３がキャップ
１３の内側の、紫外線センサ用の入射口９の領域に配設
されていることが判る。この実施例では、入射口９の側
方は、光を透過せず、内側が反射性の金属管１４によっ
て境界形成され、その内部にはこの場合も、光検出器２
が配設されている。
は、Ｓｉ０2被覆層の形式の光学フィルタ３がキャップ
１３の内側の、紫外線センサ用の入射口９の領域に配設
されていることが判る。この実施例では、入射口９の側
方は、光を透過せず、内側が反射性の金属管１４によっ
て境界形成され、その内部にはこの場合も、光検出器２
が配設されている。
【００３１】次に、拡散素子の製造方法を一実施例に沿
って詳細に説明する。
って詳細に説明する。
【００３２】本発明の紫外線センサ用の拡散素子を製造
するための鋳型は、スリップ鋳造方法によって製造する
ことが好ましい。このような鋳型の製造方法の実施例
は、DE43 38 807に記載されており、製造方法に関する
その内容は、本明細書で参考文献として参照されてい
る。この方法によって製造された鋳型は、拡散素子とし
て、例えば拡散ディスク又は、拡散用キャップとして、
直接、又は機械的、化学的加工の後に使用される。
するための鋳型は、スリップ鋳造方法によって製造する
ことが好ましい。このような鋳型の製造方法の実施例
は、DE43 38 807に記載されており、製造方法に関する
その内容は、本明細書で参考文献として参照されてい
る。この方法によって製造された鋳型は、拡散素子とし
て、例えば拡散ディスク又は、拡散用キャップとして、
直接、又は機械的、化学的加工の後に使用される。
【００３３】
【発明の効果】拡散素子が、空間内の配向が統計的に均
一に分布された内部境界面を有する石英ガラスを含量す
ることによって、安定した、再現性がある測定結果が得
られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサが得られる。
一に分布された内部境界面を有する石英ガラスを含量す
ることによって、安定した、再現性がある測定結果が得
られ、製造が簡単で経済的な紫外線センサが得られる。
【図１】拡散ディスクを有する紫外線センサの一実施例
を示すものである。
を示すものである。
【図２】本発明による紫外線センサの別の実施例を示す
ものである。
ものである。
【図３】本発明による紫外線センサの別の実施例を示す
ものである。
ものである。
【図４】本発明による紫外線センサの別の実施例を示す
ものである。
ものである。
【図５】本発明による紫外線センサの別の実施例を示す
ものである。
ものである。
【図６】図５のＡ部分の拡大図である。
１ 紫外線センサ ２ 紫外線光検出器 ３ フィルタ ４ 拡散ディスク ５ 石英ドーム ６ スチール製スリーブ ７ ハウジング ８ スチール製スリーブ ９ 入射口 １０ 縁部 １１ 光電管 １２ フィルタ １３ キャップ １４ 金属管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フランク・ケルナー ドイツ連邦共和国、63546 ハムメルスバ ッハ、ノルトストラーセ ４ (72)発明者 ベルント・ルードルフ ドイツ連邦共和国、63755 アルツェナウ、 アム・エルツェグラーベン ２
Claims (11)
- 【請求項１】 紫外線用の入射口を有し、内部に前記入
射口から入射する紫外線を測定するための光検出器が配
設されたハウジングと、光検出器の前に、紫外線の入射
方向を向いて配設されたＳｉ０2含有拡散素子とを有す
る紫外線センサにおいて、前記拡散素子が、空間内の配
向が統計的に均一に分布された内部境界面を有する石英
ガラスを含有することを特徴とする紫外線センサ。 - 【請求項２】 前記拡散素子が、閉鎖細孔を有する請求
項１記載の紫外線センサ。 - 【請求項３】 前記細孔の容積割合が０．５％から１０
％の間であり、好ましくは５％未満である請求項１記載
の紫外線センサ。 - 【請求項４】 前記拡散素子が孔を有し、その孔の少な
くとも８０％が１００μｍ未満、好ましくは１０μｍ未
満の最大孔サイズを有する請求項１〜３のいずれか一項
に記載の紫外線センサ。 - 【請求項５】 前記拡散素子が、少なくとも９９．９重
量％のＳｉ０2 含量を有し、多くとも１重量％のクリス
トバライト含量を有する請求項１〜４のいずれか一項に
記載の紫外線センサ。 - 【請求項６】 前記拡散素子の密度が、少なくとも２．
１５g/cm3 である請求項１〜５のいずれか一項に記載の
紫外線センサ。 - 【請求項７】 前記拡散素子が、開放細孔を有しない平
滑な表面を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の
紫外線センサ。 - 【請求項８】 拡散素子が、入射口を閉鎖する円板の形
状に形成されている請求項１〜７のいずれか一項に記載
の紫外線センサ。 - 【請求項９】 拡散素子がハウジングを形成している請
求項１〜８のいずれか一項に記載の紫外線センサ。 - 【請求項１０】 前記拡散素子と、光検出器との間に、
可視光線用の光学フィルタが配設されている請求項１〜
９のいずれか一項に記載の紫外線センサ。 - 【請求項１１】 前記入射口の側部がスチール製スリー
ブによって境界形成され、このスリーブ内部に前記拡散
素子と、光検出器の、少なくとも入射口側の上部とが配
設されている請求項１〜１０のいずれか一項に記載の紫
外線センサ。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4338807A DE4338807C1 (de) | 1993-11-12 | 1993-11-12 | Formkörper mit hohem Gehalt an Siliziumdioxid und Verfahren zur Herstellung solcher Formkörper |
| DE4338807.8 | 1993-11-12 | ||
| DE4434858.4 | 1994-09-29 | ||
| DE4434858A DE4434858C2 (de) | 1993-11-12 | 1994-09-29 | UV-Sensor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07280643A true JPH07280643A (ja) | 1995-10-27 |
| JP2760419B2 JP2760419B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=25931203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6276539A Expired - Lifetime JP2760419B2 (ja) | 1993-11-12 | 1994-11-10 | 紫外線センサ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5497004A (ja) |
| EP (1) | EP0653613B1 (ja) |
