JPH07284983A - 半田材料及びその製造方法 - Google Patents
半田材料及びその製造方法Info
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- JPH07284983A JPH07284983A JP8185394A JP8185394A JPH07284983A JP H07284983 A JPH07284983 A JP H07284983A JP 8185394 A JP8185394 A JP 8185394A JP 8185394 A JP8185394 A JP 8185394A JP H07284983 A JPH07284983 A JP H07284983A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】発熱を伴う半導体装置の部品を接合する半田材
料として、温度 170℃において優れた延性を有すると共
に冷間加工性に優れたSn−Sb系のテープ又はワイヤ
ー状半田材料を提供する。 【構成】Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を不活性雰囲気中で溶解し、これを鋳造してイ
ンゴットを作成する。このインゴットを押出に供し、更
に圧延加工又は伸線加工による冷間加工を行い所定形
状、寸法のテープ又はワイヤに仕上げる。
料として、温度 170℃において優れた延性を有すると共
に冷間加工性に優れたSn−Sb系のテープ又はワイヤ
ー状半田材料を提供する。 【構成】Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を不活性雰囲気中で溶解し、これを鋳造してイ
ンゴットを作成する。このインゴットを押出に供し、更
に圧延加工又は伸線加工による冷間加工を行い所定形
状、寸法のテープ又はワイヤに仕上げる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はテープ又はワイヤー状半
田材料及びその製造方法に関し、更に詳しくは、高温で
使用される部品を接合するSn−Sb系合金半田材料、
とりわけ、発熱を伴うため高温で使用される半導体装置
の部品を接合する表面粗度の小さいテープ又はワイヤー
状の半田材料に関する。
田材料及びその製造方法に関し、更に詳しくは、高温で
使用される部品を接合するSn−Sb系合金半田材料、
とりわけ、発熱を伴うため高温で使用される半導体装置
の部品を接合する表面粗度の小さいテープ又はワイヤー
状の半田材料に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に高温用半田とは固相線温度がPb
−Snの共晶温度(183℃)以上のものをいい、通常
はSnを主成分として、これにPb、In、Ag、S
b、Cu、Ni等を含有したものである。この中で、S
nを主成分としてSbを含有したものは、高温強度とク
リープ特性が向上するため高温用半田として好ましい。
一方、半導体素子をリードフレーム上にボンディングす
る際に、Snを主成分としてSbだけを含有した半田を
用いて接合すると、半導体チップの発熱に伴いSn−S
b半田部材にクラックが発生し易いという問題がある。
また半導体実装時に操作上のトラブルを防止するため
に、表面粗度に優れたテープ又はワイヤー状半田材料が
要求されている。この発熱に伴うクラックを防止するこ
と及び表面粗度に優れたテープ又はワイヤーを得るため
には、圧延加工又は伸線加工による冷間加工を施すこと
が一般に行われている。
−Snの共晶温度(183℃)以上のものをいい、通常
はSnを主成分として、これにPb、In、Ag、S
b、Cu、Ni等を含有したものである。この中で、S
nを主成分としてSbを含有したものは、高温強度とク
リープ特性が向上するため高温用半田として好ましい。
一方、半導体素子をリードフレーム上にボンディングす
る際に、Snを主成分としてSbだけを含有した半田を
用いて接合すると、半導体チップの発熱に伴いSn−S
b半田部材にクラックが発生し易いという問題がある。
また半導体実装時に操作上のトラブルを防止するため
に、表面粗度に優れたテープ又はワイヤー状半田材料が
要求されている。この発熱に伴うクラックを防止するこ
と及び表面粗度に優れたテープ又はワイヤーを得るため
には、圧延加工又は伸線加工による冷間加工を施すこと
が一般に行われている。
【0003】従来、Sn−Sb系半田にNi、Cu、B
i等を含有させる試みがなされているが、半導体チップ
の発熱に伴う高温でのクラックの防止に対して効果が十
分でないことに加えて冷間加工が困難になるという欠点
を有する。従って、Sn−Sb系半田において、高温で
のクラック防止に有効であり且つ冷間加工性の良い半田
材料は得られていないため、溶湯の直接急冷によるリボ
ン状半田やクリーム半田の用途に限定して試みがなさ
れ、その優れた高温強度とクリープ特性が十分に生かさ
れていない。
i等を含有させる試みがなされているが、半導体チップ
の発熱に伴う高温でのクラックの防止に対して効果が十
分でないことに加えて冷間加工が困難になるという欠点
を有する。従って、Sn−Sb系半田において、高温で
のクラック防止に有効であり且つ冷間加工性の良い半田
