JPH07297128A - 真空処理装置および弁系 - Google Patents

真空処理装置および弁系

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JPH07297128A
JPH07297128A JP7057169A JP5716995A JPH07297128A JP H07297128 A JPH07297128 A JP H07297128A JP 7057169 A JP7057169 A JP 7057169A JP 5716995 A JP5716995 A JP 5716995A JP H07297128 A JPH07297128 A JP H07297128A
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JP
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valve body
chamber
opening
axis
processing
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JP7057169A
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Roman Schertler
ローマン シェルトラー
Paul-Rene Muralt
ポール−レーヌ ミューラル
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OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 １つの室において加工部材を真空処理してい
る間に、他の室において他の加工部材を交換または前処
理することができる設備効率のよい真空処理装置を提供
する。 【構成】 開口を通して結合された少なくとも２つの室
を有し、この開口内において、開口を横切る軸の周りに
駆動されて旋回する弁体、および弁体のための駆動部を
有し、弁体に少なくとも１つの加工部材−担持系を設
け、この担持系が、旋回軸の周りに弁体を旋回させるこ
とによって、１つの室から他の室に移行することができ
る真空処理装置であって、開口の縁と弁体との間に、圧
力媒体によって膨張することができる少なくとも１つの
気密系を有することを特徴とする真空処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は請求項１または１２の上
位概念による真空処理装置およびそのための弁系に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】後に例
示する真空処理装置は、２つの室があり、その１つは排
気室であり、他は処理室である。加工部材は１つまたは
多くの処理部署において、たとえばＰＶＤ，ＰＥＣＶＤ
もしくはＣＶＤの処理を受けるか、またはたとえば脱気
のために加熱される。
【０００３】たとえばＢａｌｚｅｒｓ ＡＧのカタロ
グ：Ｌｏａｄ Ｌｏｃｋ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ Ｓｙ
ｓｔｅｍ ＬＬＳ ８０１，ＢＢ ８００ ２４０ Ｐ
Ｅ（８４０３）から明らかなように、この種の装置は太
鼓状の基板担持体−いわゆる基板ケージ−を有し、これ
に未処理の基板を付けて、排気室に導入した後、真空に
する。この装置には滑り弁が設けられており、これによ
って、処理室と排気室とを分離する。これらの室は開口
を通して結合している。定義 次に、２つの真空室を結合する開口の閉止について述べ
る。これについて、室を真空技術的に分離するそれぞれ
の方法としては、拡散ギャップ気密系によるか、あるい
は形状閉止および／または摩擦閉止の気密系が考えられ
る。この閉止によって達成される室の分離に必須の処置
は、処理を遂行するのに必要な２つの室の雰囲気に関す
るそれぞれの要求から専ら決定される。
