JPH0729490U - 温度差制御型高温拡散霧箱 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 霧箱の容器内に発生した霧の流れを一定にし
て、放射線の飛跡が現れる有効領域を安定に維持制御可
能で操作が容易な温度差制御型高温拡散霧箱を提供す
る。 【構成】 含浸布部ヒータ３２が容器１０の上部内周面
に沿って設けられ、含浸布部３４が含浸布部ヒータ３２
を覆うように取り付けられ、温度検出素子４４が含浸布
部中に配置され、含浸布部温度制御指示計により含浸布
部の温度が所望の温度に制御されることにより、含浸布
部からエチレングリコールの一定量の蒸気が安定に発生
する。過熱蒸気層３８とエチレングリコールの液面２６
との温度差を検出する温度検出素子４０、４２が設けら
れ、上蓋部ヒータ２２がその温度差が所望の温度差にな
るよう温度差制御指示計により含浸布部ヒータとは独立
に制御される。これらにより、有効領域９２が安定に形
成、保持され、放射線の飛跡が安定に観察される。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、放射線の飛跡を観察するための温度差制御型高温拡散霧箱に関し、 特に霧の流れを一定に制御し安定な有効領域を保持する構造に関するものである 。

【０００２】 なお、放射線に関してその飛跡を観察することは非常に重要であり、教育訓練 用として、温度差制御型高温拡散霧箱は、中学生、高校生、又は放射線作業従事 者にとっても、放射線の性質、放射線の管理の基本的な知識を習得することに適 したものである。

【０００３】

【従来の技術】

従来の高温拡散霧箱の要部の構造を概略示すため断面図の形で図４に示す。図 ４において、１０は上面が開口した円筒形のガラス容器を、１２は上蓋部を、１ ４は容器１０の側壁の内周面に沿って上蓋部１２の近傍に取り付けられ、エチレ ングリコールを含浸した含浸布部を、１６は容器１０の側壁の外周面に含浸布部 １４と対向して取り付けられ含浸布部１４を容器１０の側壁を介して加熱しエチ レングリコールの蒸気を発生させる含浸布部ヒータを、１８は容器１０の底面近 傍のエチレングリコールの蒸気を冷却して凝縮させるため容器１０の底部の外側 に設けられた冷却ファンをそれぞれ示す。上蓋部１２は、観察用窓２０と、容器 １０の内部空間における上蓋部１２の近傍を加熱するための上蓋部ヒータ２２と を有する。２４は、含浸布部ヒータ１６および上蓋部ヒータ２２の加熱をＯＮ− ＯＦＦ制御するためサーモスタット（図示せず）の温度検出素子を示し、当該温 度検出素子２４は、容器１０内で水平方向において含浸布部１４を含む空間の部 分でかつ含浸布部１４から離間した位置に配設されている。

【０００４】 上記のように構成された従来の高温拡散霧箱においては、サーモスタットの温 度検出素子２４により検出された温度と設定温度との差に従いサーモスタットが 含浸布部ヒータ１６および上蓋部ヒータ２２を同時にＯＮ−ＯＦＦ制御すること により、含浸布部１４からエチレングリコールを気化させ、容器１０内にエチレ ングリコールの霧を発生させている。一方、冷却ファン１８により容器１０の底 部の付近にあるエチレングリコールの霧を冷却して凝縮させエチレングリコール の液体２６を生じさせる。このような動作により、容器１０の空間の含浸布部１ ４とエチレングリコールの液体２６との間で放射線の飛跡を捕らえる有効領域（ 過飽和蒸気層）２８が形成される。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

従来の高温拡散霧箱は上記したように構成され、動作するので次のような問題 点を有していた。即ち、 上蓋部ヒータ２２および含浸布部ヒータ１６のＯＮ−ＯＦＦをサーモスタット によって同時に行っているため、エチレングリコールの霧の発生量と霧箱の容器 １０内の温度勾配を一定に保持することが困難であり、有効領域（過飽和蒸気層 ）２８の形成が不安定であった。

【０００６】 また、サーモスタットの温度検出素子２４が容器１０の内部空間に配置されて いるため、その空間の温度とは異なる温度である含浸布部１４から一定の量の霧 を発生させることが困難であった。

