JPH0729812A - アライメント用光学装置 - Google Patents
アライメント用光学装置Info
- Publication number
- JPH0729812A JPH0729812A JP5175573A JP17557393A JPH0729812A JP H0729812 A JPH0729812 A JP H0729812A JP 5175573 A JP5175573 A JP 5175573A JP 17557393 A JP17557393 A JP 17557393A JP H0729812 A JPH0729812 A JP H0729812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- alignment
- light source
- laser light
- grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザ光源が発生した熱に起因するアライメン
ト精度の低下および安定性の低下を防止できるアライメ
ント用光学装置を提供する。 【構成】レーザ光源１１とチャンバ３２内に設けられた
光学部品系１５，２４，２５…とが空間的に分離して配
置され、かつレーザ光源１１と光学部品系１５，２４，
２５…とが単一モードのオプティカルファイバ４１で接
続されている。
ト精度の低下および安定性の低下を防止できるアライメ
ント用光学装置を提供する。 【構成】レーザ光源１１とチャンバ３２内に設けられた
光学部品系１５，２４，２５…とが空間的に分離して配
置され、かつレーザ光源１１と光学部品系１５，２４，
２５…とが単一モードのオプティカルファイバ４１で接
続されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学現象を利用した物
体間の位置合せに供されるアライメント用光学装置に関
する。
体間の位置合せに供されるアライメント用光学装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、最近では、超ＬＳＩの回
路パターンをＸ線露光装置を使って等倍露光で形成する
試みが成されている。このような装置を用いてパターン
転写を行うには、露光に先だってマスクとウェハとを高
精度に位置合せする必要がある。この場合、0.2 μｍの
微細パターンを形成するには±0.05μｍ程度の重ね合せ
精度を実現する必要がある。
路パターンをＸ線露光装置を使って等倍露光で形成する
試みが成されている。このような装置を用いてパターン
転写を行うには、露光に先だってマスクとウェハとを高
精度に位置合せする必要がある。この場合、0.2 μｍの
微細パターンを形成するには±0.05μｍ程度の重ね合せ
精度を実現する必要がある。
【０００３】対向配置されたマスクとウェハとを対向方
向と直交する面内で高精度に位置合せする装置として
は、特願昭 63-329731号や特願平 2-25836号などに示さ
れているように、回折格子を用いた光ヘテロダイン干渉
式の位置合せ装置が考えられている。
向と直交する面内で高精度に位置合せする装置として
は、特願昭 63-329731号や特願平 2-25836号などに示さ
れているように、回折格子を用いた光ヘテロダイン干渉
式の位置合せ装置が考えられている。
【０００４】図３には光ヘテロダイン干渉式の代表的な
位置合せ装置の要部が模式的に示されている。この位置
合せ装置では、図示しないマスクに回折格子１を設ける
とともに、この回折格子１に対向する関係に図示しない
ウェハに回折格子２を設ける。
位置合せ装置の要部が模式的に示されている。この位置
合せ装置では、図示しないマスクに回折格子１を設ける
とともに、この回折格子１に対向する関係に図示しない
ウェハに回折格子２を設ける。
【０００５】今、図に示す直角座標上のＸ軸方向が位置
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１格子３ａと第２格子３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第１格子４ａと
第２格子４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１格子３ａと回折格子２の第
１格子４ａとをペアにし、回折格子１の第２格子３ｂと
回折格子２の第２格子４ｂとをペアにしている。
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１格子３ａと第２格子３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第１格子４ａと
第２格子４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１格子３ａと回折格子２の第