| JP (1) | JP2760419B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11193678A (ja) * | 1998-01-05 | 1999-07-21 | Shimizu Corp | 調光型遮光体 |
| JP2008081375A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Covalent Materials Corp | シリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置 |
| WO2016129962A1 (ko) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 한국기계연구원 | 자외선 검출기 |
| JP2020012818A (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-23 | ハッチンソン テクノロジー インコーポレイテッドＨｕｔｃｈｉｎｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | トレース／スペース幅のばらつきを改善するためのフォトレジストの分光感度に適合する線量計 |
| JP2020056665A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 川瀬 信雄 | 紫外線センサおよび紫外線量測定装置 |
| JP2025534930A (ja) * | 2023-09-21 | 2025-10-22 | オーリックス シーオー．， エルティーディー． | 紫外線波長帯域の受光を通じたセンシングを可能にし、紫外線信号をデジタル信号に変換する光センサー用パッケージ構造体及びその製造方法 |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9603128D0 (en) * | 1996-02-15 | 1996-04-17 | Tsl Group Plc | Improved vitreous silica product and method of manufacture |
| US6005249A (en) * | 1997-03-18 | 1999-12-21 | Smithsonian Environmental Research Center | Cosine corrected optical pathway of a spectral radiometer |
| US6278120B1 (en) * | 1999-04-28 | 2001-08-21 | Electronic Instrumentation And Technology, Inc. | UV sensor |
| EP1146324A1 (en) * | 2000-04-14 | 2001-10-17 | Alliant Techsystems Inc. | Light guiding uv filter for blocking solar radiation |
| US6261086B1 (en) | 2000-05-05 | 2001-07-17 | Forney Corporation | Flame detector based on real-time high-order statistics |
| WO2002059551A1 (de) * | 2001-01-26 | 2002-08-01 | B-Sys Gmbh | Vorrichtung zur messung von ultravioletter strahlung |
| US6767458B2 (en) * | 2002-05-23 | 2004-07-27 | Eugen Safta | Ultraviolet generator used in water purification system |
| US7049602B2 (en) * | 2002-07-31 | 2006-05-23 | Eugene Tokhtuev | Radiation sensor |
| US20040200975A1 (en) * | 2003-04-14 | 2004-10-14 | Brown Dale Marius | Ultraviolet sensors for monitoring energy in the germicidal wavelengths |
| US7267546B2 (en) * | 2004-08-09 | 2007-09-11 | Ultradent Products, Inc. | Light meter for detecting and measuring intensity of two or more wavelengths of light |
| DE102004051379A1 (de) * | 2004-08-23 | 2006-03-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Vorrichtung für ein optoelektronisches Bauteil und Bauelement mit einem optoelektronischen Bauteil und einer Vorrichtung |
| US7372010B1 (en) | 2004-11-12 | 2008-05-13 | Hilary Boehme | Combination socket and photosensor for measuring and adjusting intensity of lamp in the socket |
| CA2664021C (en) * | 2006-09-20 | 2013-06-11 | Trojan Technologies | Optical radiation sensor system |
| US8854734B2 (en) * | 2009-11-12 | 2014-10-07 | Vela Technologies, Inc. | Integrating optical system and methods |
| US8426800B2 (en) | 2010-09-09 | 2013-04-23 | Vela Technologies, Inc. | Integrating optical systems and methods |
| US9221709B2 (en) | 2011-03-31 | 2015-12-29 | Raytheon Company | Apparatus for producing a vitreous inner layer on a fused silica body, and method of operating same |
| US9193620B2 (en) | 2011-03-31 | 2015-11-24 | Raytheon Company | Fused silica body with vitreous silica inner layer, and method for making same |