【０００７】 さらに、含浸布部ヒータ１６によって霧箱の容器１０の円筒ガラス側壁の外壁 を介して、ガラス側壁の内壁に取り付けられた含浸布部１４を間接的に加熱して いるため、エチレングリコールの霧の発生量を制御するのに時間遅れが生じる。 そのため、霧箱の容器１０内の温度勾配とエチレングリコールの霧の流量とが一 定になる定常状態の形成に時間がかかり、しかも上記時間遅れを考慮して操作者 は設定温度等を時間に対して変える等、従来の高温拡散霧箱を操作するのに、操 作者はかなりの熟練と経験とを要した。

【０００８】 このような問題点を有するため、従来の高温拡散霧箱は、中学生、高校生にと っては不確かで適切でない教育機器であった。

【０００９】 本考案は、上記問題点を解決して、霧箱の容器内に発生した霧の流れを一定に して、放射線の飛跡が現れる有効領域を安定に維持制御可能で操作が容易な温度 差制御型高温拡散霧箱を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するため、本考案の温度差制御型高温拡散霧箱は、側壁部と底 部とを有し、上面が開口した容器と、前記容器の内部を密閉するため前記容器の 上面を覆い、かつ前記容器の内部を見得る構造を有する上蓋部と、前記容器の内 部空間における前記上蓋部近傍を加熱するため前記上蓋部に設けられた上蓋部加 熱手段と、前記容器の側壁部の内周面に沿い、かつ前記上面の近傍でそれから離 間して設けられ、かつ液体を含浸した含浸布部と、前記含浸布部に含浸した液体 を気化するため前記含浸布部を加熱する含浸布部加熱手段と、前記容器の底面近 傍にある前記気化した液体の蒸気を冷却して凝縮させるため前記容器の底部の外 側に設けられた冷却手段とを備え、さらに、前記含浸布部加熱手段は前記容器の 側壁部の内周面と前記含浸布部との間に、かつ前記含浸布部により覆われるよう に設けられ、前記容器の内部空間における前記上蓋部近傍の温度と、前記冷却手 段により冷却され凝縮して前記容器の底部に存在する液体の液面の温度との差を 検出する温度差検出手段と、前記温度差検出手段により検出された温度差が所定 の値となるよう前記上蓋部加熱手段を制御する温度差制御手段と、前記含浸布部 の温度を検出するため前記含浸布部内に配置された含浸布部温度検出手段と、前 記含浸布部温度検出手段により検出された前記含浸布部の温度が所定の値となる よう前記含浸布部加熱手段を制御する制御手段とを設けることを特徴とする。

【００１１】

【作用】

上記のように構成された本考案の温度差制御型高温拡散霧箱は、含浸布部加熱 手段が容器の側壁部の内周面と含浸布部との間に、かつ前記含浸布部により覆わ れるように設けられることにより、液体を含浸した前記含浸布部からの霧の発生 を容易にし、かつ加熱に対して霧を時間遅れなく発生させる。そして、含浸布部 温度検出手段により前記含浸布部自体の温度が検出され、前記含浸布部加熱手段 を制御する制御手段により前記含浸布部加熱手段が制御されることにより前記含 浸布部の温度が所定の値にされる。これらにより、含浸布部からのエチレングリ コールの蒸気発生量が容易に一定に保たれる。

【００１２】 また、温度差検出手段により前記容器の内部空間の上蓋部近傍の温度と、前記 冷却手段により冷却され凝縮して前記底部に存在する液体の液面の温度との差が 検出され、温度差制御手段により前記上蓋部加熱手段が制御されることにより前 温度差が所定の値にされる。

【００１３】 さらに、上蓋部加熱手段は前記容器の内部空間における上蓋部の近傍の温度と 、前記冷却手段により冷却され凝縮して前記底部に存在する液体の液面の温度と の差に基づき、一方前記含浸布部加熱手段は前記含浸布部の温度に基づき、それ ぞれの制御手段により独立に制御される。

【００１４】 これらの作用により、発生された霧の流れが一定に制御され、容器内に上から 過熱蒸気層、飽和蒸気層、過飽和蒸気層である有効領域、および液体の凝縮液面 が容易にかつ安定に形成、保持され、その結果、放射線の飛跡が形成される有効 領域（過飽和蒸気層）において放射線の飛跡が安定に観察される。