【０００４】前記排気室内で、真空化および場合によっ
ては加工部材または基板の前処理を行った後に、基板ケ
ージを結合開口を通して、処理室に移送し、ここで加工
部材の真空処理を行う。続いて、基板ケージを排気室に
戻して、ここから取り出し、新たな基板または加工部材
を付けたケージと交換する。このような装置の欠点とし
ては、排気室が大きいこと、および処理が継続している
全期間のあいだ、排気室を使用しない状態に止めるとい
う事実がある。すなわち、未処理の加工部材を付けたケ
ージを排気室に導入すると、処理ずみの加工部材を付け
たケージを排気室に受け入れることが不可能になってし
まうためである。
【０００５】ドイツ公開特許第２５２９０１８号明細書
によれば、排気室と処理室との間に、付加的な移送室を
設け、この室内で加工部材を押し棒に乗せ、この押し棒
は、一方においては加工部材を排気室に送る部材に、他
方においては開口閉止要素を加工室に送る手段を同時に
形成する。しかし、この処置の欠点は、付加的な移送室
に費用のかかる移送系を設けなればならないことであ
る。
【０００６】ドイツ実用新案第８４２０７１５号明細書
によれば最初に述べた種類の処理装置が知られている。
これは、弁体にゴム弾性気密系を設け、これが弁体のそ
れぞれの場合の終端位置において、まず摩擦し、次に静
的に開口の縁に沿って対応する対面に取り付いて、これ
に密接する。さらに弁体に接して、加工部材−移送系を
基板受皿の形として設け、これを弁体の旋回軸に平行な
平面に配置する。この装置の欠点は、気密系に関してゴ
ム弾性気密材を使用するので、気密系を調整するときに
摩擦され、これは真空技術において周知の摩耗破片の問
題をおこし、かなり頻繁に取り替える必要がある。
【０００７】さらに、それぞれの場合の要求に適した多
様な気密作用を調整することができない。すなわち要求
に応じて、多様な範囲のギャップ気密系、または形状閉
止もしくは摩擦閉止の気密系によって室を分離すること
ができない。加工部材−移送系の配置および形成に関し
て、この既知の装置の欠点は、処理部署の配置に関し
て、変更する許容性が実質的にないことである。すなわ
ち加工部材−担持系、すなわち基板受皿を、弁体の旋回
軸から離して配置することができる程度が、室を結合す
る開口の直径または半径によって制限される。それ故、
２つの室のうちの１つの処理部署は、前面側のみを向
き、かつ弁体の旋回軸から離れて、開口直径に適した距
離にのみ設けることができる。
【０００８】特開昭５８−１５３３４５号によれば、同
様に、最初に述べた種類の真空処理装置では、弁体を円
筒形に形成し、開口の縁が２つの向い合った円筒面切片
からなり、そのなかで弁体円筒が回転する。室の間の気
密系は、前述の円筒面切片と弁体円筒との間のギャップ
気密材によって形成する。加工部材は弁体円筒の前面に
付ける。
【０００９】部分をなす２つの室を、形状閉止または摩
擦閉止によって遮断することは、これらの既知の装置で
は行うことができない。処理部署の配置に関しては、部
分をなす室の少なくとも１つの室において、使用すべき
位置の関係が極端に限定されており、このような処理部
署は、円筒の前面を通して拡がる範囲の内部にのみ配置
することができる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、最初に述べた
種類の真空処理装置から出発して、使用上の変化の許容
性を実質的に高めることを課題とする。この課題は、２
つの室の間の遮断に関しては、請求項１の特徴部分によ
る構成によって達成され、また加工部材−担持系に関し
ては、請求項１２の特徴部分による構成によって達成さ
れる。
【００１１】本発明の真空処理装置の優れた実施態様
は、請求項２〜１１または１３〜１７に特定されてい
る。次に、本発明を原理的に、かつ図面を参照して優れ
た実施態様について、説明する。
【００１２】
【実施例及び作用効果】図１は、真空処理装置の第１室
１および第２室３の略断面図であり、これらの室は図１