１格子４ａとをペアにし、回折格子１の第２格子３ｂと
回折格子２の第２格子４ｂとをペアにしている。
【０００６】回折格子１を構成している第１格子３ａは
たとえば市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx のピッチ
で設けたものとなっており、第２格子３ｂは透明のウイ
ンドウに構成されている。また、回折格子２を構成して
いる第１格子４ａはウェハの表面をそのまま使った反射
面に形成されており、第２格子４ｂは市松模様のパター
ンをＸ軸方向にはＰx のピッチで設けたものとなってい
る。
たとえば市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx のピッチ
で設けたものとなっており、第２格子３ｂは透明のウイ
ンドウに構成されている。また、回折格子２を構成して
いる第１格子４ａはウェハの表面をそのまま使った反射
面に形成されており、第２格子４ｂは市松模様のパター
ンをＸ軸方向にはＰx のピッチで設けたものとなってい
る。
【０００７】この位置合せ装置では、回折格子１を構成
している第１格子３ａおよび第２格子３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的には格子のＸ方向ピッチの±１次の方向から
異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本のレーザビーム５，６を
照射する。これらのレーザビーム５，６は、後述するよ
うにレーザ光源から放射されたビームをハーフミラー等
で２分割した後、２台の音響光学変調素子で異なった周
波数ｆ1 ，ｆ2 に変調して得られたものである。
している第１格子３ａおよび第２格子３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的には格子のＸ方向ピッチの±１次の方向から
異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本のレーザビーム５，６を
照射する。これらのレーザビーム５，６は、後述するよ
うにレーザ光源から放射されたビームをハーフミラー等
で２分割した後、２台の音響光学変調素子で異なった周
波数ｆ1 ，ｆ2 に変調して得られたものである。
【０００８】このようにレーザビーム５，６を照射する
と、回折格子１の第１格子３ａで反射回折された回折干
渉光ＩM が二次元分布して第１格子３ａから射出され
る。同時に第２格子３ｂを透過し、回折格子２の第２格
子４ｂで反射回折して干渉し、再度、第２格子３ｂを透
過した干渉回折光ＩW が二次元分布して射出される。
と、回折格子１の第１格子３ａで反射回折された回折干
渉光ＩM が二次元分布して第１格子３ａから射出され
る。同時に第２格子３ｂを透過し、回折格子２の第２格
子４ｂで反射回折して干渉し、再度、第２格子３ｂを透
過した干渉回折光ＩW が二次元分布して射出される。
【０００９】そこで、干渉回折光ＩM のうちの特定次数
の光、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１
次の光を検出し、マスクの位置ずれに対応する位相ずれ
φMを含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第１のビ
ート信号を得る。一方、干渉回折光ＩW のうちの特定次
数の光、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には
１次の光を検出し、ウェハの位置ずれに対応する位相ず
れφW を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第２の
ビート信号を得る。
の光、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１
次の光を検出し、マスクの位置ずれに対応する位相ずれ
φMを含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第１のビ
ート信号を得る。一方、干渉回折光ＩW のうちの特定次
数の光、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には
１次の光を検出し、ウェハの位置ずれに対応する位相ず
れφW を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第２の
ビート信号を得る。
【００１０】この位置合せ装置では、第１のビート信号
と第２のビート信号との位相差、つまり｜ＸM −ＸW ｜
を計算し、マスクとウェハとの位置ずれを演算して求め