| US9798458B2 (en) | 2013-10-02 | 2017-10-24 | The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute | Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure |
| US9880052B2 (en) | 2013-10-02 | 2018-01-30 | The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute | Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure |
| TWI652240B (zh) * | 2014-02-17 | 2019-03-01 | 日商東曹股份有限公司 | 不透明石英玻璃及其製造方法 |
| EP3009362A1 (en) * | 2014-10-17 | 2016-04-20 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | A detecting device for detecting UV radiation |
| WO2017035384A1 (en) | 2015-08-25 | 2017-03-02 | The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute | Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure |
| US10739253B2 (en) | 2016-06-07 | 2020-08-11 | Youv Labs, Inc. | Methods, systems, and devices for calibrating light sensing devices |
| USD829112S1 (en) | 2016-08-25 | 2018-09-25 | The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute | Sensing device |
| CN112997054A (zh) | 2018-10-19 | 2021-06-18 | 优夫实验室公司 | 用于精确测量来自太阳光的健康相关uv照射的方法、系统和装置 |
| WO2023166547A1 (ja) | 2022-03-01 | 2023-09-07 | 東ソ－・エスジ－エム株式会社 | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5854544A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-03-31 | Toshiba Corp | 紫外線放射用二重管形ランプ |
| JPS61126502A (ja) * | 1984-11-24 | 1986-06-14 | Komatsugawa Kakoki Kk | 光学的拡散部材 |
| JPS62263436A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-16 | Toshiba Corp | 発光素子輝度測定装置 |
| JPH0261524A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-03-01 | Tokai Univ | 紫外線計 |
| JPH02298828A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Hamamatsu Photonics Kk | 日射センサ |
| JPH0524870A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-02-02 | Pyromatics Inc | クリストバライト強化された石英ガラス製品の製造方法およびその石英ガラス製品 |
| JPH0633240A (ja) * | 1992-07-16 | 1994-02-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 窒化ホウ素被覆硬質材料およびその製造法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4597629A (en) * | 1980-06-04 | 1986-07-01 | International Telephone And Telegraph Corporation | Solar blind ultraviolet filter |
| JPS6176547A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-19 | Teijin Chem Ltd | 光拡散透過用成形品 |
| DE8800850U1 (de) * | 1988-01-25 | 1988-03-24 | Gerstel, Eberhard, 4330 Muelheim | UV-Sensor |
| US5093576A (en) * | 1991-03-15 | 1992-03-03 | Cree Research | High sensitivity ultraviolet radiation detector |
-
1994
- 1994-10-13 EP EP94116151A patent/EP0653613B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-08 US US08/337,447 patent/US5497004A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-10 JP JP6276539A patent/JP2760419B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5854544A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-03-31 | Toshiba Corp | 紫外線放射用二重管形ランプ |
| JPS61126502A (ja) * | 1984-11-24 | 1986-06-14 | Komatsugawa Kakoki Kk | 光学的拡散部材 |
| JPS62263436A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-16 | Toshiba Corp | 発光素子輝度測定装置 |
| JPH0261524A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-03-01 | Tokai Univ | 紫外線計 |
| JPH02298828A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Hamamatsu Photonics Kk | 日射センサ |