において、開口５を通して図の平面を横切って結合して
いる。加工部材を少なくとも１つの方向に、たとえば第
１室１から第２室３の方向に、開口５を通して移送する
ために設けた移送系の少なくとも部分として弁体７を設
ける。この弁体７は、旋回軸Ｓに関して鏡像対称的に構
成されており、かつ図示のように駆動部９によって、開
口５内で旋回できるように制御される。開口の輪郭の形
状に応じて、弁体７には、たとえば円筒７ａまたは直角
板、球７ｂまたは円板などを使用する。
【００１３】勿論少なくとも時によって、開口は対応す
る弁体７の旋回によって閉止される。すなわち板のとき
はすべて１８０°の旋回角で、また円筒もしくは球のと
きは実質的に不変の、または予じめ与えられた旋回角で
行なわれる。図１に略示するように、開口の縁５と弁体
７との間に、加圧媒体によって膨張することができる気
密系が作用する。これは弁体７または開口の縁５または
その両方に配置してある。図２から明らかなように、こ
のとき膨張できる気密系８は、ゴム弾性壁８ａを有する
か、または（図示しない）ベローからなるか、あるいは
場合によってはゴム弾性壁欠円切片およびベロー壁欠円
切片の組み合わせからなることができる。
【００１４】図２および図１からも明らかなように、弁
体の側に配置された気密系８は、加圧媒体源１０、好ま
しくは加圧ガス源、特に加圧空気源から、制御弁１２お
よび弁体７を支承する旋回軸Ｓに対応する管路を通し
て、図２の弁体側の分配系１８，２０に、加圧媒体を注
入する。本発明の真空処理装置の１つの実施態様とし
て、図２において、加工部材−担持板１６を示す、これ
は直接弁体７ａに固着している。このような配置によっ
て、弁体７ａと開口の縁５との間の気密の問題は、本発
明によって容易に解決することができる。
【００１５】弁体の側に設けた膨張可能な気密系は、加
圧媒体の注入によって、軸Ｓに関して外方に膨張して、
摩擦閉止か、場合によっては形状閉止によって開口の縁
５に密接する。逆に、開口の縁の側に設けた気密系は、
弁体７に向けて内方に膨張する。このとき、対応する加
圧の量によって、気密の程度を、多様なギャップの範囲
のギャップ気密の設定から前述の摩擦閉止または形状閉
止まで、調整することができる。
【００１６】さて図１から、直ちに明らかなように、本
提案の本質的な利点としては、もともと設けるべき弁体
を、第１室１から第２室３へ、またはその逆に移送する
機構として、開口５の開放または閉止に同時に使用す
る。このとき第１室１と第２室３との間の気密の程度ま
たは遮断の程度は、前述のように設定することができ
る。本発明によって設けた気密系においては、弁体が気
密にすべき位置に加圧されて静止して密接するとき、摩
擦の問題およびこれに伴なう損耗ならびに気密系の寿命
の問題は解消する。また設ける気密系の体積が小さいの
で、気密は極めて迅速に達成される。この気密系は、特
に固有の弾性に基づいて、使用する壁の材料から押し戻
される。加工部材１１は、たとえば第１室１において、
弁体７に取り付けられ、弁体７が軸Ｓの周りに旋回する
ことによって第２室３に移行し、同様に第２室３から第
１室１へと逆方向に移送される。実質的に、二方向の移
送が開口のなかで「交差」し、これら２つの室は実際に
絶えず塞がっている。このことは、これら２つの室の１
つが排気室であるとき、特に重要である。
【００１７】次に、本発明を、板状の弁体７に関して説
明する。ここでは旋回軸Ｓが、実質的に板の平面を通っ
ている。これについて、図１に同様に示すように、加工
部材１１の処理すべき面Ｆは、実質的に板の平面に、Ｆ
1 で示すように平行して配置するか、またはＦ2 で示す
ように垂直に配置する。図３において、図１と同様に示
すように、板状弁体７ｃを開口５の閉止位置に示してあ
る。第１室１または第２室３の少なくとも１つは、図２
によれば第１室１であるが、さらに有利には、直線状に
移送できる加工部材−移送装置１３を設け、この助けに
より加工部材、たとえば加工部材１１を付けた円筒形ケ
ージ１５は、弁板７ｃに向けて移送され、またはこの弁