る。そして、この値に基いてウェハテーブル駆動用のア
クチュエータを制御して位置合せを行うようにしてい
る。
と第２のビート信号との位相差、つまり｜ＸM −ＸW ｜
を計算し、マスクとウェハとの位置ずれを演算して求め
る。そして、この値に基いてウェハテーブル駆動用のア
クチュエータを制御して位置合せを行うようにしてい
る。
【００１１】このような位置合せ装置では、周波数ｆ
1 ，ｆ2 のレーザビーム５，６を得て回折格子１の上面
に向けて前記条件で照射する系統および干渉回折光Ｉ
M ，ＩWを検出して電気信号に変換する系統が必要であ
る。
1 ，ｆ2 のレーザビーム５，６を得て回折格子１の上面
に向けて前記条件で照射する系統および干渉回折光Ｉ
M ，ＩWを検出して電気信号に変換する系統が必要であ
る。
【００１２】これらの系統は、図４に示すように構成さ
れる。すなわち、図中１１はレーザ光源を示している。
このレーザ光源１１から出た干渉性の強いレーザビーム
を、ビームスプリッタ１２で第１の光路と第２の光路と
に分ける。分けた各光束を音響光学変調素子１３，１４
でそれぞれ微小量異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 に変調し、こ
れらを折り返しミラー１５を介してマスク１６に設けら
れた回折格子１に向けて前記関係に照射するる。
れる。すなわち、図中１１はレーザ光源を示している。
このレーザ光源１１から出た干渉性の強いレーザビーム
を、ビームスプリッタ１２で第１の光路と第２の光路と
に分ける。分けた各光束を音響光学変調素子１３，１４
でそれぞれ微小量異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 に変調し、こ
れらを折り返しミラー１５を介してマスク１６に設けら
れた回折格子１に向けて前記関係に照射するる。
【００１３】周波数ｆ1 ，ｆ2 の光ビームの照射によっ
て生じた回折光のうち、位置合せ方向には０次で、位置
合せ方向と直交する方向には１次の回折光ＩM (0,1) 、
ＩW(0,1) の光を、検出光としてセンサ２２，２３で受
光し、２つのビート信号を得る。この２つのビート信号
を位置情報としてマスク１６とウェハ１８との位置合せ
が行なわれる。なお、図４中、２４はミラーを示し、２
５はレンズを示している。
て生じた回折光のうち、位置合せ方向には０次で、位置
合せ方向と直交する方向には１次の回折光ＩM (0,1) 、
ＩW(0,1) の光を、検出光としてセンサ２２，２３で受
光し、２つのビート信号を得る。この２つのビート信号
を位置情報としてマスク１６とウェハ１８との位置合せ
が行なわれる。なお、図４中、２４はミラーを示し、２
５はレンズを示している。
【００１４】ところで、このような位置合せ装置は、Ｘ
線露光装置に対して、通常、図５に示すように設けられ
る。すなわち、マスク１６に対向させてベリリウム壁３
１を設け、これらベリリウム壁３１およびマスク１６が
器壁の一部を構成するように閉じられたチャンバ３２を
設け、このチャンバ３２内に図４に示したレーザ光源１
１および音響光学変調素子１３，１４や折り返しミラー
１５等の光学部品系を収容している。そして、ベリリウ
ム壁３１とマスク１６との間でのＸ線の減衰を少なくす
るためにチャンバ３２内を真空雰囲気あるいはヘリウム
ガス雰囲気に保っている。また、レーザ光源１１で発生
した熱をチャンバ３２外に排出するために、レーザ管３
３の周囲に冷媒通路３４を設け、この冷媒通路３４に配
管３５を介して冷媒を通流させるようにしている。な
お、ベリリウム壁３１はＸ線案内路３６の真空を保持す
るためのもので、このベリリウム壁３１を介してＳＯＲ
等で発生したＸ線３７が照射される。
線露光装置に対して、通常、図５に示すように設けられ
る。すなわち、マスク１６に対向させてベリリウム壁３
１を設け、これらベリリウム壁３１およびマスク１６が
器壁の一部を構成するように閉じられたチャンバ３２を
設け、このチャンバ３２内に図４に示したレーザ光源１
１および音響光学変調素子１３，１４や折り返しミラー
１５等の光学部品系を収容している。そして、ベリリウ
ム壁３１とマスク１６との間でのＸ線の減衰を少なくす
るためにチャンバ３２内を真空雰囲気あるいはヘリウム
ガス雰囲気に保っている。また、レーザ光源１１で発生
した熱をチャンバ３２外に排出するために、レーザ管３
３の周囲に冷媒通路３４を設け、この冷媒通路３４に配
管３５を介して冷媒を通流させるようにしている。な
お、ベリリウム壁３１はＸ線案内路３６の真空を保持す
るためのもので、このベリリウム壁３１を介してＳＯＲ
等で発生したＸ線３７が照射される。
【００１５】しかしながら、上記のように構成された位
置合せ装置、特にレーザ光源と複数の光学部品を組合せ
た光学部品系とからなるアライメント用光学装置にあっ
ては次のような問題があった。