材料は得られていないため、溶湯の直接急冷によるリボ
ン状半田やクリーム半田の用途に限定して試みがなさ
れ、その優れた高温強度とクリープ特性が十分に生かさ
れていない。
【0004】ここで高温でのクラック防止について詳述
すると、半導体装置が実用上晒される環境から考えて、
温度170℃において優れた延性を有することが求めら
れている。また冷間加工性について詳述すると、所定の
形状、寸法に整えるため溶解、鋳造工程を経て冷間加工
を施す場合鋳造時に偏析が生じ易く、これも一因となっ
て材質のもろさと相まって冷間加工が困難になる現象が
ある。
すると、半導体装置が実用上晒される環境から考えて、
温度170℃において優れた延性を有することが求めら
れている。また冷間加工性について詳述すると、所定の
形状、寸法に整えるため溶解、鋳造工程を経て冷間加工
を施す場合鋳造時に偏析が生じ易く、これも一因となっ
て材質のもろさと相まって冷間加工が困難になる現象が
ある。
【0005】特開昭61−86091号はSn−Sb系
半田にNi、Pを添加することにより、150℃での高
温接合強度を改善した溶湯から直接リボン状に凝固させ
たリボン状半田を開示している。しかしながら、半導体
装置が実用上晒される環境は更に厳しく、より高温(1
70℃)において優れた延性を有する半田材料としては
不十分である。またNi、Pを含有しているため冷間加
工用としては鋳造時の偏析が生じ易く、冷間加工が困難
になるという欠点を有する。
半田にNi、Pを添加することにより、150℃での高
温接合強度を改善した溶湯から直接リボン状に凝固させ
たリボン状半田を開示している。しかしながら、半導体
装置が実用上晒される環境は更に厳しく、より高温(1
70℃)において優れた延性を有する半田材料としては
不十分である。またNi、Pを含有しているため冷間加
工用としては鋳造時の偏析が生じ易く、冷間加工が困難
になるという欠点を有する。
【0006】特開平5−50286号はSn−Ag−C
u系の組成が、BiやPbを含む場合に比べ−5℃〜1
25℃に於ける熱衝撃試験に優れた半田を提供する半田
クリームを開示している。そしてこの中で2重量%のS
bを添加した例を示している。しかしながらこの組成系
においても、より高温である170℃において優れた延
性を有する半田材料としては不十分である。またCuを
含有しているため冷間加工用としては鋳造時の偏析が生
じ易く、これに起因して冷間加工が困難になるという欠
点を有する。
u系の組成が、BiやPbを含む場合に比べ−5℃〜1
25℃に於ける熱衝撃試験に優れた半田を提供する半田
クリームを開示している。そしてこの中で2重量%のS
bを添加した例を示している。しかしながらこの組成系
においても、より高温である170℃において優れた延
性を有する半田材料としては不十分である。またCuを
含有しているため冷間加工用としては鋳造時の偏析が生
じ易く、これに起因して冷間加工が困難になるという欠
点を有する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体チップの
発熱に伴う高温でのクラックの防止に対して有効な半田
材料として170℃で測定した延性の高いものが要求さ
れている。また半導体実装時に操作上のトラブルを防止
するために表面粗度に優れたテープ又はワイヤー状半田
材料が要求されている。この表面粗度に優れたテープ又
はワイヤー状半田材料を得るためには冷間加工性に優れ
ている事が要求される。ここに本発明の目的は、温度1
70℃において優れた延性を有すると共に冷間加工性に
優れたSn−Sb系のテープ又はワイヤー状半田材料を
提供することにある。
発熱に伴う高温でのクラックの防止に対して有効な半田
材料として170℃で測定した延性の高いものが要求さ
れている。また半導体実装時に操作上のトラブルを防止
するために表面粗度に優れたテープ又はワイヤー状半田
材料が要求されている。この表面粗度に優れたテープ又
はワイヤー状半田材料を得るためには冷間加工性に優れ
ている事が要求される。ここに本発明の目的は、温度1
70℃において優れた延性を有すると共に冷間加工性に
優れたSn−Sb系のテープ又はワイヤー状半田材料を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者が鋭意研究を重
ねた結果、Sn−Sb系においてSbが増加するにつれ
て強度が大きくなる傾向にあるため延性が低下すると考
えられていたが、意外にもSbが5〜15重量%と比較
的高い領域でAgが2〜15重量%含有されると、その
相乗効果により170℃に於ける優れた延性を示すこと
を見出した。またこの範囲で冷間加工も良好に実施出来
るため表面粗度を十分満足させることが出来、本発明を
完成させた。ここに本発明は次の通りである。 (1)Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからな
り、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴とす
るテープ又はワイヤー状半田材料。 (2)Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからな
り、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴とす
るテープ又はワイヤー状半田材料。 (3)Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテープ又
はワイヤー状半田材料の製造方法。 (4)Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテープ又
はワイヤー状半田材料の製造方法。
ねた結果、Sn−Sb系においてSbが増加するにつれ
て強度が大きくなる傾向にあるため延性が低下すると考
えられていたが、意外にもSbが5〜15重量%と比較
的高い領域でAgが2〜15重量%含有されると、その
相乗効果により170℃に於ける優れた延性を示すこと
を見出した。またこの範囲で冷間加工も良好に実施出来
るため表面粗度を十分満足させることが出来、本発明を
完成させた。ここに本発明は次の通りである。 (1)Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからな
り、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴とす
るテープ又はワイヤー状半田材料。 (2)Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからな
り、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴とす
るテープ又はワイヤー状半田材料。 (3)Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテープ又
はワイヤー状半田材料の製造方法。 (4)Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量%を含
み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnからなる
半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテープ又
はワイヤー状半田材料の製造方法。
【0009】
【作用】本発明において、半田材料の組成を上述の様に
限定した理由について説明する。Snを主成分とする半
田に関し、SbはAgとの相乗効果において170℃で
の延性改善に効果がある。Sbの含有量は5〜15重量
%であることが必要であり、この範囲で170℃での延
性改善効果が生じる。より好ましくは6〜11重量%で
あり、この範囲で170℃での延性改善は一段と優れた
効果を示す。そしてこれらの範囲で冷間加工性は良好で
ある。Sbの含有量が5重量%未満であると170℃で
の延性改善効果が不十分である。一方Sbの含有量15
重量%を超えると延性改善効果が不十分であるとともに
冷間加工が不可能となる。
限定した理由について説明する。Snを主成分とする半
田に関し、SbはAgとの相乗効果において170℃で
の延性改善に効果がある。Sbの含有量は5〜15重量
%であることが必要であり、この範囲で170℃での延
性改善効果が生じる。より好ましくは6〜11重量%で
あり、この範囲で170℃での延性改善は一段と優れた
効果を示す。そしてこれらの範囲で冷間加工性は良好で
ある。Sbの含有量が5重量%未満であると170℃で
の延性改善効果が不十分である。一方Sbの含有量15
重量%を超えると延性改善効果が不十分であるとともに
冷間加工が不可能となる。
【0010】AgはSbとの相乗効果において170℃
での延性改善に効果がある。Agの含有量は2〜15重
量%であることが必要であり、この範囲で170℃での
延性改善効果が生じる。より好ましくは6〜12重量%
であり、この範囲で170℃での延性改善は一段と優れ
た効果を示す。そしてこれらの範囲で冷間加工は可能で
ある。Agの含有量が2重量%未満であると170℃で
の延性改善効果が不十分である。一方Agの含有量が1
5重量%を超えると冷間加工が不可能となる。
での延性改善に効果がある。Agの含有量は2〜15重
量%であることが必要であり、この範囲で170℃での
延性改善効果が生じる。より好ましくは6〜12重量%
であり、この範囲で170℃での延性改善は一段と優れ
た効果を示す。そしてこれらの範囲で冷間加工は可能で
ある。Agの含有量が2重量%未満であると170℃で
の延性改善効果が不十分である。一方Agの含有量が1
5重量%を超えると冷間加工が不可能となる。
【0011】Sn−Sb系半田において、Sb含有量が
低い程通常強度は低くなり延性が高くなる傾向にあるた
め、Sb含有量が3重量%と小さい場合の方が170℃
での延性も大きいと予想されたものの、本発明の通りS
b含有量が5〜15重量%と高い方が170℃での優れ
た延性改善効果を有する理由は明らかではないが、S
n、Sb、Agとの相乗効果によるものと考えられる。
低い程通常強度は低くなり延性が高くなる傾向にあるた
め、Sb含有量が3重量%と小さい場合の方が170℃
での延性も大きいと予想されたものの、本発明の通りS
b含有量が5〜15重量%と高い方が170℃での優れ
た延性改善効果を有する理由は明らかではないが、S
n、Sb、Agとの相乗効果によるものと考えられる。