板から戻される。弁板７ｃは、ケージ１５を受け取る部
材、たとえば永久磁石または電磁石を設けて、移送装置
１３からケージ１５を受け取るか、またはこれを移送装
置１３に戻す。
【００１８】図３の配置において、開口の縁の側に本発
明によって気密系８を設け、これに加圧媒体を媒体源１
０から制御弁１２を介して導入する。弁板７ｃが旋回軸
Ｓの周りを１８０°旋回した後のケージの位置を破線１
５ａで示す。自明のように、直線状に推動する移送装置
１３は、両方の室に設けることができる。
【００１９】図３について説明したような直線状に推動
する移送装置を設けた本発明の実施態様を、図４に示
す。勿論、ここでは弁板７ｃにたとえばベロー系１７を
介して、駆動部を有する直線状に移送する装置を設けて
ある。たとえばケージ１５内にある加工部材は、移送系
のベロー１７が動き出すと、図示しない移送系によって
受け取られ、板７ｃに向って戻され、第２室３に示すよ
うに、弁板７ｃの旋回によって、第２室３に移送され
る。
【００２０】ベロー１７内の直線状に移送する系が動き
出すと、たとえばケージ１５に付けてある加工部材は、
破線で示すように第２室３内へ板７ｃに関して所望の位
置に動く。図４より明かなように、ケージ１５によって
形成される加工部材−担持系は、室１および３を結合し
て弁板７を受け入れる開口の直径とは関係なく、弁体７
の旋回軸Ｓから離れて動き出すことができる。加工部材
−担持系がもとに戻ると、弁体７は旋回することができ
る。
【００２１】これによって、２つの室の１つ、たとえば
第２室３において、加工部材−担持系に付けた加工部材
のための処理部署を、如何にかつ何処に設置するかとい
う高い許容性を達成することができる。こうして、加工
部材は、２つの室の少なくとも１つにおいて、何時でも
処理のための位置から弁体７上の旋回位置に移行する。
このとき処理中に排気することもできる。
【００２２】図３および４について、本発明の装置のさ
らに優れた実施態様を説明する。これによれば、図３の
装置と組み合わせて、丸い破線２１で示すように、回転
駆動部を、直線状に推動する移送装置１３に接して設
け、これによって加工部材１１を付けたケージ１５を回
転軸Ａの周りに回転させることができる。これは軸Ａの
周りに配置した加工部署に加工部材を順次導く加工室に
おいて特に有利である。
【００２３】図４の実施態様において、ケージ１５の
み、または弁板７ｃとともにケージ１５を、軸Ａの周り
に連続して、または動かしたり停めたりして回転させ
る。たとえば、弁板７ｃを軸Ａの周りに回転させる駆動
部を電磁モータで実現することができる。これが開口５
の縁と、弁体７または弁板７ｃとの間で図示の位置に旋
回して作用する。また、たとえばケージ１５に付けた加
工部材を、軸Ａの周りに順次に回転させて、処理室、た
とえば第２室３内に配置した加工部署に順次移行させる
ことができる。各回転の後に気密が達成される。
【００２４】自明のように、図３および４の実施態様の
組み合わせも可能である、たとえば図３の直線状駆動部
を設けるとともに、回転駆動部を設けて、軸Ａの周りに
弁板７ｃを回転させるか、または静止している弁板７ｃ
では、この弁板に対して回転ケージ１５を回転させる。
図５および６において、本発明の装置の現在優れた実施
態様を略図で示す。図１〜４の実施態様に対比して認識
するために、可能なところは同一の記号を使用した。こ
こでは、設定した気密系を図示していない。
【００２５】弁体７ｃと開口の縁５との間に設けた（図
示していない）気密系において、基板取り付け用のケー
ジ１５は、導入・取り出し弁２３を通して排気室として
形成してある第１室１に導入する、ケージ１５は、第１
室１に向いた弁板７ｃの面にたとえば磁気的に付けてあ
る。続いて、気密を解除した後に、ケージ１５および処
理すべき加工部材１１を付けた弁板７ｃを処理室３内に
旋回させ、ここで外方の直線方向駆動部１３によるか、
または弁板７ｃに付けたベロー１７によって、加工部材
１１を付けたケージ１５を、弁板７ｃから離れた図に示
