JPH07294411A - 粒度分布測定装置 - Google Patents

粒度分布測定装置

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JPH07294411A
JPH07294411A JP6089421A JP8942194A JPH07294411A JP H07294411 A JPH07294411 A JP H07294411A JP 6089421 A JP6089421 A JP 6089421A JP 8942194 A JP8942194 A JP 8942194A JP H07294411 A JPH07294411 A JP H07294411A
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Takeshi Niwa
猛 丹羽
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学系部品等を汚さない粉体の粒度分布測定
装置を提供する。 【構成】 密閉室1には、粒子の吹出ノズル2と吸引ノ
ズル3を所定間隔あけて対向配置した測定室4が配置さ
れ、この測定室4にはレーザ光通過用孔4aと回折・散
乱光通過用孔4bが穿設される。さらに、密閉室1はレ
ーザ光源9及び検出器10の一部若しくは全部を密閉す
るとともに圧力センサ11が設けられ、この密閉室1が
所定の減圧状態のとき、吹出ノズル2から粉体サンプル
Sを吹き出すコントローラ5を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ回折法による粉
体の粒度分布測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、粉体の乾式粒度分布測定装置で
は、粉体サンプルを含む高速気流を吹出ノズルから吹出
し、この粒子にレーザ光を照射し、その回折及び散乱光
を検出して粒度分布測定を行っている。一方、この光学
系を通過した粉体サンプルは、吸引ノズルから集塵器に
よって吸引される。
【0003】ところで、この粒度分布測定で使用するレ
ーザ光の取扱いについては、安全性を確保するために、
JIS規格(レーザの安全基準 JIS C6802)
で定められた波長、強度、放射持続時間等に従う必要が
あり、測定には制限が加えられた。したがって、その問
題点を解消するために、粉体サンプルへのレーザ光照射
及び回折/散乱光の検出は、密閉された領域内で行われ
ている。
【0004】一方、この粒度分布測定装置では、粉体サ
ンプルの飛散による汚染から光学系部品等を守るために
測定室を設け、この測定室において粉体サンプルを飛翔
させて測定を行っているが、吸引ノズルの目詰まり及び
集塵器のトラブルなどにより、またオペレータの確認ミ
スなどにより、吸引機能が十分に作動していないにもか
かわらず、吹出装置を作動させてしまうことで、粉体サ
ンプルが密閉室へも吹き出され、密閉室壁面や光学系部
品等を汚してしまうことがあり、そのメンテナンスが大
変であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、粒度分布測
定装置において、上記した問題点を解決するために創案
されたものであり、その目的は、吸引ノズルや集塵器等
の吸引装置の機能が充分に作動しているときに限り、粉
体サンプルの吹き出しを行う粒度分布測定装置を提供す
ることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、粉体にレーザ
光を照射し、その回折・散乱光を検出して粉体の粒度分
布を測定する粒度分布測定装置において、粒子の吹出手
段と吸引手段とを所定間隔あけて対向配置した測定部
に、レーザ光通過用孔と回折・散乱光通過用孔を穿設す
るとともに、この測定部の外側を密閉筐体で包囲し、こ
の密閉筐体の内側に圧力センサを設け、この圧力センサ
の出力信号によって前記吹出手段からの粉体吹き出しを
制御することを特徴とする。
【0007】
【作用】密閉筐体内の圧力が所定の減圧状態にあるとき
のみ(吸引ノズルや集塵器などが正常に動作していると
き)、粉体の吹き出しが行われ(測定可能状態)るの
で、測定部の汚染やこれによる測定誤差が完全に防止で
きる。
【0008】
【実施例】図1は本発明の実施例である粒度分布測定装
置の概略構成を示すブロック図、図2は密閉室の概略構
成を示す図であり、1は密閉室、2は吹出ノズル、3は
吸引ノズル、4は測定室、4aはレーザ光通過用孔、4
b回折・散乱光通過用孔、5はコントローラ、6は電動
バルブ、7はエア源、8は集塵器、9はレーザ光源、9
aはレーザ光の透過窓、10は検出器、10aは回折・
散乱光の集光レンズ、11は圧力センサ、12はエジェ
クタ、12aはエジェクタの試料吸入孔である。 この
粒度分布測定装置の密閉室1には、粒子の吹出ノズル2
と吸引ノズル3を所定間隔あけて対向配置した測定室4
が配置される。この吹出ノズル2は、試料吸入孔12a
を有するエジェクタ12とコントローラ5によって開閉
制御される電動バルブ6とを介して、圧縮空気を発生す
るエア源7に連接され、一方、吸引ノズル3は集塵器8
へ接続されている。また、吹出ノズル2及び吸引ノズル