【0012】次に本発明の製造方法について説明する。
本発明品の半田材料はSn、Sb、Agを所定量配合し
て不活性雰囲気中で溶解し、これを鋳造してインゴット
を作成する。このインゴットを押出に供し、更に圧延加
工又は伸線加工による冷間加工を行い所定形状、寸法の
テープ又はワイヤに仕上げる。この様に圧延加工又は伸
線加工した材料の表面粗度はRa=1μm程度でありR
a=10μmより十分に小さいものとなるが、超急冷法
により得たワイヤーは表面粗度Ra=70μm程度であ
り冷間加工性の悪いものであった。尚、本発明の製造方
法において、必要によりテープ又はワイヤーの中に粒状
物を混入させて冷間加工を施したいわゆる粒入り半田の
状態で使用したり、この様にして作成したテープからペ
レットを打ち抜いて使用する事も出来る。
本発明品の半田材料はSn、Sb、Agを所定量配合し
て不活性雰囲気中で溶解し、これを鋳造してインゴット
を作成する。このインゴットを押出に供し、更に圧延加
工又は伸線加工による冷間加工を行い所定形状、寸法の
テープ又はワイヤに仕上げる。この様に圧延加工又は伸
線加工した材料の表面粗度はRa=1μm程度でありR
a=10μmより十分に小さいものとなるが、超急冷法
により得たワイヤーは表面粗度Ra=70μm程度であ
り冷間加工性の悪いものであった。尚、本発明の製造方
法において、必要によりテープ又はワイヤーの中に粒状
物を混入させて冷間加工を施したいわゆる粒入り半田の
状態で使用したり、この様にして作成したテープからペ
レットを打ち抜いて使用する事も出来る。
【0013】
(実施例1〜14、比較例1〜8)半田ワイヤー中の各
金属元素が表1、表2に示す組成となるように配合して
窒素雰囲気中で溶解、鋳造し、直径70mm×長さ10
0mmのインゴットを作成した。これを150℃に加熱
して直径1mmのワイヤーに押出した。更に伸線加工を
行い直径0.3mmのワイヤーに仕上げた。その際の冷
間加工性を表中に示す。次にこの伸線加工材を170℃
に加熱した状態で引張試験を行い、伸び率(%)及び表
面粗度を測定した。その結果を表中に示す。
金属元素が表1、表2に示す組成となるように配合して
窒素雰囲気中で溶解、鋳造し、直径70mm×長さ10
0mmのインゴットを作成した。これを150℃に加熱
して直径1mmのワイヤーに押出した。更に伸線加工を
行い直径0.3mmのワイヤーに仕上げた。その際の冷
間加工性を表中に示す。次にこの伸線加工材を170℃
に加熱した状態で引張試験を行い、伸び率(%)及び表
面粗度を測定した。その結果を表中に示す。
【0014】(実施例15)半田テープ中の各金属元素
が表1に示す組成となるように配合して窒素雰囲気中で
溶解、鋳造し直径30mm×長さ100mmのインゴッ
トを作成した。これを150℃に加熱して厚さ1mm×
幅20mmに押出した。更に圧延加工を行い厚さ0.3
mm×幅20mmのテープに仕上げた。その際の冷間加
工性を表中に示す。次にこの圧延加工材を170℃に加
熱した状態で引張試験を行い、伸び率(%)及び表面粗
度を測定した。その結果を表中に示す。
が表1に示す組成となるように配合して窒素雰囲気中で
溶解、鋳造し直径30mm×長さ100mmのインゴッ
トを作成した。これを150℃に加熱して厚さ1mm×
幅20mmに押出した。更に圧延加工を行い厚さ0.3
mm×幅20mmのテープに仕上げた。その際の冷間加
工性を表中に示す。次にこの圧延加工材を170℃に加
熱した状態で引張試験を行い、伸び率(%)及び表面粗
度を測定した。その結果を表中に示す。
【0015】(比較例9)半田ワイヤー中の各金属元素
が表2に示す組成となるように配合して窒素雰囲気中で
溶解した。250rpmで回転している円筒ドラム内に
水を7リットル注入して水層を形成し、上記溶解した溶
湯をアルゴンガス圧で孔径1mmの石英製ノズルより回
転する円筒ドラム内の水層へ上向きに噴出させ急冷凝固
させた。得られたワイヤーに伸線加工を試みたが、表2
に示す通り伸線加工性は極めて悪いものであった。従っ
て比較例9については、直径1mmの素線状態での伸び
率(%)及び表面粗度を測定し表中に示した。
が表2に示す組成となるように配合して窒素雰囲気中で
溶解した。250rpmで回転している円筒ドラム内に
水を7リットル注入して水層を形成し、上記溶解した溶
湯をアルゴンガス圧で孔径1mmの石英製ノズルより回
転する円筒ドラム内の水層へ上向きに噴出させ急冷凝固
させた。得られたワイヤーに伸線加工を試みたが、表2
に示す通り伸線加工性は極めて悪いものであった。従っ
て比較例9については、直径1mmの素線状態での伸び
率(%)及び表面粗度を測定し表中に示した。
【0016】
【表1】
【0017】
【表2】
【0018】ここで冷間加工性とは、ワイヤーの場合、
直径1mmから0.3mm迄伸線加工する際の重量1k
g当りの断線回数を測定し、以下のように評価した。 ○:断線回数2回以下の時 △:断線回数3〜4回の時 ×:断線回数5回以上の時 不可:伸線不可能な時 またテープの場合、厚さ1mmから0.3mm迄圧延加
工する際の、テープ幅方向の最大耳割れの大きさを測定
しテープ幅に対する比率を耳割れ率とし、以下のように
評価した。 ○:耳割れ率5%以下の時 △:耳割れ率5%を超え25%未満の時 ×:耳割れ率25%以下の時 不可:圧延不可能な時