す処理部署に降す。ここで再び気密を整える。
【００２６】第２室３の縁に、図示の例では、部分円に
沿って多くの、たとえば４つの処理部署２５、たとえば
エッチング、加熱、または積層を行う部署を配置する。
移送装置１３または１７の回転によって、加工部材１１
は自身で、または弁板７ｃとともに、時間の経過につれ
て順次処理部署２５に導かれる。この処理経過の間に、
弁板７ｃのまだ加工部材を付けていない側の面は、第１
室１、ここでは排気室内にあって、新たに処理すべき加
工部材１１をケージに装備する。処理を終った後に、弁
板７ｃの気密および旋回を解除し、処理された加工部材
を第１室１に戻し、同時に処理すべき加工部材を第１室
１から第２室３に、開口５を通して移行させる。
【００２７】特に排気室１の場合は、弁板７ｃの周縁
に、および／または開口５の縁に、（図示しない）膨張
可能な気密系を設け、これは開口５の縁に気密に制御し
て付ける。前述のように弁板７ｃを軸Ａの周りに回転さ
せると、弁板７ｃの縁と開口５の縁との間で優れたギャ
ップ気密を達成することができる。弁板７ｃの静止位置
において、場合によっては、再び膨張して摩擦閉止の、
気密を達成する圧力段階によって真空技術的な気密を達
成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の気密系を有する本発明の真空処理装置
の略断面図。
【図２】本発明の真空処理装置において、弁体自身に本
発明の気密系を有し、かつこの気密系のための加圧媒体
導入系を有する弁体の略断面図。
【図３】図１の構成から離れて、本発明の真空処理装置
の他の構成を示す図。
【図４】本発明の加工部材−担持系および本発明の気密
系を有する本発明の真空処理装置の他の構成図。
【図５】本発明の真空処理装置の現在における優れた実
施態様の略側面図。
【図６】図５に示す装置の略平面図。
【符号の説明】
１…第１室 ３…第２室 ５…開口 ７…弁体 ８…気密系 ８ａ…ゴム弾性壁 ９…回転駆動部 １２…制御弁 １３…移送装置 １５…加工部材−担持系 １６…加工部材−担持板 １７…ベロー １８…加圧媒体分配系 ２３…導入・取り出し弁 ２５…処理部署

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 開口を通して結合された少なくとも２つ
    の室（１，３）を有し、この開口内において、開口を横
    切る軸（Ｓ）の周りに駆動されて旋回する弁体（７）、
    および弁体（７）のための駆動部（９）を有し、弁体
    （７）に少なくとも１つの加工部材−担持系を設け、こ
    の担持系が、旋回軸（Ｓ）の周りに弁体（７）を旋回さ
    せることによって、１つの室から他の室に移行すること
    ができる真空処理装置であって、開口の縁（５）と弁体
    （７）との間に、圧力媒体によって膨張することができ
    る少なくとも１つの気密系（８）を有することを特徴と
    する真空処理装置。
  2. 【請求項２】 気密系（８）が、弁体（７）および／ま
    たは開口の縁（５）に配置されている、請求項１に記載
    の装置。
  3. 【請求項３】 膨張可能な気密系（８）が、ゴム弾性に
    よって膨張することができる壁部（８ａ）および／また
    はベロー壁を含む、請求項１または２に記載の装置。
  4. 【請求項４】 弁体（７）が板状である、請求項１〜３
    のいずれかに記載の装置。
  5. 【請求項５】 少なくとも１つの室に、直線状に推動す
    る加工部材−移送装置（１３，１７）を設け、移送装置
    （１３）が室の側に駆動されて支承されてあって、加工
    部材（１１）を弁体（７）に引き渡し、および／または
    弁体（７）から受け取るように設けられているか、ある
    いは移送装置（１７）が弁体（７）に支承されてあっ
    て、室内の加工部材−処理装置と、弁体（７）上の加工
    部材−旋回位置との間で、加工部材を往ったり来たりさ