置合せ装置、特にレーザ光源と複数の光学部品を組合せ
た光学部品系とからなるアライメント用光学装置にあっ
ては次のような問題があった。
【００１６】すなわち、レーザ管３３が発振状態にある
とき、レーザ管３３は発熱する。この熱の大部分は配管
３５を介して冷媒通路３４を通流する冷媒によってチャ
ンバ３２外へ運ばれる。しかし、発生した熱の全部をチ
ャンバ３２外へ運び出すことはできない。このため、レ
ーザ光源１１の周囲の空気に密度変化が生じ、チャンバ
３２内に自然対流が起こる。このように自然対流が生じ
ると、チャンバ３２内に配置されている光学部品周辺の
空気の空間的密度分布が時間的に変化し、この結果とし
て光の屈折率分布が時間的に変化し、これが原因して光
の光路長Ｌが変動する。光ヘテロダイン干渉式の位置合
せ装置では、光の位相が重要な意味を有しており、光の
波長をλとすると、位相は（２π・Ｌ／λ）に左右され
るので、光路長Ｌが変動すると、位相も変動することに
なる。加えて、冷媒通路３４を介してレーザ管３３を一
様な温度に冷却することが困難で、この結果として光軸
位置の変動も起こる。これらが原因して図６に示すよう
に、アライメント信号がいつまでも安定せず、望まれる
位置合せ精度が得られない問題があった。
とき、レーザ管３３は発熱する。この熱の大部分は配管
３５を介して冷媒通路３４を通流する冷媒によってチャ
ンバ３２外へ運ばれる。しかし、発生した熱の全部をチ
ャンバ３２外へ運び出すことはできない。このため、レ
ーザ光源１１の周囲の空気に密度変化が生じ、チャンバ
３２内に自然対流が起こる。このように自然対流が生じ
ると、チャンバ３２内に配置されている光学部品周辺の
空気の空間的密度分布が時間的に変化し、この結果とし
て光の屈折率分布が時間的に変化し、これが原因して光
の光路長Ｌが変動する。光ヘテロダイン干渉式の位置合
せ装置では、光の位相が重要な意味を有しており、光の
波長をλとすると、位相は（２π・Ｌ／λ）に左右され
るので、光路長Ｌが変動すると、位相も変動することに
なる。加えて、冷媒通路３４を介してレーザ管３３を一
様な温度に冷却することが困難で、この結果として光軸
位置の変動も起こる。これらが原因して図６に示すよう
に、アライメント信号がいつまでも安定せず、望まれる
位置合せ精度が得られない問題があった。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来のア
ライメント用光学装置にあっては、構造的にアライメン
ト信号の変動を招く問題があった。そこで本発明は、上
述した不具合を解消できるアライメント用光学装置を提
供することを目的としている。
ライメント用光学装置にあっては、構造的にアライメン
ト信号の変動を招く問題があった。そこで本発明は、上
述した不具合を解消できるアライメント用光学装置を提
供することを目的としている。
【００１８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るアライメント用光学装置では、レーザ
光源と光学部品系とが空間的に分離して配置され、かつ
上記レーザ光源と上記光学部品系とがオプティカルファ
イバで接続されたものとなっている。なお、光ヘテロダ
イン干渉式の位置合せ装置に組込む場合には、オプティ
カルファイバとして単一モードのものが使用される。
に、本発明に係るアライメント用光学装置では、レーザ
光源と光学部品系とが空間的に分離して配置され、かつ
上記レーザ光源と上記光学部品系とがオプティカルファ
イバで接続されたものとなっている。なお、光ヘテロダ
イン干渉式の位置合せ装置に組込む場合には、オプティ
カルファイバとして単一モードのものが使用される。
【００１９】
【作用】レーザ光源と光学部品系とが空間的に分離して
配置されているので、レーザ光源で発生した熱が光学部
品系の配置場に影響を与えることはない。したがって、
光学部品系の光路長が変動するようなことがなく、光の
位相を安定化させることができる。また、レーザ光源の
レーザ管を大気中で均一に冷却することができるので、
光軸位置の変動も防止でき、アライメントの検出精度と
安定性とを格段に向上させることができる。
配置されているので、レーザ光源で発生した熱が光学部
品系の配置場に影響を与えることはない。したがって、
光学部品系の光路長が変動するようなことがなく、光の
位相を安定化させることができる。また、レーザ光源の
レーザ管を大気中で均一に冷却することができるので、
光軸位置の変動も防止でき、アライメントの検出精度と
安定性とを格段に向上させることができる。
【００２０】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。図１には本発明の一実施例に係るアライメント用光
学装置をＸ線露光装置における位置合せ装置に組込んだ