直径1mmから0.3mm迄伸線加工する際の重量1k
g当りの断線回数を測定し、以下のように評価した。 ○:断線回数2回以下の時 △:断線回数3〜4回の時 ×:断線回数5回以上の時 不可:伸線不可能な時 またテープの場合、厚さ1mmから0.3mm迄圧延加
工する際の、テープ幅方向の最大耳割れの大きさを測定
しテープ幅に対する比率を耳割れ率とし、以下のように
評価した。 ○:耳割れ率5%以下の時 △:耳割れ率5%を超え25%未満の時 ×:耳割れ率25%以下の時 不可:圧延不可能な時
【0019】表1から明らかなように、Sb5〜15重
量%、Ag2〜15重量%を含み、残部が不可避不純物
を除いて実質的にSnからなる半田材料を冷間加工して
なる本発明実施例1〜15は何れも冷間加工性に優れる
と共に、170℃での伸び率も25%以上と良好であ
り、且つSbの含有量を6〜11重量%、Agの含有量
を6〜12重量%とした実施例2〜6、10〜12、1
5において170℃での伸び率が38%以上とさらに良
好であることが判る。
量%、Ag2〜15重量%を含み、残部が不可避不純物
を除いて実質的にSnからなる半田材料を冷間加工して
なる本発明実施例1〜15は何れも冷間加工性に優れる
と共に、170℃での伸び率も25%以上と良好であ
り、且つSbの含有量を6〜11重量%、Agの含有量
を6〜12重量%とした実施例2〜6、10〜12、1
5において170℃での伸び率が38%以上とさらに良
好であることが判る。
【0020】これに対し、Sb、Agの含有量が本発明
の範囲外である比較例1〜6、Sn−Sb−Ni系組成
とした比較例7、Sn−Sb−Ag−Cu系組成とした
比較例8においては170℃での伸び率が何れも21%
以下であり、且つ比較例3、5、6においては伸線加工
が不可能であること、比較例7、8においては伸線加工
時の断線が頻繁に起こることが判る。
の範囲外である比較例1〜6、Sn−Sb−Ni系組成
とした比較例7、Sn−Sb−Ag−Cu系組成とした
比較例8においては170℃での伸び率が何れも21%
以下であり、且つ比較例3、5、6においては伸線加工
が不可能であること、比較例7、8においては伸線加工
時の断線が頻繁に起こることが判る。
【0021】さらに比較例9のように、Sn、Sb、A
gの配合量が本発明の範囲内であっても、急冷凝固法に
より作製したワイヤーにおいては伸線加工性が極めて悪
く、素線状態での表面粗度もRa=70μm程度である
ことが判る。
gの配合量が本発明の範囲内であっても、急冷凝固法に
より作製したワイヤーにおいては伸線加工性が極めて悪
く、素線状態での表面粗度もRa=70μm程度である
ことが判る。
【0022】次に、図1及び図2に示す実験例について
説明する。図1はSb含有量8.5重量%、Ag含有量
を0〜25重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的
にSnからなる半田材料を冷間加工してなるテープ又は
ワイヤー状半田材料の170℃での伸び率を測定したグ
ラフである。図2はAg含有量7.5重量%、Sb含有
量を0〜15重量%、残部が不可避不純物を除いて実質
的にSnからなる半田材料を冷間加工してなるテープ又
はワイヤー状半田材料の170℃での伸び率を測定した
グラフである。
説明する。図1はSb含有量8.5重量%、Ag含有量
を0〜25重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的
にSnからなる半田材料を冷間加工してなるテープ又は
ワイヤー状半田材料の170℃での伸び率を測定したグ
ラフである。図2はAg含有量7.5重量%、Sb含有
量を0〜15重量%、残部が不可避不純物を除いて実質
的にSnからなる半田材料を冷間加工してなるテープ又
はワイヤー状半田材料の170℃での伸び率を測定した
グラフである。
【0023】図1から明らかなように、Ag含有量が2
〜15重量%の範囲内において伸び率が25%以上と良
好であり、且つAg含有量が6〜12重量%の範囲内に
おいて伸び率がさらに良好であることが判る。また図2
から明らかなように、Sb含有量が5〜15重量%の範
囲内において伸び率が25%以上と良好であり、且つS
b含有量が6〜11重量%の範囲内において伸び率がさ
らに良好であることが判る。
〜15重量%の範囲内において伸び率が25%以上と良
好であり、且つAg含有量が6〜12重量%の範囲内に
おいて伸び率がさらに良好であることが判る。また図2
から明らかなように、Sb含有量が5〜15重量%の範
囲内において伸び率が25%以上と良好であり、且つS
b含有量が6〜11重量%の範囲内において伸び率がさ
らに良好であることが判る。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明よりなるテ
ープ又はワイヤー状半田材料は、170℃の状態に於け
る引張試験での伸び率が著しく優れていると共に冷間加
工性が良好であるため表面粗度にも優れている。従っ
て、半導体チップの発熱に伴うSn−Sb半田部材のク
ラックの発生を抑制すると共に、表面粗度にも優れたS
n−Sb系のテープ状又はワイヤー状の半田材料を提供
し得、例えば半導体チップとリードフレーム基板間の接
続等に用いて極めて好適な効果を奏するものである。