【００１５】

【実施例】

本考案の温度差制御型高温拡散霧箱の一実施例を図面を参照して以下に説明す る。図１の（Ａ）は本考案の一実施例の温度差制御型高温拡散霧箱をその上面か らみた平面図であり、図１の（Ｂ）はその正面からみた正面図である。また、図 ２は、図１の（Ａ）においてラインＡ−Ａでの断面図を示し、温度差制御型高温 拡散霧箱の主要構成要素を概略示している。図３は、図１および図２に示される 温度差制御型高温拡散霧箱の電気回路を示すブロック図である。なお、本考案の 理解を容易にするため、構成要素は必要に応じて摸式的に示されており、実際の 大きさを示すものではない。また、図１および図２において、図４に示す参照番 号と同一の参照番号のものは、図４の同一参照番号の構成要素と同様の機能を有 するものであるので説明を繰り返さない。

【００１６】 図１において、温度差制御型高温拡散霧箱の筺体３０の中に内径１５０ｍｍφ 高さ５５ｍｍのガラス製の円筒形状をしている容器１０が配置され、その容器１ ０の内部を密閉状態にするためその上面の開口を覆うように筺体３０の上面に上 蓋部１２が取り付けられている。その上蓋部１２には放射線の飛跡を観察するた めのガラス製の観察用窓２０が取り付けられている。筺体３０の正面側の側面に は、図１の（Ｂ）に示されるように、後述する表示および設定用のスイッチＳＳ₁ 、ＳＳ₂、可変抵抗器のボリューム６４（ＶＲ₁）および６６（ＶＲ₂）、ランプ ＰＬ、過熱蒸気層と液体の凝縮液面との温度差設定部８０、その温度差表示部８ ２、含浸布部の温度設定部８４、およびその温度表示部８６が取り付けられてい る。

【００１７】 図２において、上蓋部１２に取り付けられている観察用窓２０の内側には観察 に支障のない従来のものと同じ形式の上蓋部ヒータ２２が設けられている。含浸 布部ヒータ３２が、容器１０の側壁の内周面に沿って、かつ上蓋部１２の近傍で それから離間して取り付けられている。そして、含浸布部３４が、含浸布部ヒー タ３２を覆うようにその上に、容器１０の側壁の内周面に沿って取り付けられて いる。図１の（Ａ）に示されるように、含浸布部３４の数箇所から容器１０の底 部に存在する液体のエチレングリコール（図２の２６参照）を含浸布部３４に吸 い上げるための吸い上げ布３６がエチレングリコールの液体２６まで垂れ下がっ ている。観察用窓２０の内側面から含浸布部３４の間の容器１０内の空間、好ま しくは観察用窓２０の内側の直下に生じる過熱蒸気層３８とエチレングリコール の液体２６の凝縮液面との温度差を検出するため、熱電対等の温度検出素子４０ および４２がそれぞれ、観察用窓２０の内側面から含浸布部３４の間の容器１０ 内の空間、好ましくは観察用窓２０の内側の直下と、液体２６の液面とに配置さ れており、かつ直列に接続され、後述する温度差制御指示計（ＴＩＣ）５０に接 続されている。含浸布部３４の温度を測定するためその含浸布部３４の中に、熱 電対等の温度検出素子４４が配置され、後述する含浸布部温度制御指示計（ＴＩ Ｃ）５２に接続されている。

【００１８】 図３において、５４はＡＣ１００Ｖの外部ラインに接続するためのコンセント を、５６は共通ラインを、５８はコンセント５４にヒューズＦ₁およびスイッチ ＳＳ₁を介して接続されたＡＣ１００Ｖの＋側ラインをそれぞれ示す。スイッチ ＳＳ₁による電源投入を示すランプＰＬが＋側ライン５８と共通ライン５６間に 接続されている。容器１０の内部を照らすための１００Ｖ５０Ｗのハロゲンラン プＬがスイッチＳＳ₂を介して＋側ライン５８と共通ライン５６間に接続されて いる。含浸布部ヒータ３２に電力を供給するための電源となる第１の半導体制御 整流器（ＳＣＲ）６０と、上蓋部ヒータ２２に電力を供給する電源となる第２の 半導体制御整流器（ＳＣＲ）６２のそれぞれの入力側が＋側ライン５８と共通ラ イン５６に接続されている。温度差制御指示計５０および含浸布部温度制御指示 計５２のそれぞれ電源入力端子部が＋側ライン５８と共通ライン５６とに接続さ れている。第１の半導体制御整流器６０および第２の半導体制御整流器６２には それぞれのＤＣ出力電圧を調整するためのボリューム型の可変抵抗器６４および ６６がそれぞれ接続されている。