模式図が示されている。
る。図１には本発明の一実施例に係るアライメント用光
学装置をＸ線露光装置における位置合せ装置に組込んだ
模式図が示されている。
【００２１】この位置合せ装置は、光ヘテロダイン干渉
式のもので、原理は図３および図４に示したものと同じ
である。したがって、図５と同一部分は同一符号で示し
てある。
式のもので、原理は図３および図４に示したものと同じ
である。したがって、図５と同一部分は同一符号で示し
てある。
【００２２】この位置合せ装置が図５に示される従来の
ものと異なる点は、チャンバ３２外の大気中にレーザ光
源１１を配置し、このレーザ光源１１から出たレーザビ
ームを単一モードのオプティカルファイバ４１を介して
チャンバ３２内に配置されている光学部品系に導くよう
にしたことにある。
ものと異なる点は、チャンバ３２外の大気中にレーザ光
源１１を配置し、このレーザ光源１１から出たレーザビ
ームを単一モードのオプティカルファイバ４１を介して
チャンバ３２内に配置されている光学部品系に導くよう
にしたことにある。
【００２３】すなわち、レーザ光源１１のレーザ管３３
を自然冷却可能に大気中に配置している。そして、レー
ザ管３３から放射されたレーザビームをレンズ４２を介
してオプティカルファイバ４１の一端側に入射させてい
る。オプティカルファイバ４１の他端側は、チャンバ３
２の器壁を気密に貫通してチャンバ３２内に位置してい
る。そして、その先端部にはチャンバ３２内に配置され
た光学部品系の光入射端に位置するミラー２４に対向す
る関係にレンズ４３が設けられている。すなわち、レー
ザ管３３から放射されたレーザビームがレンズ４２，オ
プティカルファイバ４１，レンズ４３を順に介してチャ
ンバ３２内に配置されている光学部品系に入射するよう
になっている。なお、この例においても、チャンバ３２
内は真空雰囲気あるいはヘリウムガス雰囲気に保たれて
いる。
を自然冷却可能に大気中に配置している。そして、レー
ザ管３３から放射されたレーザビームをレンズ４２を介
してオプティカルファイバ４１の一端側に入射させてい
る。オプティカルファイバ４１の他端側は、チャンバ３
２の器壁を気密に貫通してチャンバ３２内に位置してい
る。そして、その先端部にはチャンバ３２内に配置され
た光学部品系の光入射端に位置するミラー２４に対向す
る関係にレンズ４３が設けられている。すなわち、レー
ザ管３３から放射されたレーザビームがレンズ４２，オ
プティカルファイバ４１，レンズ４３を順に介してチャ
ンバ３２内に配置されている光学部品系に入射するよう
になっている。なお、この例においても、チャンバ３２
内は真空雰囲気あるいはヘリウムガス雰囲気に保たれて
いる。
【００２４】このように、レーザ光源１１と光学部品系
とを空間的に分離して配置しているので、レーザ光源１
１で発生した熱が光学部品系の配置場に影響を与えるこ
とはない。したがって、光学部品系の光路長が変動する
ようなことはなく、光の位相を安定化させることができ
る。また、レーザ光源１１のレーザ管３３を大気中で均
一に冷却することができるので、光軸位置の変動を防止
でき、アライメントの検出精度と安定性とを向上させる
ことができる。
とを空間的に分離して配置しているので、レーザ光源１
１で発生した熱が光学部品系の配置場に影響を与えるこ
とはない。したがって、光学部品系の光路長が変動する
ようなことはなく、光の位相を安定化させることができ
る。また、レーザ光源１１のレーザ管３３を大気中で均
一に冷却することができるので、光軸位置の変動を防止
でき、アライメントの検出精度と安定性とを向上させる
ことができる。
【００２５】実験によると、図２に示すように、アライ
メント信号に変動の生じないことが確認された。なお、
本発明は上述した実施例に限定されるものではない。す
なわち、上述した実施例はＸ線露光装置の位置合せ装置
に組込まれるアライメント用光学装置に本発明を適用し
た例であるが、光露光装置の位置合せ装置に組込まれる
アライメント用光学装置にも適用できることは勿論であ
る。
メント信号に変動の生じないことが確認された。なお、
本発明は上述した実施例に限定されるものではない。す
なわち、上述した実施例はＸ線露光装置の位置合せ装置
に組込まれるアライメント用光学装置に本発明を適用し
た例であるが、光露光装置の位置合せ装置に組込まれる
アライメント用光学装置にも適用できることは勿論であ
る。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザ光源が発生した熱に起因するアライメント精度の
低下および安定性の低下を解消することができる。
レーザ光源が発生した熱に起因するアライメント精度の
低下および安定性の低下を解消することができる。
【図１】本発明の一実施例に係るアライメント用光学装
置をＸ線露光装置の位置合せ装置に組込んだ例を示す模