ープ又はワイヤー状半田材料は、170℃の状態に於け
る引張試験での伸び率が著しく優れていると共に冷間加
工性が良好であるため表面粗度にも優れている。従っ
て、半導体チップの発熱に伴うSn−Sb半田部材のク
ラックの発生を抑制すると共に、表面粗度にも優れたS
n−Sb系のテープ状又はワイヤー状の半田材料を提供
し得、例えば半導体チップとリードフレーム基板間の接
続等に用いて極めて好適な効果を奏するものである。
【図1】Sb含有量8.5重量%、Ag含有量を0〜2
5重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなるテープ又はワイヤー
状半田材料の170℃での伸び率を測定したグラフであ
る。
5重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなるテープ又はワイヤー
状半田材料の170℃での伸び率を測定したグラフであ
る。
【図2】Ag含有量7.5重量%、Sb含有量を0〜1
5重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなるテープ又はワイヤー
状半田材料の170℃での伸び率を測定したグラフであ
る。
5重量%、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなるテープ又はワイヤー
状半田材料の170℃での伸び率を測定したグラフであ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量
%を含み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなり、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴
とするテープ又はワイヤー状半田材料。 - 【請求項2】 Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量
%を含み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなり、表面粗度Ra=10μm以下であることを特徴
とするテープ又はワイヤー状半田材料。 - 【請求項3】 Sb5〜15重量%、Ag2〜15重量
%を含み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテ
ープ又はワイヤー状半田材料の製造方法。 - 【請求項4】 Sb6〜11重量%、Ag6〜12重量
%を含み、残部が不可避不純物を除いて実質的にSnか
らなる半田材料を冷間加工してなることを特徴とするテ
ープ又はワイヤー状半田材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8185394A JPH07284983A (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 半田材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8185394A JPH07284983A (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 半田材料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07284983A true JPH07284983A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=13758053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8185394A Pending JPH07284983A (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 半田材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07284983A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155268A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-07-15 | Senju Metal Ind Co Ltd | Bi−Sn系リール巻きはんだ線およびはんだ線の製造方法 |
| WO2014017568A1 (ja) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 住友金属鉱山株式会社 | はんだ合金 |
| KR20160006667A (ko) | 2013-05-10 | 2016-01-19 | 후지 덴키 가부시키가이샤 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법 |
| WO2017047289A1 (ja) * | 2015-09-17 | 2017-03-23 | 富士電機株式会社 | 半導体装置用はんだ材 |