【００１９】 なお、第１の半導体制御整流器６０および可変抵抗器６４と、第２の半導体制 御整流器６２および可変抵抗器６６との具体的構成は、上記機能を有するもので あれば従来のいずれの構成のものでもよい。

【００２０】 第１の半導体制御整流器６０は、ＡＣ電圧を整流してＤＣ出力電圧を含浸布部 温度制御指示計５２に供給するため含浸布部温度制御指示計５２のＤＣ電圧入力 端子に接続されている。第２の半導体制御整流器６２もまた、ＡＣ電圧を整流し てＤＣ出力電圧を温度差制御指示計５０に供給するため温度差制御指示計５０の ＤＣ電圧入力端子に接続されている。含浸布部温度制御指示計５２のＤＣ電圧出 力端子と共通ライン５６との間に含浸布部ヒータ３２が接続され、温度差制御指 示計５０のＤＣ電圧出力端子と共通ライン５６との間に上蓋部ヒータ２２が接続 されている。温度差制御指示計５０は、図１の（Ｂ）に示されるように過熱蒸気 層３８と液体２６の凝縮液面との温度差を所望の値に設定するための温度差設定 部８０と、その実際の温度を表示する温度差表示部８２と、前記温度差と所望の 値とを比較する比較器（図示せず）と、ＤＣ電圧入力端子とＤＣ電圧出力端子間 に介挿されたＯＮ−ＯＦＦ制御スイッチ（図示せず）であって比較器が前記温度 差が所望の値より低いことを示すときにＯＮ（両端子間を導通）し、高いことを 示すときにＯＦＦ（両端子間を遮断）するＯＮ−ＯＦＦ制御スイッチとを有する 。含浸布部温度制御指示計５２は、図１の（Ｂ）に示されるように含浸布部ヒー タ３２の温度を所望の値に設定するための温度設定部８４と、その実際の温度を 表示する温度表示部８６と、含浸布部ヒータ３２の実際の温度と所望の値とを比 較する比較器（図示せず）と、ＤＣ電圧入力端子とＤＣ電圧出力端子間に介挿さ れたＯＮ−ＯＦＦ制御スイッチ（図示せず）であって比較器が含浸布部ヒータ３ ２の実際の温度が所望の値より低いことを示すときにＯＮ（両端子間を導通）し 、高いことを示すときにＯＦＦ（両端子間を遮断）するＯＮ−ＯＦＦ制御スイッ チとを有する。なお、温度差制御指示計５０および含浸布部温度制御指示計５２ の具体的構成は、上記機能を有するものであればいずれの構成のものでもよい。

【００２１】 次に、上述にように構成された温度差制御型高温拡散霧箱の動作を述べる。液 体としてエチレングリコールを使用した場合は、スイッチＳＳ₁により電源投入 した後の初期設定値として、過熱蒸気層３８と液体２６の凝縮液面との温度差Δ Ｔ＝Ｔ₁−Ｔ₀（Ｔ₁は過熱蒸気層３８の温度を、Ｔ₀は液体２６の凝縮液面の温度 を示す。）はほぼ１０５〜１１０°Ｃが好ましく、例えば当該温度差の所望の値 を温度差設定部８０により１０５°Ｃに設定する。含浸布部３４の温度Ｔ₂は、 前記温度差ΔＴが含浸布部３４の温度よりほぼ１０〜２０°Ｃ高い状態のとき（ このとき、Ｔ₁はＴ₂よりほぼ１０〜２０°Ｃ高い状態にある）飽和蒸気は過飽和 蒸気となり、観察用窓２０に液滴が発生しないことが実験的に確認されているこ とから、ほぼ１００〜１０５°Ｃが好ましく、例えば当該温度の所望の値を温度 設定部８４により１００°Ｃに設定する。容器１０内が安定状態に達するまでに 必要な電力を上蓋部ヒータ２２および含浸布部ヒータ３２に加えるのに適切なＤ Ｃ電圧をそれぞれの可変抵抗器６６および６４により設定する。上蓋部ヒータ２ ２は、温度差制御指示計５０により、過熱蒸気層３８と液体２６の凝縮液面との 温度差ΔＴが１０５°Ｃより低いときは第２の半導体制御整流器６２のＤＣ出力 電圧が印加されて加熱し、ΔＴが１０５°Ｃに達すると、それより高いときには 当該ＤＣ電圧の印加を遮断して加熱を休止し、またそれより低いときには当該Ｄ Ｃ電圧を印加して加熱して、過熱蒸気層３８と液体２６の凝縮液面との温度差Δ Ｔが一定になるように動作する。同様に、含浸布部ヒータ３２は、含浸布部温度 制御指示計５２により、含浸布部ヒータ３２の温度Ｔ₂が１００°Ｃより低いと きは第１の半導体制御整流器６０のＤＣ出力電圧が印加されて加熱し、Ｔ₂が１ ００°Ｃに達すると、それより高いときには当該ＤＣ出力電圧の印加を遮断して 加熱を休止し、またそれより低いときには当該ＤＣ出力電圧を印加して加熱して 、Ｔ₂が一定になるように動作する。このような安定状態においては、通常は観 察用窓２０の内側に液滴が発生しないので放射線の飛跡を観測できる状態となる が、観察用窓２０の内側に液滴が発生する場合には、ΔＴとＴ₂とあるいはいず れか一方の設定値を変える操作により液滴の発生を抑えるようにする。