3が配置された壁とは別に対向した壁において、一方に
はレーザ光通過用孔4aが、他方には回折・散乱光通過
用孔4bが穿設される。また、密閉室1には内部への防
塵機能を兼ねる窓9aを有したレーザ光源9と、同じく
内部への防塵機能を兼ねる集光レンズ10aを有した検
出器10が配置されとともに、圧力センサ11が設けら
れ、その内部圧力はコントローラ5に入力される。
【0009】次に、図1の粒度分布測定装置の動作を説
明する。集塵器8が作動することにより、吸引ノズル3
を介して測定室4の空気が吸い出され、密閉室1は次第
に減圧される。そして、密閉室1が所定の減圧状態とな
ったことが圧力センサ11によって検知されると、コン
トローラ5の制御によって電動バルブ6の弁が開かれ
る。この電動バルブ6には圧縮空気を送り込むエア源7
が接続されており、電動バルブ6の弁が開かれることに
よって圧縮空気がエジェクタ12へ送り込まれる。一
方、エジェクタ4の試料吸入孔12aから送り込まれた
粉体サンプルSは、圧縮空気によって吹出ノズル2を介
して測定室4へ吹き出される。
【0010】この粉体サンプルSにレーザ光が照射さ
れ、その回折及び散乱光を検出して粒度分布測定が行わ
れる。そして、レーザ光照射部分を通過した粉体サンプ
ルSは、吸引ノズル3を介して、作動中の集塵器8に吸
引される。
【0011】本発明の実施態様として、以下のような実
施例も含まれる。
【0012】(1)圧力センサを吸引ノズル近傍の密閉
室壁に取りつけたが、密閉室内で且つ粉体サンプルの流
れやレーザ光照射及び回折・散乱光検出に支障のない部
分であればどこに取りつけても良い。
【0013】(2)コントローラの制御により電動バル
ブを開閉制御し圧縮空気をエジェクタに送り込んだが、
電動バルブ使用せず、エア源のON/OFFを制御し圧
縮空気をエジェクタに送り込んでもよい。
【0014】
【発明の効果】本発明の粒度分布測定装置は、吸引ノズ
ルや集塵器等の吸引装置の機能が充分に作動していると
きに限り、粉体サンプルの吹き出しを行うので、粉体サ
ンプルが密閉室へ吹き出すことがなくなり、密閉室壁面
や光学系部品等の汚染を防止することができる。また、
光学系部品の汚れに基づく測定誤差も生じないので、精
度の高い安定した測定ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である粒度分布測定装置を示
すブロック図である。
【図2】図1の密閉室の概略構成を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成6年11月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、粉体にレーザ
光を照射し、その回折・散乱光を検出して粉体の粒度分
布を測定する粒度分布測定装置において、測定部にレー
ザ光通過用孔と回折・散乱光通過用孔を穿設するととも
に、この測定部の外側を密閉筐体で包囲し、この密閉筐
体の内側に圧力センサを設け、この圧力センサの出力信
号によって、前記レーザ光の照射領域への粉体供給を制
御することを特徴とする。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【作用】密閉筐体内の圧力が所定の減圧状態にあるとき
のみ(吸引ノズルや集塵器などが正常に動作していると
き)、粉体の供給が行われ(測定可能状態)るので、測
定部の汚染やこれによる測定誤差が完全に防止できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体にレーザ光を照射し、その回折・散
    乱光を検出して粉体の粒度分布を測定する粒度分布測定
    装置において、粒子の吹出手段と吸引手段とを所定間隔
    あけて対向配置した測定部に、レーザ光通過用孔と回折
    ・散乱光通過用孔を穿設するとともに、この測定部の外
    側を密閉筐体で包囲し、この密閉筐体の内側に圧力セン
    サを設け、この圧力センサの出力信号によって前記吹出
    手段からの粉体吹き出しを制御することを特徴とする粒
    度分布測定装置。
JP08942194A 1994-04-27 1994-04-27 粒度分布測定装置 Expired - Fee Related JP3282365B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009025036A (ja) * 2007-07-17 2009-02-05 Horiba Ltd 粒径分布測定装置
US7499809B2 (en) 2004-08-30 2009-03-03 Horiba, Ltd. Particle size distribution analyzer
CN104736995A (zh) * 2012-12-03 2015-06-24 富士电机株式会社 粒子束形成装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN104736995A (zh) * 2012-12-03 2015-06-24 富士电机株式会社 粒子束形成装置

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