    せるように設けられている、請求項１〜４のいずれかに
    記載の装置。
  6. 【請求項６】 加工部材−担持系（１５）が、多数の加
    工部材を受け入れ、かつ弁体（７）の旋回軸（Ｓ）を横
    切る方向（Ａ）において、直線状に推動するように、弁
    体（７）に支承されている、請求項５に記載の装置。
  7. 【請求項７】 加工部材−担持系（１５）が、円筒面を
    拡げており、その円筒軸（Ａ）の方向において、直線状
    に推動するように、弁体（７）に支承されている、請求
    項６に記載の装置。
  8. 【請求項８】 少なくとも１つの室（３）が、旋回軸
    （Ｓ）を横切る軸（Ａ）に対して、同軸の部分円に沿っ
    て配置された少なくとも２つの処理部署（２５）を有す
    る、請求項７に記載の装置。
  9. 【請求項９】 少なくとも１つの室（３）に、加工部材
    −回転移送装置（２０，１３，１７）を設け、この回転
    移送装置が、少なくとも時間によって開口（５）を横切
    ってこの１つの室内に突出する回転軸（Ａ）の周りに駆
    動されて旋回し、かつこの回転移送装置が加工部材−担
    持系（１５）を含んでいる、請求項１〜８のいずれかに
    記載の装置。
  10. 【請求項１０】 弁体（７）に、弁体（７）の旋回軸
    （Ｓ）を横切る方向（Ａ）に駆動されて直線状に推動す
    る加工部材−担持系（１５）を設けてあり、この担持系
    （１５）が、弁体（７）の旋回軸（Ｓ）に平行な平面内
    で、駆動されて回転することができる、請求項１〜９の
    いずれかに記載の装置。
  11. 【請求項１１】 １つの室（１）が排気室であって、閉
    止可能な他の開口（２３）を通して大気と連通する、請
    求項１〜１０のいずれかに記載の装置。
  12. 【請求項１２】 少なくとも２つの室を有し、これらの
    室が開口を介して相互に連通し、この開口を横切る旋回
    軸（Ｓ）の周りに、駆動部（９）によって旋回される弁
    体（７）があり、この弁体（７）が少なくとも１つの加
    工部材−担持系（１５）を有し、この担持系（１５）が
    弁体（７）の旋回によって１つの室から他の室に移動す
    る真空処理装置であって、加工部材−担持系（１５）
    が、弁体（７）の旋回軸（Ｓ）を横切る方向（Ａ）に駆
    動されて直線状に移動できるように、弁体（７）に支承
    されていることを特徴とする真空処理装置。
  13. 【請求項１３】 加工部材−担持系（１５）が、多数の
    加工部材（１１）を受け入れており、かつ好ましくは円
    筒の軸（Ａ）が前記方向に平行して走る円筒の面を拡げ
    ている、請求項１２に記載の装置。
  14. 【請求項１４】 少なくとも１つの室が、弁体（７）の
    旋回軸（Ｓ）に平行する平面内の部分円に沿って、少な
    くとも２つ、好ましくは２つより多くの処理部署（２
    ５）を有する、請求項１３に記載の装置。
  15. 【請求項１５】 加工部材−担持系（１５）が、少なく
    とも１つの室内において、弁体（７）の旋回軸（Ｓ）を
    横切る軸（Ａ）の周りに駆動されて回転できるように支
    承されている、請求項１２〜１４のいずれかに記載の装
    置。
  16. 【請求項１６】 開口の縁（５）と、旋回可能な弁体
    （７）との間に、加圧媒体によって膨張することができ
    る気密系（８）が作用する、請求項１２〜１５のいずれ
    かに記載の装置。
  17. 【請求項１７】 ２つの室の１つが、排気室であって、
    閉止可能な他の開口を介して大気と連通する、請求項１
    ２〜１６のいずれかに記載の装置。
JP7057169A 1994-03-16 1995-03-16 真空処理装置および弁系 Pending JPH07297128A (ja)

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