【００２２】 なお、冷却ファン１８は上記動作の間従来のものと同様に容器１０の底部の近 傍に存在するエチレングリコールの蒸気を冷却液化するように動作する。

【００２３】 また、可変抵抗器６４および６６は、温度差制御型高温拡散霧箱の操作者が上 蓋部ヒータ２２および含浸布部ヒータ３２への印加電力を時間に対して調整でき るようにして、容器１０内の状態が過渡状態から安定状態へのより迅速でスムー ズな移行および安定状態において温度制御のリンギングがなるべく少なくなるよ うにするために設けられたものであり、これら可変抵抗器６４および６６を固定 にした、即ち第１の半導体制御整流器６０および第２の半導体制御整流器６２が 固定の一定ＤＣ電圧を出力する半導体制御整流器であっても本考案の温度差制御 型高温拡散霧箱は動作可能である。

【００２４】 本考案の温度差制御型高温拡散霧箱は上述のように動作することにより、図２ に示されるように、容器１０内において、観察用窓２０と含浸布部３４との間の 空間、好適には観察用窓２０の直下に過熱蒸気層３８が形成され、水平方向に含 浸布部３４を含む空間に飽和蒸気層９０が形成され、含浸布部３４とエチレング リコールの液体２６の凝縮液面との間の空間に有効領域９２である過飽和蒸気層 が形成され、容器１０の底部にエチレングリコールの液体２６の層が形成される 。本考案においては、含浸布部ヒータ３２が、容器１０の側壁の内周面に沿って 上蓋部１２の近傍に取り付けられ、そして含浸布部３４が、含浸布部ヒータ３２ を覆うようにその上に、容器１０の側壁の内周面に沿って取り付けられ、さらに 温度検出素子４４が含浸布部３４の中に配置されて含浸布部３４の温度を直接所 望の値、上記の例では１００°Ｃに制御されるため、エチレングリコールの蒸気 発生量が一定に保たれる。また、過熱蒸気層３８とエチレングリコールの液体２ ６の凝縮液面の温度差ΔＴが一定になるように上蓋部ヒータ２２の印加電力が制 御されるので、霧箱の容器１０内の蒸気層の温度差が一定に保持される。さらに 、上蓋部ヒータ２２と含浸布部ヒータ３２の加熱電力はそれぞれ独立に制御され るため、霧箱の容器１０内の深さ方向の温度勾配と、発生したエチレングリコー ルの霧の流れが一定に制御されて、最適の安定な有効領域９２が形成され、かつ その保持が容易になる。従って、過熱蒸気層３８、飽和蒸気層９０、過飽和蒸気 層である有効領域９２、および液体２６の凝縮液面が容易にかつ安定に形成、保 持され、その結果、放射線の飛跡が形成される過飽和蒸気層である有効領域９２ が安定に保持され、放射線の飛跡が安定に観察される。例えば、本実施例では、 上記の温度設定条件で、宇宙線の飛跡が安定に観察された。

【００２５】 なお、本実施例はエチレングリコールを液体として用いているが、本考案は温 度差制御型高温拡散霧箱に使用しうる液体のいずれにも適用可能である。但し、 使用される液体の性質（沸点の差）によって安定な有効領域の高さ（上下の幅） は変わる。