| JPWO2015125855A1 (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-30 | 株式会社弘輝 | 鉛フリーはんだ合金、はんだ材料及び接合構造体 |
| EP3492217A4 (en) * | 2017-03-17 | 2019-06-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | SOLDER MATERIAL |
| US10504868B2 (en) | 2016-06-16 | 2019-12-10 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder joining |
-
1994
- 1994-04-20 JP JP8185394A patent/JPH07284983A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155268A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-07-15 | Senju Metal Ind Co Ltd | Bi−Sn系リール巻きはんだ線およびはんだ線の製造方法 |
| WO2014017568A1 (ja) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 住友金属鉱山株式会社 | はんだ合金 |
| GB2519276A (en) * | 2012-07-26 | 2015-04-15 | Sumitomo Metal Mining Co | Solder alloy |
| US10157877B2 (en) | 2013-05-10 | 2018-12-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device |
| KR20160006667A (ko) | 2013-05-10 | 2016-01-19 | 후지 덴키 가부시키가이샤 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법 |
| JPWO2015125855A1 (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-30 | 株式会社弘輝 | 鉛フリーはんだ合金、はんだ材料及び接合構造体 |
| WO2017047289A1 (ja) * | 2015-09-17 | 2017-03-23 | 富士電機株式会社 | 半導体装置用はんだ材 |
| JPWO2017047289A1 (ja) * | 2015-09-17 | 2018-01-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置用はんだ材 |
| CN107427968A (zh) * | 2015-09-17 | 2017-12-01 | 富士电机株式会社 | 半导体装置用软钎焊材料 |
| US10727194B2 (en) | 2015-09-17 | 2020-07-28 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder material for semiconductor device |
| JP2021142568A (ja) * | 2015-09-17 | 2021-09-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置用はんだ材 |
| US11145615B2 (en) | 2015-09-17 | 2021-10-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder material for semiconductor device |
| US10504868B2 (en) | 2016-06-16 | 2019-12-10 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder joining |
| DE112017000184B4 (de) * | 2016-06-16 | 2024-12-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Lotverbindung |
| EP3492217A4 (en) * | 2017-03-17 | 2019-06-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | SOLDER MATERIAL |
| US11850685B2 (en) | 2017-03-17 | 2023-12-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder material |
| US12296409B2 (en) | 2017-03-17 | 2025-05-13 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder material |
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