| JPH0524870A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-02-02 | Pyromatics Inc | クリストバライト強化された石英ガラス製品の製造方法およびその石英ガラス製品 |
| JPH0633240A (ja) * | 1992-07-16 | 1994-02-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 窒化ホウ素被覆硬質材料およびその製造法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11193678A (ja) * | 1998-01-05 | 1999-07-21 | Shimizu Corp | 調光型遮光体 |
| JP2008081375A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Covalent Materials Corp | シリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置 |
| WO2016129962A1 (ko) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 한국기계연구원 | 자외선 검출기 |
| JP2020012818A (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-23 | ハッチンソン テクノロジー インコーポレイテッドＨｕｔｃｈｉｎｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | トレース／スペース幅のばらつきを改善するためのフォトレジストの分光感度に適合する線量計 |
| JP2020056665A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 川瀬 信雄 | 紫外線センサおよび紫外線量測定装置 |
| JP2025534930A (ja) * | 2023-09-21 | 2025-10-22 | オーリックス シーオー．， エルティーディー． | 紫外線波長帯域の受光を通じたセンシングを可能にし、紫外線信号をデジタル信号に変換する光センサー用パッケージ構造体及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0653613B1 (de) | 1997-11-26 |
| US5497004A (en) | 1996-03-05 |
| JP2760419B2 (ja) | 1998-05-28 |
| EP0653613A1 (de) | 1995-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2760419B2 (ja) | 紫外線センサ | |
| US4027973A (en) | Detector apparatus for laser light scattering photometers | |
| CA2470280C (en) | Electromagnetic radiation attenuating and scattering member with improved thermal stability | |
| US5585634A (en) | Attenuated total reflectance sensing | |
| EP2138831A1 (en) | Crds brewster gas cell | |
| CA1225718A (en) | Infra red absorption gas detector | |
| US5659397A (en) | Method and apparatus for measuring total specular and diffuse optical properties from the surface of an object | |
| US6496636B1 (en) | Support planar and tapered quasi-planar germanium waveguides for infrared evanescent-wave sensing | |
| EP1239270B1 (en) | Optical detector | |
| US4082950A (en) | Calibration assembly for infrared moisture analyzer | |
| EP0834732A2 (en) | Gas analyzer | |
| US4408825A (en) | Vacuum ultraviolet reflectance filter | |
| US3843268A (en) | Sample container for laser light scattering photometers | |
| US4549081A (en) | Spectrophotometer for measuring absorption characteristics of a complex lens | |
| US6278120B1 (en) | UV sensor | |
| JP2000146533A (ja) | 透光体の厚み測定装置及び測定方法 | |
| JPS62170840A (ja) | 水素検知光センサ | |
| JPH04315927A (ja) | 赤外線検出器 | |
| JPS61201143A (ja) | 水素ガスセンサー | |
| JP5111914B2 (ja) | 粒子密度測定プローブ及び粒子密度測定装置 | |
| JP2001514755A (ja) | 分光光度分析用キュベット | |
| JPH0438321B2 (ja) | ||
| Fox et al. | Radiometric aspects of an experiment to determine the melting/freezing temperature of gold | |
| Merritt et al. | Spectral characterization methodology of thin-film optical filters | |
| US4606644A (en) | Gas measuring apparatus with means to reduce thermal radiation effects |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100320 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110320 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120320 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130320 Year of fee payment: 15 |