【００２６】

【考案の効果】 本考案の温度差制御型高温拡散霧箱は、以上説明したように構成されているの で、以下に記載されるような効果を奏する。

【００２７】 含浸布部加熱手段が容器の側壁部の内周面と含浸布部との間に、かつ前記含浸 布部により覆われるように設けられることにより、液体を含浸した前記含浸布部 からの霧の発生を容易にし、かつ加熱に対して霧を時間遅れなく発生させる。そ して、含浸布部温度検出手段により前記含浸布部自体の温度が検出され、当該検 出温度に基づいて含浸布部加熱手段を制御する制御手段により前記含浸布部加熱 手段が制御されることにより前記含浸布部の温度が所定の値に容易に保持される 。これらにより、含浸布部からのエチレングリコールの蒸気発生量を容易に一定 に保つことができる。

【００２８】 また、温度差検出手段により前記容器の内部空間における上蓋部近傍の温度と 、前記冷却手段により冷却され凝縮して前記底部に存在する液体の液面の温度と の差が検出され、当該検出された温度差に基づいて温度差制御手段により前記上 蓋部加熱手段が制御されることにより前記温度差が所定の値に容易に保持される 。

【００２９】 さらに、上蓋部加熱手段は前記容器の内部空間における上蓋部近傍の温度と、 前記冷却手段により冷却され凝縮して前記底部に存在する液体の液面の温度との 差により、一方、含浸布部加熱手段は前記含浸布部の温度により、それぞれ独立 に制御されるため、霧箱の容器の深さ方向の温度勾配と、発生したエチレングリ コールの霧の流れが一定に制御されて、最適の安定な有効領域が形成され、かつ 保持が容易になる。

【００３０】 その結果、宇宙線（μ、π粒子等）、α、β、γ線（反跳電子）および中性子 線（反跳陽子）等の放射線の飛跡が安定に観察でき、放射線と物質の相互作用を 理解することが容易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は本考案による一実施例の温度差制御型
高温拡散霧箱をその上面からみた平面図を、（Ｂ）はそ
の正面からみた正面図をそれぞれ示す。

【図２】図１の（Ａ）のラインＡ−Ａでの断面図を示
し、温度差制御型高温拡散霧箱の主要構成要素を概略示
す図である。

【図３】図１および図２に示される温度差制御型高温拡
散霧箱の電気回路を示すブロック図である。

【図４】従来の高温拡散霧箱の要部の構造を概略示すた
めの断面図である。

【符号の説明】

１０：容器 １２：上蓋部 １８：冷却ファン ２０：観察用窓 ２２：上蓋部ヒータ ２６：液体 ３２：含浸布部ヒータ ３４：含浸布部 ４０、４２、４４：温度検出素子 ５０：温度差制御指示計 ５２：含浸布部温度制御指示計 ６０：第１の半導体制御整流器 ６２：第２の半導体制御整流器

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 側壁部と底部とを有し、上面が開口した
   容器と、 前記容器の内部を密閉するため前記容器の上面を覆い、
   かつ前記容器の内部を見得る構造を有する上蓋部と、 前記容器の内部空間における前記上蓋部近傍を加熱する
   ため前記上蓋部に設けられた上蓋部加熱手段と、 前記容器の側壁部の内周面に沿い、かつ前記上面の近傍
   でそれから離間して設けられ、かつ液体を含浸した含浸
   布部と、 前記含浸布部に含浸した液体を気化するため前記含浸布
   部を加熱する含浸布部加熱手段と、 前記容器の底面近傍にある前記気化した液体の蒸気を冷
   却して凝縮させるため前記容器の底部の外側に設けられ
   た冷却手段とを備える温度差制御型高温拡散霧箱におい
   て、 前記含浸布部加熱手段は前記容器の側壁部の内周面と前
   記含浸布部との間に、かつ前記含浸布部により覆われる
   ように設けられ、 前記容器の内部空間における前記上蓋部近傍の温度と、
   前記冷却手段により冷却され凝縮して前記容器の底部に
   存在する液体の液面の温度との差を検出する温度差検出
   手段と、 前記温度差検出手段により検出された温度差が所定の値
   となるよう前記上蓋部加熱手段を制御する温度差制御手
   段と、 前記含浸布部の温度を検出するため前記含浸布部内に配
   置された含浸布部温度検出手段と、 前記含浸布部温度検出手段により検出された前記含浸布
   部の温度が所定の値となるよう前記含浸布部加熱手段を
   制御する制御手段とを設けることを特徴とする温度差制
   御型高温拡散霧箱。