式図
置をＸ線露光装置の位置合せ装置に組込んだ例を示す模
式図
【図２】同位置合せ装置の実験結果を示す特性図
【図３】光ヘテロダイン干渉式位置合せ装置における要
部の模式図
部の模式図
【図４】同位置合せ装置における光学系の構成を示す概
略図
略図
【図５】同位置合せ装置をＸ線露光装置に組込んだ従来
例を示す模式図
例を示す模式図
【図６】同従来の位置合せ装置の実験結果を示す特性図
１，２…回折格子 ３ａ，４ａ…第
１格子 ３ｂ，４ｂ…第２格子 ５，６…レーザ
ビーム １１…レーザ光源 １２…ハーフミ
ラー １３，１４…音響光学変調素子 １５…折り返し
ミラー １６…マスク １８…ウェハ ２２，２３…センサ ２４…ミラー ２５…レンズ ３１…ベリリウ
ム壁 ３２…チャンバ ３３…レーザ管 ３６…Ｘ線案内路 ３７…Ｘ線 ４１…オプティカルファイバ ４２，４３…レ
ンズ
１格子 ３ｂ，４ｂ…第２格子 ５，６…レーザ
ビーム １１…レーザ光源 １２…ハーフミ
ラー １３，１４…音響光学変調素子 １５…折り返し
ミラー １６…マスク １８…ウェハ ２２，２３…センサ ２４…ミラー ２５…レンズ ３１…ベリリウ
ム壁 ３２…チャンバ ３３…レーザ管 ３６…Ｘ線案内路 ３７…Ｘ線 ４１…オプティカルファイバ ４２，４３…レ
ンズ
Claims (3)
- 【請求項１】レーザ光源と複数の光学部品からなる光学
部品系とを備え、光学現象を利用した物体間の位置合せ
に供されるアライメント用光学装置において、前記レー
ザ光源と前記光学部品系とが空間的に分離して配置さ
れ、かつ上記レーザ光源と上記光学部品系とがオプティ
カルファイバで接続されてなることを特徴とするアライ
メント用光学装置。 - 【請求項２】前記オプティカルファイバは、単一モード
のものであることを特徴とする請求項１に記載のアライ
メント用光学装置。 - 【請求項３】前記光学部品系は、光ヘテロダイン干渉光
学系の位相計測系を構成していることを特徴とする請求
項１に記載のアライメント用光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5175573A JPH0729812A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | アライメント用光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5175573A JPH0729812A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | アライメント用光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0729812A true JPH0729812A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=15998448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5175573A Pending JPH0729812A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | アライメント用光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729812A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6962825B2 (en) | 2000-03-30 | 2005-11-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US11996255B2 (en) | 2021-03-05 | 2024-05-28 | Soc Corporation | Fuse |
-
1993
- 1993-07-15 JP JP5175573A patent/JPH0729812A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6962825B2 (en) | 2000-03-30 | 2005-11-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US7046330B2 (en) | 2000-03-30 | 2006-05-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US11996255B2 (en) | 2021-03-05 | 2024-05-28 | Soc Corporation | Fuse |
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